JP2002062406A - Antireflection film - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は反射防止フィルムに
関し、さらに具体的には、光学特性に優れ、かつ当該反
射防止フィルムの最外層である光学シリカ層が剥離する
ことがない反射防止フィルムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film, and more particularly, to an antireflection film having excellent optical properties and in which an optical silica layer which is the outermost layer of the antireflection film does not peel off.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶ディスプレイ、プラズマディスプレ
イ、ＣＲＴなどのコンピューター、ワープロ、テレビ、
表示板等に使用される各種ディスプレイや、計器等の表
示体、バックミラー、ゴーグル、窓ガラスなどには、ガ
ラスやプラスチックなどの透明な基板が使用されてい
る。そして、それらの透明な基板を通して、文字や図形
その他の情報を読み取るため、透明な基板の表面で光が
反射するとそれらの情報が読み取り難くなるという欠点
がある。2. Description of the Related Art Computers such as liquid crystal displays, plasma displays and CRTs, word processors, televisions,
BACKGROUND ART Transparent substrates such as glass and plastic are used for various displays used for display boards and the like, display bodies such as instruments, rearview mirrors, goggles, and window glasses. In addition, since characters, figures, and other information are read through these transparent substrates, there is a disadvantage that if the light is reflected on the surface of the transparent substrate, the information becomes difficult to read.
【０００３】現在では、上記欠点を解決するために、基
材フィルム上に互いに屈折率の異なる層を積層すること
により反射防止フィルムを形成し、当該反射防止フィル
ムを前記透明な基板表面に貼ることにより光の反射を防
止することが行われている。At present, in order to solve the above-mentioned drawbacks, an antireflection film is formed by laminating layers having different refractive indexes on a base film, and the antireflection film is attached to the transparent substrate surface. To prevent light reflection.
【０００４】そして、このような積層構造を有する反射
防止フィルムにおいては、その最外層（反射防止フィル
ムの基材とは反対の表面）には、効率よく光の反射を防
止するために屈折率の小さい層を設けることが好ましい
ことが知られており、当該屈折率の小さい層としては、
シリカ層が好適に用いられている。In the antireflection film having such a laminated structure, the outermost layer (the surface opposite to the substrate of the antireflection film) has a refractive index in order to efficiently prevent light reflection. It is known that it is preferable to provide a small layer, and as the layer having a small refractive index,
A silica layer is preferably used.
【０００５】シリカ層が、反射防止フィルムの最外層と
して好適である理由は、シリカ層を形成する酸化ケイ素
（ＳｉＯｘ）の密度、及び組成を変化させることによ
り、その屈折率の大きさを変化せしめることができ、屈
折率の小さい層を形成することが可能だからである。そ
して、積層構造を有する反射防止フィルムにおける最外
層としてシリカ層の屈折率はできるだけ小さくすること
が望まれる。The reason that the silica layer is suitable as the outermost layer of the antireflection film is to change the refractive index by changing the density and composition of silicon oxide (SiOx) forming the silica layer. This is because it is possible to form a layer having a small refractive index. Then, it is desired that the refractive index of the silica layer as the outermost layer in the antireflection film having a laminated structure be as small as possible.
【０００６】ここで、当該シリカ層の屈折率を小さくす
るということは、シリカ層を形成する二酸化ケイ素の密
度又は組成を変化させることである。しかしながら、積
層構造中のシリカ層の成分はそのほとんどが二酸化ケイ
素であるため、当該シリカ層の組成を大幅に変化せしめ
ることによってその屈折率を小さくするのは困難であ
る。よって、当該シリカ層の屈折率を小さくするために
は、その密度を変化せしめることとなる。一般に、密度
と屈折率との関係は比例関係にあるため、当該シリカ層
の場合においても、その屈折率を小さくするためには、
密度を小さくすることが必要なのである。Here, reducing the refractive index of the silica layer means changing the density or composition of silicon dioxide forming the silica layer. However, since most of the components of the silica layer in the laminated structure are silicon dioxide, it is difficult to reduce the refractive index by greatly changing the composition of the silica layer. Therefore, in order to reduce the refractive index of the silica layer, the density must be changed. Generally, since the relationship between the density and the refractive index is in a proportional relationship, even in the case of the silica layer, in order to reduce the refractive index,
It is necessary to reduce the density.
【０００７】しかしながら、シリカ層の密度を小さくし
た場合、シリカ層とその直下の層（積層構造において当
該シリカ層と接触している層）との密着性が悪化してし
まい、最外層のシリカ層の屈折率は小さいため光学特性
（反射防止性）には優れているが、密着性に欠けるた
め、多少の衝撃等によりすぐ剥離してしまう層となって
しまうという問題があった。However, if the density of the silica layer is reduced, the adhesion between the silica layer and the layer immediately below (the layer in contact with the silica layer in the laminated structure) is deteriorated, and the outermost silica layer Has a small refractive index and thus has excellent optical properties (anti-reflection properties), but has a problem in that it lacks adhesion and becomes a layer which is immediately peeled off by a slight impact or the like.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題に
鑑みなされたものであり、積層構造を有する反射防止フ
ィルムにおいて、その最外層としてのシリカ層の屈折率
が小さいことにより光学特性に優れ、かつ、当該シリカ
層がその接触している層から容易に剥離することがない
反射防止フィルムを提供することを目的とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has excellent optical characteristics due to a small refractive index of a silica layer as an outermost layer in an antireflection film having a laminated structure. Further, an object of the present invention is to provide an antireflection film in which the silica layer is not easily separated from a layer with which the silica layer is in contact.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、請求項１において、基材上に複数の薄層が
積層されてなる積層構造を有する反射防止フィルムにお
いて、当該積層構造の最外層が光学シリカ層であり、前
記光学シリカ層に接触する層が、前記光学シリカ層より
大きい屈折率を有する密着シリカ層であることを特徴と
する反射防止フィルムを提供する。According to the present invention, there is provided an antireflection film having a laminated structure in which a plurality of thin layers are laminated on a substrate. Wherein the outermost layer is an optical silica layer, and the layer in contact with the optical silica layer is an adhesive silica layer having a higher refractive index than the optical silica layer.
【００１０】屈折率が小さく光学特性に優れた光学シリ
カ層を最外層とし、そして、当該光学シリカ層と接触す
る層を前記光学シリカ層より大きい屈折率を有する密着
シリカ層とすることにより、光学シリカ層と、密着シリ
カ層とはともにシリカ層であるため密着性がよく、従っ
て、光学シリカ層の光学特性を保ったまま光学シリカ層
の密着性を向上せしめることができ、前記密着シリカ層
は、その屈折率が光学シリカ層と比して大きいため（つ
まり二酸化ケイ素の密度が高いため）、当該密着シリカ
層とその直下の層（光学シリカ層と反対側において接触
している層）との密着性が問題となることはないからで
ある。An optical silica layer having a small refractive index and excellent optical characteristics is used as the outermost layer, and a layer in contact with the optical silica layer is a contact silica layer having a higher refractive index than the optical silica layer. The silica layer and the contact silica layer are both silica layers, so that the adhesion is good, and therefore, the adhesion of the optical silica layer can be improved while maintaining the optical characteristics of the optical silica layer. Since the refractive index thereof is larger than that of the optical silica layer (that is, the density of silicon dioxide is high), the adhesion silica layer and the layer immediately below (the layer in contact with the optical silica layer on the opposite side) This is because adhesion does not matter.
【００１１】前記請求項１に記載の発明においては、請
求項２に記載するように、前記光学シリカ層の屈折率が
１．４２〜１．４５（波長λ＝６３３ｎｍ）であり、前
記密着シリカ層の屈折率が１．４５より大きく１．５５
以下（波長λ＝６３３ｎｍ）であることが好ましい。According to the first aspect of the present invention, as described in the second aspect, the optical silica layer has a refractive index of 1.42 to 1.45 (wavelength λ = 633 nm), and The refractive index of the layer is greater than 1.45 and 1.55
The following (wavelength λ = 633 nm) is preferable.
【００１２】光学シリカ層の屈折率を１．４２〜１．４
５（波長λ＝６３３ｎｍ）とすることにより、当該光学
シリカ層が最外層に設けられた反射防止フィルムの性能
（反射防止機能）を向上せしめることができる。また、
密着シリカ層の屈折率を１．４５（波長λ＝６３３ｎ
ｍ）より大きくすることにより、当該密着シリカ層がそ
の直下の層（光学シリカ層と反対側において接触してい
る層）から剥離してしまうことを防止することができる
からである。また通常シリカ層を形成する場合には、そ
の屈折率は１．５５より大きくなることはないので、屈
折率の上限を１．５５とした。The refractive index of the optical silica layer is 1.42 to 1.4.
By setting the wavelength to 5 (wavelength λ = 633 nm), the performance (antireflection function) of the antireflection film in which the optical silica layer is provided as the outermost layer can be improved. Also,
The refractive index of the contact silica layer is set to 1.45 (wavelength λ = 633n).
By setting it to be larger than m), it is possible to prevent the adhesion silica layer from peeling off from the layer immediately below (the layer in contact with the opposite side to the optical silica layer). In addition, when a silica layer is usually formed, the upper limit of the refractive index is set to 1.55 because the refractive index does not become larger than 1.55.
【００１３】前記請求項１又は請求項２に記載の発明に
おいては、請求項３に記載するように、前記基材がポリ
エチレンテレフタレートフィルムであり、前記積層構造
中には、酸化チタン層を有することが好ましい。According to the first or second aspect of the present invention, as described in the third aspect, the base material is a polyethylene terephthalate film, and the laminated structure has a titanium oxide layer. Is preferred.
【００１４】本発明の反射防止フィルムにおいては、そ
の基材を特に限定するものではなく、いかなるフィルム
をも使用可能であるが、中でも、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム（以下「ＰＥＴフィルム」とすることが
ある。）は、透明性、耐熱性に優れているため好まし
い。また、酸化チタン層を有することが好ましいのは、
反射防止フィルムは、通常それぞれ異なった屈折率を有
する層を積層することにより、当該積層構造全体として
光の反射を防止するものである。係る場合において、光
学シリカ層を低屈折率層として最外層で用い、かつ、酸
化チタン層を積層構造中に設けることにより、当該酸化
チタン層は、高屈折率層として作用し、積層構造全体と
して優れた反射防止機能を発揮するからである。In the antireflection film of the present invention, the substrate is not particularly limited, and any film can be used. Among them, a polyethylene terephthalate film (hereinafter sometimes referred to as a “PET film”) may be used. Is preferred because of excellent transparency and heat resistance. Also, it is preferable to have a titanium oxide layer,
The anti-reflection film generally prevents light reflection as a whole of the laminated structure by laminating layers having different refractive indexes. In such a case, the optical silica layer is used as the outermost layer as a low refractive index layer, and by providing a titanium oxide layer in the laminated structure, the titanium oxide layer acts as a high refractive index layer, and as a whole laminated structure. This is because they exhibit an excellent antireflection function.
【００１５】[0015]
【実施の形態】以下に、本発明についてより具体的に説
明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described more specifically.
【００１６】図１に示すように、本発明の反射防止フィ
ルム１は、基材２上に積層構造３を有するものであり、
当該積層構造の最外層が光学シリカ層４であり、前記光
学シリカ層４に接触する層が、前記光学シリカ層より大
きい屈折率を有する密着シリカ層５であることを特徴と
するものである。As shown in FIG. 1, an antireflection film 1 of the present invention has a laminated structure 3 on a substrate 2,
The outermost layer of the laminated structure is an optical silica layer 4, and the layer in contact with the optical silica layer 4 is an adhesive silica layer 5 having a refractive index higher than that of the optical silica layer.
【００１７】これは、光学シリカ層と、密着シリカ層と
は共にシリカ層であるため密着性がよく、従って、光学
シリカ層の光学特性を保ったまま光学シリカ層の密着性
を向上せしめることができ、かつ前記密着シリカ層は、
その屈折率が光学シリカ層と比して大きいため、つまり
二酸化ケイ素の密度が高いため、当該密着シリカ層とそ
の直下の層（光学シリカ層と反対側において接触してい
る層、図中の符号６）との密着性が問題となることはな
いからである。This is because the optical silica layer and the contact silica layer are both silica layers, so that they have good adhesion. Therefore, it is possible to improve the adhesion of the optical silica layer while maintaining the optical characteristics of the optical silica layer. Can, and the adhesion silica layer,
Since the refractive index is larger than that of the optical silica layer, that is, the density of silicon dioxide is high, the contact silica layer and the layer immediately below the layer (the layer in contact with the opposite side of the optical silica layer; This is because there is no problem with the adhesiveness to the above 6).
【００１８】一般に、シリカ層の組成及び密度と屈折率
とは比例関係にあることが知られており、従って、屈折
率が小さく光学特性の優れたシリカ層とするためには、
当該シリカ層の組成及び／又は密度を変化（低下）せし
めることが必要となる。ここで、シリカ層の組成は、Ｓ
ｉＯｘで表すことが可能であり、ｘの値、つまりケイ素
原子１つに結合する酸素原子の数により当該シリカ層の
組成を決定することができる。よって、シリカ層の屈折
率を低下せしめて光学特性を向上させるためには、上記
ｘの値を変化せしめることが必要となる。しかしなが
ら、シリカ層中のケイ素原子は、そのほとんどが二酸化
ケイ素（ＳｉＯ2）の形で存在しており、その組成を変
化せしめることは困難である。It is generally known that the refractive index is proportional to the composition and density of a silica layer. Therefore, in order to obtain a silica layer having a small refractive index and excellent optical characteristics,
It is necessary to change (decrease) the composition and / or density of the silica layer. Here, the composition of the silica layer is S
It can be represented by iOx, and the composition of the silica layer can be determined by the value of x, that is, the number of oxygen atoms bonded to one silicon atom. Therefore, in order to lower the refractive index of the silica layer and improve the optical characteristics, it is necessary to change the value of x. However, most of the silicon atoms in the silica layer exist in the form of silicon dioxide (SiO 2 ), and it is difficult to change the composition.
【００１９】上記の理由により、シリカ層の屈折率を小
さくすることにより光学特性を向上せしめるためには、
当該シリカ層の密度を変化せしめることが必要となって
くる。しかしながら、シリカ層の密度を低下せしめるこ
とは可能であるが、密度を小さくした場合には当該シリ
カ層とその直下の層との密着性が低下するため、光学特
性には優れていても、剥離し易いという欠点を有するこ
ととなる。For the reasons described above, in order to improve the optical characteristics by reducing the refractive index of the silica layer,
It is necessary to change the density of the silica layer. However, although it is possible to reduce the density of the silica layer, if the density is reduced, the adhesion between the silica layer and the layer immediately below the silica layer is reduced, so that even if the silica layer has excellent optical properties, This has the disadvantage of being easy to perform.
【００２０】つまり、シリカ層を反射防止フィルムの最
外層として用いる場合においては、当該シリカ層の光学
特性、または密着性の一方が他の一方を向上せしめるた
めの犠牲となり、光学特性と密着性の両方を十分に満た
すことは不可能であった。That is, when the silica layer is used as the outermost layer of the antireflection film, one of the optical characteristics or the adhesion of the silica layer is sacrificed to improve the other, and the optical characteristics and the adhesion are not improved. It was impossible to satisfy both.
【００２１】このような関係を考慮しなされたものが本
発明であり、つまり、本発明の反射防止フィルムは、最
外層に設置された光学シリカ層の直下に密着シリカ層を
設けることにより、当該光学シリカ層の光学特性をほと
んど犠牲にすることなく（屈折率（密度））を大きくす
ることなく）、当該光学シリカ層の密着性をも向上せし
めたところに特徴を有するものである。The present invention has been made in consideration of such a relationship, that is, the antireflection film of the present invention is provided by providing an adhesive silica layer immediately below an optical silica layer provided as an outermost layer. The optical silica layer is characterized in that the adhesion of the optical silica layer is also improved without substantially sacrificing the optical characteristics of the optical silica layer (without increasing the refractive index (density)).
【００２２】以下に図１を用いて本発明の反射防止フィ
ルム１を構成する光学シリカ層４、密着シリカ層
５、基材２、積層構造３、についてそれぞれ説明す
る。The optical silica layer 4, the contact silica layer 5, the substrate 2, and the laminated structure 3 constituting the antireflection film 1 of the present invention will be described below with reference to FIG.
【００２３】光学シリカ層 本発明の反射防止フィルム１において、光学シリカ層４
は必須の構成要素の一つである。そして、当該光学シリ
カ層４とは、当該反射防止フィルム上に形成された積層
構造中の最外層、つまり基材と反対側の表面に設けられ
たシリカ層をいい、当該反射防止フィルムの光学特性
（反射防止機能）を向上せしめるために設けられるもの
である。また、シリカ層は比較的その表面エネルギーが
小さいため防汚性、撥水性を備えている。従って、反射
防止フィルムに防汚性、撥水性をも付与することができ
る点においても好適である。Optical silica layer In the antireflection film 1 of the present invention, the optical silica layer 4
Is one of the essential components. The optical silica layer 4 refers to the outermost layer in the laminated structure formed on the antireflection film, that is, a silica layer provided on the surface on the side opposite to the substrate, and the optical characteristics of the antireflection film. (Anti-reflection function) is provided to improve the performance. Further, the silica layer has a relatively small surface energy and thus has antifouling property and water repellency. Therefore, the antireflection film is also suitable in that it can also impart antifouling properties and water repellency.
【００２４】本発明において、当該光学シリカ層４の屈
折率は、反射防止フィルムの最外層に設置され、その光
学特性により反射防止効果を有するものであれば特に限
定されるものではなくいかなる屈折率の光学シリカ層を
も用いることができる。しかしながら、通常反射防止フ
ィルムにおいてその最外層に光学シリカ層を用いた場合
には、当該光学シリカ層の屈折率が小さければ小さいほ
ど、反射防止フィルムの光学特性が向上するので、当該
光学シリカ層の屈折率は１．４２〜１．４５（波長λ＝
６３３ｎｍ）であることが好ましい。In the present invention, the refractive index of the optical silica layer 4 is not particularly limited as long as it is provided on the outermost layer of the antireflection film and has an antireflection effect due to its optical characteristics. Can be used. However, when an optical silica layer is used as the outermost layer in an ordinary antireflection film, the smaller the refractive index of the optical silica layer, the better the optical characteristics of the antireflection film. The refractive index is 1.42 to 1.45 (wavelength λ =
633 nm).
【００２５】また、当該光学シリカ層の厚さについて
も、本発明の反射防止フィルムは特に限定することはな
く反射防止の効果を奏する程度の厚さであれば特に限定
されるものではないが、好ましくは１０〜１０００ｎ
ｍ、特に、５０〜１５０ｎｍの範囲内が好ましい。上記
範囲より層厚が薄い場合には、反射防止効果を奏しない
場合があるためであり、また、上記範囲より厚い場合に
は、層全体がもろくなってしまい成形性に欠ける場合が
あるからである。The thickness of the optical silica layer is not particularly limited as long as the antireflection film of the present invention is not particularly limited as long as it has an antireflection effect. Preferably 10 to 1000 n
m, particularly preferably in the range of 50 to 150 nm. If the layer thickness is smaller than the above range, the antireflection effect may not be exhibited.If the layer thickness is larger than the above range, the entire layer may become brittle and lack moldability. is there.
【００２６】密着シリカ層 次に密着シリカ層５について説明する。当該密着シリカ
層も上記の光学シリカ層と同様に本発明の必須の構成要
素の一つである。そして、本発明の反射防止フィルム１
において、密着シリカ層５とは、前記光学シリカ層４に
接触する（直下に位置する）層であり、前記光学シリカ
層より大きい屈折率を有する層をいう。当該密着シリカ
層５を設けるのは、前記光学シリカ層４と、密着シリカ
層５とはともにシリカ層であるため密着性がよく、さら
に、当該密着シリカ層は、その屈折率が光学シリカ層と
比して大きいため、つまりシリカの密度が高いため、そ
の直下の層（光学シリカ層と反対側において接触してい
る層、符号６）との密着性もよくすることができるの
で、光学シリカ層が剥離してしまうことを防止するため
である。Next, the adhesive silica layer 5 will be described. The adhesion silica layer is also one of the essential components of the present invention, like the above-mentioned optical silica layer. And the antireflection film 1 of the present invention
In the above, the contact silica layer 5 is a layer that is in contact with (located directly below) the optical silica layer 4 and has a higher refractive index than the optical silica layer. The adhesion silica layer 5 is provided because the optical silica layer 4 and the adhesion silica layer 5 are both silica layers and thus have good adhesion. Further, the adhesion silica layer has a refractive index that is lower than that of the optical silica layer. Since it is relatively large, that is, since the density of silica is high, the adhesiveness with the layer immediately below (the layer in contact with the opposite side to the optical silica layer, reference numeral 6) can be improved, so that the optical silica layer This is to prevent peeling off.
【００２７】本発明における当該密着シリカ層の屈折率
は、前記光学シリカ層の屈折率より大きいことが必要と
され、屈折率が１．４５（波長λ＝６３３ｎｍ）以下の
場合には、シリカの密度等を考えると光学シリカ層に近
く、接触する層から剥離する可能性があるため、当該密
着シリカ層の屈折率は１．４５より大きく１．５５以下
（波長λ＝６３３ｎｍ）であることが好ましい。ここ
で、上限を１．５５としたのは、通常の方法でシリカ層
を形成した場合、その屈折率が１．５５より大きくなる
ことはないからである。In the present invention, the refractive index of the contact silica layer is required to be larger than the refractive index of the optical silica layer. When the refractive index is 1.45 (wavelength λ = 633 nm) or less, the silica Considering the density and the like, it is close to the optical silica layer and may be separated from the contacting layer. Therefore, the refractive index of the contact silica layer is preferably larger than 1.45 and 1.55 or less (wavelength λ = 633 nm). preferable. Here, the upper limit is set to 1.55 because, when the silica layer is formed by an ordinary method, the refractive index does not become larger than 1.55.
【００２８】また、当該密着シリカ層の厚さは、当該密
着シリカ層の機能（上記光学シリカ層が剥離することを
防止する機能）を奏するのに十分な厚さであればよい。
しかしながら、当該密着シリカ層は前記光学シリカ層が
剥離してしまうことを防止するためにのみ設けられるも
のであり、反射防止フィルムの光学特性を向上せしめる
機能は特に必要ではない。また、反射防止フィルムを使
用する場合、（例えば液晶ディスプレイ上に貼ることに
より反射を防止する等）を考慮し、また当該反射防止フ
ィルムを使用した場合の透明度等をも考慮すると、密着
シリカ層の厚さは、１ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、５
〜３０ｎｍが最も好ましい。The thickness of the adhered silica layer may be any thickness that is sufficient to achieve the function of the adhered silica layer (the function of preventing the optical silica layer from peeling off).
However, the contact silica layer is provided only to prevent the optical silica layer from peeling off, and a function of improving the optical characteristics of the antireflection film is not particularly required. When using an anti-reflection film (for example, preventing reflection by pasting it on a liquid crystal display), and considering transparency and the like when using the anti-reflection film, the adhesion silica layer The thickness is preferably 1 nm to 100 nm, and 5
-30 nm is most preferred.
【００２９】基材 次に基材２について説明する。本発明の反射防止フィル
ムにおいて、基材２は、前記の光学シリカ層の反対面に
位置するものであり、当該反射防止フィルムの土台とな
る部分である。基材２は、可視光域で透明な高分子フィ
ルムであれば特に限定されるものではない。前記高分子
フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースフ
ィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブ
チレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフ
ィルム、ポリアクリル系フィルム、ポリウレタン系フィ
ルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネイトフィル
ム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ト
リメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィル
ム、アクリロニトリルフィルム、メタクリロニトリルフ
ィルム等が挙げられる。さらには、無色のフィルムがよ
り好ましく使用できる。中でも、一軸または二軸延伸ポ
リエステルフィルムが透明性、耐熱性に優れていること
から好適に用いられ、特にポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）フィルムが好ましい。また、光学異方性のな
い点でトリアセチルセルロースも好適に用いられる。高
分子フィルムの厚みは、通常は６μm〜１８８μm程度の
ものが好適に用いられる。Substrate Next, the substrate 2 will be described. In the antireflection film of the present invention, the substrate 2 is located on the opposite surface of the optical silica layer, and is a portion serving as a base of the antireflection film. The substrate 2 is not particularly limited as long as it is a polymer film transparent in the visible light range. Examples of the polymer film, for example, triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyether sulfone film, polyacrylic film, polyurethane film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether Film, trimethylpentene film, polyetherketone film, acrylonitrile film, methacrylonitrile film and the like. Further, a colorless film can be more preferably used. Among them, a uniaxially or biaxially stretched polyester film is suitably used because of its excellent transparency and heat resistance, and a polyethylene terephthalate (PET) film is particularly preferable. In addition, triacetyl cellulose is preferably used because it has no optical anisotropy. Usually, the thickness of the polymer film is preferably about 6 μm to 188 μm.
【００３０】積層構造 次に積層構造３について説明する。当該積層構造３は、
前記密着シリカ層と基材との間に設けられるものであ
る。一般に反射防止フィルムは、光学特性の異なる複数
の層を積層することにより、積層構造全体で反射防止作
用を奏するものである。従って、本発明の反射防止フィ
ルムにおいてもその積層構造は、上記光学シリカ層が最
外層に設けられ、かつ密着シリカ層が前記光学シリカ層
の直下に設けられていればよく、その他の層については
反射防止フィルム全体として反射防止効果を奏するよう
に自由に積層することが可能である。Laminated Structure Next, the laminated structure 3 will be described. The laminated structure 3 is
It is provided between the adhesion silica layer and the substrate. Generally, an antireflection film has an antireflection effect in the entire laminated structure by laminating a plurality of layers having different optical characteristics. Therefore, the laminated structure also in the antireflection film of the present invention, the optical silica layer may be provided on the outermost layer, and the adhesive silica layer may be provided directly below the optical silica layer. The anti-reflection film can be freely laminated so as to exhibit an anti-reflection effect as a whole.
【００３１】当該積層構造中には、図１に示すように高
屈折率層を設けることが好ましい。前記光学シリカ層
は、本発明の反射防止フィルムにおいては低屈折率層と
して機能し、低屈折率層と高屈折率層とを積層すること
で、夫々の屈折率の違いにより光の反射を効率よく防止
することができるからである。It is preferable to provide a high refractive index layer in the laminated structure as shown in FIG. The optical silica layer functions as a low-refractive index layer in the antireflection film of the present invention. This is because it can be prevented well.
【００３２】ここで、高屈折率層としては、酸化チタン
層を好適に用いることができ、その屈折率は、２．０以
上２．９以下（波長λ＝５５０ｎｍ）であることが好ま
しく、上記範囲の中でも、２．０〜２．５（λ＝５５０
ｎｍ）が好ましく、２．０〜２．３（λ＝５５０ｎｍ）
が特に好ましい。反射防止フィルムを形成する際におい
ては、酸化チタン層の屈折率は積層されている他の層と
の関係で相対的に決定することが好ましく、積層層全体
としてのバランスにより反射防止効果を奏するものであ
るが、一般的な積層構造とした場合における酸化チタン
層の屈折率は上記のような範囲であることが好ましい。Here, a titanium oxide layer can be suitably used as the high refractive index layer, and its refractive index is preferably 2.0 or more and 2.9 or less (wavelength λ = 550 nm). Within the range, 2.0 to 2.5 (λ = 550)
nm) is preferable, and 2.0 to 2.3 (λ = 550 nm)
Is particularly preferred. When forming the antireflection film, it is preferable that the refractive index of the titanium oxide layer is relatively determined in relation to the other layers that are laminated, and the antireflection effect is exhibited by the balance of the entire laminated layer. However, it is preferable that the refractive index of the titanium oxide layer in the case of a general laminated structure be in the above range.
【００３３】また、本発明の反射防止フィルムの積層構
造中には、図１に示すように中屈折率層を設けることも
可能である。In the laminated structure of the antireflection film of the present invention, a middle refractive index layer can be provided as shown in FIG.
【００３４】本発明における中屈折率層は、反射防止機
能を高めるために用いられる層であり、本発明に必ずし
も必要なものではない。そして、当該中屈折率層を設け
る位置についても、本発明は特に限定するものではなく
積層構造全体として反射防止機能が向上するような位置
であればいかなる位置に設けることも可能である。しか
しながら、高屈折率層と低屈折率層としてのシリカ層と
は接触している方が効率よく光の反射を防止することが
できるため、当該中屈折率層は高屈折率層の下に設置す
ることが好ましい。The medium refractive index layer in the present invention is a layer used for enhancing the antireflection function, and is not necessarily required in the present invention. The present invention is not particularly limited with respect to the position where the middle refractive index layer is provided, and may be provided at any position as long as the antireflection function is improved as a whole of the laminated structure. However, when the high refractive index layer and the silica layer serving as the low refractive index layer are in contact with each other, the reflection of light can be more efficiently prevented, so that the middle refractive index layer is provided below the high refractive index layer. Is preferred.
【００３５】このような中屈折率層は、可視光域で透明
であり、かつ屈折率が１．５〜２．０の範囲内となる物
質で形成された層であれば特に限定されるものではな
い。具体的な中屈折率層を形成するための物質として
は、例えば、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＮ、ＳｉＯＮや、Ｚｒ
Ｏ2、ＳｉＯ2、ＺｎＯ2の微粒子を有機ケイ素化合物等
に分散したもの等が好適に用いられる。また、中屈折率
層は必ずしも一層である必要もなく複数の異なった層を
積層して全体として上記の屈折率となるような層構成と
することにより当該積層層を中屈折率層とすることも可
能である。The medium refractive index layer is not particularly limited as long as it is a layer that is transparent in the visible light range and formed of a substance having a refractive index in the range of 1.5 to 2.0. is not. Specific materials for forming the medium refractive index layer include, for example, Al 2 O 3 , SiN, SiON, Zr
Fine particles of O 2 , SiO 2 , or ZnO 2 dispersed in an organosilicon compound or the like are preferably used. In addition, the middle refractive index layer does not necessarily have to be a single layer, and a plurality of different layers are laminated to form a layer structure having the above-described refractive index as a whole, so that the laminated layer is a middle refractive index layer. Is also possible.
【００３６】さらに、本発明の反射防止フィルムの積層
構造中には、図１に示すようにハードコート層を設ける
ことも可能である。Further, in the laminated structure of the antireflection film of the present invention, a hard coat layer can be provided as shown in FIG.
【００３７】本発明に用いられるハードコート層は、本
発明の反射防止フィルムに強度を持たせることを目的と
して形成される層である。従って、反射防止フィルムの
用途によっては必ずしも必要なものではない。The hard coat layer used in the present invention is a layer formed for the purpose of imparting strength to the antireflection film of the present invention. Therefore, it is not always necessary depending on the use of the antireflection film.
【００３８】ハードコート層を形成するための材料とし
ては、同様に可視光域で透明な材料であり反射防止フィ
ルムに強度をもたせることができるものであれば特に限
定されるものではなく、例えばＵＶ硬化型アクリル系ハ
ードコートや熱硬化型シリコーン系コーティング等を用
いることができる。また、当該ハードコート層の肉厚
は、通常１〜３０μｍの範囲内であり、このようなハー
ドコート層の製造方法は、通常のコーティング方法を用
いることも可能であり、特に限定されるものではない。The material for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as it is a material which is similarly transparent in the visible light range and can give the antireflection film strength. A curable acrylic hard coat, a thermosetting silicone coating, or the like can be used. In addition, the thickness of the hard coat layer is usually in the range of 1 to 30 μm, and a method of manufacturing such a hard coat layer can use a normal coating method, and is not particularly limited. Absent.
【００３９】また、ハードコートを設ける位置である
が、ハードコートを設ける目的は反射防止フィルムに強
度を持たせることであり、反射防止機能を向上せしめる
ためのものではないため、最上層の光学シリカ層から離
れた位置に設置することが好ましく基材フィルムのすぐ
上に設置することが好ましい。Although the hard coat is provided at the position where the hard coat is provided, the purpose of the hard coat is to increase the strength of the anti-reflection film, but not to improve the anti-reflection function. It is preferably installed at a position distant from the layer, more preferably just above the base film.
【００４０】次に、上記で説明してきた光学シリカ層、
密着シリカ層、高屈折率層としての酸化チタン層、中屈
折率層、ハードコート層を用いて本発明の反射防止フィ
ルムを形成する場合の積層パターンについて図面を用い
て具体的に説明する。Next, the optical silica layer described above,
The laminated pattern when the antireflection film of the present invention is formed using the adhesion silica layer, the titanium oxide layer as the high refractive index layer, the medium refractive index layer, and the hard coat layer will be specifically described with reference to the drawings.
【００４１】例えば、図２に示す反射防止フィルム２０
において、その積層構造は、高分子フィルムとしてポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２１を用
い、このＰＥＴフィルム２１上にハードコート層２２、
中屈折率層２３、酸化チタン層２４とを積層し、さらに
前記酸化チタン層２４上に密着シリカ層２５を積層し
て、最外層に光学シリカ層２６を積層することにより構
成されている。反射防止フィルムの積層構造２７を図２
に示すような構造とすることにより、積層構造２７全体
で優れた反射防止機能を発揮するとともに、酸化チタン
層２４と最外層である光学シリカ層２６との間に密着シ
リカ層２５が積層されているため、光学シリカ層２６が
剥離することもなく好適である。For example, the anti-reflection film 20 shown in FIG.
In the laminated structure, a polyethylene terephthalate (PET) film 21 is used as a polymer film, and a hard coat layer 22 is formed on the PET film 21.
The intermediate refractive index layer 23 and the titanium oxide layer 24 are laminated, the adhesion silica layer 25 is laminated on the titanium oxide layer 24, and the optical silica layer 26 is laminated as the outermost layer. The laminated structure 27 of the antireflection film is shown in FIG.
In the structure shown in FIG. 2, the laminated structure 27 exhibits an excellent antireflection function as a whole, and the adhesive silica layer 25 is laminated between the titanium oxide layer 24 and the optical silica layer 26 as the outermost layer. Therefore, it is preferable that the optical silica layer 26 does not peel off.
【００４２】また、本発明の反射防止フィルムにおいて
は、上記酸化チタン層とシリカ層との積層が上記図２に
示す例のように、各々一層づつ形成されたものであって
もよいが、例えば、図３に示すような酸化チタン層とシ
リカ層とが各々二層づつ高分子フィルムに形成されてい
るもの等の複数層づつ形成されたものであってもよい。
このような構成とすることにより、反射防止効果が向上
するからである。Further, in the antireflection film of the present invention, the titanium oxide layer and the silica layer may be formed one by one as in the example shown in FIG. Alternatively, as shown in FIG. 3, a titanium oxide layer and a silica layer may be formed in a plurality of layers such as two layers each formed on a polymer film.
This is because such a configuration improves the anti-reflection effect.
【００４３】この場合において、最外層としてではなく
積層構造の内部において用いられているシリカ層は、他
の層とのバランスにより反射防止フィルムとしての機能
を向上せしめるために用いられているものであり、最外
層において用いられる光学シリカ層の屈折率とは異なる
屈折率を有するものである。また、通常積層構造の内部
においてシリカ層を用いる場合には、その屈折率を１．
４５以上として用いることが好ましい。従って、最外層
として用いる光学シリカ層のように接触している他の層
から剥離することはないので、当該光学シリカ層の直下
の層に密着シリカ層を設けなくてもよい。In this case, the silica layer used not in the outermost layer but in the inside of the laminated structure is used to improve the function as an antireflection film by balancing with other layers. The optical silica layer has a refractive index different from that of the optical silica layer used in the outermost layer. When a silica layer is usually used inside the laminated structure, the refractive index is set to 1.
It is preferable to use 45 or more. Therefore, since it does not peel off from other layers in contact like the optical silica layer used as the outermost layer, it is not necessary to provide an adhesive silica layer immediately below the optical silica layer.
【００４４】また、図４に示すように、積層構造として
密着シリカ層と光学シリカ層の２層のみにより、積層構
造を形成することも可能である。光学シリカ層の屈折率
を充分に小さくし、かつ層の厚さをも充分にすることに
より、当該光学シリカ層のみでも反射防止フィルムとし
ての性能を有することが可能だからである。Further, as shown in FIG. 4, it is also possible to form a laminated structure by using only two layers of a contact silica layer and an optical silica layer as a laminated structure. By making the refractive index of the optical silica layer sufficiently small and making the thickness of the layer sufficient, the optical silica layer alone can have the performance as an antireflection film.
【００４５】次に、本発明の反射防止フィルムの製造方
法について説明する。Next, a method for producing the antireflection film of the present invention will be described.
【００４６】本発明においては、上述してきたような積
層構造を形成することが可能であれば、その製造方法に
ついて特に限定するものではなく、例えば、真空蒸着法
やスパッタリング法、熱ＣＶＤ法、あるいは、ゾルゲル
法等によるウエットコーティングなどの方法を用いるこ
とができる。In the present invention, the manufacturing method is not particularly limited as long as the above-described laminated structure can be formed. For example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a thermal CVD method, And a method such as wet coating by a sol-gel method or the like can be used.
【００４７】中でも、図５に示すようなプラズマＣＶＤ
装置を用いることが好適である。当該プラズマＣＶＤ装
置により本発明の反射防止フィルムを連続的に製造で
き、かつ基材となる高分子フィルムの温度制御も正確に
行うことができるからである。Among them, plasma CVD as shown in FIG.
It is preferred to use a device. This is because the anti-reflection film of the present invention can be continuously manufactured by the plasma CVD apparatus, and the temperature of the polymer film serving as a base can be accurately controlled.
【００４８】図５に示すプラズマＣＶＤ装置５０は容量
結合型のプラズマＣＶＤ装置であり、ウエッブ状の高分
子フィルム５１は基材巻き出し部５２より巻きだされ
て、真空容器５３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入され
る。そして、当該反応室内の成層用ドラム５４上で所定
の層が形成され、基材巻き取り部５６により巻き取られ
る。The plasma CVD apparatus 50 shown in FIG. 5 is a capacitively coupled plasma CVD apparatus, in which a web-like polymer film 51 is unwound from a substrate unwinding section 52 and is placed in a reaction chamber ( a, b, c). Then, a predetermined layer is formed on the stratification drum 54 in the reaction chamber, and is wound by the substrate winding section 56.
【００４９】当該プラズマＣＶＤ装置５０は、複数（３
つ）の反応室を有している点に特徴を有し、夫々の反応
室（ａ，ｂ，ｃ）は隔離壁５５で隔離されることで形成
されている。ここで、以下の説明の便宜上、当該３つの
反応室を右側から反応室ａ、反応室ｂ、反応室ｃとす
る。そして、各反応室には、夫々電極版ａ１、ｂ１、ｃ
１及び原料ガス導入口ａ２、ｂ２、ｃ２が設置されてい
る。各反応室（ａ，ｂ，ｃ）は、成層用ドラム５４の外
周に沿って設置されている。これは、積層構造が形成さ
れる高分子フィルムは、成層用ドラム５４と同期しなが
ら反応室内に挿入され、かつ成層用ドラム上において積
層構想を形成するものであることから、このように配置
することにより連続して各層を積層することができるか
らである。The plasma CVD apparatus 50 includes a plurality (3
The reaction chambers (a, b, c) are formed by being separated by a separation wall 55. Here, for convenience of the following description, the three reaction chambers are referred to as a reaction chamber a, a reaction chamber b, and a reaction chamber c from the right side. Each of the reaction chambers has an electrode plate a1, b1, c
1 and source gas inlets a2, b2, c2. Each reaction chamber (a, b, c) is installed along the outer periphery of the stratification drum 54. This is because the polymer film in which the laminated structure is formed is inserted into the reaction chamber in synchronization with the stratification drum 54, and forms the lamination concept on the stratification drum, so that the polymer film is arranged in this manner. Thereby, each layer can be continuously laminated.
【００５０】上述したようなプラズマＣＶＤ装置によれ
ば、各反応室へ導入する原料ガスを変化させることによ
り、夫々の反応室内で独立して層を形成することが可能
である。According to the plasma CVD apparatus as described above, it is possible to form layers independently in each reaction chamber by changing the source gas introduced into each reaction chamber.
【００５１】例えば、図２に示す反射防止フィルムを製
造する場合においては、まず、基材となるＰＥＴフィル
ム上に、ハードコート層と中屈折率層とを従来からのウ
ェットコーティングにより形成して、その後、酸化チタ
ン層、密接シリカ層、及び光学シリカ層を当該プラズマ
ＣＶＤ装置により形成することができる。この場合、反
応室ａに有機チタン化合物を含むガスを導入し、反応室
ｂと反応室ｃにはケイ素を含むガスを導入することによ
り、高分子フィルム５１が成層用ドラム５４を経て基材
巻き取り部５６へ巻き取られるまでに当該高分子フィル
ム５１上に酸化チタン層とシリカ層とが形成された積層
フィルムを形成することが可能となる。For example, in the case of manufacturing the antireflection film shown in FIG. 2, first, a hard coat layer and a medium refractive index layer are formed on a PET film as a base material by conventional wet coating. Thereafter, a titanium oxide layer, a close silica layer, and an optical silica layer can be formed by the plasma CVD apparatus. In this case, a gas containing an organic titanium compound is introduced into the reaction chamber a, and a gas containing silicon is introduced into the reaction chamber b and the reaction chamber c, so that the polymer film 51 is wound on the substrate via the layering drum 54. It is possible to form a laminated film in which a titanium oxide layer and a silica layer are formed on the polymer film 51 before being wound up by the take-up portion 56.
【００５２】さらに、上記の場合において反応室ｂと反
応室ｃとに導入されたガスは、ケイ素を含むガスである
が、各々の反応室内の条件、例えばガスの流量や圧力、
放電条件等を変化させることにより、反応室ｂと反応室
ｃとで形成されるシリカ層の特性を変化させることも可
能であり、それぞれ密着シリカ層と光学シリカ層とする
ことができる。Further, in the above case, the gas introduced into the reaction chamber b and the reaction chamber c is a gas containing silicon, but the conditions in each reaction chamber, such as the gas flow rate and pressure,
By changing the discharge conditions and the like, the characteristics of the silica layer formed in the reaction chamber b and the reaction chamber c can be changed, and the silica layer can be made to be an adhesive silica layer and an optical silica layer, respectively.
【００５３】本発明の反射防止フィルムを上記図５に示
す装置で製造する場合において、密着シリカ層及び光学
シリカ層を形成するための原料としては、シラン、ジシ
ラン、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テト
ラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、メチルトリメト
キシシラン（ＭＴＭＯＳ）、メチルシラン、ジメチルシ
ラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシ
ラン、フェニルシラン、テトラメトキシシラン、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン、テトラエトキシシラン
等のＳｉ系化合物を用いることが可能である。When the antireflection film of the present invention is manufactured by the apparatus shown in FIG. 5, the raw materials for forming the adhesive silica layer and the optical silica layer include silane, disilane, hexamethyldisiloxane (HMDSO), Si-based such as tetramethyldisiloxane (TMDSO), methyltrimethoxysilane (MTMOS), methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, tetramethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, tetraethoxysilane, etc. Compounds can be used.
【００５４】また、本発明の反射防止フィルムを形成す
るために用いる有機チタン化合物として使用可能な材料
としては、Ｔｉ（ｉ−ＯＣ3Ｈ7）4（チタンテトラｉ−
プロポキシド）、Ｔｉ（ＯＣＨ3）4（チタンテトラメト
キシド）、Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ5） 4（チタンテトラエトキシ
ド）、Ｔｉ（ｎ−ＯＣ3Ｈ7）4（チタンテトラｎ−プロ
ポキシド）、Ｔｉ（ｎ−ＯＣ4Ｈ9）4（チタンテトラｎ
−ブトキシド）、Ｔｉ（ｔ−ＯＣ4Ｈ9）4（チタンテト
ラｔ−ブトキシド）のチタンアルコキシドが挙げられ
る。そのなでも、Ｔｉ（ｉ−ＯＣ3Ｈ7）4（チタンテト
ラｉ−プロポキシド）、Ｔｉ（ｔ−ＯＣ4Ｈ9）4（チタ
ンテトラｔ−ブトキシド）が蒸気圧が高いという理由で
好適である。Further, the antireflection film of the present invention is formed.
That can be used as an organic titanium compound used for
As Ti (i-OCThreeH7)Four(Titanium tetra i-
Propoxide), Ti (OCHThree)Four(Titanium tetrameth
Oxide), Ti (OCTwoHFive) Four(Titanium tetraethoxy
C), Ti (n-OCThreeH7)Four(Titanium tetra n-pro
Poxide), Ti (n-OC)FourH9)Four(Titanium tetra n
-Butoxide), Ti (t-OCFourH9)Four(Titanium tet
(T-butoxide) titanium alkoxide
You. Above all, Ti (i-OCThreeH7)Four(Titanium tet
La-propoxide), Ti (t-OC)FourH9)Four(Chita
Tert-butoxide) because of its high vapor pressure
It is suitable.
【００５５】なお、本発明は、上述してきた反射防止フ
ィルム及びその製造方法に限定されるものではない。上
記実施の形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲
に記載された技術的範囲と実質的に同一な構成を有し、
同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであって
も本発明の技術的範囲に包含される。The present invention is not limited to the above-described antireflection film and the method for producing the same. The above embodiment is an exemplification, and has substantially the same configuration as the technical scope described in the claims of the present invention.
What exerts the same effect is included in the technical scope of the present invention.
【００５６】[0056]
【実施例】本発明を実施例により更に詳細に説明する。The present invention will be described in more detail with reference to examples.
【００５７】（実施例）図５の装置を使用して、図２に
示す反射防止フィルムを作製した。具体的には、基材の
高分子フィルムである厚さ１００μmのポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にハードコート層、
中屈折率層、酸化チタン層をそれぞれウェットコーティ
ングにより形成し、その上に密着シリカ層、及び光学シ
リカ層を図５に示すプラズマＣＶＤ装置により形成し
た。なお、この際反応室ａで密着シリカ層を、反応室ｂ
で光学シリカ層を形成し、反応室ｃは使用しなかった。Example An antireflection film shown in FIG. 2 was produced using the apparatus shown in FIG. Specifically, a hard coat layer is formed on a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm, which is a base polymer film.
The medium refractive index layer and the titanium oxide layer were each formed by wet coating, and the adhered silica layer and the optical silica layer were formed thereon by the plasma CVD apparatus shown in FIG. At this time, the adhered silica layer was formed in the reaction chamber
To form an optical silica layer, and the reaction chamber c was not used.
【００５８】また、プラズマＣＶＤ装置に導入した原料
ガスは、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）ガ
ス、アルゴンガス、ヘリウムガス、酸素とし、密着シリ
カ層の厚さを約１０ｎｍとし、光学シリカ層の厚さを約
９０ｎｍとした。The source gases introduced into the plasma CVD apparatus are hexamethyldisiloxane (HMDSO) gas, argon gas, helium gas, and oxygen. The thickness of the contact silica layer is about 10 nm, and the thickness of the optical silica layer. Was about 90 nm.
【００５９】＜反射防止フィルムの測定結果＞当該反射
防止フィルムの光学特性を測定するにあたり、分光光度
計（型番：ＵＶ−３１００ＰＣ、メーカー：島津製作
所）を用いた。層厚を測定するにあたっては、エリプソ
メーター（型番：ＵＶＩＳＥＬTM、メーカー：ＪＯＢＩ
Ｎ ＹＶＯＮ）を用いた。<Measurement Result of Antireflection Film> In measuring the optical characteristics of the antireflection film, a spectrophotometer (model number: UV-3100PC, manufacturer: Shimadzu Corporation) was used. When measuring the layer thickness, use an ellipsometer (model number: UVISEL ™ , manufacturer: JOBI)
NYVON) was used.
【００６０】また光学シリカ層の密着性を評価するにあ
たり、ラミネート強度を測定した。以下にその結果を示
す。In evaluating the adhesion of the optical silica layer, the laminate strength was measured. The results are shown below.
【００６１】 視感度反射率 ０．３８％ ラミネート強度 ５００ｇ／ｃｍ 上記の数値より、光学特性、密着性ともに良好であるこ
とが分かった。Visibility reflectance 0.38% Laminate strength 500 g / cm From the above values, it was found that both optical characteristics and adhesion were good.
【００６２】なお、視感度反射率とは、各波長における
ＣＩＥ明所視比視感度と各波長における測定反射率を掛
け合わせ、それを可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）全
体にわたって加算したものを、各波長のＣＩＥ明所視比
視感度を足し合わせたもので除算したものである。以下
に式を示す。The luminous reflectance is obtained by multiplying the CIE photopic luminous efficiency at each wavelength by the measured reflectance at each wavelength and adding the product over the entire visible light region (380 to 780 nm). It is obtained by dividing the sum of the CIE photopic luminosity factor of each wavelength. The formula is shown below.
【００６３】ＲC＝Σ（Ｖλ・Ｒλ）／ΣＶλ ＲC：視感度反射率 Ｖλ：ＣＩＥ明所視比視感度 Ｒλ：測定反射率 λ：３８０〜７８０ｎｍR C = Σ (Vλ · Rλ) / ΣVλ R C : luminous reflectance Vλ: CIE photopic luminous efficiency Rλ: measured reflectance λ: 380-780 nm
【００６４】また、ラミネート強度は、以下のような測
定を行うことにより求めた値である（図６参照）。The lamination strength is a value obtained by performing the following measurement (see FIG. 6).
【００６５】 ２液硬化型ポリウレタン系樹脂の７％
溶液からなる接着剤を使用し、各サンプルの光学シリカ
層上へ接着剤層（厚み約１μｍ、図示せず）を形成し
た。 次いで、当該接着剤層上に２５μｍ厚ＰＥＴフィル
ム（ラミネートフィルム）６１を貼付けた。 接着剤が硬化した後、サンプルを１００ｍｍ×１５
ｍｍ幅に切り取りラミネートフィルム側を上にして、サ
ンプル６０を水平な固定台６２に強く貼付けた。 端部からラミネートフィルムを垂直方向に、かつサ
ンプルの１００ｍｍ方向（長手方向）に５０ｍｍ／ｍｉ
ｎの速度で引き剥がした。7% of two-component curing type polyurethane resin
Using an adhesive made of a solution, an adhesive layer (thickness: about 1 μm, not shown) was formed on the optical silica layer of each sample. Next, a PET film (laminate film) 61 having a thickness of 25 μm was stuck on the adhesive layer. After the adhesive has cured, the sample is 100 mm x 15
The sample 60 was cut to a width of mm, and the sample 60 was strongly adhered to a horizontal fixed base 62 with the laminate film side facing up. From the end, apply the laminated film in the vertical direction and 50 mm / mi in the 100 mm direction (longitudinal direction) of the sample.
The film was peeled at a speed of n.
【００６６】そしてこの時の引き剥がす力をその引き剥
がされた界面におけるラミネート強度とした。強度を測
定しようとする界面以外で引き裂かれてしまう場合は、
その界面のラミネート強度は測定値以上であるとした。The peeling force at this time was defined as the laminating strength at the peeled interface. If it is torn apart from the interface where the strength is to be measured,
The lamination strength at the interface was determined to be higher than the measured value.
【００６７】（比較例１）上記実施例１と同様の装置を
用い同様の条件で光学シリカ層のみを１００ｎｍ形成し
た（密着シリカ層なし）。なお、この場合においては、
図５に示す装置中反応室ａのみ使用した。(Comparative Example 1) Using the same apparatus as in Example 1 above, only the optical silica layer was formed to a thickness of 100 nm under the same conditions (no adhesive silica layer). In this case,
Only the reaction chamber a in the apparatus shown in FIG. 5 was used.
【００６８】＜反射防止フィルムの測定結果＞以下に当
該比較例の測定結果を示す。なお、測定に用いた装置及
び測定方法は上記実施例と同様である。<Measurement Results of Antireflection Film> The measurement results of the comparative example are shown below. In addition, the apparatus and the measuring method used for the measurement are the same as those in the above-described embodiment.
【００６９】 視感度反射率 ０．３７％ ラミネート強度 ５０ｇ／ｃｍ 上記結果からも分かるように、密着シリカ層を形成せず
にその分、光学シリカ層を厚く形成したため、上記実施
例と比べてその視感度反射率は若干向上しているが、ラ
ミネート強度は、上記実施例と比べて１／１０となっ
た。つまり、光学特性は優れているものの、密着性は低
く相対的に考えると、反射防止フィルムとしての性能は
実施例に比べ劣っていた。Visibility reflectance 0.37% Laminate strength 50 g / cm As can be seen from the above results, the optical silica layer was formed thicker by that amount without forming the adherent silica layer. Although the luminous reflectance was slightly improved, the lamination strength was 1/10 as compared with the above example. In other words, although the optical properties were excellent, the adhesiveness was low and the performance as an anti-reflection film was inferior to those of the examples when considered relatively.
【００７０】（比較例２）次に、上記実施例１、及び比
較例１と同様の装置を用い同様の条件で密着シリカ層の
みを９５ｎｍ形成した（光学シリカ層なし）。なお、こ
の場合においては、図５に示す装置中反応室ａのみ使用
した。(Comparative Example 2) Next, using the same apparatus as in Example 1 and Comparative Example 1, only an adherent silica layer was formed to a thickness of 95 nm under the same conditions (no optical silica layer). In this case, only the reaction chamber a in the apparatus shown in FIG. 5 was used.
【００７１】＜反射防止フィルムの測定結果＞以下に当
該比較例の測定結果を示す。なお、測定に用いた装置及
び測定方法は上記実施例と同様である。<Measurement Results of Antireflection Film> The measurement results of the comparative example are shown below. In addition, the apparatus and the measuring method used for the measurement are the same as those in the above-described embodiment.
【００７２】 視感度反射率 ０．６９％ ラミネート強度 ５００ｇ／ｃｍVisibility reflectance 0.69% Laminate strength 500 g / cm
【００７３】上記結果からも分かるように、光学シリカ
層を形成せずに密着シリカ層を厚く形成したため、ラミ
ネート強度に関しては、上記実施例と同様の値を有して
おり、密着性に問題はないが、上記実施例と比べてその
視感度反射率は大きくなっていることが分かる。つま
り、密着性には優れているものの、光学特性は悪く、相
対的に考えると、反射防止フィルムとしての性能は実施
例に比べ劣っていた。As can be seen from the above results, since the contact silica layer was formed thick without forming the optical silica layer, the laminate strength had the same value as in the above example, and there was no problem in the adhesion. However, it can be seen that the luminous reflectance is higher than that of the above example. That is, although the adhesiveness was excellent, the optical characteristics were poor, and the performance as an anti-reflection film was inferior to the examples when considered relatively.
【００７４】[0074]
【発明の効果】屈折率が小さく光学特性に優れた光学シ
リカ層を最外層とし、そして、当該光学シリカ層と接触
する層を前記光学シリカ層より大きい屈折率を有する密
着シリカ層とすることにより、光学シリカ層と、密着シ
リカ層とはともにシリカ層であるため密着性がよく、従
って、光学シリカ層の光学特性を保ったまま光学シリカ
層の密着性を向上せしめることができる。なお、前記密
着シリカ層は、その屈折率が光学シリカ層と比して大き
いため、つまり二酸化ケイ素の密度が高いため、当該密
着シリカ層とその直下の層（光学シリカ層と反対側にお
いて接触している層）との密着性が問題となることはな
い。The optical silica layer having a small refractive index and excellent optical properties is used as the outermost layer, and the layer in contact with the optical silica layer is a contact silica layer having a higher refractive index than the optical silica layer. Since the optical silica layer and the contact silica layer are both silica layers, the adhesion is good, and therefore the adhesion of the optical silica layer can be improved while maintaining the optical characteristics of the optical silica layer. Since the refractive index of the contact silica layer is larger than that of the optical silica layer, that is, the density of silicon dioxide is high, the contact silica layer and the layer immediately below the contact silica layer (the contact layer on the side opposite to the optical silica layer is contacted). Layer) does not matter.
【００７５】さらに、反射防止フィルムの最外層を光学
シリカ層とすることにより、当該シリカ層は比較的その
表面エネルギーが小さいため防汚性、撥水性を備えてい
る。従って、反射防止フィルムに防汚性、撥水性をも付
与することができる。Further, when the outermost layer of the antireflection film is an optical silica layer, the silica layer has a relatively small surface energy and thus has antifouling property and water repellency. Therefore, the antireflection film can also be provided with antifouling properties and water repellency.
【図１】本発明の反射防止フィルムを説明するための概
略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining an antireflection film of the present invention.
【図２】本発明の反射防止フィルムの一例を示す概略断
面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of the antireflection film of the present invention.
【図３】本発明の反射防止フィルムの一例を示す概略断
面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view showing an example of the antireflection film of the present invention.
【図４】本発明の反射防止フィルムの一例を示す概略断
面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing an example of the antireflection film of the present invention.
【図５】本発明の反射防止フィルムを製造するためのプ
ラズマＣＶＤ装置の概略断面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view of a plasma CVD apparatus for producing the antireflection film of the present invention.
【図６】ラミネート強度を測定するための方法を示す概
略図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing a method for measuring laminate strength.
１、２０…反射防止フィルム ２…基材 ３、２７…積層構造 ４、２６…光学シリカ層 ５、２５…密着シリカ層 ６…密着シリカ層の直下の層 ２１…ＰＥＴフィルム ２２…ハードコート層 ２３…中屈折率層 ２４…酸化チタン層 ５０…プラズマＣＶＤ装置 ６０…サンプル ６１…ＰＥＴフィルム（ラミネートフィルム） ６２…固定台 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 20 ... Anti-reflection film 2 ... Base material 3, 27 ... Laminated structure 4, 26 ... Optical silica layer 5, 25 ... Adhesive silica layer 6 ... Layer immediately below the adherent silica layer 21 ... PET film 22 ... Hard coat layer 23 ... Medium refractive index layer 24 ... Titanium oxide layer 50 ... Plasma CVD device 60 ... Sample 61 ... PET film (laminated film) 62 ... Fixed table
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ Ｆターム(参考） 2H091 FA37X LA17 2K009 AA05 AA06 AA07 AA08 AA15 BB24 CC02 CC03 CC24 CC42 DD03 4F100 AA20C AA20D AA21B AK42A AT00A BA03 BA04 BA10A BA10D BA26 EH66 EJ58 EJ61 GB41 JK06 JK06C JN06 JN18C JN18D YY00C YY00D 4K030 AA06 AA09 AA14 AA16 BA44 BB13 CA07 CA12 DA02 HA04 LA01 LA11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/1335 500 G02B 1/10 Z F-term (Reference) 2H091 FA37X LA17 2K009 AA05 AA06 AA07 AA08 AA15 BB24 CC02 CC03 CC24 CC42 DD03 4F100 AA20C AA20D AA21B AK42A AT00A BA03 BA04 BA10A BA10D BA26 EH66 EJ58 EJ61 GB41 JK06 JK06C JN06 JN18C JN18D YY00C YY00D 4K030 AA06 AA09 AA14 CA11 LA14 CA13
Claims (3)
層構造を有する反射防止フィルムにおいて、 当該積層構造の最外層が光学シリカ層であり、 前記光学シリカ層に接触する層が、前記光学シリカ層よ
り大きい屈折率を有する密着シリカ層であることを特徴
とする反射防止フィルム。1. An antireflection film having a laminated structure in which a plurality of thin layers are laminated on a substrate, wherein an outermost layer of the laminated structure is an optical silica layer, and a layer in contact with the optical silica layer is: An antireflection film, which is an adhesive silica layer having a refractive index higher than that of the optical silica layer.
１．４５（波長λ＝６３３ｎｍ）であり、 前記密着シリカ層の屈折率が１．４５より大きく１．５
５以下（波長λ＝６３３ｎｍ）であることを特徴とする
請求項１に記載の反射防止フィルム。2. The optical silica layer has a refractive index of 1.42 or more.
1.45 (wavelength λ = 633 nm), and the refractive index of the adhesion silica layer is larger than 1.45 and 1.5
The anti-reflection film according to claim 1, wherein the wavelength is 5 or less (wavelength λ = 633 nm).
フィルムであり、前記積層構造中には、酸化チタン層を
有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の
反射防止フィルム。3. The anti-reflection film according to claim 1, wherein the base material is a polyethylene terephthalate film, and the laminated structure has a titanium oxide layer.
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|---|---|---|---|
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