JP2001174731A - マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体レーザアレイ個々のビームスポット列
の副走査ピッチを調整可能とし、かつ、その調整を単純
作業で容易かつ確実に行えるようにすることで組立効率
を向上させ得るマルチビーム光源装置を提供する。 【解決手段】 ２個の半導体レーザアレイ１１，１２を
各々個別にその射出軸と略平行に設定された回転軸１
６，１７を中心としてベース部材１５に回動調整自在に
支持させるとともに、回転軸１６，１７を互いに非平行
に設定することで、被走査面上における各半導体レーザ
アレイ１１，１２のビームスポット列を分離させること
ができ、よって、半導体レーザアレイ１１，１２毎に独
立してその姿勢を保つことが可能となり、組立効率が向
上するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル複写機や
レーザプリンタ等の画像形成装置の光書込走査装置に適
用され、特に、複数のレーザビームにより感光体等の被
走査面上を同時に走査させるために用いられるマルチビ
ーム光源装置及びこれを用いたマルチビーム走査装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光書込系に用いられる光走査装
置において記録速度を向上させる手法として、偏向手段
としてのポリゴンミラーの回転速度を上げる方法があ
る。しかし、この方法ではポリゴンモータの耐久性や騒
音、振動、及び、レーザの変調速度等が問題となり、か
つ、記録速度の向上にも限界がある。

【０００３】そこで、一度に複数本のレーザビームを走
査して複数の記録ラインを同時に記録させるマルチビー
ム走査装置が提案されている。例えば、特開昭５６−４
２２４８号公報に示されるように複数個の発光源（発光
点）をモノリシックにアレイ状に配列させた半導体レー
ザアレイを光源として用いるようにしている。

【０００４】通常、半導体レーザの光出力は１走査ライ
ン毎に画像領域外の走査時間を利用して、その光出力を
検出し、フィードバック制御により印加電流量の設定が
行われる。上述した公報例のような半導体レーザアレイ
では発光源（発光点）は複数であるものの、光出力を検
出するセンサは共通であるため、光出力の検出〜フィー
ドバックによる出力設定を時系列的に行なわざるを得な
い。従って、半導体レーザアレイにおける光源数が多く
なるに従い、この処理に要する時間が増加し、１走査毎
の画像領域外の走査時間では間に合わなくなる可能性が
大きい。間に合わない場合には、ページ間の走査時間を
利用して上記の処理を行なうが、これでは、設定した印
加電流量を長時間に渡って保持しなければならず、その
間にレーザ出力が変動し画像濃度が変化してしまう可能
性がある。

【０００５】この点、特開平７−７２４０７号公報によ
れば、複数個の半導体レーザアレイの複数の発光点から
射出されるレーザ光をプリズム等のビーム合成手段を用
いて合成させ、恰も１つの光源から複数本のレーザ光が
射出される如く構成したマルチビーム光源ユニットが提
案されている。これによれば、１個の半導体レーザアレ
イに要求される発光点の数を半減させることができるの
で、これらの発光点の光出力の検出〜フィードバック制
御による光出力の設定処理に要する処理時間も半減させ
ることができる。よって、画像濃度の変動を最小限に抑
えて、高品質な画像を得ることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】複数個の半導体レーザ
アレイの各々は、複数個の発光点に対して単一のコリメ
ータレンズが配設されて、各発光点からのレーザ光は平
行光束化して、走査光学系に入射させる構成とされる。
ここに、走査光学系全体の副走査倍率によりビームスポ
ット列の隣接ピッチが決定されることとなる。

【０００７】しかしながら、半導体レーザアレイは各々
走査光学系全体の副走査倍率によりその配列間隔が像面
でのビームスポット列の隣接ピッチに拡大されて投影さ
れるため、半導体レーザアレイの配列角度及び半導体レ
ーザアレイ同士の配置関係を精度よく合わせないとビー
ムスポットの配列順序が合わなかったり、良好なピッチ
精度が得られないという問題がある。

【０００８】そこで、本発明は、半導体レーザアレイ個
々のビームスポット列の副走査ピッチの調整を可能とす
るとともに、その調整を単純作業で容易かつ確実に行え
るようにすることで組立効率を向上させ得るマルチビー
ム光源装置を提供することを目的とする。

【０００９】また、本発明は、半導体レーザアレイのビ
ームスポット列間の相対位置合わせの調整を可能とする
とともに、その調整を単純作業で容易かつ確実に行える
ようにすることで組立効率を向上させ得るマルチビーム
光源装置を提供することを目的とする。

【００１０】さらに、本発明では、上述のように２個の
半導体レーザアレイを用いて多ビームを走査させる場合
にも単ビーム時と同等に高品位な画像記録を行わせ得る
マルチビーム光源装置及びマルチビーム走査装置を提供
することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
直線上に複数個の発光点を有する第１の半導体レーザア
レイと、この第1の半導体レーザアレイと同一構造の第
２の半導体レーザアレイと、前記第１の半導体レーザア
レイから射出される複数のレーザ光をカップリングする
第１のカップリングレンズと、前記第２の半導体レーザ
アレイから射出される複数のレーザ光をカップリングす
る第２のカップリングレンズと、前記第１の半導体レー
ザアレイと前記第１のカップリングレンズとを第１の射
出軸上に配置させるとともに前記第２の半導体レーザア
レイと前記第２のカップリングレンズとを前記第１の射
出軸に対して所定角度隔てた第２の射出軸上に配置させ
てこれらの部材を一体に支持するベース部材と、を備
え、前記第１の半導体レーザアレイを前記第１の射出軸
に対して略平行に設定された第１の回転軸を中心に前記
ベース部材に回動調整自在に支持させ、前記第２の半導
体レーザアレイを前記第２の射出軸に対して略平行に設
定されて前記第１の回転軸と非平行な第２の回転軸を中
心に前記ベース部材に回動調整自在に支持させてなる。

【００１２】従って、第１及び第２の２個の半導体レー
ザアレイを各々個別にその射出軸と略平行に設定された
第１及び第２の回転軸を中心にベース部材に回動調整自
在に支持させるとともに、第１及び第２の回転軸を互い
に非平行としてなるので、各半導体レーザアレイのビー
ムスポット列を分離させることができ、半導体レーザア
レイ毎に独立してその姿勢を保つことが可能となり、組
立効率を向上させることができる。

【００１３】請求項２記載の発明は、請求項１記載のマ
ルチビーム光源装置において、前記第１及び第２の半導
体レーザアレイから出射される複数のレーザ光を走査し
て被走査面にビームスポットを形成するための走査光学
系の光軸と略平行に設定された第３の回転軸を中心とし
て回動調整自在に設けられて前記ベース部材を保持する
ホルダ部材を備える。

【００１４】従って、第1、第２の一対の半導体レーザ
アレイ及びカップリングレンズを同一のベース部材上に
支持させるとともに、このベース部材を走査光学系の光
軸と略平行に設定された第３の回転軸を中心にホルダ部
材に回動調整自在に保持させてなるので、各半導体レー
ザアレイのビームスポット列間の副走査方向における相
対位置の微調整が可能となり、ピッチ設定精度が向上
し、高品位な画像記録を行わせることができる。

【００１５】請求項３記載の発明は、直線上に複数個の
発光点を有する第１の半導体レーザアレイと、この第１
の半導体レーザアレイと同一構造の第２の半導体レーザ
アレイと、前記第１の半導体レーザアレイから射出され
るレーザ光をカップリングする第１のコリメータレンズ
と、前記第２の半導体レーザアレイから射出されるレー
ザ光をカップリングする第２のコリメータレンズと、前
記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリング
レンズとを第１の射出軸上に配置させて前記第１の射出
軸に対して略平行に設定された第１の回転軸を中心に一
体に回動調整自在に支持する第1のベース部材と、前記
第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリングレ
ンズとを第２の射出軸上に配置させて前記第２の射出軸
に対して略平行に設定されて前記第１の回転軸と非平行
な第２の回転軸を中心に一体に回動調整自在に支持する
第２のベース部材と、を備える。

【００１６】従って、第１及び第２の各対毎に半導体レ
ーザアレイ及びカップリングレンズをその射出軸と略平
行に設定された第１及び第２の回転軸を中心に各々回動
調整自在な第１及び第２のベース部材に一体に支持させ
るとともに、これらの第１及び第２の回転軸を互いに非
平行としてなるので、カップリングレンズと発光点との
配置関係を保ったまま半導体レーザアレイ毎のピッチ調
整を行うことが可能となり、ピッチ調整に伴う他の光学
性能への影響を回避し、容易、かつ、確実に調整を行う
ことができ、組立効率を向上させることができる。

【００１７】請求項４記載の発明は、請求項３記載のマ
ルチビーム光源装置において、前記第１及び第２の半導
体レーザアレイから出射される複数のレーザ光を走査し
て被走査面にビームスポットを形成するための走査光学
系の光軸と略平行に設定された第３の回転軸を中心とし
て回動調整自在に設けられて前記第１及び第２のベース
部材を保持するホルダ部材を備える。

【００１８】従って、第1、第２の一対のベース部材を
同一のホルダ部材上に保持させるとともに、このホルダ
部材を走査光学系の光軸と略平行に設定された第３の回
転軸を中心として回動調整自在に設けたので、各半導体
レーザアレイのビームスポット列間の副走査方向におけ
る相対位置の微調整が可能となり、ピッチ設定精度が向
上し、高品位な画像記録を行わせることができる。

【００１９】請求項５記載の発明は、請求項１ないし４
の何れか一に記載のマルチビーム光源装置において、前
記第１の回転軸と前記第２の回転軸とは前記走査光学系
におけるポリゴンミラー反射点近傍で交差するように設
定されている。

【００２０】従って、第１及び第２の回転軸を走査光学
系におけるポリゴンミラー反射点近傍で交差するように
設定することで、反射点位置の差による光学性能のばら
つきを抑えることができ、よって、高品位な画像記録を
行わせることができる。

【００２１】請求項６記載の発明のマルチビーム走査装
置は、請求項１ないし５の何れか一に記載のマルチビー
ム光源装置と、このマルチビーム光源装置により出力さ
れる複数のレーザ光を偏向走査させる偏向手段と、この
偏向手段により偏向走査される複数のレーザ光を被走査
面上に光スポットとして結像させる結像光学系とを有す
る走査光学系と、を備える。

【００２２】従って、各光スポットの間隔の均一なる状
態で感光体等の被走査面上への光書込みを行わせること
ができ、よって、高品位な画像記録を行わせることがで
きる。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態を図１
ないし図６に基づいて説明する。まず、本実施の形態の
前提として、半導体レーザアレイを用いた場合の結像関
係について図１及び図２を参照して説明する。図１は２
つの発光点１ａ，１ｂを有する半導体レーザアレイ１の
発光点間隔をｄ、その副走査方向成分をｄｓ、走査光学
系２の副走査倍率をβとすると、被走査面（感光体面等
の像面）３上での副走査ピッチＰｓは、概ね、 Ｐｓ＝β・ｄｓ で表される。４は焦点距離ｆのコリメートレンズ（カッ
プリングレンズ）である。

【００２４】ここで、副走査倍率βは通常３〜７倍程度
であるので、半導体レーザアレイ１の発光点間隔ｄが比
較的狭い（１０〜３０μｍ）場合には、図２（ａ）に示
すように発光点１ａ，１ｂの配列方向を副走査方向に配
列させ所定の副走査ピッチＰｓ（例えば、１６dot／ｍ
ｍの場合であれば、６３．５μｍ）が得られるように発
光点間隔ｄに合わせて副走査倍率βの設計がなされる。
一方、半導体レーザアレイ１の発光点間隔ｄが比較的広
い（１００〜１５０μｍ）場合には、図２（ｂ）に示す
ように発光点１ａ，１ｂの配列方向を主走査方向とし射
出軸ａに垂直な面内で角度θだけ傾けることにより生ず
る副走査方向成分を利用して副走査倍率βの設計がなさ
れる。

【００２５】ここに、本実施の形態では、図２（ａ）方
式を前提としており、基本的には、図３に示すように、
４個の発光点１ａ〜１ｄを有する半導体レーザアレイ
(発光点間隔１４μｍ)１を用い、コリメートレンズ４の
光軸Ｃを対称として副走査方向に正確に配置させた場合
に所定の副走査ピッチが得られるように走査光学系２が
設計されている(ｄ＝ｄｓ)。

【００２６】このような前提の下、本実施の形態の構成
例を図４ないし図６により説明する。図４は本実施の形
態のマルチビーム光源装置の分解斜視図、図５はその組
立状態における縦断側面図である。本実施の形態は、各
々４個の発光点を有する２個の半導体レーザアレイ１
１，１２（第１，２の半導体レーザアレイ）を用いる８
ビーム光源装置として構成されている。これらの半導体
レーザアレイ１１，１２は同一構造で形成されている。
また、これらの半導体レーザアレイ１１，１２に対して
対をなし、射出光を平行光として走査光学系にカップリ
ングさせるためのカップリングレンズ１３，１４（第
１，２のカップリングレンズ）も設けられている。

【００２７】半導体レーザアレイ１１，１２は、各々主
走査方向に微小に傾斜させた（本実施の形態では約１．
５°）ベース部材１５の嵌合穴１５ａ，１５ｂに個別に
円筒状ヒートシンク部１６，１７の半分厚を嵌合させ押
え部材１８，１９の突起１８ａ，１９ａをヒートシンク
部１６，１７の切欠部１６ａ，１７ａに合わせた状態で
背面側からねじ２０によりベース部材１５に取付けられ
ている。

【００２８】また、ベース部材１５はホルダ部材２１に
円筒状係合部１５ｃを係合させた状態で、ねじ２２を長
穴２１ａ，２１ｂを介してねじ穴１５ｄ，１５ｅにねじ
止めすることにより固定されて光源ユニットが構成され
る。このとき、各半導体レーザアレイ１１，１２の発光
点同士の位置合せを行うためベース部材１５をホルダ部
材２１に対して円筒状係合部１５ｃの中心を回転軸（第
3の回転軸）としてγ方向の角度調整を行うと同時に、
この角度調整によっても発光点の配列方向が常に副走査
方向との平行を保てるようにヒートシンク部１６，１７
の各々の中心を回転軸（第１及び第2の回転軸）として
押え部材１８，１９を各々回動させることにより、α方
向の角度が補正自在とされている。

【００２９】カップリングレンズ１３，１４は各々その
外周をベース部材１５の半円状の取付面１５ｆ，１５ｇ
に沿わせて発光点から射出した発散ビームが平行光束と
なるよう位置決めされ接着される。

【００３０】光学ハウジングへの取付けは、取付壁２３
に形成された基準穴２３ａにホルダ部材２１の円筒部２
１ｃを係合させてねじにより固定される。

【００３１】なお、本実施の形態では、ヒートシンク部
１６，１７の中心である回転軸（第１及び第2の回転
軸）を射出軸ａ１，ａ２に、円筒状係合部１５ｃの中心
を走査光学系の光軸Ｃに、各々略一致させているが、必
ずしも一致させる必要はなく、図６に示すような関係が
維持されるよう略平行であればよい。

【００３２】図６には被走査面（感光体面等の像面）上
における半導体レーザアレイ１１，１２の各ビームスポ
ット列の配置関係を示す。図６では、半導体レーザアレ
イ１１の４個の発光点により形成されるビームスポット
を２４ａ〜２４ｄで示し、半導体レーザアレイ１２の４
個の発光点により形成されるビームスポットを２５ａ〜
２５ｄで示す。半導体レーザアレイ１１，１２において
発光点は等間隔に並んでいるため隣接するビームスポッ
ト間のピッチＰｓも均等で、本実施の形態では記録ピッ
チＰに対して１ライン置きに配列するよう副走査倍率β
が設計されている。また、各半導体レーザアレイ１１，
１２の射出軸ａ１，ａ２が主走査方向に僅かに傾斜され
ていることでビームスポット列は主走査方向に分離され
間隔ｘだけ隔てて配置され、γ方向への回転により各ビ
ームスポット列の配列を1ライン分ずらすことで各ライ
ンを走査するようにしている。

【００３３】このように、本実施の形態によれば、半導
体レーザアレイ１１，１２は各々個別にその射出軸ａ
１，ａ２と略一致させて設定された回転軸（第１及び第
２の回転軸）を有し各々の回転軸を中心として回動調整
可能に支持してなるとともに、これらの回転軸は互いに
非平行であるので、被走査面上における各半導体レーザ
アレイ１１，１２のビームスポット列を分離させること
ができ、よって、半導体レーザアレイ１１，１２毎に独
立して姿勢を保つことが可能となり組立効率が向上す
る。併せて、一対の半導体レーザアレイ１１，１２及び
カップリングレンズ１３，１４が同一のベース部材１５
上に支持されているとともに、このベース部材１５は走
査光学系２の光軸Ｃと略一致させて設定された回転軸
（第３の回転軸）を中心として回動調整可能に支持され
ているので、各半導体レーザアレイ１１，１２のビーム
スポット列間の副走査方向の相対位置の微調整が可能と
なり、ピッチ設定精度が向上する。よって、高品位な画
像記録を行わせることができる。

【００３４】本発明の第二の実施の形態を図７ないし図
１０に基づいて説明する。本実施の形態では、図２
（ｂ）方式を前提としており、基本的には、図７に示す
ように、２個の発光点３１ａ，３１ｂを有する半導体レ
ーザアレイ(発光点間隔１００μｍ)３１を用い、コリメ
ートレンズ３２の光軸Ｃを対称として主走査方向に配置
させ、光軸Ｃに垂直な面内で角度α回動させ、その副走
査方向成分ｄｓ＝ｄ・sinαにより副走査方向に正確な
所定の副走査ピッチＰｓが得られるように走査光学系が
設計されている。

【００３５】このような前提の下、本実施の形態の構成
例を図８ないし図１０により説明する。図８は本実施の
形態のマルチビーム光源装置の分解斜視図、図９はその
組立状態における縦断側面図である。本実施の形態は、
各々２個の発光点を有する２個の半導体レーザアレイ４
１，４２（第１，２の半導体レーザアレイ）を用いる４
ビーム光源装置として構成されている。

【００３６】まず、半導体レーザアレイ４１，４２は各
々ベース部材４３，４４（第１，２のベース部材）に形
成された嵌合穴４３ａ，４４ａに圧入され固定されてい
る。カップリングレンズ４５，４６（第１，２のカップ
リングレンズ）は各々その外周をベース部材４３，４４
の半円状の取付面４３ｂ，４４ｂに沿わせて各々の半導
体レーザアレイ４１，４２の２個の発光点から射出され
た発散ビームが平行光束となるよう位置決めされ接着さ
れている。

【００３７】これらのベース部材４３，４４は、中間部
材４７の主走査方向に微小に傾斜させた取付面４７ａに
各々円筒状係合部４３ｃ，４４ｃを係合穴４７ｂ，４７
ｃに係合させ、ねじ４８を各々２ヶ所ずつ穴４７ｄ，４
７ｅを介してねじ穴４３ｄ，４４ｄにねじ止めすること
により固定されている。また、中間部材４７はホルダ部
材４９にねじ５０をねじ穴４７ｆ，４７ｇにねじ止めす
ることにより固定されている。このようにして光源ユニ
ットが構成されている。ここに、ホルダ部材４９は光学
ハウジング取付壁５１に形成された基準穴５１ａに係合
し、走査光学系の光軸Ｃと同軸上に位置させて円筒部４
９ａが形成されており、この円筒部４９ａの中心を回転
軸（第３の回転軸）として回動調整自在に保持されてい
る。

【００３８】さらに、ねじりスプリング５２は基準穴５
１ａから突出してホルダ部材４９の円筒部４９ａに挿入
されその一端５２ａが止輪５３の穴５３ａに挿入される
とともにスプリング自身を圧縮させることにより止輪５
３を円筒部４９ａ外周に形成された突起部４９ｂに引っ
掛け、他端５２ｃが光学ハウジング取付壁５１の係止部
５１ｂに引っ掛けられている。これにより、ホルダ部材
４９はねじりスプリング５２の付勢力により光学ハウジ
ング取付壁５１に密着するように取付けられている。ま
た、止輪５３の立ち上げ部５３ｃがホルダ部材４９の突
起４９ｂに係止することにより、時計方向の回転付勢力
が付与されており、この付勢力に抗して調整ねじ５４が
ハウジングに固定され、ホルダ部材４９の一側に形成さ
れたレバー片４９ｃに突き当てることにより、調整ねじ
５４の送りにより円筒部４９ａの中心を回転軸としてγ
方向に回転調整自在に保持されている。

【００３９】このとき、各ベース部材４３，４４につい
ても同時に円筒状係合部４３ｃ，４４ｃの中心を回転軸
（第１、第２の回転軸）としてホルダ部材４９に対して
回動調整自在に支持させているので、上述のようにホル
ダ部材４９の回動調整によりγ調整を行っても各ベース
部材４３，４４のα方向の角度補正により各半導体レー
ザアレイ４１，４２は常に所定の角度αを保つように構
成されている。

【００４０】なお、本実施の形態でも円筒状係合部４３
ａ，４４ａの中心を射出軸ａ１、ａ２に略一致させてい
るが、必ずしも一致させる必要はなく、図１０に示すよ
うな関係が維持されるよう略平行であればよい。

【００４１】図１０には被走査面（感光体面等の像面）
上における半導体レーザアレイ４１，４２の各ビームス
ポット列の配置関係を示す。図１０では、半導体レーザ
アレイ４１の発光点により形成されるビームスポットを
５５ａ，５５ｂで示し、半導体レーザアレイ４２の発光
点により形成されるビームスポットを５６ａ，５６ｂで
示す。発光点間隔ｄは走査光学系の倍率によりビームス
ポット間隔Ｐｍに投影されるが、ビームスポット列毎に
α方向に傾けることで副走査ピッチＰに合わせることが
できる。また、各半導体レーザアレイ４１，４２の射出
軸ａ１，ａ２が主走査方向に僅かに傾斜されていること
でビームスポット列は主走査方向に分離され間隔ｘだけ
隔てて配置され、γ方向への回転することで各ビームス
ポット列の配列を2ライン分ずらし各ラインを走査する
ようにしている。

【００４２】このように、本実施の形態によれば、半導
体レーザアレイ４１及びカップリングレンズ４５が射出
軸ａ１上に設けられたベース部材４３と、半導体レーザ
アレイ４２及びカップリングレンズ４６が射出軸ａ２に
設けられたベース部材４４とを、各々射出軸ａ１，ａ２
と略一致させて設定された非平行な各々の回転軸を中心
に回動調整自在としてホルダ部材４９に支持させてなる
ので、カップリングレンズ４５，４６と発光点との配置
関係を保ったまま半導体レーザアレイ４１，４２毎のピ
ッチ調整を行うことが可能となり、ピッチ調整に伴う他
の光学性能への影響を回避し、容易、かつ、確実に調整
を行うことができ、組立効率が向上する。さらに、これ
らの一対のベース部材４３，４４を同一のホルダ部材４
９上に保持させるとともに、このホルダ部材４９を走査
光学系の光軸Ｃと略一致させて設定された回転軸を中心
として回動調整自在に設けているので、各半導体レーザ
アレイ４１，４２のビームスポット列間の副走査方向に
おける相対位置の微調整が可能となり、ピッチ設定精度
が向上し、高品位な画像記録を行わせることができる。

【００４３】本発明の第三の実施の形態を図１１に基づ
いて説明する。本実施の形態は、第一の実施の形態又は
第二の実施の形態の如く構成された光源ユニット（マル
チビーム光源装置）６１のレーザプリンタへの適用例を
示すものである。

【００４４】上述の如く構成された光源ユニット６１は
何れの実施の形態においても、図１１に示すように半導
体レーザアレイ６２，６３（１１，１２又は４１，４２
に相当する）とカップリングレンズ６４，６５（１３，
１４又は４５，４６に相当する）との光軸を射出軸ａ
１，ａ２上で一致させることで主走査方向に対称に射出
角度を持たせ、走査光学系６６中の偏向手段としてのポ
リゴンミラー６７の反射点近傍で射出軸ａ１，ａ２（従
って、第１及び第２の回転軸）が交差するように配置さ
れている。各半導体レーザアレイ６２，６３から射出さ
れた複数のレーザビームはシリンダレンズ６８を介して
ポリゴンミラー６７で一括して偏向走査され、ビーム結
像光学系を構成するｆθレンズ６９、ミラー７０及びト
ロイダルレンズ７１により被走査面としての感光体７２
上に結像され、副走査方向のピッチＰにて複数ライン同
時に書込み記録が行われる。

【００４５】従って、射出軸ａ１，ａ２（第１及び第２
の回転軸）を走査光学系６６におけるポリゴンミラー６
７の反射点近傍で交差するように設定することで、反射
点位置の差による光学性能のばらつきを抑えることがで
き、よって、高品位な画像記録を行わせることができ
る。

【００４６】なお、第一の実施の形態では、各々４個の
発光点を有する半導体レーザアレイ１１，１２を用い、
第二の実施の形態では各々２個の発光点を有する半導体
レーザアレイ４１，４２を用いたが、このような発光点
数に制約されないのはもちろんである。

【００４７】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、第１及び
第２の半導体レーザアレイを各々個別にその射出軸と略
平行に設定された第１及び第２の回転軸を中心としてベ
ース部材に回動調整自在に支持させるとともに、第１及
び第２の回転軸を互いに非平行としてなるので、各半導
体レーザアレイのビームスポット列を分離させることが
でき、半導体レーザアレイ毎に独立してその姿勢を保つ
ことが可能となり、組立効率を向上させることができ
る。

【００４８】請求項２記載の発明によれば、請求項１記
載のマルチビーム光源装置において、第1、第2の一対の
半導体レーザアレイ及びカップリングレンズを同一のベ
ース部材上に支持させるとともに、このベース部材を走
査光学系の光軸と略平行に設定された第３の回転軸を中
心としてホルダ部材に回動調整自在に保持させてなるの
で、各半導体レーザアレイのビームスポット列間の副走
査方向における相対位置の微調整が可能となり、ピッチ
設定精度が向上し、高品位な画像記録を行わせることが
できる。

【００４９】請求項３記載の発明によれば、第１及び第
２の各対毎に半導体レーザアレイ及びカップリングレン
ズをその射出軸と略平行に設定された第１及び第２の回
転軸を中心として各々回動調整自在な第１及び第２のベ
ース部材に一体に支持させるとともに、これらの第１及
び第２の回転軸を互いに非平行としてなるので、カップ
リングレンズと発光点との配置関係を保ったまま半導体
レーザアレイ毎のピッチ調整を行うことが可能となり、
ピッチ調整に伴う他の光学性能への影響を回避し、容
易、かつ、確実に調整を行うことができ、組立効率を向
上させることができる。

【００５０】請求項４記載の発明によれば、請求項３記
載のマルチビーム光源装置において、第1、第2の一対の
ベース部材を同一のホルダ部材上に保持させるととも
に、このホルダ部材を走査光学系の光軸と略平行に設定
された第３の回転軸を中心として回動調整自在に設けた
ので、各半導体レーザアレイのビームスポット列間の副
走査方向における相対位置の微調整が可能となり、ピッ
チ設定精度が向上し、高品位な画像記録を行わせること
ができる。

【００５１】請求項５記載の発明によれば、請求項１な
いし４の何れか一に記載のマルチビーム光源装置におい
て、第１及び第２の回転軸を走査光学系におけるポリゴ
ンミラー反射点近傍で交差するように設定したので、反
射点位置の差による光学性能のばらつきを抑えることが
でき、よって、高品位な画像記録を行わせることができ
る。

【００５２】請求項６記載の発明のマルチビーム走査装
置によれば、請求項１ないし５の何れか一に記載のマル
チビーム光源装置を備えるので、各光スポットの間隔の
均一なる状態で感光体等の被走査面上への光書込みを行
わせることができ、よって、高品位な画像記録を行わせ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の前提として、２つの発光点を有する半
導体レーザアレイの発光点ピッチと被走査面における副
走査ピッチとの関係を示す光学系説明図である。

【図２】その複数個の発光点の配列方式を示す説明図で
ある。

【図３】本発明の第一の実施の形態の前提とする発光点
の配列方式を示す説明図である。

【図４】本発明の第一の実施の形態のマルチビーム光源
装置を示す分解斜視図である。

【図５】その組立状態における縦断側面図である。

【図６】被走査面上でのビームスポット配列を示す説明
図である。

【図７】本発明の第二の実施の形態の前提とする発光点
の配列方式を示す説明図である。

【図８】本発明の第二の実施の形態のマルチビーム光源
装置を示す分解斜視図である。

【図９】その組立状態における縦断側面図である。

【図１０】被走査面上でのビームスポット配列を示す説
明図である。

【図１１】本発明の第三の実施の形態のレーザプリンタ
構成例を示す斜視図である。である。

【符号の説明】

１１ 第１の半導体レーザアレイ １２ 第２の半導体レーザアレイ １３ 第1のカップリングレンズ １４ 第２のカップリングレンズ １５ ベース部材 ２１ ホルダ部材 ４１ 第１の半導体レーザアレイ ４２ 第２の半導体レーザアレイ ４３ 第1のベース部材 ４４ 第2のベース部材 ４５ 第1のカップリングレンズ ４６ 第２のカップリングレンズ ４９ ホルダ部材 ６１ マルチビーム光源装置 ６２ 第１の半導体レーザアレイ ６３ 第２の半導体レーザアレイ ６４ 第1のカップリングレンズ ６５ 第２のカップリングレンズ ６６ 走査光学系 ６７ ポリゴンミラー ６９，７１ 結像光学系 ａ１ 第1の射出軸 ａ２ 第2の射出軸 Ｃ 走査光学系の光軸

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 直線上に複数個の発光点を有する第１の
   半導体レーザアレイと、 この第1の半導体レーザアレイと同一構造の第２の半導
   体レーザアレイと、 前記第１の半導体レーザアレイから射出される複数のレ
   ーザ光をカップリングする第１のカップリングレンズ
   と、 前記第２の半導体レーザアレイから射出される複数のレ
   ーザ光をカップリングする第２のカップリングレンズ
   と、 前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリン
   グレンズとを第１の射出軸上に配置させるとともに前記
   第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリングレ
   ンズとを前記第１の射出軸に対して所定角度隔てた第２
   の射出軸上に配置させてこれらの部材を一体に支持する
   ベース部材と、を備え、 前記第１の半導体レーザアレイを前記第１の射出軸に対
   して略平行に設定された第１の回転軸を中心に前記ベー
   ス部材に回動調整自在に支持させ、前記第２の半導体レ
   ーザアレイを前記第２の射出軸に対して略平行に設定さ
   れて前記第１の回転軸と非平行な第２の回転軸を中心に
   前記ベース部材に回動調整自在に支持させてなるマルチ
   ビーム光源装置。
2. 【請求項２】 前記第１及び第２の半導体レーザアレイ
   から出射される複数のレーザ光を走査して被走査面にビ
   ームスポットを形成するための走査光学系の光軸と略平
   行に設定された第３の回転軸を中心として回動調整自在
   に設けられて前記ベース部材を保持するホルダ部材を備
   える請求項１記載のマルチビーム光源装置。
3. 【請求項３】 直線上に複数個の発光点を有する第１の
   半導体レーザアレイと、 この第１の半導体レーザアレイと同一構造の第２の半導
   体レーザアレイと、 前記第１の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光
   をカップリングする第１のコリメータレンズと、 前記第２の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光
   をカップリングする第２のコリメータレンズと、 前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリン
   グレンズとを第１の射出軸上に配置させて前記第１の射
   出軸に対して略平行に設定された第１の回転軸を中心に
   一体に回動調整自在に支持する第1のベース部材と、 前記第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリン
   グレンズとを第２の射出軸上に配置させて前記第２の射
   出軸に対して略平行に設定されて前記第１の回転軸と非
   平行な第２の回転軸を中心に一体に回動調整自在に支持
   する第２のベース部材と、を備えるマルチビーム光源装
   置。
4. 【請求項４】 前記第１及び第２の半導体レーザアレイ
   から出射される複数のレーザ光を走査して被走査面にビ
   ームスポットを形成するための走査光学系の光軸と略平
   行に設定された第３の回転軸を中心として回動調整自在
   に設けられて前記第１及び第２のベース部材を保持する
   ホルダ部材を備える請求項３記載のマルチビーム光源装
   置。
5. 【請求項５】 前記第１の回転軸と前記第２の回転軸と
   は前記走査光学系におけるポリゴンミラー反射点近傍で
   交差するように設定されている請求項１ないし４の何れ
   か一に記載のマルチビーム光源装置。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５の何れか一に記載のマ
   ルチビーム光源装置と、 このマルチビーム光源装置により出力される複数のレー
   ザ光を偏向走査させる偏向手段と、この偏向手段により
   偏向走査される複数のレーザ光を被走査面上に光スポッ
   トとして結像させる結像光学系とを有する走査光学系
   と、を備えるマルチビーム走査装置。