JP2001249345A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安価なコストで、かつ簡単な工程で歩留まり
良く作製できる液晶表示装置及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 画像表示部８，この画像表示部８を取り
囲んで塗布されたシールパターン９及びこのシールパタ
ーン９の外側に形成された共通電極配線１０ａ、１０ｂ
を有する基板２のシールパターン９側に共通電極２０が
対向配置するようにして形成されたガラス基板１９と、
これらの基板２、１９をシールパターン９を介して貼り
合された際に生じる間隙に注入された液晶２２とからな
る液晶表示装置１において、シールパターン９は、導電
性からなり、かつ共通電極配線１０ａ、１０ｂの一端と
オーバーラップして塗布され、基板２とガラス基板１９
とを貼り合わせると共に共通電極２０と共通電極配線１
０ａ、１０ｂとが電気的に接続するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画像表示に用いら
れる液晶表示装置及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示装置２４について図２を
用いて説明する。図２は、従来の液晶表示装置を示し、
（Ａ）はガラス基板上面から見た平面切り欠け図、
（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ断面図、（Ｃ）は（Ａ）のＮＮ断
面図である。実際には、この従来の液晶表示装置は、基
板上にはマトリクス状に多数の画素が形成された画像表
示部を有するが、ここでは、説明を簡単にするために、
この画像表示部は、４つの画素がマトリクス状に配列さ
れた構成とした。

【０００３】図２（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示すよう
に、液晶表示装置２４は、シリコン基板２上に形成され
たＳｉＯ₂からなる絶縁層３と、この絶縁層３上にマト
リクス状に配列された４つの画素４、５、６、７から構
成される画像表示部８と、この画像表示部８を取り囲む
ように塗布され、液晶注入口２５ａを有するシールパタ
ーン２５と、このシールパターン２５の外側には、シー
ルパターン２５側から外側に向かって引出された共通電
極配線１０ａ、１０ｂとからなる。この画素４、５、
６、７は、ソース１１、多結晶シリコンからなるゲート
１２及びドレイン１３を有するＭＯＳトランジスタ１４
と、絶縁層３上に形成された多結晶シリコン１６，絶縁
層３及びＭＯＳトランジスタ１４の横方向に延在された
ドレイン１３の電極１５で構成された補助容量１７とか
らなる。なお、多結晶シリコン１６は、ドレイン１３の
電極１５と接続されている。

【０００４】また、この画像表示部８及び絶縁層３上に
は第１配向膜１８が形成されている。一方、ガラス基板
１９上には透明な共通電極２０と、第２配向膜２１が順
次形成されている。共通電極配線１０ａ、１０ｂのシー
ルパターン２５側の一端にはＡｇを主成分とするペース
ト２６、２６が塗布されている。更に、ガラス基板１９
の第２配向膜２１側がシリコン基板２の第１配向膜１８
に対向配置され、シールパターン２５を介し、所定の間
隙を有して貼り合わされ、この間隙から露出した液晶注
入口２５ａから注入された液晶２２が封止剤２３で封止
されている。共通電極配線１０ａ、１０ｂとガラス基板
１９の共通電極２０とは、ペースト２６を介して電気的
に接続されるようになっている。

【０００５】この液晶２２の液晶分子は、シリコン基板
２に形成されている第１配向膜１８及びガラス基板１９
に形成されている第２配向膜２１により、初期状態（電
圧が印加されていない状態）では、これらの基板２、１
９に対して垂直又は水平方向から一方向に僅かな傾きを
有している。この液晶２２の材料としては、例えばネマ
チック液晶である。Ｔは、アクティブマトリクス駆動回
路の引き出し端子である。

【０００６】次に、液晶表示装置２４の製造方法につい
て説明する。予め画像表示部８、第１配向膜１８及び共
通電極配線１０ａ、１０ｂが形成されたシリコン基板２
を用意する。一方、第２配向膜２１及び共通電極２０が
形成されたガラス基板１９を用意する。このシリコン基
板２上に液晶注入口２５ａを有したシールパターン２５
を画像画像表示部８を取り囲むように塗布する。次に、
共通電極配線１０ａ、１０ｂのシールパターン２５側の
一端にペースト２６、２６を塗布する。

【０００７】次に、ガラス基板１９の第２配向膜２１側
をシリコン基板２の第１配向膜１８に対向配置させ、シ
ールパターン２５を介してシリコン基板２とガラス基板
１９とを貼り合わせる。この時、ペースト２６、２６を
介して共通電極配線１０ａ、１０ｂと共通電極２０とが
電気的に接続される。次に、液晶注入口２５ａから液晶
２２を注入した後、封止剤２３で封止して図２に示す液
晶表示装置２４を得る。

【０００８】次に、従来の液晶表示装置２４の動作につ
いて説明する。各画素４、５、６、７におけるＭＯＳト
ランジスタ１４のゲート１２に走査信号を順次供給して
オンさせた状態で、次に、ソース１１に画像信号を順次
供給してドレイン１３を介して補助容量１７に書込んだ
状態で、ガラス基板１９側から読出し光を照射し、液晶
２２中を通過させた後、ソース１１及びドレイン１３の
電極で反射させ、再び液晶２２中を通過させて光変調
し、ガラス基板１９上方に出射する。この光変調を受け
た反射光は、偏光ビームスプリッタや偏光板等の偏光変
換器を介して画像表示する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、共通電
極配線１０ａ、１０ｂは、シールパターン９の外側に形
成されているため、このペースト２６、２６を塗布する
領域分だけシリコン基板２の面積を広くする必要があっ
た。このため、大きな面積のシリコン基板２を必要とす
るため、材料コストが高かった。また、このシリコン基
板２の面積が広いと、シリコン基板２中の結晶欠陥が画
像表示部８中に含まれる割合が増すので、歩留まりを低
下させる原因となっていた。

【００１０】更にまた、従来の液晶表示装置２４の製造
方法では、シリコン基板２とガラス基板１９とを貼り合
わせるためにシールパターン２５を塗布する工程と、更
にシリコン基板２の共通電極配線１０ａ、１０ｂとガラ
ス基板１９の共通電極２０との電気的接続にペースト２
６を塗布する工程とを必要とするので、大幅な工数を要
していた。そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされ
たものであり、安価なコストで、かつ簡単な工程で歩留
まり良く作製できる液晶表示装置及びその製造方法を提
供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、画像表示部，この画像表示部を取り囲んで塗布され
たシールパターン及びこのシールパターンの外側に形成
された共通電極配線を有する基板と、この基板のシール
パターン側に前記共通電極が対向配置するようにして形
成されたガラス基板と、これらの基板を前記シールパタ
ーンを介して貼り合わされた際に生じる間隙に注入され
た液晶とからなる液晶表示装置において、前記シールパ
ターンは、導電性の材料からなり、かつ前記共通電極配
線の一端とオーバーラップして塗布され、前記基板と前
記ガラス基板とを貼り合わせると共に前記共通電極と前
記共通電極配線とが電気的に接続するようにしたことを
特徴とする。本発明の液晶表示装置の製造方法は、予
め、画像表示部，この画像表示部を取り囲んで塗布され
たシールパターン及びこのシールパターンの外側に形成
された共通電極配線を有する基板と、この基板のシール
パターン側に前記共通電極が対向配置するようにして形
成されたガラス基板とを用意し、前記シールパターンを
介し、前記基板と前記ガラス基板とを所定の間隙を有し
て貼り合わせ、この間隙に液晶を注入して作製する液晶
表示装置の製造方法において、前記シールパターンは、
導電性の材料からなり、前記共通電極配線の一端をオー
バーラップするように塗布し、前記基板と前記ガラス基
板とを貼り合わせると共に前記共通電極と前記共通電極
配線とを電気的に接続するようにしたことを特徴とす
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の液晶表
示装置及びその製造方法について図１を用いて説明す
る。図１は、本発明の実施形態の液晶表示装置を示し、
（Ａ）はガラス基板上面から見た平面切り欠け図、
（Ｂ）は（Ａ）のＡＡ断面図である。従来技術と同一構
成には同一符号を付し、その説明を省略する。図１
（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、本発明の実施形態の液
晶表示装置１は、従来の液晶表示装置２４の代わりに、
導電性のシールパターン９が画像表示部８を取り囲み，
かつ共通電極配線１０ａ、１０ｂの一端とオーバーラッ
プして塗布され、シリコン基板２とガラス基板１９とを
貼り合わせると共に共通電極２０と共通電極配線１０
ａ、１０ｂとを電気的に接続するようにしたものであ
り、その他の構成は同一である。

【００１３】シールパターン９は、エポキシ系樹脂と、
このエポキシ系樹脂１００部に対して、０．０５部〜
０．３部からなる所望の液晶２２の厚さと等しい直径の
ガラスファイバ又はシリカボールと、０．０１〜０．１
部からなる液晶２２の厚さよりも５〜２０％大きい直径
のＰＭＭＡ（ポリメチルメタアクリレート）ボールにＮ
ｉ及びＡｕ等の金属をメッキした導電粒子とを混合し、
ホモジナイザー等で攪拌し真空脱泡したのものであり、
導電性を有する。

【００１４】次に、本発明の液晶表示装置１の製造方法
について説明する。予め、画像表示部８、第１配向膜１
８及びこの画像表示部８の外側に形成された共通電極配
線１０ａ、１０ｂを有するシリコン基板２と、共通電極
２０、第２配向膜２１が形成されたガラス基板１９とを
用意する。この後、シリコン基板２の画像表示部８を囲
み、かつ共通電極配線１０ａ、１０ｂの一端とオーバー
ラップするようにした液晶注入口９ａを有したシールパ
ターン９を塗布する。

【００１５】更に、ガラス基板１９の第２配向膜２１側
をシリコン基板２のシールパターン９に対向配置させ
て、所定の間隙を有して、シリコン基板２とガラス基板
１９とを貼り合わせると共通電極配線１０ａ、１０ｂと
ガラス基板１９の共通電極２０とを電気的に接続する。
この後、従来の液晶表示装置２４の製造方法と同様な工
程を行って図１に示す本発明の実施形態の液晶表示装置
１を得る。本発明の液晶表示装置１の動作は、従来の液
晶表示装置２４と同様であるので、その説明を省略す
る。

【００１６】以上のように、本発明の実施形態の液晶表
示装置１によれば、シールパターン９に接着性に加えて
導電性も兼ね備えさせるようにして、シールパターン９
が画像表示部８を取り囲み，かつ共通電極配線１０ａ、
１０ｂの一端とオーバーラップして塗布され、シリコン
基板２とガラス基板１９とを貼り合わせると共に共通電
極２０と共通電極配線１０ａ、１０ｂとを電気的に接続
するようにしたので、シリコン基板２の面積を小さくす
ることができるため、材料コストを安価にすることがで
きる。また、このため、シリコン基板２中の結晶欠陥が
画像表示部８に含まれる割合が減少し、歩留まりが向上
する。

【００１７】更にまた、本発明の実施形態の液晶表示装
置の製造方法によれば、シールパターン９に接着性に加
えて導電性も兼ね備えさせるようにして、シリコン基板
２上に画像表示部８を取り囲み、かつ共通電極配線１０
ａ、１０ｂの一端をオーバーラップするようにしてシー
ルパターン９を形成した後、シリコン基板２とガラス基
板１９とを貼り合わせると共に共通電極２０と共通電極
配線１０ａ、１０ｂとを電気的に接続するようにしたの
で、大幅な工数削減となる。また、本発明の実施形態で
は、ＭＯＳ型トランジスタの場合について説明したが、
アモルファスシリコンやポリシリコンの薄膜トランジス
タを用いた場合でも有効なことは言うまでもない。本発
明の実施形態では、共通電極配線１０ａ、１０ｂは、２
本の場合について説明したが、これに限定されることな
く１本以上であれば何本でも良い。

【００１８】

【発明の効果】本発明の液晶表示装置によれば、画像表
示部，この画像表示部を取り囲んで塗布されたシールパ
ターン及びこのシールパターンの外側に形成された共通
電極配線を有する基板と、この基板のシールパターン側
に前記共通電極が対向配置するようにして形成されたガ
ラス基板と、これらの基板を前記シールパターンを介し
て貼り合わされた際に生じる間隙に注入された液晶とか
らなる液晶表示装置において、前記シールパターンは、
導電性の材料からなり、かつ前記共通電極配線の一端と
オーバーラップして塗布され、前記基板と前記ガラス基
板とを貼り合わせると共に前記共通電極と前記共通電極
配線とが電気的に接続するようにしたので、前記基板の
面積を小さくできるため、材料コストを安価にすること
ができる。また、このように面積を小さくすることがで
きるので、前記基板中の結晶欠陥が前記画像表示部に含
まれる割合が減少し、歩留まりが向上する。本発明の液
晶表示装置の製造方法によれば、予め、画像表示部，こ
の画像表示部を取り囲んで塗布されたシールパターン及
びこのシールパターンの外側に形成された共通電極配線
を有する基板と、この基板のシールパターン側に前記共
通電極が対向配置するようにして形成されたガラス基板
とを用意し、前記シールパターンを介し、前記基板と前
記ガラス基板とを所定の間隙を有して貼り合わせ、この
間隙に液晶を注入して作製する液晶表示装置の製造方法
において、前記シールパターンは、導電性の材料からな
り、前記共通電極配線の一端をオーバーラップするよう
に塗布し、前記基板と前記ガラス基板とを貼り合わせる
と共に前記共通電極と前記共通電極配線とを電気的に接
続するようにしたので、大幅な工数削減となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態の液晶表示装置を示し、
（Ａ）はガラス基板上面から見た平面切り欠け図、
（Ｂ）は（Ａ）のＡＡ断面図である。

【図２】従来の液晶表示装置を示し、（Ａ）はガラス基
板上面から見た平面切り欠け図、（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ
断面図、（Ｃ）は（Ａ）のＮＮ断面図である。

【符号の説明】

１…液晶表示装置、２…シリコン基板（基板）、３…絶
縁層、４、５、６、７…画素、８…画像表示部、９…シ
ールパターン、９ａ…液晶注入口、１０ａ、１０ｂ…共
通電極配線、１１…ソース、１２…ゲート、１３…ドレ
イン、１４…ＭＯＳトランジスタ、１５…電極、１６…
多結晶シリコン、１７…補助容量、１８…第１配向膜、
１９…ガラス基板、２０…共通電極、２１…第２配向
膜、２２…液晶、２３…封止剤

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】画像表示部，この画像表示部を取り囲んで
   塗布されたシールパターン及びこのシールパターンの外
   側に形成された共通電極配線を有する基板と、この基板
   のシールパターン側に前記共通電極が対向配置するよう
   にして形成されたガラス基板と、これらの基板を前記シ
   ールパターンを介して貼り合わされた際に生じる間隙に
   注入された液晶とからなる液晶表示装置において、 前記シールパターンは、導電性の材料からなり、かつ前
   記共通電極配線の一端とオーバーラップして塗布され、
   前記基板と前記ガラス基板とを貼り合わせると共に前記
   共通電極と前記共通電極配線とが電気的に接続するよう
   にしたことを特徴とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】予め、画像表示部，この画像表示部を取り
   囲んで塗布されたシールパターン及びこのシールパター
   ンの外側に形成された共通電極配線を有する基板と、こ
   の基板のシールパターン側に前記共通電極が対向配置す
   るようにして形成されたガラス基板とを用意し、前記シ
   ールパターンを介し、前記基板と前記ガラス基板とを所
   定の間隙を有して貼り合わせ、この間隙に液晶を注入し
   て作製する液晶表示装置の製造方法において、 前記シールパターンは、導電性の材料からなり、前記共
   通電極配線の一端をオーバーラップするように塗布し、
   前記基板と前記ガラス基板とを貼り合わせると共に前記
   共通電極と前記共通電極配線とを電気的に接続するよう
   にしたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。