[go: up one dir, main page]

JP2002151576A - ウェハ処理ロボット用の、基板搬送時の中心検出及びノッチ整列装置 - Google Patents

ウェハ処理ロボット用の、基板搬送時の中心検出及びノッチ整列装置

Info

Publication number
JP2002151576A
JP2002151576A JP2001228146A JP2001228146A JP2002151576A JP 2002151576 A JP2002151576 A JP 2002151576A JP 2001228146 A JP2001228146 A JP 2001228146A JP 2001228146 A JP2001228146 A JP 2001228146A JP 2002151576 A JP2002151576 A JP 2002151576A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
robot
center point
chamber
positioning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001228146A
Other languages
English (en)
Inventor
Satish Sundar
サンダール サティシュ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Publication of JP2002151576A publication Critical patent/JP2002151576A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 中央トランスファチャンバに接続されるチャ
ンバの間を基板が搬送中に、搬送中の基板の方向及び中
心を検出する方法及び装置を提供する。 【解決手段】 基板を搬送するのに適用されるロボット
220と、ロボットにより搬送される基板の経路を横切
る平面にセンサビームを発するため設けられた1つ以上
のエミッタ231と、センサビームを受け取り、プロセ
ッサに対して信号を生成するように設けられた1つ以上
のレシーバ232と、基準点に対する基板の中心点及び
方向インジケータを決めるために、1つ以上のレシーバ
からの信号を処理するため設けられたプロセッサと、基
板の中心点及び方向インジケータに応じてロボットの動
作を制御するコントローラと、を含む。基板の位置付け
方法は、センサビームの平面を横切る経路に沿って基板
を動かし、レシーバからの信号を用いて基板の中心点及
び方向インジケータを決め、基板を位置決めすることを
含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の背景】
【発明の分野】本発明は、ロボット式基板処理システム
に関する。特に、本発明は、ロボット処理システムによ
る基板のチャンバ間搬送中に、その搬送中の基板の方向
及び中心を検出する装置及び方法に関する。
【0002】
【関連技術の背景】集積回路の製造においては、処理用
の自動装置を用いて、半導体基板が様々な反応チャンバ
及び他の処理チャンバに装填される。典型的には、その
ような自動装置は、シリコンウェハ等の半導体基板をロ
ードロックチャンバのカセットから中央トランスファチ
ャンバへ、更にはトランスファチャンバに関連して設け
られた1つ以上の処理チャンバへと搬送させ得る、ロボ
ットを含む。ロボットは、典型的には、トランスファチ
ャンバに連結する全てのチャンバへのアクセスを提供す
るよう、トランスファチャンバにおける中心位置に設け
られる。半導体基板の処理チャンバに対する正確な位置
及び方向を知り、基板が、処理される基板上の的確な所
望領域への処理効率を最大限にするように、処理チャン
バ内の最適な位置おいて的確に位置付けられ得ることが
望ましい。好ましくは、基板上の中心点、及びノッチ又
は平坦方向インジケータは、所望の処理位置に沿って基
板が位置決めされるよう決められる。同様に、基準点と
して用いられ、基板がその上に搬送される基板位置付け
装置が、定期的に修正され、位置付け誤差が削除できな
いまでも、その最小化が図られることも又、望ましい。
【0003】半導体基板の中心点、及びノッチ又は平坦
方向インジケータを位置決めする現在の方法及びシステ
ムは、“心棒”型方向/中心検出装置を提供する。シャ
トルロボットにより基板が方向/中心検出装置の心棒に
搬送され、そこで、基板の中心及び方向を決めるため
に、基板が徐々に回転される。回転の中心からウェハの
外縁までの距離はセンサ手段により直線経路に沿って測
定され、ウェハの中心点オフセットは測定値の幾何分析
により算出され、更に、シャトルロボットにより、ウェ
ハが心棒上の中心に位置付けられる。
【0004】心棒型の方法及びシステムには不利な点が
いくつかある。第一に、それが処理システムからは完全
に分離し、且つ固有の装置であることがあげられる。分
離した中心検出装置を有することは、製造工程における
更なる手順を必要とし、費用及び煩雑さを増し、貴重な
スループット時間を減少させることになる。すなわち、
ウェハを、ロボットによって直接ウェハ収容カセットか
ら取り外すことができず、別になっている中心検出装置
によって最初に操作しないと、処理チャンバに搬送する
ことができない。結果として、心棒型システム及び方法
は、ウェハがウェハ収容カセットから処理チャンバに搬
送されるという直接的な動きの優位性を享受しない。加
えて、中心検出方法を正確なものに維持するためには、
シャトルロボットが別の修正機器により定期的に修正さ
れることが必要となる。更に、いったん位置付け方法が
実行されると、ウェハは、ウェハの正確な位置付けを維
持するために同様にして定期的な修正が必要となる別の
ウェハ移送アームに搬送される。
【0005】半導体基板の中心点を位置決めする別のシ
ステムが、出典を明記することによりその開示内容全体
を本願明細書の一部とし且つ本発明の譲受人であるAp
plied Material,Inc.、Santa
Clara、Calirofrnia(カリフォルニ
ア州サンタクララのアプライドマテリアル社)に一般譲
渡された1989年4月4日発行の、Cheng et
al.、U.S.Pat.No.4,819,16
7、SYSTEM AND METHOD FOR D
ETECTING THE CENTER OF AN
INTEGRATED CIRCUIT WEFER
(チェンらの米国特許第4,819,167号「集積回
路ウェハの中心を検知するシステム及び方法」)におい
て開示されている。
【0006】チェンらの特許において開示されるシステ
ム及び方法は、ウェハ保持ブレードの直線経路に対して
一般的に横方向に位置付けられたセンサの列に交差する
直線経路に沿って、半導体ウェハが動かされる、“光学
センサアレイ”型のものである。この中心検出方法は、
ウェハが、処理チャンバへの途中で、処理システムロボ
ットにより収容カセットから直接取り除かれることで実
行される。ロボットブレード及びウェハの外縁端は光学
センサにより別々に検知され、ロボットブレードに対す
るウェハの座標中心位置を算出する。x−y座標システ
ムは、ロボットアーム/ブレードの動作経路(x)と、
光学センサの中心線(y)とにより規定される。y座標
軸の起点(0)は中心センサの位置により規定される。
ロボットブレードの検知は、x−y座標システムの基準
点及び起点(0,0)を提供し、この点からウェハは最
終目的点へと動かされる。ウェハの、先行する端部及び
後ろに続く端部に沿った点の検知は、一般的にはウェハ
の動作経路に並行なx軸に沿った点を提供し、この点か
らウェハの中心点を幾何学的に求めることが可能であ
る。いったんウェハの中心位置が幾何学的に求められる
と、ウェハを搬送して最終目的位置に位置決めすること
ができる。
【0007】チェンらの型による中心検出システムは、
別々になった固有の装置を有するという不利な点につい
ては克服している。ウェハの中心点は、ウェハがその最
終目的位置に搬送されるまでの間に直接に決定される。
これは、チェンらの特許に示される単一のロードロック
チャンバを備える複数チャンバ処理装置において、R−
シータ型ロボットが存在するというウェハ処理システム
構成では、特に優位性を示す。しかし、チェンらの型の
中心検出システムは、基板上のノッチ又は平坦方向イン
ジケータを特定の方向に整列させるための、基板の方向
は提供しない。基板はロードロックカセット内において
方向付けられた位置で供されなければならず、或いは、
別の方向付け装置において方向付けられなければならな
い。
【0008】従って、中央トランスファチャンバに接続
されたチャンバの間を基板が搬送されている間に、その
搬送中の基板の方向及び中心を検出する特徴を呈する方
向及び中心検出システムの必要性が生じる。
【0009】
【発明の概要】本発明は、一般に、基板が中央トランス
ファチャンバに接続されたチャンバの間を搬送される間
に、その搬送中の基板の方向及び中心を検出する特長を
有する、組み合わせられた方向/中心検出システムを提
供する。
【0010】発明の1つの側面は、基板を搬送するのに
適用されるエンドエフェクタを有するロボットと、ロボ
ットにより搬送される基板の経路を横切る平面にセンサ
ビームを発するために設けられる1つ以上のエミッタ
と、センサビームを受け取り、プロセッサに対して信号
を生成する1つ以上のレシーバと、1つ以上のレシーバ
からの信号を処理し、基準点に対する基板の中心点及び
方向インジケータを決めるのに適用されるプロセッサ
と、基板の中心点及び方向インジケータに応じてロボッ
トの動作を制御するコントローラとを含む装置を提供す
る。好ましくは、ロボットは、エンドエフェクタ上に設
けられる回転可能グリッパを有するカエル脚型ロボット
またはマルチリンク型ロボットである。
【0011】発明の別な側面は、センサビームの平面を
横切る経路に沿って基板を搬送するステップと、センサ
ビームからの信号を用いて基板の中心点及び方向インジ
ケータを決めるステップと、基板の中心点及び方向イン
ジケータに従って基板を位置決めするステップとを含
む、本発明による基板の位置付け方法を提供する。好ま
しくは、基板の中心点は、基板の外周に対応するデータ
点の組についての誤差関数を最小化することにより求め
られ、方向インジケータは、径方向偏差の範囲を超える
データ点の組を、方向インジケータについて記憶されて
いるデータの組と比較することによって決められる。
【0012】基板を位置決めするステップは、基板の中
心点及び方向インジケータを最終目的位置に整合させる
ステップを含む。基板を位置決めする方法の1つは、ロ
ボットのエンドエフェクタ上で基板を所望の方向に回転
させるステップと、基板をチャンバ内に挿入するために
ロボットを回転させるステップと、チャンバ内で基板の
中心点を最終目的位置に整合させるためにロボットを伸
長するステップとを含む。基板を位置決めする別の方法
は、チャンバ内に挿入するよう基板を位置決めするため
にロボットを回転させるステップと、チャンバ内で基板
の中心点を最終目的位置に整合させるためにロボットを
伸長するステップと、基板をロボットから持上げるステ
ップと、回転可能ロボットエンドエフェクタを基板の中
心点に整合させるよう位置付けるステップと、基板を回
転可能ロボットエンドエフェクタ上に降下させるステッ
プと、基板を所望の方向に回転させるステップとを含
む。
【0013】本発明の前記特徴、利点及び目的が達せら
れ詳細に理解され得るように、以上に略述した発明のよ
り具体的な説明を、添付図面に示された実施形態に基づ
き行なう。
【0014】しかしながら、添付図面が本発明の典型的
な実施形態のみを説明するものであって、本発明は他の
同様に有効な実施形態をも許容し得るので、添付図面が
その範囲を限定するものではないことに留意されたい。
【0015】
【好適な実施形態の詳細な説明】図1は、本発明による
基板の方向/中心検出装置を用いた、処理装置の概略図
である。処理システム100は、複数のモジュール或い
はチャンバが連結する主フレーム、又はプラットフォー
ム102により規定される、2段階真空処理システムで
ある。2段階真空処理プラットフォームの商業的な実施
形態は、出典を明記することによりその開示内容全体を
本願明細書の一部とするU.S.Patent No.
5,186,718、Tepman et al.(テ
プマンらの米国特許第5,186,718号公報)に記
載され、Applied Material,In
c.、Santa Clara、California
(カリフォルニア州サンタクララのアプライドマテリア
ル社)から入手可能なEndura(登録商標)プラッ
トフォームである。
【0016】処理システム100は、第一段階トランス
ファチャンバ115に連結する真空ロードロックチャン
バ105及び110を含む。ロードロックチャンバ10
5及び110は、基板が処理システム100に進行し、
そこから出て行くまで、第一段階トランスファチャンバ
115内の真空状態を維持する。第一ロボット120
は、基板を、ロードロックチャンバ105及び110
と、第一段階トランスファチャンバ115に連結する1
つ以上の基板処理チャンバ125及び130との間で搬
送する。処理チャンバ125及び130は、化学気相成
長(CVD)、物理気相成長(PVD)、エッチング、
プレ洗浄、ガス抜き、方向付け、及び他の基板処理等、
複数の基板処理操作を行うように設定され得る。第一ロ
ボット120は又、第一段階トランスファチャンバ11
5と第二段階トランスファチャンバ140との間に設け
られる1つ以上のトランスファチャンバ135に向かっ
て、或いはそこから、基板を搬送する。
【0017】トランスファチャンバ135は、基板を第
一段階トランスファチャンバ115と第二段階トランス
ファチャンバ140との間で搬送しながら、第二段階ト
ランスファチャンバ140内の超高度の真空状態を維持
するために用いられる。第二ロボット145は、基板
を、トランスファチャンバ135と複数の基板処理チャ
ンバ150、155、160、及び165との間で搬送
する。処理チャンバ125及び130と同様に、処理チ
ャンバ150から165のそれぞれは様々な基板処理操
作を実行するよう設定され得る。例えば、処理チャンバ
150は誘電体膜を堆積するよう設定されたCVDチャ
ンバであり得、処理チャンバ155は相互接続の特徴を
形成するために誘電体膜の隙間又は開口部にエッチング
処理を施すよう設定されたエッチングチャンバであり
得、処理チャンバ160はバリア膜を堆積するよう設定
されたPVDチャンバであり得、更に、処理チャンバ1
65は金属膜を堆積するよう設定されたPVDチャンバ
であり得る。集積回路又はチップの製造を完了するのに
必要とされる全ての処理を実行するためには、複数の処
理システムが必要とされるであろう。
【0018】コントローラ170は、処理システム10
0の全体の操作と、基板処理チャンバのそれぞれにおい
て実行される個別の工程を制御することができる。コン
トローラ170は、マイクロプロセッサ又はコンピュー
タ(図示せず)、及びマイクロプロセッサ又はコンピュ
ータにより実行されるコンピュータプログラムを含み得
る。基板は、コントローラにより制御されるコンベヤベ
ルト又はロボットシステム(図示せず)により真空ロー
ドロックチャンバ105及び110に投入される。ロボ
ット120及び145も又、コントローラに制御されて
処理システム100の様々な処理チャンバの間で基板を
搬送する。加えて、コントローラ170は、処理システ
ム100に接続される他の要素又はシステムの制御、及
び/又はそれらとの協働を行い得る。本発明は段階真空
処理システムでの適用の中で説明されるが、発明者は、
基板の中心及び方向検出が要される様々な基板処理シス
テムにおける本発明の適用を意図する。処理システムの
例は、Applied Material,Inc.、
Santa Clara、California(カリ
フォルニア州サンタクララのアプライドマテリアル社)
から入手可能なCentura(登録商標)、Endu
ra(登録商標)、Producer(登録商標)、及
びP5000(登録商標)システムを含む。
【0019】図2は、本発明によるロードロックチャン
バ210及び搬送ロボット220の斜視図である。ロー
ドロックチャンバ210(例えば、ロードロックチャン
バ105、110の1つ)は、スリットバルブ(図示せ
ず)により選択的に開閉される開口部202を通してト
ランスファチャンバ(例えば、第一段階トランスファチ
ャンバ115)に接続される。基板は典型的にはウェハ
カセットに収容され、そのカセットは、処理システム内
への基板の導入を助成するため、ロードロックチャンバ
202に投入される。典型的にウェハカセットは、ウェ
ハカセット内の個別基板への搬送ロボットによるアクセ
スを提供するため、ロードロックチャンバの下部を通し
て接続されるステップモータによりインデックス化され
る。搬送ロボット220(例えば、第一ロボット12
0)は、トランスファチャンバに連結する異なるチャン
バの間における基板の搬送を提供するため、トランスフ
ァチャンバの中心に設置される。
【0020】搬送ロボットの1つの実施形態は、図1及
び2に示されるような3点ジョイントロボットである。
搬送ロボットの各ジョイント部はロボットの基礎部分に
収容されたモータにより制御される。各ジョイント部
は、ベルト又は別の結合機構により制御モータに接続さ
れる。好ましくは、3つのモータが、それぞれθ1
θ2、及びθ3における3つの結合を位置決めするように
独立して制御される。ロボットは、典型的には、各モー
タがそれぞれ所望のθ1、θ2、及びθ3における3つの
結合を位置決めするのに必要とされるモータステップの
数を規定する、プログラムされた幾何学的式の組により
制御される。プログラムされた幾何学的式は、典型的に
は、ロボットを特定位置に移動させる信号を提供するマ
イクロプロセッサに接続された、データメモリ記憶装置
に記憶される。プロセッサは、ロボットの幾何学的式の
逆関数を用いることにより、第一及び第二結合部のジョ
イント位置(θ1,θ2)をも又、算出し得る。第三結合
部における回転軸の所与の位置(例えば、x−y座標
軸)及び方向(θ3)について、ロボットの幾何学的式
の逆関数を用いることで、第一及び第二結合部のジョイ
ント位置(θ1,θ2)を算出し得る。ロボットは、処理
システムにおける様々なチャンバの間で必要とされる基
板の搬送機能を実行するために修正されることが望まし
い。様々なロボット修正技術が前記技術においては公知
であり、ロボットを修正するために用いられ得る。
【0021】センサアセンブリ230は、基板がロード
ロックチャンバから外に搬送される際の基板の経路を横
切る位置に設けられる。1つの実施形態では、センサア
センブリ230はエミッタ231とレシーバ232とを
含み、トランスファチャンバの内側表面で開口部204
に隣接して、開口部204の開閉に関連するスリットバ
ルブ及びスリットバルブアセンブリ要素からの干渉を回
避する位置に連結される。エミッタ231は開口部20
4の上部位置に設けられ得、対応するレシーバ232は
開口部204の下部位置、すなわち、エミッタ231の
位置の反対側に設けられる。エミッタ231は、基板を
搬送する間の基板経路を横切って、光線の平面を投射す
ることができる。或いは、基板を搬送する間の基板経路
を横切って光線の平面を投射するために、エミッタは開
口部204の上に設けられる個別のエミッタのアレイを
含み得る。レシーバ232は、エミッタから発せられる
信号を検知するために単一のレシーバ、又は開口部20
4の下に設けられるレシーバのアレイを含み得る。エミ
ッタ及びレシーバのアレイを有する別の実施形態では、
複数のエミッタは及び複数のレシーバは、基板をチャン
バへの出入りで搬送する間の基板経路に対する完全な網
羅を確実にするために、それぞれが重なりあうことがで
きる。1つの実施形態では、エミッタ231は、基板の
搬送中ウェハの位置が完全に不整合である場合でさえも
全ウェハの外形を横切る光線を発する、広いレーザエミ
ッタである。
【0022】基板がロードロックチャンバから搬送され
るに従って、ロボットアーム及び基板の一部はエミッタ
231から発せられる光線平面の一部をブロックする。
レシーバ232はエミッタ231により発せられる光線
を検知し、基板の搬送中に基板及びロボットアームによ
りブロックされた部分に対応する信号を提供する。レシ
ーバ232はこれらの信号をプロセッサ(例えば、コン
トローラ170)に提供し、プロセッサは、これらの信
号から、基板の形状を決定する。1つの実施形態では、
センサ230はスキャンされた画像データに類似する信
号を提供し、プロセッサはそれから基板の輪郭を決定で
きる。
【0023】基板の形状は、ブロックされた光線の部分
を、システムの基準点に対する基板の動きに相関させる
ことにより決定される。1つの実施形態では、基準点は
ロボットの初期デフォルト位置である。又は、基板の相
対的な位置を効率的に表すため、トランスファチャンバ
の中心といった別の基準点も用いられ得る。
【0024】ロボットが基板をカセットから完全に取り
払い、基板がセンサによりスキャンされた後、プロセッ
サにより、基板の外縁部に対応する複数の点(x1
1)から(xn,yn)が生成される。次いで基板の中
心(a,b)及び半径rが、それぞれa、b、及びrに
対応する誤差関数を最小化することによって、これらの
データ点から求められる。誤差関数は以下の式により規
定される:
【数1】 a、b、及びrの値は、以下の式に従って誤差を最小化
することによって求められる:
【数2】
【数3】
【数4】 以上の式は、好ましくは、ウェハのノッチ又は平坦部に
対応する点、及びロボットブレードを表す点等の“粗悪
点”を除く、予め選択された範囲内の点を用いて実行さ
れる。“粗悪点”(xj,yj)は以下の式により削除さ
れ得る:
【数5】 ここで、αmaxは、基板半径の最大予測偏差の二乗に等
しい、予め選択された数である。例えば、基板半径にお
ける偏差が典型的には0.5mm未満である200mm
の基板については、αmaxは0.25mm2として選択さ
れる(すなわち、0.5mm×0.5mm)。従って、
この予め選択された範囲の外にある検知点は、基板にお
ける中心点を求める際の要素として用いられない。
【0025】“粗悪点”はウェハのノッチや平坦部の位
置を求めるのに用いられる。好ましくは、ウェハのノッ
チ又は平坦部の寸法に関する情報がプロセッサ/コンピ
ュータに入力され、コンピュータが“粗悪点”の組を比
較して、複数のこれら粗悪点がウェハのノッチ或いは平
坦部に対応するかどうかを決定する。典型的には、連続
する粗悪点の組がウェハのノッチ又は平坦部を表す。決
定するために、プロセッサは連続する粗悪点の組を、方
向インジケータについて記憶されているデータと比較す
る。
【0026】しかしながら、ウェハのノッチ又は平坦部
がロボットブレードの上に位置し、そのため、センサ及
びレシーバがウェハとロボットとを区別できないことか
ら、コンピュータ/プロセッサがウェハのノッチ又は平
坦部を検知できない場合、ウェハのノッチ又は平坦部を
ロボットブレードから離して位置決めするようウェハが
回転され、次いで、再びウェハはセンサ内を通される。
好ましくは、ウェハは、ロボットのエンドエフェクタ上
に設けられる回転可能グリッパ/チャックにより回転さ
れる。ウェハブレードに起因してウェハのノッチ又は平
坦部の検知が妨害されないことを確実にするために必要
とされる、回転可能グリッパ/チャックの最低限の角変
位(すなわち、角度)は、基板の寸法に対するウェハブ
レードの幅に依存する。典型的には、45度の角変位
が、ウェハのノッチ/平坦部が検知可能な位置つまりロ
ボットブレードにより妨害されない位置に動かされるこ
とを確実にする。しかしながら、ウェハのノッチが検知
可能な又は妨害されない場所に位置付けられるよう角変
位が基板を十分に回転させる限り、角変位は45度未満
に選択されてよい。基板が回転された後、ロボットブレ
ードは完全に伸長し、基板の形状を決定するのに基板を
新たにスキャンするよう、再び後退する。続いて、中心
及びウェハのノッチが上述の通りに算出される。
【0027】いったん基板の中心点(a,b)及び方向
インジケータの位置が決められると、図5に示されるよ
うなベクトルA、B、及びCが算出され得る。ベクトル
Aは、ロボットの中心点からグリッパの中心へのベクト
ルを表す。ベクトルBは、ロボットのグリッパの中心か
ら基板の中心点(a,b)へのベクトルを表す。ベクト
ルCは、基板の中心点(a,b)から方向インジケータ
へのベクトルを表す。プロセッサは、図6に示されるよ
うに、ベクトルA’、B’及びC’で、基板を正確な中
心位置及び方向に整合させて次の処理チャンバ内へ位置
決めするため、幾何学的式の逆関数を利用して、ロボッ
トの必要な動作を決める。次いで、ロボットは、基板を
正確な位置及び方向に整合させながら、次の処理チャン
バへ位置付け得る。
【0028】図3A−3Fは、本発明による3本アーム
ロボットを用いた基板搬送の1つの実施形態を示す。以
下の説明は、エンドエフェクタ323として回転可能真
空グリッパ等の回転可能グリッパ322を有する、3本
アームロボット320を用いた、ロードロックチャンバ
305から処理チャンバ325への基板の典型的な搬送
を示す。本発明は、システムの様々なチャンバの間で基
板を搬送することに適用可能であることが理解される。
一般的に、ロボット320は、図3Aに示されるよう
に、ロボット320が完全に後退しており、且つ基準方
向から回転していない初期位置(θ1a,θ2a,θ3a)か
ら開始する。続いて、ロボット320は図3Bに示され
る位置(θ1b,θ2a,θ3a)に回転し、ロボットのエン
ドエフェクタ323をロードロックチャンバ305に伸
長する位置に整列する。
【0029】次いで、ロボット320は、回転可能グリ
ッパ322をウェハカセット306内の基板302の中
心地点より下に位置付け、基板の搬送中に回転可能グリ
ッパ322が安全に基板302を把持し得ることを確実
にする、図3Cに示される位置(θ1c,θ2c,θ3c)に
伸長する。或いは、ロボット320は、回転可能グリッ
パ322の中心位置をウェハカセット内で理想的に整合
された基板の中心に対応する位置に位置決めするよう、
伸長し得る。典型的には、ウェハカセット306は、基
板302を回転可能グリッパ322上に位置決めするた
めにインデックス化されている。又は、ロボット320
は、基板302をウェハカセット306のスロットから
持上げるよう上昇される。次いで、真空機構等の、グリ
ッパ322の把持機構は、その上に搬送中の基板302
を堅持するよう稼動される。ロボット320は、続い
て、基板302をグリッパ322上に堅持しながら、図
3Dに示される位置(θ1b,θ2a,θ3a)までロードロ
ックチャンバ305から後退する。
【0030】ロボット322が後退するに従い、チャン
バのスリット開口部に隣接して設けられるセンサ330
(例えば、エミッタ及びレシーバ)は基板302の外形
を検知し、プロセッサ/コントローラに信号を送信す
る。プロセッサ/コントローラは信号を受信し、中心点
及び方向インジケータを含む、システムの基準点に対す
る基板302の位置を算出する。1つの実施形態では、
様々なチャンバの間での搬送について算出を単純化する
ために、初期位置(θ1a,θ2a,θ3a)が基準点として
選択される。又は、例えばこの場合には(θ1b,θ2a
θ3a)といった、基板がチャンバから搬送される以前
(又は後)の、ロボットが完全に後退している位置が基
準点として選択される。更に別の場合は、起点(0,
0)に対応し得るロボット320の中心点が基準点とし
て選択され得る。
【0031】基板302がロードロックチャンバ305
から取り除かれた後、プロセッサは基板302の位置を
算出し、基準点に対する中心点及び方向インジケータの
位置が明らかにされる。図5に示されるベクトルA、B
及びCと、図6に示されるベクトルA’、B’及びC’
もまた算出され、続いてプロセッサ/コントローラが、
基板の中心及び方向インジケータが所望の位置に整合さ
れるように基板を位置決めするのに必要なロボットの動
作を算出する。ロボットの動作の算出は、上述の、幾何
学的式の逆関数を用いる方法で行われる。
【0032】1つの実施形態では、ロボット320は、
基板302が処理チャンバ325から搬送されている間
に基板302を所望の方向に回転させ、ロボットの動き
は、ロボット320上のグリッパ322の回転に起因す
る、中心点の変化を補う。図3Dに示されるように、回
転可能グリッパ322は、基板302上の方向インジケ
ータを所望の方向に位置決めするのに必要な角度変更に
対応するθg 度ほど基板302を回転させる。基板30
2の中心点の位置は、回転可能グリッパにより基板30
2が回転された後に変化するため(グリッパの中心が基
板の中心点と整合していない限り)、中心点が処理チャ
ンバ325内の所望の中心点と整合することを確実にす
るため、ロボット320の動きが必要に応じて補われ
る。
【0033】次いで、ロボット320は、図3Eに示さ
れるように、ロボット320が基板を処理チャンバ32
5内に挿入する位置(θ1d,θ2a,θ3a)まで回転す
る。次いで、ロボット320は、基板302を処理チャ
ンバ325内で位置付け、正確に方向付けるため、図3
Fに示される位置(θ1d,θ2d,θ3d)まで伸長する。
この最終目的位置において、グリッパ322の真空機構
は解除され、処理チャンバ325内のウェハ持上げシス
テムにより、基板302はロボットエンドエフェクタ3
23から持ち上げられ得る。ロボット320は、図3E
に示されるロボットの位置と同位置(θ1d,θ2a
θ3a)まで完全に処理チャンバから後退し、基板302
は基板支持体上に位置付けられて、処理チャンバ325
内で処理される準備が完了する。ロボット320は、基
板搬送の一連の動作を新たに開始するため、別の位置に
回転され得る。
【0034】エンドエフェクタとして回転可能グリッパ
を有する3本アームロボットを用いた、基板搬送の一連
の動作についての別の実施形態としては、ロボット32
0はまず、基板302の中心を最終目的位置に整合さ
せ、次いで基板302を所望の方向へ方向付ける。搬送
のための一連の動作は、基板302の中心点及び方向イ
ンジケータを含む基板の位置を算出する上述の方法と同
様のものである。しかし、この実施形態では、ロボット
が基板と共に第一チャンバ(例えば、ロードロックチャ
ンバ)から完全に後退した後、ロボット320は完全に
後退した位置(θ 1b,θ2a,θ3a)から基板が処理チャ
ンバ内で最終目的位置に中心付けられる位置(θ1f,θ
2f,θ3f)まで移動する。続いて、基板302は処理チ
ャンバ内のウェハ持上げシステムによりロボットのエン
ドエフェクタ323から持ち上げられ、ロボット320
は回転可能グリッパ322の中心と基板302の中心点
を整合させるよう動く。動きは図5に示されるベクトル
Bと同一である。続いて、基板302は回転可能グリッ
パ322上に降下され、次いで基板を正確な方向に位置
決めするよう、そのグリッパ322が基板を回転させ
る。グリッパ322の真空機構は解除され、基板302
はロボットのエンドエフェクタ323から持ち上げられ
る。次いで、ロボット320は処理チャンバ325から
完全に後退し、基板搬送の一連の動作を新たに開始す
る。
【0035】図4A−4Fは、本発明によるカエル脚型
ロボットを用いた基板搬送を表す。以下の説明は、カエ
ル脚型ロボットを用いた、第一処理チャンバ450から
第二処理チャンバ455への典型的な基板搬送を表す。
ロボット445は、ロボット445が完全に後退してお
り、基準方向から回転していない、図4Aに示される初
期/基準位置(r0,θ0)から開始する。続いてロボッ
ト445は図4Bに示されるように(r0,θ1)までθ
1 度回転して、ロボットのエンドエフェクタ447を第
一処理チャンバ450内の中心に整合させる。θ1 度の
回転は、第一処理チャンバ450において整合されてい
る基板の中心を通る軸に対応する半径軸に対して修正さ
れる。
【0036】次いでロボット445は、図4Cに示され
るように回転可能グリッパ446を基板402の中心部
分の下に位置付け、回転可能グリッパ446が搬送中の
基板402を安全に把持し得ることを確実にする位置
(r1,θ1)まで伸長する。典型的には、処理チャンバ
内の基板持上げシステムが、基板402の回転可能グリ
ッパ446上への位置付けを容易にする基板搬送位置ま
で、基板を持ち上げる。次に、グリッパ446の真空機
構が稼動され、搬送中の基板402を堅持する。続い
て、基板402をグリッパ446上に堅持しながら、ロ
ボット445が第一処理チャンバ445から後退する。
典型的には、ロボット445は回転位置を変更すること
なく完全に後退する。つまり、ロボットは図4Dに示さ
れるように(r0,θ1)の位置まで後退する。
【0037】ロボット445が後退するに従って、セン
サ430(例えば、チャンバのスリット開口部に隣接し
て設けられるエミッタ及びレシーバ)は基板402の外
形を検知し、システムのプロセッサ/コントローラに信
号を送信する。プロセッサ/コントローラは信号を受信
し、基準点に対する、中心点及び方向インジケータを含
む基板402の位置を算出する。1つの実施形態では、
様々なチャンバの間における搬送について算出を単純化
するため、初期位置(r0,θ0)が基準点として選択さ
れる。或いは、例えばこの場合は(r0,θ1)のよう
に、基板がチャンバから搬送された後の、ロボットが完
全に後退した位置が基準点として選択される。いった
ん、基準点に対する中心点及び方向インジケータを含む
基板の位置が明らかにされると、プロセッサ/コントロ
ーラは、第二処理チャンバ455において基板の中心及
び方向インジケータが整合されるように基板を位置決め
するため必要な、ロボットの動作を算出する。ロボット
の動作の算出は、上述の幾何学的式の逆関数を用いて行
われる。
【0038】ロボット445はまず、所望の方向に基板
402を回転し得、次いで、回転に起因する中心点の変
化を補い得る。図4Dに示されるように、回転可能グリ
ッパ446は、基板402上の方向インジケータを所望
の方向に位置決めするために必要な角度変化に対応する
θg 度分、基板402を回転させる。基板の中心点は、
基板が回転可能グリッパにより回転された後は変化して
いるので(グリッパの中心点が基板の中心点に整合して
いない限り)、ロボットの動作がそれに応じて補われ
る。続いて、図4Eに示されるようにロボット445が
θ2 度回転し、処理チャンバにおいて正確に方向付けな
がら基板402の中心点を所望の最終目的位置に位置決
めするため、図4Fに示されるように、ロボットを(r
2,θ2)として距離r2 分伸長する。この最終目的位置
において、グリッパ446の真空機構は解除され、基板
402はロボットエンドエフェクタ447から持ち上げ
られ得る。ロボット445は処理チャンバから(r0
θ2)まで完全に後退し、基板402は、基板支持体上
に位置付けられ、第二処理チャンバ455内において処
理される準備が整う。ロボット445は、基板搬送の一
連の動作を新たに開始するため、別の位置に回転され得
る。
【0039】基板搬送の一連の動作についての別の実施
形態は、基板を最終目的位置に位置付け、次いで、基板
を所望の方向に方向付ける。搬送のための一連の動作は
前記と同様で、中心点及び方向インジケータを含む基板
の位置を算出する。しかし、この実施形態では、ロボッ
トはまずθ2 度回転し、基板の中心点を処理チャンバ内
における所望の最終目的位置に位置決めするため距離r
2 分伸長する。次いで基板はチャンバ内のウェア持上げ
システムによりロボットのエンドエフェクタから持ち上
げられ、ロボットは回転可能グリッパの中心を基板の中
心点に整合させるように動く。続いて基板は回転可能グ
リッパ上に降下され、そのグリッパが、基板を正確な方
向に位置決めするように基板を回転させる。グリッパの
真空機構は解除され、基板はロボットエンドエフェクタ
から持ち上げられる。ロボットは処理チャンバから完全
に後退し、基板は、基板支持体上に位置付けられ、チャ
ンバ内で処理される準備が整う。ロボットは基板搬送の
一連の動作を新たに開始するため、別の位置に回転し得
る。
【0040】発明者は又、例えば第三のアームの末端部
に設けられるエンドエフェクタとしての回転可能グリッ
パを有さない3本アームロボットを含む、他のロボット
構成を用いた発明の適用例を意図する。しかし、いくつ
かの場合には、処理チャンバの物理的な制約による干渉
問題を克服するため、より複雑なロボット動作の計画が
必要とされるであろう。
【0041】以上、本発明の好適な実施形態を説明して
きたが、前記特許請求の範囲により画定される本発明の
基本範囲から逸脱することなく、本発明の別の実施形態
を想到し得よう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による基板の中心/方向検出装置を用い
た処理システムの概略図である。
【図2】本発明によるロードロックチャンバ及び搬送ロ
ボットの斜視図である。
【図3A】本発明による3本アームロボットを用いた基
板搬送の一実施形態を示す図である。
【図3B】本発明による3本アームロボットを用いた基
板搬送の一実施形態を示す図である。
【図3C】本発明による3本アームロボットを用いた基
板搬送の一実施形態を示す図である。
【図3D】本発明による3本アームロボットを用いた基
板搬送の一実施形態を示す図である。
【図3E】本発明による3本アームロボットを用いた基
板搬送の一実施形態を示す図である。
【図3F】本発明による3本アームロボットを用いた基
板搬送の一実施形態を示す図である。
【図4A】本発明によるカエル脚ロボットを用いた基板
搬送の一実施形態を示す図である。
【図4B】本発明によるカエル脚ロボットを用いた基板
搬送の一実施形態を示す図である。
【図4C】本発明によるカエル脚ロボットを用いた基板
搬送の一実施形態を示す図である。
【図4D】本発明によるカエル脚ロボットを用いた基板
搬送の一実施形態を示す図である。
【図4E】本発明によるカエル脚ロボットを用いた基板
搬送の一実施形態を示す図である。
【図4F】本発明によるカエル脚ロボットを用いた基板
搬送の一実施形態を示す図である。
【図5】チャンバ内の方向付けされ且つ中心付けされた
位置に対して方向付けられておらず且つ中心付けされて
いない位置にあるグリッパ上の基板を処理するロボット
の平面図である。
【図6】方向付けされ且つ中心付けされた位置に基板が
搬送された後の、図5のロボットの平面図である。
【符号の説明】
100 処理システム 105、110 ロードロックチャンバ 115 第一段階トランスファチャンバ 120 第一のロボット 125、130、150、155、160、165 基
板処理チャンバ 140 第二段階トランスファチャンバ 135 処理チャンバ 145 第二のロボット 170 コントローラ 230 センサ 231 エミッタ 232 レシーバ 302 基板 322 グリッパ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B25J 9/10 B25J 9/10 A B65G 49/07 B65G 49/07 C (72)発明者 サティシュ サンダール アメリカ合衆国, カリフォルニア州, ミルピタス, テラ オルタ ドライヴ 1366 Fターム(参考) 3C007 AS03 AS24 AS25 BS15 BS23 BT01 BT11 CV07 CW07 KS04 KS05 KS17 KV12 KX19 LT12 NS09 NS13 5F031 CA02 FA01 FA11 FA12 FA15 GA36 GA43 GA44 JA28 JA29 JA34 JA35 KA11 KA13 KA14 MA04 MA06 MA28 MA29 PA02

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を位置決めする装置であって、前記
    装置は: a)前記基板を搬送するのに適合されたエンドエフェク
    タを有するロボットと; b)前記ロボットにより搬送される基板の経路と交差す
    る平面内にセンサビームが発せられるように設けられた
    1つ以上のエミッタと; c)前記センサビームを受け取ってプロセッサに対して
    信号を生成するように設けられた1つ以上のレシーバ
    と; d)基準点に対する前記基板の中心点及び方向インジケ
    ータが決められるように、前記1つ以上のレシーバから
    の信号を処理するのに適合されたプロセッサと; e)前記基板の前記中心点及び前記方向インジケータに
    応じてロボットの動作を制御するコントローラと、 を備える装置。
  2. 【請求項2】 前記ロボットが、前記エンドエフェクタ
    上に設けられた回転可能グリッパを有するカエル脚型ロ
    ボットを含む、請求項1に記載の装置。
  3. 【請求項3】 前記ロボットがマルチリンクロボットを
    含む、請求項1に記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記ロボットが、前記ロボットエンドエ
    フェクタ上に設けられた回転可能グリッパを更に備え
    る、請求項1に記載の装置。
  5. 【請求項5】 基板を位置決めする方法であって、前記
    方法は: a)センサビームの平面と交差する経路に沿って基板を
    搬送するステップと; b)前記センサビームからの信号を用いて、前記基板の
    中心点及び方向インジケータを決めるステップと; c)前記基板の前記中心点及び前記方向インジケータに
    応じて、基板を位置決めするステップと、 を備える方法。
  6. 【請求項6】 前記基板の前記中心点は、前記基板の外
    縁部に対応するデータ点の組の誤差関数を最小化するこ
    とにより求められる、請求項5に記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記方向インジケータは、径方向偏差の
    範囲を超えるデータ点の組と方向インジケータ用に記憶
    されたデータの組とを比較することにより決められる、
    請求項5に記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記基板を位置決めする前記ステップ
    が、前記基板の前記中心点及び前記方向インジケータを
    最終目的位置に整合させるステップを含む、請求項5に
    記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記基板を位置決めする前記ステップ
    が: i)ロボットのエンドエフェクタ上で前記基板を所望の
    方向に回転させるステップと; ii)前記基板がチャンバ内に挿入されるよう位置決め
    されるように、前記ロボットを回転させるステップと; iii)前記基板の前記中心点が前記チャンバ内の最終
    目的位置に整合されるように、前記ロボットを伸長する
    ステップと、を含む、請求項5に記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記基板を位置決めする前記ステップ
    が: i)前記基板がチャンバ内に挿入されるよう位置決めさ
    れるように、ロボットを回転させるステップと; ii)前記基板の前記中心点が前記チャンバ内の最終目
    的位置に整合されるように、前記ロボットを伸長するス
    テップと; iii)前記基板を前記ロボットから持ち上げるステッ
    プと; iv)回転可能ロボットエンドエフェクタが前記基板の
    前記中心点に整合されるように位置決めするステップ
    と; v)前記基板を前記回転可能ロボットエンドエフェクタ
    上に降下させるステップと; vi)前記基板を所望の方向に回転させるステップと、
    を含む、請求項5に記載の方法。
JP2001228146A 2000-07-27 2001-07-27 ウェハ処理ロボット用の、基板搬送時の中心検出及びノッチ整列装置 Pending JP2002151576A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/626899 2000-07-27
US09/626,899 US6327517B1 (en) 2000-07-27 2000-07-27 Apparatus for on-the-fly center finding and notch aligning for wafer handling robots

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002151576A true JP2002151576A (ja) 2002-05-24

Family

ID=24512337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001228146A Pending JP2002151576A (ja) 2000-07-27 2001-07-27 ウェハ処理ロボット用の、基板搬送時の中心検出及びノッチ整列装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6327517B1 (ja)
EP (1) EP1176628A3 (ja)
JP (1) JP2002151576A (ja)
KR (1) KR100751998B1 (ja)
TW (1) TW497127B (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007059740A (ja) * 2005-08-26 2007-03-08 Sumco Corp シリコンウェーハの製造方法
KR101736855B1 (ko) 2015-05-29 2017-05-18 세메스 주식회사 기판 처리 설비
JP2019201112A (ja) * 2018-05-16 2019-11-21 東京エレクトロン株式会社 搬送方法および搬送装置

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3437812B2 (ja) * 2000-02-07 2003-08-18 タツモ株式会社 基板搬送装置
US7008802B2 (en) * 2001-05-29 2006-03-07 Asm America, Inc. Method and apparatus to correct water drift
AU2002331786A1 (en) 2001-08-31 2003-03-18 The Board Of Regents Of The University And Community College System, On Behalf Of The University Of Coordinated joint motion control system
US7066707B1 (en) * 2001-08-31 2006-06-27 Asyst Technologies, Inc. Wafer engine
US6941192B2 (en) * 2002-01-31 2005-09-06 Abb Research Ltd. Robot machining tool position and orientation calibration
US20080010845A1 (en) * 2002-04-26 2008-01-17 Accretech Usa, Inc. Apparatus for cleaning a wafer substrate
US6900877B2 (en) * 2002-06-12 2005-05-31 Asm American, Inc. Semiconductor wafer position shift measurement and correction
US6856858B2 (en) * 2002-06-21 2005-02-15 Applied Materials, Inc. Shared sensors for detecting substrate position/presence
US6788991B2 (en) 2002-10-09 2004-09-07 Asm International N.V. Devices and methods for detecting orientation and shape of an object
US6852644B2 (en) * 2002-11-25 2005-02-08 The Boc Group, Inc. Atmospheric robot handling equipment
JP2004282002A (ja) * 2003-02-27 2004-10-07 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
US7505832B2 (en) * 2003-05-12 2009-03-17 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for determining a substrate exchange position in a processing system
US6934606B1 (en) * 2003-06-20 2005-08-23 Novellus Systems, Inc. Automatic calibration of a wafer-handling robot
US7085677B1 (en) * 2004-04-19 2006-08-01 Amazon Technologies, Inc. Automatically identifying incongruous item packages
DE102004025150B4 (de) * 2004-05-21 2019-05-09 Mattson Technology, Inc. Lagebestimmung eines Halbleitersubstrats auf einer Rotationsvorrichtung
US7440091B2 (en) * 2004-10-26 2008-10-21 Applied Materials, Inc. Sensors for dynamically detecting substrate breakage and misalignment of a moving substrate
US20060167583A1 (en) * 2005-01-22 2006-07-27 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for on the fly positioning and continuous monitoring of a substrate in a chamber
JP2006269497A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Olympus Corp 基板処理装置及び基板収納方法
KR20070004230A (ko) * 2005-07-04 2007-01-09 삼성전자주식회사 반도체 웨이퍼 이송용 로봇
JP2009500869A (ja) * 2005-07-11 2009-01-08 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド オンザフライ(onthefly)ワークピースセンタリングを備えた装置
JP2009505410A (ja) * 2005-08-16 2009-02-05 モーザー,ヨーゼフ 2つの面を持つサクションバーを備える運動装置
CN100394576C (zh) * 2005-12-09 2008-06-11 北京圆合电子技术有限责任公司 具有视觉传感器的硅片传输系统及传输方法
KR100716299B1 (ko) * 2005-12-20 2007-05-09 삼성전자주식회사 이송유닛 및 작업물의 지지방법
US8065060B2 (en) 2006-01-18 2011-11-22 The Board Of Regents Of The University And Community College System On Behalf Of The University Of Nevada Coordinated joint motion control system with position error correction
WO2008005521A1 (en) * 2006-07-07 2008-01-10 Accretech Usa, Inc. Wafer processing apparatus and method
KR100839191B1 (ko) 2007-03-28 2008-06-17 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
US8041450B2 (en) * 2007-10-04 2011-10-18 Asm Japan K.K. Position sensor system for substrate transfer robot
KR101489963B1 (ko) 2007-12-13 2015-02-04 한국에이에스엠지니텍 주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 증착 방법
US8273178B2 (en) 2008-02-28 2012-09-25 Asm Genitech Korea Ltd. Thin film deposition apparatus and method of maintaining the same
US7963736B2 (en) * 2008-04-03 2011-06-21 Asm Japan K.K. Wafer processing apparatus with wafer alignment device
US8276959B2 (en) 2008-08-08 2012-10-02 Applied Materials, Inc. Magnetic pad for end-effectors
US8666551B2 (en) * 2008-12-22 2014-03-04 Asm Japan K.K. Semiconductor-processing apparatus equipped with robot diagnostic module
US8459922B2 (en) * 2009-11-13 2013-06-11 Brooks Automation, Inc. Manipulator auto-teach and position correction system
US8452077B2 (en) * 2010-02-17 2013-05-28 Applied Materials, Inc. Method for imaging workpiece surfaces at high robot transfer speeds with correction of motion-induced distortion
SG11201501086UA (en) 2012-08-31 2015-04-29 Semiconductor Tech & Instr Inc System and method for automatically correcting for rotational misalignment of wafers on film frames
US9196518B1 (en) 2013-03-15 2015-11-24 Persimmon Technologies, Corp. Adaptive placement system and method
DE102013111165A1 (de) * 2013-10-09 2015-04-09 Aixtron Se Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Drehlage eines Suszeptors in einer Prozesskammer
KR102175021B1 (ko) 2014-02-12 2020-11-06 케이엘에이 코포레이션 웨이퍼 노치 검출
TWI710440B (zh) 2014-11-10 2020-11-21 美商布魯克斯自動機械公司 工具自動教導方法及設備
WO2016081459A1 (en) 2014-11-18 2016-05-26 Persimmon Technologies, Corp. Robot adaptive placement system with end-effector position estimation
US9827677B1 (en) * 2016-05-16 2017-11-28 X Development Llc Robotic device with coordinated sweeping tool and shovel tool
US9827678B1 (en) * 2016-05-16 2017-11-28 X Development Llc Kinematic design for robotic arm
CN107464513B (zh) * 2017-09-18 2023-11-21 惠科股份有限公司 一种显示面板的画面闪烁自动检测系统及检测方法
JP7145648B2 (ja) * 2018-05-22 2022-10-03 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法及び基板処理装置
JP7609787B2 (ja) * 2019-01-18 2025-01-07 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ウエハ処理ツール及びその方法
US11633848B2 (en) 2019-07-31 2023-04-25 X Development Llc Independent pan of coaxial robotic arm and perception housing
US11813757B2 (en) * 2020-10-13 2023-11-14 Applied Materials, Inc. Centerfinding for a process kit or process kit carrier at a manufacturing system

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59202646A (ja) * 1983-05-04 1984-11-16 Hitachi Ltd ウエハの位置合わせ装置
JPH0513554A (ja) * 1991-06-28 1993-01-22 K I Syst:Yugen 半導体ウエハ保持ハンド
JPH05109868A (ja) * 1991-10-21 1993-04-30 Fujitsu Ltd 半導体製造装置
JPH0685038A (ja) * 1992-09-03 1994-03-25 Tokyo Electron Yamanashi Kk ウエハの位置合わせ方法及びその装置並びに透明ウエハの位置合わせ装置
JPH06177230A (ja) * 1992-12-09 1994-06-24 Nippon Bio Ratsudo Lab Kk 非接触型位置決め搬送装置
JPH09283604A (ja) * 1996-04-10 1997-10-31 Nikon Corp 基板搬送方法および基板搬送装置
JPH10223732A (ja) * 1996-12-02 1998-08-21 Toyota Autom Loom Works Ltd 位置ずれ検出装置およびその方法
JPH113929A (ja) * 1997-06-11 1999-01-06 Kokusai Electric Co Ltd ウェーハ姿勢合わせ装置及び該装置を具備した半導体製造装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4819167A (en) * 1987-04-20 1989-04-04 Applied Materials, Inc. System and method for detecting the center of an integrated circuit wafer
EP0597637B1 (en) * 1992-11-12 2000-08-23 Applied Materials, Inc. System and method for automated positioning of a substrate in a processing chamber
US5563798A (en) 1994-04-05 1996-10-08 Applied Materials, Inc. Wafer positioning system
US5822213A (en) 1996-03-29 1998-10-13 Lam Research Corporation Method and apparatus for determining the center and orientation of a wafer-like object
US5706201A (en) 1996-05-07 1998-01-06 Fortrend Engineering Corporation Software to determine the position of the center of a wafer

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59202646A (ja) * 1983-05-04 1984-11-16 Hitachi Ltd ウエハの位置合わせ装置
JPH0513554A (ja) * 1991-06-28 1993-01-22 K I Syst:Yugen 半導体ウエハ保持ハンド
JPH05109868A (ja) * 1991-10-21 1993-04-30 Fujitsu Ltd 半導体製造装置
JPH0685038A (ja) * 1992-09-03 1994-03-25 Tokyo Electron Yamanashi Kk ウエハの位置合わせ方法及びその装置並びに透明ウエハの位置合わせ装置
JPH06177230A (ja) * 1992-12-09 1994-06-24 Nippon Bio Ratsudo Lab Kk 非接触型位置決め搬送装置
JPH09283604A (ja) * 1996-04-10 1997-10-31 Nikon Corp 基板搬送方法および基板搬送装置
JPH10223732A (ja) * 1996-12-02 1998-08-21 Toyota Autom Loom Works Ltd 位置ずれ検出装置およびその方法
JPH113929A (ja) * 1997-06-11 1999-01-06 Kokusai Electric Co Ltd ウェーハ姿勢合わせ装置及び該装置を具備した半導体製造装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007059740A (ja) * 2005-08-26 2007-03-08 Sumco Corp シリコンウェーハの製造方法
KR101736855B1 (ko) 2015-05-29 2017-05-18 세메스 주식회사 기판 처리 설비
JP2019201112A (ja) * 2018-05-16 2019-11-21 東京エレクトロン株式会社 搬送方法および搬送装置
JP7008573B2 (ja) 2018-05-16 2022-01-25 東京エレクトロン株式会社 搬送方法および搬送装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR100751998B1 (ko) 2007-08-28
TW497127B (en) 2002-08-01
US6327517B1 (en) 2001-12-04
EP1176628A2 (en) 2002-01-30
KR20020010548A (ko) 2002-02-04
EP1176628A3 (en) 2006-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002151576A (ja) ウェハ処理ロボット用の、基板搬送時の中心検出及びノッチ整列装置
JP4402811B2 (ja) 被処理体の搬送システムおよび被処理体の位置ずれ量の検出方法
JP4389305B2 (ja) 処理装置
JP4674705B2 (ja) 搬送システムの搬送位置合わせ方法及び搬送システム
EP1062687B1 (en) On the fly center-finding during substrate handling in a processing system
JP4260423B2 (ja) 円盤状物の基準位置教示方法、位置決め方法および搬送方法並びに、それらの方法を使用する円盤状物の基準位置教示装置、位置決め装置、搬送装置および半導体製造設備
US20200388523A1 (en) Wafer aligner
JP4696373B2 (ja) 処理システム及び被処理体の搬送方法
JP5323718B2 (ja) 高生産性ウエハ連続処理末端装置
KR100779774B1 (ko) 반송기구의 기준위치 보정장치 및 보정방법
JP4239572B2 (ja) 搬送システムの搬送位置合わせ方法及び処理システム
US7353076B2 (en) Vacuum processing method and vacuum processing apparatus
JPH06297363A (ja) ロボット機構を用いた搬入および搬出のための基板位置合わせ方法および装置
WO2003007095A1 (en) Method for determining a position of a robot
KR20090034723A (ko) 기판 이송 로봇용 위치 센서 시스템
JP2010512026A (ja) 高生産性ウエハノッチアライメント装置
US12142503B2 (en) Sensor-based correction of robot-held object
JP2002043394A (ja) 位置ずれ検出装置及び処理システム
JP2004193344A (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
JP4607994B2 (ja) 円盤状物の位置決め方法並びに、その方法を使用する円盤状物の位置決め装置、搬送装置および半導体製造設備
WO1999064207A1 (en) Prealigner for substrates in a robotic system
JP4359365B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理装置における基板位置ずれ補正方法
JP2006351883A (ja) 基板搬送機構及び処理システム
JP2000210890A (ja) 位置検出装置
JPH1070174A (ja) ウェハの位置決め装置及び方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080623

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100907

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20101126

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20101130

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110816

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20111114

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20111117

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120314