JP2002011888A - インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法、インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェット記録ヘッド、およびインクジェット記録装置 - Google Patents
インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法、インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェット記録ヘッド、およびインクジェット記録装置Info
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Abstract
る。 【解決手段】 まず、基板1上に、蓄熱層2、発熱抵抗
層3および電極層4aを形成する。次に、レジスト11
を電極層4a上にパターニングする。次に、電極層4a
および発熱抵抗層3をエッチングにより厚さt1の電極
層4aを厚さt2が残るようにウエットエッチング法に
より第1段階目のエッチングを行う。次に、ドライエッ
チングによってレジスト11のパターンを距離Sだけ後
退させる。ドライエッチングの終了後、ポリマ除去液で
浸漬処理をし、ポリマを除去する。次に、ウエットエッ
チング法により、電極層4aの第2段階目のエッチング
を行い、発熱抵抗層3が露出するようにする。電極層4
aを2段階にしてエッチングすることで段差部12にテ
ーパ部10が形成されることとなる。レジスト11を剥
離後、上部保護層5を形成する。
Description
録ヘッド用基体の製造方法、インクジェット記録ヘッド
の製造方法、インクジェット記録ヘッド、およびインク
ジェット記録装置に関する。
も、記録時に騒音の発生がほとんどないノンインパクト
記録方法であって、かつ、高速記録が可能であり、しか
も普通紙に特別の定着処理を必要とせずに記録の行なえ
る、いわゆるインクジェット記録法(インクジェット記
録法)は、極めて有用な記録方法である。このインクジ
ェット記録法については、これまでにも様々な方法が提
案され改良が加えられて商品化されたものもあれば現在
もなお実用化への努力が続けられているものもある。
る記録液の液滴(droplet)を種々の作用原理で
飛翔させ、それを紙などの被記録材に付着させて記録を
行なうものである。
ト記録法に係わる新規方法について既に提案を行なって
いる。この新規方法は、例えば、特開昭52−1187
98号公報において提案されており、その基本原理は次
に概説する通りである。つまり、このインクジェット記
録法は、記録液を収容することのできる作用室中に導入
された記録液に対して情報信号として熱的パルスを与
え、これにより記録液が蒸気泡を発生し自己収縮する過
程で生ずる作用力に従って作用室に連通せる液体吐出口
より記録液を吐出して小液滴として飛翔せしめ、これを
被記録材に付着させて記録を行なう方法である。
構成にして高速記録、カラー記録に適合させやすく、装
置の構成が従来に比べて簡略であるため、以下に説明す
る記録ヘッドとして全体的にはコンパクト化が図れ、か
つ、量産に向くこと、半導体分野において技術の進歩と
信頼性の向上が著しいIC技術やマイクロ加工技術の長
所を十二分に利用することで長尺化が容易であること等
の利点があり、適用範囲の広い方法である。
ンクジェット記録装置の特徴的な記録ヘッドには、液体
吐出口より記録液を吐出して飛翔液滴を形成するための
熱エネルギ発生手段が設けられている。
ギを効率良く記録液に作用させること、記録液への熱作
用のON−OFF応答速度を高めること等のために、記
録液に直接接触するように設けられるのが望ましいとさ
れている。
は、通電されることによって発熱する発熱抵抗層と、こ
の発熱抵抗層に通電するための一対の電極とで基本的に
は構成されているために、発熱抵抗層が直に記録液に接
触する状態であると、記録液の電気抵抗値如何によって
は記録液を通じて電気が流れたり、記録液を通じての電
気の流れによって記録液自身が電気分解したり、あるい
は発熱抵抗層への通電の際に発熱抵抗層と記録液とが反
応して、発熱抵抗層の腐食による抵抗値の変化や発熱抵
抗層の破損あるいは破壊が起こる場合があった。
の合金やZrB2、HfB2等の金属ホウ化物等の発熱抵
抗材料としての特性に比較的に優れた無機材料で発熱抵
抗層を構成すると共に、これらの材料で構成された発熱
抵抗層上にSiO2等の耐酸化性に優れた材料で構成さ
れた保護層を設けることで発熱抵抗層が記録液に直に接
触するのを防止して、上述の諸問題を解決し信頼性と繰
返し使用耐久性の向上を図ろうとすることが提案されて
いる。
ドのノズル部の拡大平面図を図8(a)に、また、図8
(b)に図8(a)のA−A線での断面図をそれぞれ示
す。
生手段を形成するに際しては、一般に、所望の基体10
1上に蓄熱層102および発熱抵抗層103を形成した
後、電極104および保護層105を順次積層してい
く。このような熱エネルギ発生手段の保護層105に
は、上述したような発熱抵抗層103の破損防止あるい
は電極104間の短絡防止などの保護層105としての
各種の機能を十分に果たすべく、これら発熱抵抗層10
3や電極104の所要部をピンホールなどの層欠陥を有
することなく一様に覆う(カバー)ことが要求される。
ドでは、前述したように、一般には電極104が発熱抵
抗層103上に形成されるため、電極104および発熱
抵抗層103間に段差(ステップ)部106が生じる
が、このような段差部106には、保護層105の層厚
の不均一などが発生し易すいため、露出部分が生じるこ
とのないように段差部106を十分に覆う(ステップカ
バレージ)ように保護層105の形成が実施されねばな
らない。すなわち、ステップカバレージにおいて不十分
な不均一部110を生じ、保護層105に不連続な部分
を生じた場合、発熱抵抗層103の露出部分と記録液と
が直に接触して、記録液が電気分解されたり、記録液と
発熱抵抗層103が反応して発熱抵抗層103が破壊さ
れてしまうことがあった。また、このような段差部10
6には、膜質の不均一なども生じやすく、このような膜
質の不均一は、熱発生の繰り返しによって保護層105
に生じる熱ストレスの部分集中を招き、保護層105に
亀裂(クラック)を生じる原因ともなり、このクラック
から記録液が侵入して、上記のような発熱抵抗層103
の破壊に至ることもあった。さらには、ピンホールから
記録液が侵入して発熱抵抗層103が破壊されることも
あった。特に、ステップカバレージの形成が不十分であ
るためにピンホールが形成されると、ほとんどのヒータ
が破壊され信頼性の著しい低下が起こる場合があった。
層105の層厚を厚くし(通常は、電極104の厚さの
1.5倍以上)、ステップカバレージの向上やピンホー
ルの減少をはかることが一般に行なわれているが、保護
層105を厚くすることは、ステップカバレージやピン
ホールの減少に寄与するものの、保護層105を厚くす
ることによって記録液への熱供給が阻害され、以下のよ
うな新たな問題を生じることになった。
は保護層105を通じて記録液に伝達されるわけである
が、この熱の作用面であるところの保護層105表面と
発熱抵抗層103との間の熱的抵抗が保護層105の層
厚を厚くすることで大きくなり、このため発熱抵抗層1
03に必要以上の電力負荷をかける必要を生じ、 1.省電力化に対して不利である、 2.必要以上の熱が基体に蓄熱し、熱応答性が悪くな
る、 3.必要以上の電力が印加されるため発熱抵抗層103
の耐久性が悪くなる といった問題を生じる場合があった。
れば克服できるが、保護層105の形成に、例えば、ス
パッタリングあるいは蒸着などの膜形成方法を用いる従
来のインクジェット記録ヘッドの製造方法では、ステッ
プカバレージ不良などのため、前述のような耐久上の欠
点があり、保護層105を薄くすることが困難であっ
た。
よる記録の際には、一般には記録液の急速加熱を行なう
ほど記録液の発泡安定性が向上することが知られてい
る。すなわち、熱エネルギ発生手段に印加する電気信
号、一般には矩形の電気パルスであるが、このパルス幅
を短くすればするほど記録液の発泡安定性が良くなり、
これによって飛翔液滴の吐出安定性が向上して記録品位
が向上することとなる。しかしながら、従来のインクジ
ェット記録ヘッドにおいては、前述の如く保護層105
を厚くしなければならず、このため保護層105の熱的
抵抗が大きくなり、必要以上の熱を熱エネルギ発生手段
で発生させねばならないことから耐久性の劣化や熱応答
性の低下を生じ、このためパルス幅を短くするのも困難
であり、記録品位の向上にはおのずと限度があった。
開平04−320847号公報に開示されているように
電極層のエッチング工程において、レジストを後退させ
ながらエッチングすることによってエッチング断面形状
をテーパ形状にし、上部保護層のステップカバレージを
改善する方法が開示されている。
は、電極層のエッチング工程においてエッチングを途中
までまで行い、レジストをエッチングさせパターンを後
退させその後エッチングをすることによって、断面形状
を階段上にすることによって各段の段差を小さくするこ
とによって、上部保護層のステップカバレージを改善す
る方法が開示されている。
04−320847号公報で開示されている方法ではレ
ジストを後退させながらエッチングする方法を用いてい
るが下記のような問題があった。
チングするためにはレジストの材料およびベーク条件に
注意を払う必要があった。レジストの材料が変わると後
退速度が変化し所望のテーパ角が得られないことがあっ
た。また、ベーク条件が変わるとレジスト後退速度が変
化し所望のテーパ角が得られないことがあった。
グするためにはトリメチルハイドロオキサイド液の温度
を厳密に管理する必要があり、温度が変わるとレジスト
のエッチング速度と電極材のエッチング速度との比が変
化するので所望のテーパ角が得られないことがあった。
場合にはテーパ角のさらに厳密なコントロールが必要と
なる。
開示されている方法では、トリメチルハイドロオキサイ
ド液によりレジストのエッチングを行っているが、レジ
スト材料によってレジストのエッチング速度が変わるた
め、レジスト材料が制約される場合があった。また、レ
ジストのベーク条件によってレジストのエッチング速度
が変わるのでベーク条件の厳密なコントロールが必要と
なる場合や、エッチング液のトリメチルハイドロオキサ
イド液の液温度の厳密な管理を必要とする場合もあっ
た。さらに、トリメチルハイドロオキサイド液は電極を
エッチングする恐れがあるため、電極を所望の形状にで
きないことがあった。
耐久性の向上した、インクジェット記録ヘッド用基体の
製造方法、インクジェット記録ヘッドの製造方法、イン
クジェット記録ヘッド、およびインクジェット記録装置
を提供することを目的とする。
本発明のインクジェット記録ヘッド用基体の製造方法
は、電力が印加されることで発熱する発熱抵抗層と、前
記発熱抵抗層上に積層された電極層をエッチングするこ
とで形成された電極とを有する、記録液に吐出エネルギ
を供給するための複数の熱エネルギ発生手段、および前
記各熱エネルギ発生手段を保護するため、前記各熱エネ
ルギ発生手段上に形成された保護層を有するインクジェ
ット記録ヘッド用基体の製造方法において、前記電極層
の層厚の途中までエッチングするエッチング工程と、前
記エッチング工程後に、前記電極層上に積層された、前
記電極層をパターニングするためのレジストをドライエ
ッチングにより後退させるレジスト後退工程と、前記レ
ジスト後退工程で前記電極層に付着したポリマを除去す
るポリマ除去工程と、前記ポリマ除去工程後に、前記発
熱抵抗層が露出するまで、前記エッチング工程でエッチ
ングし残した前記電極層をウェットエッチングによりエ
ッチングするウェットエッチング工程と、前記エッチン
グ工程と、前記レジスト後退工程と、前記ポリマ除去工
程と、前記ウェットエッチング工程とを少なくとも1回
以上繰り返す繰り返し工程と、前記繰り返し工程終了後
に、前記各熱エネルギ発生手段上に保護層を形成する工
程とを含むことを特徴とする。
ヘッド用基体の製造方法は、電極層をウェットエッチン
グあるいはドライエッチングにより、まず、電極層の層
厚の途中までエッチングし、次いで、レジストをドライ
エッチングにより後退させ、さらに、レジスト後退工程
で電極層に付着したポリマを除去した後、ウェットエッ
チングにより最初のエッチングで残しておいた電極層を
発熱抵抗層が露出するまでエッチングする。さらには、
これらの工程を少なくとも1回以上繰り返した後、熱エ
ネルギ発生手段上に保護層を形成する。このように電極
のエッチングを、レジストをドライエッチングにより後
退させる工程を挟み、少なくとも2段階に分けて行うこ
とで、電極の端面を、電極と発熱抵抗層との高低差を段
階的に小さくする段差形状に形成することができる。そ
して、この段差形状部を形成した後に、電極上、段差形
状部上および発熱抵抗層上に保護層を形成するため、保
護層に電極、あるいは発熱抵抗層を露出させるような不
連続部が形成されることを防止できる。
ジスト後退工程で電極層に付着したポリマを除去するこ
とにより、ドライエッチガスにより付着したポリマが残
ることで、電極層の露出部分、特にレジストとの界面の
エッチングが進行しなくなるのを防止することができ
る。
方法は、電力が印加されることで発熱する発熱抵抗層
と、前記発熱抵抗層上に積層された電極層をエッチング
することで形成された電極とを有する、記録液に吐出エ
ネルギを供給するための複数の熱エネルギ発生手段、お
よび前記各熱エネルギ発生手段を保護するため、前記各
熱エネルギ発生手段上に形成された保護層を有するイン
クジェット記録ヘッド用基体と、前記各熱エネルギ発生
素子に対応する溝が設けられた天板とを接合して、記録
液が吐出される吐出口に連通する液流路を形成する工程
を含むインクジェット記録ヘッドの製造方法において、
前記電極層の層厚の途中までエッチングするエッチング
工程と、前記エッチング工程後に、前記電極層上に積層
された、前記電極層をパターニングするためのレジスト
をドライエッチングにより後退させるレジスト後退工程
と、前記レジスト後退工程で前記電極層に付着したポリ
マを除去するポリマ除去工程と、前記ポリマ除去工程後
に、前記発熱抵抗層が露出するまで、前記エッチング工
程でエッチングし残した前記電極層をウェットエッチン
グによりエッチングするウェットエッチング工程と、前
記エッチング工程と、前記レジスト後退工程と、前記ポ
リマ除去工程と、前記ウェットエッチング工程とを少な
くとも1回以上繰り返す繰り返し工程と、前記繰り返し
工程終了後に、前記各熱エネルギ発生手段上に保護層を
形成する工程とを含むことを特徴とする。
ヘッドの製造方法は、電極のエッチングを、レジストを
ドライエッチングにより後退させる工程を挟み、少なく
とも2段階に分けて行うことで、電極の端面を、電極と
発熱抵抗層との高低差を段階的に小さくする段差形状に
形成した後に、電極上、段差形状部上および発熱抵抗層
上に保護層を形成するため、保護層に電極、あるいは発
熱抵抗層を露出させるような不連続部が形成されること
を防止できる。
記のインクジェット記録ヘッドの製造方法によって製造
されたものであることを特徴とする。
録媒体を搬送する搬送手段と、インクを吐出し、前記被
記録媒体に記録を行う本発明のインクジェット記録ヘッ
ドを保持し、かつ、前記被記録媒体の搬送方向に対して
略直角方向に往復移動する保持手段とを有することを特
徴とする。
ット記録装置は、本発明のインクジェット記録ヘッドを
用いるため、保護膜が、発熱抵抗層上と、電極上と、電
極の端面に形成された段差部上とで連続的に形成されて
おり、保護層に電極、あるいは発熱抵抗層を露出させる
ような不連続部が形成されていないため、記録液と、イ
ンクジェット記録ヘッド用基体の電極、あるいは発熱抵
抗層とが接触するのを防止できる。
て図面を参照して説明する。
記録ヘッド用基体の一部の平面図を、また図2に図1の
A−A線での断面図をそれぞれ示す。
基体は、不図示の天板16に形成された複数のノズル壁
9により仕切られることでインクが吐出される吐出口2
1に連通する複数の液流路17を構成し(図5参照)、
Siからなる基板1と、基板1上に形成されたSiO2
からなる蓄熱層2と、蓄熱層2上に形成されたHfB2
からなる発熱抵抗層3と、発熱抵抗層3上の発熱作用部
8を除く領域に形成されたAlからなる電極4と、発熱
抵抗層3および電極4を覆う上部保護層5とを有する。
が形成されているため、段差部12での上部保護層5の
層厚は、電極4の上面および発熱作用部8に対して略均
一に形成されている。
4に示すフローチャートに基づいて、図1および図2に
示したインクジェット記録ヘッド用基体の製造方法の一
例を説明する。
ガラス、セラミックスあるいはプラスチック等の所望の
材質からなる基板1上に、熱酸化法またはCVD法によ
って、蓄熱層2として絶縁物(酸化物等)を形成する。
そして、真空蒸着あるいはスパッタリング法などを用い
て発熱抵抗層3を形成する。次に、この発熱抵抗層3上
に電極層4aを真空蒸着あるいはスパッタリング法など
を用いて形成する(ステップ301)。
ォトリソグラフィ技法を用いてレジスト11を電極層4
a上にパターニングする(ステップ302)。
aおよび発熱抵抗層3をエッチングにより厚さt1の電
極層4aを厚さt2が残るように第1段階目のエッチン
グを行う(ステップ303)。なお、エッチングは、ウ
ェットエッチング法によるものであっても、ドライエッ
チング法によるものであってもよい。
ッチングによってレジスト11のパターンを距離Sだけ
後退させる(ステップ304)。なお、レジスト11の
ドライエッチングはレジスト11のみをエッチングでき
る条件が設定できる方法であれば、プラズマエッチ法や
RIE法以外に、どんな方法であってもよい。またエッ
チングするガスはO2のみでもよいが、場合によっては
O2とCF4の混合ガスを用いてもよい。
ホキシド主成分とするポリマ除去液で浸せき処理をし、
ドライエッチングによって電極層4aに付着したポリマ
を除去する(ステップ305)。なお、ポリマ除去剤は
ジメチルスルホキシド主成分とするポリマ除去剤が一般
的であるが、その他のポリマ除去剤でもよい。
チにポリマを除去するのは以下の理由によるものであ
る。
チング終了後(図5(a))、そのままウェットエッチ
ングすると、ドライエッチ時に電極層4aの露出部分、
特にレジスト11との界面にドライエッチガスに起因す
るポリマが形成され、その後、ウェットエッチングでは
ポリマの形成された部分のエッチングが進行しなくな
り、図5(b)のような形状の異常エッチ部13が形成
されてしまう。そして、このような形状の異常エッチ部
13上に上部保護層5を形成すると、図5(c)に示す
ような、ステップカバレージが悪くなる部分、すなわち
保護層の膜質の悪い不連続なステップカバレージ不良部
14が形成されてしまう。
(e)のような断面形状を得るために、レジスト11の
ドライエッチング終了後、すなわち、ウェットエッチン
グを行う前に、ジメチルスルホキシドを主成分とするポ
リマ除去剤でポリマ除去の処理を行い、その後、図3
(e)に示すように、電極層4aの第2段階目のエッチ
ングを行う(ステップ306)。すなわち、残りの厚さ
t2の電極層4aをウェットエッチングして、発熱抵抗
層3が露出するようにする。電極層4aに対して2段階
のエッチングを行うことで段差部12にテーパ部10が
形成されることとなる。
07)。以上により、電気的に接続する少なくとも一対
の電極4とからなる熱エネルギ発生手段の少なくとも1
組が完成する。
N4、SiO2、SiON、Ta2O5等の所望の材質から
なる上部保護層5を、真空蒸着、スパッタリングあるい
はCVD法などを用いて形成する(ステップ308)。
する必要はなく、例えば耐キャビテーション性の向上を
はかる等の目的で、2種以上の材質からなる複数構成の
ものとしてもよい。
上部保護層5を連続的に形成してステップカバレージを
最良にするためには、電極層4aを段々にして一つの段
差を小さくすることが重要であり、特に、電極段差を上
部保護層5の膜厚の1/1.5以下にすることが重要で
あるが、これに限定されるものではない。なお、本実施
形態では、電極層4aを2回に分けてエッチングするこ
とで2段の段差部12とした例を示したが、段差を小さ
くするために、必要があれば3段以上でもよく、その場
合は電極4のエッチングとレジスト11のエッチングと
を2回以上繰り返すことで対応可能である。
が、発熱抵抗層3上と、電極4上と、電極4の端面に形
成された段差部12上とで連続的に形成されたインクジ
ェット記録ヘッド用基体を用いたインクジェット記録ヘ
ッドの一例の模式的な斜視図を図6に示す。
ト記録ヘッド用基体30に接合する天板16を接合面側
からみた外観斜視図である。
用基体30と接合されることで液流路17を形成するた
めの複数の液流路溝17a、および、外部から供給され
た液体を各液流路溝17aに供給する、各液流路溝17
aに連通する共通液室19用の溝である共通液室用溝1
9aが形成されている。各液流路溝17a間は、各液流
路溝17aを仕切る流路壁9となる。
用基体30に対して十分な位置合わせを行なった後に接
合し、これに不図示の液供給系から供給される記録液を
ヘッド内部に導入するための液供給管20を接続して、
共通液室19、液流路17および吐出口21が形成され
た、図6(b)に示すようなインクジェット記録ヘッド
31が得られる。なお、インクジェット記録ヘッド31
は、熱エネルギ発生手段のそれぞれを選択加熱し得るよ
うに、入力側の電極4bを個別電極としてあるが、帰路
側の電極4cは電極構成を簡略化するため共通電極とし
てある。
作用部8の、電極4および発熱抵抗層3とからなる各吐
出エネルギ発生素子に電気エネルギを入力することで、
これら各吐出エネルギ発生素子に接する、外部から供給
された液体に急峻な体積変化(気泡の発生)を伴う状態
変化を生じさせ、この液体の状態変化に基づく作用力に
よって吐出口21から液体を吐出し、この吐出された液
体を被記録媒体上に付着させて画像形成を行うように構
成されている。
や液流路等の形成は、図6に例示の如き溝付き板による
ことは必ずしも必要ではなく、感光性樹脂のパターニン
グ等により形成してもよい。また、本発明は、上述した
ような複数の液体吐出口を有するマルチアレータイプの
インクジェット記録ヘッドのみに限定されるものではな
く、液体吐出口が1つのシングルアレータイプインクジ
ェット記録ヘッドにも、もちろん適用できるものであ
る。
適用が可能なインクジェット記録装置の一例の外観斜視
図を図7に示す。
09が取付けられ、キャリッジ208は、矢印B方向に
摺動自在にガイドシャフト209に支持されている。こ
のキャリッジ208は、駆動プーリ213とアイドラプ
ーリ214との間に張設されたタイミングベルト210
にキャリッジ208の一部が固定されており、キャリッ
ジモータ211の回転に応じガイドシャフト209に沿
って矢印B方向に往復移動可能である。なお、本実施形
態において、カートリッジ201はインクを吐出するこ
とで記録用紙204に記録を行うものであり、吐出口2
1が図示下向きに形成されたインクジェット記録ヘッド
31およびインクタンク15が一体化されている。
着脱自在に搭載され、このカートリッジ201を駆動す
るための電流や信号を送受信するフレキシブルケーブル
202を介して不図示の記録制御部37と電気的に接続
される。
ジェット記録ヘッド31のインク吐出特性を回復するた
めの回復手段を有するキャップユニット203を有す
る。キャップユニット203は、インクジェット記録ヘ
ッド31に対応したキャップ部材206と、ゴム等の部
材からなるワイパーブレード207とを具備する。この
ような構成からなるインクジェット記録装置は、インク
ジェット記録ヘッド31を被記録媒体の搬送方向A’と
直行する方向(主走査方向)B’にシリアルスキャンさ
せて、インクジェット記録ヘッド31のノズル数に対応
した幅の記録を行い、一方で非記録時に被記録媒体を記
録幅に等しい送り量で間欠的に搬送するものである。
ジェット記録ヘッド用基体の製造方法によれば、電極層
4aをウェットエッチングあるいはドライエッチングに
より、まず、電極層4aの層厚の途中までエッチング
し、次いで、レジストをドライエッチングにより後退さ
せ、さらに、ウェットエッチングにより最初のエッチン
グで残しておいた電極層4aを発熱抵抗層3が露出する
までエッチングする。さらには、これらの工程を少なく
とも1回以上繰り返した後、熱エネルギ発生手段上に上
部保護層5を形成する。このように電極4のエッチング
を、レジスト11をドライエッチングにより後退させる
工程を挟み、少なくとも2段階に分けて行うことで、電
極4の端面を、電極4と発熱抵抗層3との高低差を段階
的に小さくする、例えば、テーパ部10を含む段差部1
2に形成することができる。そして、この段差部12を
形成した後に、電極4上、段差部12上および発熱抵抗
層3上に上部保護層5を形成するため、上部保護層5に
電極4、あるいは発熱抵抗層3を露出させるようなステ
ップカバレージ不良部といった不連続部が形成されるこ
とを防止できる。
発明はこれらによって何ら限定されるものでもない。
図6で示したインクジェット記録ヘッドを製作した。ま
た、このインクジェット記録ヘッドに用いられるインク
ジェット記録ヘッド用基体の製造方法の説明に関して
は、上述した実施形態の図3を用いて説明するため、符
号は上述の実施形態と同じものを使用する。
板1に厚さ5μmのSiO2からなる蓄熱層2を形成し
た。そして、HfB2からなる発熱抵抗層3をスパッタ
リング法により1300Åの厚みに形成した。
l層をスパッタ法によりt1=4000Åの厚みに形成
した。
ォトリソグラフィ技法を用いてレジスト11をパターニ
ングする。
aおよび発熱抵抗層3をエッチングにより厚さ4000
Åの電極層4aを厚さ2000Åが残るように第1段階
目のエッチングをウェットエッチング法により0.2μ
mエッチングを行う。エッチング液として硝酸、りん
酸、酢酸混合系を用いる。
エッチング装置を用い、ガスとしてO2を用い、レジス
ト11のエッチングパターンを後退量Sだけ後退させ
る。後退量Sは0.5μmである。
ポリマ除去液SST―A1(東京応化製)で浸せき処理
をし電極層4aに付着したポリマを除去する。
グ液として硝酸、りん酸、酢酸混合系を用いて電極層4
aの残りの2000Åをウェットエッチングにより除去
し、その後、レジスト11を剥離する。
幅30μm×長さ150μmで、電極4を含めた抵抗値
が100Ωの回路パターンを有する熱エネルギ発生手段
を形成した。
ッタリング装置により、RFパワーが1kW、圧力が
0.13Paの形成条件下で、熱エネルギ発生手段上に
SiO 2からなる上部保護層5を0.3μmの厚さで形
成した。
ョン性を向上させる目的で、上部保護層5上にTaから
なる第2の保護層(図不示)を上述のRFスパッタリン
グ装置を用いて約5000Åの厚さで形成した。
ップカバレージが良好で、ピンホール等の層欠陥もない
良質のものであった。
ガラス製の天板16を十分な位置合せを行なった後に接
合し、これにさらに液供給管20を接続して図6に示す
インクジェット記録ヘッド31を作成した。
0μmの液流路17および共通液室19となる溝は、マ
イクロカッタを用いて切削形成した。
は、ヘッド外部から所望のパルス信号を印加するための
電極リードを有する不図示のリード基板が付設されてお
り、該信号に基づいて記録が行なわれる。
記録ヘッドは、従来のものよりも、(1)消費電力の減
少、(2)熱応答性の向上、(3)従来よりも短いパル
ス幅での駆動において耐久性が良好であるといった性能
の向上が認められた。また、短幅パルスの駆動による発
泡安定性に基づいて、記録液の吐出安定性が良化し、記
録品質の向上がはかれた。さらに、記録耐久性も良好で
あった。
極層を、まず、電極層の層厚の途中までエッチングし、
次いで、レジストをドライエッチングにより後退させ、
さらに、ウェットエッチングにより最初のエッチングで
残しておいた電極層を発熱抵抗層が露出するまでエッチ
ングする。さらには、これらの工程を少なくとも1回以
上繰り返した後、熱エネルギ発生手段上に保護層を形成
する。このため、電極の端面を、電極と発熱抵抗層との
高低差を段階的に小さくする段差形状に形成することが
でき、その後、電極上、段差形状部上および発熱抵抗層
上に保護層を形成するため、保護層に電極、あるいは発
熱抵抗層を露出させるような不連続部が形成されること
を防止できる。よって、不連続部が形成されないよう
に、保護膜を厚く形成する必要がないため、インクジェ
ット記録ヘッド用基体の熱応答性を高めることができ、
また、記録液と発熱抵抗層との直接の接触によっての発
熱抵抗層の破壊が防止されるため、耐久性も向上させる
ことができる。
用基体の一部の平面図である。
の、図1のA−A線での断面図である。
造方法の一例を説明する図である。
造方法の一例を説明するフローチャートである。
ド用基体を製造した場合に形成される異常エッチ部およ
びステップカバレージの不良を示す図である。
いたインクジェット記録ヘッドの一例の模式的な外観斜
視図である。
なインクジェット記録装置の一例の斜視図である。
拡大平面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 電力が印加されることで発熱する発熱抵
抗層と、前記発熱抵抗層上に積層された電極層をエッチ
ングすることで形成された電極とを有する、記録液に吐
出エネルギを供給するための複数の熱エネルギ発生手
段、および前記各熱エネルギ発生手段を保護するため、
前記各熱エネルギ発生手段上に形成された保護層を有す
るインクジェット記録ヘッド用基体の製造方法におい
て、 前記電極層の層厚の途中までエッチングするエッチング
工程と、 前記エッチング工程後に、前記電極層上に積層された、
前記電極層をパターニングするためのレジストをドライ
エッチングにより後退させるレジスト後退工程と、 前記レジスト後退工程で前記電極層に付着したポリマを
除去するポリマ除去工程と、 前記ポリマ除去工程後に、前記発熱抵抗層が露出するま
で、前記エッチング工程でエッチングし残した前記電極
層をウェットエッチングによりエッチングするウェット
エッチング工程と、 前記エッチング工程と、前記レジスト後退工程と、前記
ポリマ除去工程と、前記ウェットエッチング工程とを少
なくとも1回以上繰り返す繰り返し工程と、 前記繰り返し工程終了後に、前記各熱エネルギ発生手段
上に保護層を形成する工程とを含むことを特徴とするイ
ンクジェット記録ヘッド用基体の製造方法。 - 【請求項2】 電力が印加されることで発熱する発熱抵
抗層と、前記発熱抵抗層上に積層された電極層をエッチ
ングすることで形成された電極とを有する、記録液に吐
出エネルギを供給するための複数の熱エネルギ発生手
段、および前記各熱エネルギ発生手段を保護するため、
前記各熱エネルギ発生手段上に形成された保護層を有す
るインクジェット記録ヘッド用基体と、前記各熱エネル
ギ発生素子に対応する溝が設けられた天板とを接合し
て、記録液が吐出される吐出口に連通する液流路を形成
する工程を含むインクジェット記録ヘッドの製造方法に
おいて、 前記電極層の層厚の途中までエッチングするエッチング
工程と、 前記エッチング工程後に、前記電極層上に積層された、
前記電極層をパターニングするためのレジストをドライ
エッチングにより後退させるレジスト後退工程と、 前記レジスト後退工程で前記電極層に付着したポリマを
除去するポリマ除去工程と、 前記ポリマ除去工程後に、前記発熱抵抗層が露出するま
で、前記エッチング工程でエッチングし残した前記電極
層をウェットエッチングによりエッチングするウェット
エッチング工程と、 前記エッチング工程と、前記レジスト後退工程と、前記
ポリマ除去工程と、前記ウェットエッチング工程とを少
なくとも1回以上繰り返す繰り返し工程と、 前記繰り返し工程終了後に、前記各熱エネルギ発生手段
上に保護層を形成する工程とを含むことを特徴とするイ
ンクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項3】 請求項2に記載のインクジェット記録ヘ
ッドの製造方法によって製造されたインクジェット記録
ヘッド。 - 【請求項4】 被記録媒体を搬送する搬送手段と、イン
クを吐出し、前記被記録媒体に記録を行う請求項3に記
載のインクジェット記録ヘッドを保持し、かつ、前記被
記録媒体の搬送方向に対して略直角方向に往復移動する
保持手段とを有することを特徴とするインクジェット記
録装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000198382A JP2002011888A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法、インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェット記録ヘッド、およびインクジェット記録装置 |
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ID=18696554
Family Applications (1)
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JP2000198382A Pending JP2002011888A (ja) | 2000-06-30 | 2000-06-30 | インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法、インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェット記録ヘッド、およびインクジェット記録装置 |
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JP (1) | JP2002011888A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002339085A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-27 | Rohm Co Ltd | エッチング加工方法、ヒーター装置およびその製造方法 |
KR100915281B1 (ko) * | 2006-06-07 | 2009-09-03 | 캐논 가부시끼가이샤 | 액체 토출 헤드 및 그 제조 방법 |
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- 2000-06-30 JP JP2000198382A patent/JP2002011888A/ja active Pending
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