JP2001154024A - 改善された色彩安定性を有するコレステリック層材料およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 改善された色彩安定性を有するコレステリッ
ク層材料およびその製造方法およびその使用を提供す
る。 【解決手段】 少なくとも１種の三次元に架橋し、配向
したコレステリックな層を有するコレステリックな層材
料を使用する。 【効果】 架橋したコレステリック層は、目視により認
識可能な色ずれを示さない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも１種の
三次元に架橋し、配向したコレステリック層を含む改善
された色彩安定性を有するコレステリックな層材料、そ
の製造方法およびその使用に関する。

【０００２】

【従来の技術】コレステリック層、該層から製造された
顔料ならびにコレステリック顔料を含有する組成物は、
例えば車両または車両付属品分野において、ＥＤＶ、余
暇、スポーツおよびゲーム分野において、光学素子、例
えば偏光子もしくはフィルタとして、化粧品分野におい
て、テキスタイル、皮革もしくは装飾品分野において、
贈答品において、筆記用具において、または眼鏡フレー
ムにおいて、建設分野において、家庭用品分野におい
て、あらゆる種類の印刷製品においてならびに塗料およ
びコーティングの製造において、さらに物品の偽造防止
加工において、日用品の被覆または車両の塗装のために
多種多様に使用される。

【０００３】この場合、コレステリック層ならびに顔料
および該顔料を含有している組成物は、前記の目的のた
めに使用可能であるために一連の条件を満足しなくては
ならない。一方では色の印象はできる限り優れていなく
てはならず、他方では、色の印象は外部の刺激から充分
に独立していなくてはならず、特に色の印象は広い温度
範囲および圧力範囲で、ならびに溶剤の作用に対して安
定しているべきである。さらにコレステリック層はでき
る限り薄い方がよく、該層から製造した顔料はできる限
りわずかな厚さを有しており、このことによりコストを
下げ、かつ適用を容易にする。

【０００４】ＥＰ−Ａ０８８７３９８号は、特殊なマト
リックスの開発による溶剤に対する架橋したコレステリ
ック顔料の感受性の問題に関するものであり、該マトリ
ックス中で、一般に温度および溶剤安定性でない架橋し
たコレステリック顔料は、改善された安定性を示す。

【０００５】従来技術から公知のコレステリック層を使
用する際に、温度および／または溶剤の作用の際に不十
分な色彩安定性の問題が種々に生じる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の根底に
は、充分な色彩安定性を有するコレステリックな層材料
を提供するという課題が存在する。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記課題は本発明により
意外なことに、少なくとも１種の三次元に架橋し、配向
したコレステリックな層を有するコレステリックな層材
料を提供することにより解決されるが、この場合、架橋
したコレステリック層は、目視により認識可能な色ずれ
を示さない。

【０００８】前記の安定性の基準を満足するコレステリ
ックな層材料は、温度および／または溶剤の作用下で優
れた色彩安定性を示す。同じことがこの種の層材料に由
来する製品、例えば顔料およびシートに関しても該当す
る。

【０００９】本発明による層材料および該材料に由来す
る製品は、特に： ａ）−３０℃〜＋２５０℃、特に０〜２５０℃、または
０〜２００℃の範囲での層材料の温度変化、 ｂ）８０〜１６０℃または８０〜１３０℃の範囲の温度
への加熱および同時に希釈剤、特に有機希釈剤の作用、
および／または ｃ）キシレン中８０℃で１５分間の処理および引き続き
乾燥 の際に、目視で認識可能な色ずれを示さないということ
により優れている。

【００１０】有利な実施態様によれば、その反射極大
が、例えば８０℃で１５分間のキシレン処理の後で、よ
り高いか、またはより低い波長範囲に約１０ｎｍ未満、
例えば０〜８ｎｍ、０〜５ｎｍまたは０〜２ｎｍしかシ
フトしない本発明によるコレステリックな層材料を提供
する。上記の範囲で反射極大が変化する場合、本発明の
範囲で「目視により認識可能な色ずれ」は存在しない。

【００１１】本発明によるコレステリックな層材料中
で、それぞれのコレステリック層は、少なくとも１ピッ
チの高さの、および約５μｍ以下、例えば０．５〜３μ
ｍ、特に約２μｍ以下、例えば０．５〜２μｍ、有利に
は約１μｍ以下、例えば０．５〜１μｍの平均乾燥膜厚
（乾燥させ、かつ場合により架橋した層の層厚さ）を有
する。

【００１２】複数の層が同時に存在する場合、個々の層
の厚さは同じかまたは異なっている。従ってもう１つの
対象は、同じかまたは異なった厚さおよび同じかまたは
異なった化学組成の複数の色彩安定性のコレステリック
層を有するコレステリック層材料に関する。

【００１３】本発明の対象は特に３層で構成されてお
り、かつ本発明による２つの色ずれ安定性のコレステリ
ック層の間に、透過光を部分的もしくは完全に吸収する
中間層を有するコレステリック層材料である。この場
合、吸収性の中間層は、例えばＰＣＴ／ＥＰ９８／０５
５４４号、ＰＣＴ／ＥＰ９８／０５５４５号またはＤＥ
−Ａ−１９７５７６９９号に記載されてる特性を有して
いる。前記の保護権の開示をここで明文をもって引用す
る。

【００１４】本発明のもう１つの対象は、上記の単層ま
たは多層のコレステリック層材料の粉砕により得られる
少なくとも１種の架橋し、配向したコレステリック層を
含有するコレステリック顔料である。本発明の対象は特
に５〜５０μｍの範囲の平均粒度および５μｍ以下の厚
さを有する顔料であり、これはさらに、架橋したコレス
テリック層が高い温度安定性を有していることを特徴と
する。

【００１５】該顔料は有利には例えば２０℃〜２５０℃
の広い温度範囲で色ずれを有していない。特に有利には
該顔料は、有機希釈剤、例えばトルエンもしくはキシレ
ンまたはその他の塗料技術で通例使用される希釈剤を作
用させても、させなくても、約８０℃から１６０℃また
は８０℃から１３０℃に温度が上昇する際に色ずれを示
さない。

【００１６】本発明の対象は、 ａ）少なくとも１種の架橋性物質を含有するコレステリ
ックな被覆組成物を担体上に塗布、特に流延し、かつそ
の際、配向して第一のコレステリック層を形成し、その
際、該担体は塗布するべきコレステリック層に対してほ
ぼ化学的に不活性であり、 ｂ）塗布した層を乾燥および架橋させ、その際、上記の
条件下で目視により認識可能な色ずれが観察されない条
件を選択し、かつ ｃ）場合により１種以上の別のコレステリック層を工程
ａ）により得られた層上に塗布した後で該層材料を担体
から除去することにより上記のコレステリック層材料を
製造するための方法でもある。この場合、さらなる層の
塗布、乾燥および硬化は工程ａ）およびｂ）と同様に行
う。

【００１７】本発明によれば特に、コレステリック層材
料の溶剤安定性は実質的に硬化条件により影響を受ける
が、これに対して、その他のパラメーター、例えば層厚
さ、剪断力および乾燥条件は著しく変更可能であること
が確認された。

【００１８】本発明によれば種々のパラメーターによ
り、特に照射源の出力、硬化時間（つまり照射源の照射
範囲での滞留時間）および硬化の間の層温度により硬化
条件を最適に調整することができる。

【００１９】本発明によれば硬化（例えば加熱可能なロ
ーラーによる）中の層温度を変化させることにより、新
たに塗布されたコレステリック層とその下にあるコレス
テリック層との間の付着力を適切に、ひいては要求に応
じて調整することができることが確認された。従って例
えば安定した中間層付着および担体に対してわずかな付
着を有する多層複合構造が製造可能であり、これはこの
ようにして複合構造のまま良好に担体からはく離するこ
とができる。

【００２０】有利には本発明により、その上に流延した
コレステリック層の配向を、乾燥および硬化の間に妨げ
ない担体を使用する。さらに担体が該担体上に流延さ
れ、乾燥され、かつ架橋した第一のコレステリック層に
対して、約１ｃＮより小の付着力を有していると有利で
ある。この場合、適切な担体は、プラスチック担体、金
属担体、ガラス担体またはセラミック担体から選択され
る。

【００２１】有利なプロセス変法によれば、はく離層、
例えば架橋し、有利には配向したコレステリック材料を
含むプラスチック担体を使用し、その上に第一のコレス
テリック層を流延する。その他の適切なはく離層材料
は、例えばポリアミド、ポリアクリレートおよびテフロ
ン（登録商標）である。これは、コレステリック層また
は層複合構造を担体から除去しなくてはならない場合
に、例えば層材料から顔料を製造するべき場合に、また
は偏光子複合構造を別の担体上に移動させるべき場合に
特に有利である。この場合、プラスチック担体とはく離
層との間の付着力は有利には、はく離層と第一のコレス
テリック層との間の付着力より少なくとも約２倍〜１０
倍、例えば５倍大きい。このことにより担体からのコレ
ステリック層または層複合構造の容易なはく離が促進さ
れ、その際、同時にはく離層は担体上に残留し、該担体
を次いで場合により改めて被覆することができる。

【００２２】有利には本発明による被覆組成物を、相互
に無関係に約１〜５０ｍＰａｓの範囲の粘度を有するコ
レステリック層およびはく離層のために使用する。さら
に被覆速度は約１〜８００ｍ／分の範囲である。被覆組
成物の固体含有率は、通常約３０〜７０質量％の範囲で
ある。

【００２３】有利なプロセス変法によれば、コレステリ
ック層および場合により存在するコレステリックなはく
離層のその後の架橋を放射線硬化により、特に電子線ま
たはＵＶ線により、硬化するべき層を同時に加熱しなが
ら行う。この場合、エミッタ出力は約５０〜２００ワッ
ト／ｃｍの範囲である。硬化は有利には不活性雰囲気
中、例えば窒素下で行う。

【００２４】層温度は放射線硬化の間、約６０℃よりも
高く、有利には少なくとも８０℃、有利には少なくとも
９０℃、例えば９０〜１２０℃に調整する。

【００２５】その都度最適なパラメータの組み合わせ
は、本発明による教示から出発してわずかな予備試験の
範囲で当業者により確認可能である。

【００２６】任意の実施例が示しているように、例えば
エミッタ出力が約１２０Ｗ／ｃｍ、硬化時間が１８０ミ
リセカンドおよび層温度が６０〜１００℃の範囲で、高
い溶剤安定性の層材料が得られる。

【００２７】本発明による方法の別の変法によれば、最
後に塗布したコレステリック層の上にシートを施与し、
かつ複合構造の１種以上のコレステリック層を前記のシ
ートと共に担体から除去する。

【００２８】もう１つの変法によれば、１種以上のコレ
ステリック層を圧縮空気、水ジェットまたは水蒸気で吹
き飛ばすことにより担体から除去し、かつ粉砕して顔料
にする。

【００２９】本発明の対象は、改善された色ずれ安定性
を有する少なくとも１種のコレステリックな単層または
多層の顔料を含有する組成物でもある。

【００３０】本発明のもう１つの対象は、車両または車
両付属品分野、ＥＤＶ、余暇、スポーツおよびゲーム分
野、光学素子、化粧品分野、テキスタイル、皮革もしく
は装飾品分野、贈答品、筆記用具、または眼鏡フレー
ム、建設分野、家庭用品分野、あらゆる種類の印刷製
品、塗料およびコーティングの製造における本発明によ
る層材料または顔料の使用に関する。

【００３１】本発明によるコレステリックなシートもし
くはコレステリックな顔料により達成可能な色彩効果
は、達成可能な反射波長の多様性により条件付けられて
ＵＶ領域およびＩＲ領域ならびにもちろん可視光の領域
も含む。本発明による顔料を紙幣、小切手、その他のキ
ャッシュレスな支払手段または証明書に施与する（例え
ば公知の印刷法により）か、またはこれらの中に組み込
むと、前記の物品の同一の複製を著しく困難にする。従
って本発明のもう１つの対象は、物品、特に紙幣、小切
手またはその他のキャッシュレスな支払手段または証明
書の偽造を困難にする加工のための本発明による顔料の
使用である。

【００３２】本発明による範囲で光学素子として、ネマ
チックおよび／またはコレステリックな液晶の光学的特
性を利用する全ての物品が考えられる。具体的にはこれ
は選択的にリターデイションフィルム、ノッチフィルタ
ー、ディスプレー用のカラーフィルター、偏光子、ある
いはまた装飾目的のための単なる鏡であってもよい。光
学素子の三次元的な形は平坦であってもよいが、あるい
はまた凹形もしくは凸形に湾曲していてもよい。

【００３３】本発明の対象は特に、日用品の被覆のため
の、または車両の塗装のための上記の組成物の使用でも
ある。

【００３４】有利な使用分野は、場合により担体シート
上に塗布された本発明による層材料を有する偏光子でも
ある。従って例えば互いに調整した反射極大を有するコ
レステリック層を例えば３〜２０の数で有する層材料を
有する広帯域偏光子を製造することができ、その際、該
偏光子は約２〜５０μｍの範囲の全厚さ（担体シートを
含まない）を有している。

【００３５】適用目的に応じて本発明による層材料は、
担体上に存在していても、担体からはく離されても、あ
るいは新たな担体に移されてもよい。例えば（透明な接
着層を有する）ＩＲ反射性の層複合構造をガラス板また
はプレキシガラス板上に移してもよい。

【００３６】コレステリック層の適切な組成物は、同一
出願人のＤＥ−Ａ−１９７３８３６８．８号ならびに同
第１９７３８３６９．６号に記載されている。出願の際
の開示を全ての範囲で引用する。特にＤＥ−Ａ−１９７
３８３６９．６号から、コレステリック層を製造するた
めに、希釈により流延可能にしたコレステリック混合物
を使用することが有利であることが明らかである。該層
を製造するために使用可能なコレステリックおよびネマ
チック分子は、例えばＤＥ−Ａ−４３４２２８０号、同
第１９６０２８４８号、同第１９７１３６３８号、同第
１９５３２４０８号、同第１９７０４５０６号、同第１
９６３１６５８号、同第１９７１７３７１号、同第１９
５４１８２０号、同第１９６１９４６０号、同第１９７
３５８２９号、同第１９７４４３２１号および同第１９
７４９１２３号、ＥＰ−Ａ−０３５８２０８号、ＷＯ９
７／００６００号、同第９７／４９６９４号、同第９８
／０３６１０号、同第９８／０４５４４号、同第９８／
１４４４２号、同第９８／２３５８０号および同第９８
／４７９７９号に記載されており、これらをここで明文
をもって引用する。

【００３７】有利にはコレステリック層は以下のものか
ら選択されるコレステリック混合物を硬化状態で含有し
ている： ａ）少なくとも１種のコレステリックで重合性のモノマ
ー、 ｂ）少なくとも１種の非キラルでネマチックな重合性モ
ノマーおよびキラル化合物、 ｃ）少なくとも１種のコレステリックな架橋性ポリマ
ー、 ｄ）重合性の希釈剤中のコレステリックなポリマー、ま
たは ｅ）ガラス転移温度以下への急速な冷却によりそのコレ
ステリック相を凍結することができる少なくとも１種の
コレステリックなポリマー。

【００３８】硬化によりコレステリック層中でコレステ
リックな分子の配向を固定する。複数のコレステリック
層を使用する際に、これらは同じか、または異なってい
る光学的特性を有している。これらは同じか、または異
なった波長の特別な光を反射することができる。つまり
同じか、または異なった色であることができる。最後に
挙げた場合では特に興味深い色彩効果を達成することが
できる。例えば該層は異なった方向の旋光性を有してお
り、例えば１つの層が特定の波長の光を左回りの円偏光
で反射し、これに対してその他の層は、同じ波長を右回
りの円偏光で反射する。従って有利には例えば本発明に
よる顔料を前記の有利な実施態様で含有している塗料は
特に光沢が優れている、というのも統計学的に分散した
塗料層中の顔料は入射光の方を向いているので、該塗料
は一定の波長の右回りの円偏光も左回りの円偏光も反射
し、これに対して、１つのコレステリック層のみを有す
るか、もしくは同一の円偏光の複数のコレステリック層
のみを有する顔料を含有している塗料は、左回りの円偏
光か、または右回りの円偏光を透過するからである。異
なった反射波長の複数のコレステリック層を形成するこ
とにより広帯域偏光子を製造することができる。

【００３９】複数の層は、その機械的特性に関して同じ
か、または異なっていてもよい。これらは例えば異なっ
た厚さまたは脆性を有していてもよい。

【００４０】本発明により使用可能な被覆組成物の有利
な１群（上記の群ｂ））は、ネマチック成分として少な
くとも１種の一般式Ｉ： Ｚ¹−Ｙ¹−Ａ¹−Ｙ³−Ｍ−Ｙ⁴−Ａ²−Ｙ²−Ｚ² （Ｉ） ［式中、Ｚ¹、Ｚ²は、相互に無関係に反応性で重合性の
基を有する基を表し、Ｙ¹〜Ｙ⁴は、相互に無関係に化学
的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−
Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−Ｃ
Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−または
−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、かつＲはＣ₁〜Ｃ₄−アルキ
ルを表し、Ａ¹、Ａ²は、相互に無関係に１〜３０個の炭
素原子を有するスペーサーを表し、その中で炭素鎖は場
合によりエーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基
中の硫黄もしくは隣接していないイミノ基もしくはＣ₁
〜Ｃ₄−アルキルイミノ基により中断されており、かつ
Ｍは、メソゲン基を表す］の液晶化合物を含有してい
る。

【００４１】有利には基Ｚ¹およびＺ²は、

【００４２】

【化１】

【００４３】であり、その際、基Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₄−アル
キルを表し、かつ同じかまたは異なっていてもよい。

【００４４】反応性で重合性の基から、シアネートが自
発的にシアヌレートへと三量化し、かつ従って有利であ
る。エポキシド基、チイラン基、アジリジン基、イソシ
アネート基およびイソチオシアネート基を有する化合物
は、重合のために、補足的な反応性基を有するその他の
化合物を必要とする。例えばイソシアネートをアルコー
ルと重合してウレタンに、およびアミンと重合して尿素
誘導体が得られる。同じことがチイランとアジリジンに
該当する。補足的な反応性基はこの場合、第一の化合物
と混合される第２の本発明による化合物中に存在してい
るか、またはこれらを、２つ以上の前記の補足的な基を
有する補助的な化合物により重合混合物に導入すること
ができる。前記の化合物がそれぞれこれらの反応性基を
２つ有している場合、主として熱可塑性を有する直鎖状
のポリマーが生じる。該化合物が２つより多くの反応性
基を有している場合、機械的に特に安定している架橋ポ
リマーが生じる。マレインイミド基は特にオレフィン性
化合物、例えばスチレンとのラジカル共重合のために適
切である。

【００４５】有利な重合性基Ｚ¹およびＺ²は、ラジカル
重合に到達可能な基であり、つまり特にオレフィン系不
飽和基、およびこれらの中でもＹ¹もしくはＹ²との組み
合わせで、基：

【００４６】

【化２】

【００４７】が特に重要である。

【００４８】本発明による化合物中に含有されている分
子部分Ｚ¹、Ｚ²、Ａ¹、Ａ²、ＭおよびＸは、架橋成分Ｙ
¹〜Ｙ⁴、例えば−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−
ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−
ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−また
は−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−を介して、または直接結合を介
して相互に結合している。前記の基を有するキラルで重
合性の化合物は、特に低い相転移温度および広い相範囲
の有利な特性を有しており、従って室温での適用のため
に特に適切である。このことは特にカーボネート基に該
当する。

【００４９】スペーサーＡ¹およびＡ²として、この目的
のために公知の全ての基が該当する。該スペーサーは、
通例、１〜３０個、有利には３〜１２個の炭素原子を有
しており、かつ主として直鎖状の脂肪族基からなる。こ
れらは鎖中で例えば隣接していない酸素原子もしくは硫
黄原子またはイミノ基もしくはアルキルイミノ基、例え
ばメチルイミノ基により中断されていてもよい。スペー
サー鎖の置換基としてこの場合さらにフッ素、塩素、臭
素、シアン、メチルおよびエチルが該当する。

【００５０】代表的なスペーサーは例えば次のものであ
る： −（ＣＨ₂）_p−、−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_mＣＨ₂ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＮＨＣＨ₂
ＣＨ₂−、

【００５１】

【化３】

【００５２】その際、ｍは、１〜３、ｐは、１〜１２を
表す。

【００５３】基Ｍとして全ての公知のメソゲン基を使用
することができる。特に式Ｉａ： −（−Ｔ−Ｙ⁵−）_r−Ｔ− （Ｉａ） の基が該当し、上記式中、変項は以下のものを表す：Ｔ
は、２価の飽和もしくは不飽和の同素環式基もしくは複
素環式基、Ｙ⁵は、Ｙ¹〜Ｙ⁴の定義による架橋成分、−
ＣＨ₂−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ
Ｈ−または−Ｎ＝Ｎ−、ｒは、０、１、２または３、そ
の際、基ＴおよびＹ⁵は、ｒ＞０の場合、同じか、また
は異なっていてもよい。

【００５４】有利にはｒは１または２である。

【００５５】基Ｔは、フッ素、塩素、臭素、シアン、ヒ
ドロキシまたはニトロにより置換された環系であっても
よい。有利な基Ｔは、以下のものである：

【００５６】

【化４】

【００５７】

【化５】

【００５８】メソゲン基Ｍとして例えば次のものが有利
である：

【００５９】

【化６】

【００６０】

【化７】

【００６１】以下の式のメソゲン基Ｍは、特に有利であ
る：

【００６２】

【化８】

【００６３】その際、それぞれの環は以下の基からの３
つまでの同じか、または異なった置換基を有していても
よい：Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルコキシ、
Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルコキシカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−モノア
ルキルアミノカルボニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルカルボ
ニル、Ｃ₁〜Ｃ₂₀−アルキルカルボニルオキシ、Ｃ₁〜Ｃ
₂₀−アルキルカルボニルアミノ、ホルミル、ハロゲン、
シアン、ヒドロキシまたはニトロ。

【００６４】芳香族環のために有利な置換基はフッ素、
塩素、臭素、シアン、ホルミルおよびヒドロキシ以外に
特に短鎖の脂肪族基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−
ブチルならびに上記のアルキル基を有するアルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、
アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミ
ノ基およびモノアルキルアミノカルボニル基である。

【００６５】特に有利な基Ｍの外側のベンゼン環は有利
には以下の置換基パターンを有している：

【００６６】

【化９】

【００６７】あるいはこれらはＣｌの代わりに同様に
Ｆ、Ｂｒ、ＣＨ₃、ＯＣＨ₃、ＣＨＯ、ＣＯＣＨ₃、ＯＣ
ＯＣＨ₃またはＣＮで置換されており、その際、置換基
は混合されて存在していてもよい。さらに次の構造：

【００６８】

【化１０】

【００６９】が挙げられ、その際、ｓは、２〜２０、有
利には８〜１５を表す。

【００７０】特に有利な基Ｍの平均的なベンゼン環の有
利な置換基パターンは次のものである：

【００７１】

【化１１】

【００７２】

【化１２】

【００７３】有利な本発明による化合物Ｉは、式中で基
の対Ｚ¹およびＺ²、Ｙ¹およびＹ²、Ｙ³およびＹ⁴ならび
にＡ¹およびＡ²がそれぞれ同じである化合物である。

【００７４】以下の式のメソゲン基Ｍは殊に有利であ
る：

【００７５】

【化１３】

【００７６】本発明による化合物Ｉから混合物を製造す
ることもできる。そのような混合物は多くの場合、純粋
な混合物成分に対して低下した粘度を有していてもよ
く、かつ通例、比較的低い液晶相転移温度を有している
ので、これらは部分的に室温での適用に適切である。

【００７７】本発明による化合物の混合物中で例えば
「三核」だけではなく、場合により環のところで置換さ
れた式：

【００７８】

【化１４】

【００７９】［この場合、式Ｉａ中で、Ｙ⁵は、

【００８０】

【化１５】

【００８１】Ｔは、場合により置換された３つの同じ基

【００８２】

【化１６】

【００８３】、およびｒは、２を表す］のメソゲン基Ｍ
が、分子フラグメントとして現れるのみではなく、例え
ば式：

【００８４】

【化１７】

【００８５】［この場合、式Ｉａ中で、Ｙ⁵は、化学的
な単結合、Ｔは、異なった基

【００８６】

【化１８】

【００８７】（不飽和の同素環式）および

【００８８】

【化１９】

【００８９】（飽和の複素環式）およびｒは、１を表
す］または

【００９０】

【化２０】

【００９１】［この場合、式Ｉａ中でＹ⁵は、化学的な
単結合、Ｔは、異なった基

【００９２】

【化２１】

【００９３】（不飽和の同素環式）および

【００９４】

【化２２】

【００９５】（不飽和の複素環式）およびｒは、１を表
す］の「二核」の基Ｍが現れてもよい。

【００９６】この場合、特に有利な「二核」のメソゲン
基Ｍはフラグメント：

【００９７】

【化２３】

【００９８】であり、これらは付加的にさらに例えば前
記の芳香族環のところで置換されていてもよい。

【００９９】式Ｉの化合物１種以上を含有している液晶
組成物は、付加的に１種以上のキラルな化合物を含有し
ていてもよい。このようにして特に興味深い光学的特性
を有しており、かつ例えば観察角度に依存して異なった
波長の光を反射するコレステリックな液晶相が生じる。
このような液晶組成物は特に光学素子における使用のた
めに適切である。

【０１００】キラルな成分として特に一方では大きなね
じり力を有しており、かつ他方では液晶相構造を妨げる
ことなく液晶化合物と良好に混合可能な成分が適切であ
る。

【０１０１】例えば上記の群ｂ）に記載されている混合
物中で使用する有利なキラル化合物は例えば一般式Ｉ
ｂ、Ｉｃ、Ｉｄ、Ｉｅ： （Ｚ¹−Ｙ⁵）_n−Ｘ （Ｉｂ）、（Ｚ¹−Ｙ¹−Ａ¹−
Ｙ⁵）_nＸ （Ｉｃ）、（Ｐ¹−Ｙ⁵）_nＸ （Ｉｄ）、
（Ｚ¹−Ｙ¹−Ａ¹−Ｙ³−Ｍ−Ｙ⁴）_nＸ （Ｉｅ） の化合物であり、上記式中で変項Ａ¹、Ｚ¹、Ｙ¹、Ｙ³、
Ｙ⁴、Ｙ⁵およびｎは、式Ｉに関する上記のものを表し、
Ｐ¹は、水素、Ｃ₁〜Ｃ₃₀−アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₃₀−アシ
ル、Ｃ₃〜Ｃ₈−シクロアルキルから選択された基を表
し、これらの基は場合により１〜３個のＣ₁〜Ｃ₆−アル
キルにより置換されており、かつその際、アルキル基、
アシル基およびシクロアルキル基の炭素鎖はエーテル官
能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄により、ま
たは隣接していないイミノ基もしくはＣ₁〜Ｃ₄−アルキ
ルイミノ基により中断されていてもよく、ｎは、１〜６
の数を表し、かつＸは、ｎ価のキラルな基である。

【０１０２】基Ｘは例えば：

【０１０３】

【化２４】

【０１０４】

【化２５】

【０１０５】

【化２６】

【０１０６】

【化２７】

【０１０７】であり、その際、Ｌは、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキ
ル、Ｃ₁〜Ｃ₄−アルコキシ、ハロゲン、ＣＯＯＲ、ＯＣ
ＯＲ、ＣＯＮＨＲまたはＮＨＣＯＲであり、かつＲは、
Ｃ₁〜Ｃ₄−アルキルを表す（記載した式中の末端の線は
遊離の原子価を表す）。

【０１０８】例えば

【０１０９】

【化２８】

【０１１０】は特に有利である。

【０１１１】前記の、およびその他の有利なキラル成分
は例えばＤＥ−Ａ４３４２２８０号およびドイツ特許出
願第１９５２０６６０．６号および同第１９５２０７０
４．１号で挙げられている。

【０１１２】その他の適切な基Ｘは次のものである：

【０１１３】

【化２９】

【０１１４】式中で、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ
⁷は、同じか、または異なっており、かつ水素、または
１〜１６個の炭素原子を有する不斉炭素原子を有する
か、または有していない直鎖状または分枝鎖状のアルキ
ル基を表し、その際、隣接していない、および末端にな
いＣＨ₂基の１つ以上がＯにより代えられていてもよ
く、および／または１つまたは２つのＣＨ₂基は、ＣＨ
＝ＣＨ−により代えられていてもよく、またはＲ⁴およ
びＲ⁵は、これらがオキシラン−、ジオキソラン−、テ
トラヒドロフラン−、テトラヒドロピラン−、ブチロラ
クトン−またはバレロラクトン系に結合している場合に
は、一緒に−（ＣＨ₂）₄−または−（ＣＨ₂）₅−を表し
ていてもよい。

【０１１５】特に有利なキラル成分は、以下の化合物
（Ａ）〜（Ｇ）である：

【０１１６】

【化３０】

【０１１７】

【化３１】

【０１１８】適切な糸状構造のための非限定的な例とし
て以下の式（Ｈ）および（Ｋ）の化合物を挙げることが
できる：

【０１１９】

【化３２】

【０１２０】式中で、ｎ₁およびｎ₂は、相互に無関係に
２、３、４または６を表し、その際、式（Ｋ）のモノマ
ーは、有利にはｎ₁／ｎ₂が２／３、２／４、２／６、３
／４、３／６、４／４、４／６、６／４および６／６で
ある化合物の混合物として使用する。式（Ｈ）および
（Ｋ）の化合物中で、中心のベンゼン核におけるメチル
置換基は場合により水素原子により代えられていてもよ
い。

【０１２１】本発明による化合物または液晶組成物を重
合する場合、液晶の配向状態を固定することができる。
重合は、重合性基に応じて、例えば熱的もしくは光化学
的に行うことができる。この場合、本発明による化合物
または液晶組成物と一緒にその他のモノマーも共重合す
ることができる。前記のモノマーはその他の重合可能な
液晶化合物、同様に有利に共有結合形で共重合されるキ
ラル化合物、または通常の架橋剤、例えば複数の原子価
を有するアクリレート、ビニル化合物またはエポキシド
であってもよい。重合性の液晶化合物として特にイソシ
アネート、イソチオシアネートまたはエポキシドの場
合、架橋剤は有利には複数の原子価を有するアルコール
であるので、例えばウレタンを形成することができる。
架橋剤はその量において、一方では満足のいく機械的安
定性を達成するが、しかし他方では液晶相の挙動に影響
を与えないように重合比に合わせて調整しなくてはなら
ない。従って架橋剤の量はポリマーの特殊な適用に依存
する。顔料の製造のためには比較的大量の架橋剤が有利
であり、熱可塑性層の製造のため、または例えばディス
プレイ用の配向層のためには、比較的少量の架橋剤が必
要とされる。架橋剤の量は、若干の予備試験により確認
することができる。

【０１２２】本発明による化合物または液晶組成物から
製造される重合生成物のもう１つの変更は、ポリマー助
剤を重合前に添加することにより可能である。そのよう
な助剤は、有利には出発混合物、あるいはまた出発混合
物と相容性の有機溶剤中で可溶性であるとよい。このよ
うなポリマー助剤の一般的な代表例は、例えばポリエス
テル、セルロースエステル、ポリウレタン、ならびにポ
リエーテル−もしくはポリエステル変性された、あるい
はまた変性されていないシリコーンである。所望の目的
のために場合により添加するポリマー助剤の量、その化
学的性質ならびにできれば溶剤の量および種類は、通
例、当業者に公知であるか、または同様に実験により若
干の予備試験により確認することができる。

【０１２３】式Ｉａ〜Ｉｅの化合物以外に、共有結合で
はない形でポリマー架橋に組み込まれるさらに別の化合
物を混合することができる。これは例えば市販のネマチ
ック液晶であってもよい。

【０１２４】その他の添加剤は顔料、着色剤ならびに充
填剤であってもよい。

【０１２５】顔料の場合、これは無機化合物、例えば酸
化鉄、酸化チタンおよびカーボンブラックであってもよ
く、有機化合物の場合、例えばモノアゾ顔料、モノアゾ
染料ならびにこれらの金属塩のクラスからの顔料もしく
は染料、ジスアゾ顔料、縮合したジスアゾ顔料、イソイ
ンドリン誘導体、ナフタリン−またはペリレンテトラカ
ルボン酸の誘導体、アントラキノン顔料、チオインジゴ
誘導体、アゾメチン誘導体、キナクリドン、ジオキサジ
ン、ピラゾロキナゾロン、フタロシアニン顔料または塩
基性の染料、例えばトリアリールメタン染料およびこれ
らの塩であってもよい。

【０１２６】塗布前に液晶材料を易揮発性の溶剤中に溶
解させ、かつ場合により必要な添加剤と組み合わせる。
添加剤として重合抑制剤もしくは重合開始剤、流展剤、
脱気剤、付着剤、結合剤、分散剤などを使用することが
できる。

【０１２７】コレステリック相ならびに場合により存在
するはく離層は、１つの、有利には可動式の担体上に、
場合により反応性で流延可能なコレステリック混合物の
相を、有利には流延により塗布し、かつ固体のコレステ
リック層を形成させることにより製造する。有利には異
方性の相の反応性で流延可能なコレステリック混合物を
塗布する。有利な１実施態様では、反応性で流延可能な
コレステリック混合物を流延前に希釈し、かつ固体のコ
レステリック層を場合により希釈剤の除去下（つまりそ
の間もしくはその後で）形成させる。固体のコレステリ
ック層の形成は、架橋により、重合により、またはガラ
ス転移温度以下への急冷により（コレステリックな相の
凍結）行い、その際、ポリマー化合物の共有結合形の結
合の架橋および重合とは、ポリマーへのモノマー化合物
の共有結合と理解する。硬化とは架橋、重合またはコレ
ステリック層の凍結と解釈する。本発明の範囲では混合
物中に含有されている化合物の少なくとも１種が共有結
合の形成のための能力がある場合に該混合物を反応性と
称する。

【０１２８】可動式の担体は有利には帯状であり、かつ
例えば帯状の金属−、紙−またはプラスチックシートか
らなる。コレステリック混合物は、それぞれ塗布するべ
き混合物の全質量に対して有利には約５〜９５質量％、
特に約３０〜８０質量％、特に約４０〜７０質量％、殊
に有利には約５５〜６０質量％の希釈剤の割合で塗布す
る。

【０１２９】本発明による方法で使用可能な希釈剤には
例えば直鎖状または分枝鎖状のエステル、特に酢酸エス
テル、例えばエチルアセテートおよびブチルアセテー
ト、環式エーテルおよびエステル、アルコール、ラクト
ン、脂肪族および芳香族炭化水素、例えばトルエン、キ
シレンおよびシクロヘキサン、ならびにケトン、アミ
ド、Ｎ−アルキルピロリドン、特にＮ−メチルピロリド
ン、および特にテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキ
サンおよびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）である。１４
０℃よりも低い沸点を有する有機希釈剤は有利である。

【０１３０】適切な希釈剤はさらに例えばエーテルおよ
び環式エーテル、例えばテトラヒドロフランまたはジオ
キサン、塩素化した炭化水素、例えばジクロロメタン、
１，１，２，２−テトラクロロエタン、１−クロロナフ
タリン、クロロベンゼンまたは１，２−ジクロロベンゼ
ンである。これらの希釈剤は特にポリエステルおよびポ
リカーボネートにとって適切である。セルロース誘導体
にとって適切な希釈剤は例えばエーテル、例えばジオキ
サンまたはケトン、例えばアセトンである。群ｄ）のポ
リマーとしてコポリイソシアネートを使用する場合、例
えばＵＳ−Ａ−０８，８３４，７４５号に記載されてい
る重合性の希釈剤を使用することは有意義である。この
ような重合性の希釈剤は例えば次のものである：α，β
−不飽和のモノカルボン酸もしくはジカルボン酸、特に
Ｃ₃〜Ｃ₆−モノカルボン酸もしくはジカルボン酸と、Ｃ
₁〜Ｃ₁₂−アルカノール、Ｃ₂〜Ｃ₁₂−アルカンジオール
またはこれらのＣ₁〜Ｃ₆−アルキルエーテルおよびフェ
ニルエーテルのエステル、例えばアクリレートおよびメ
タクリレート、ヒドロキシエチル−もしくはヒドロキシ
プロピルアクリレートもしくは−メタクリレートならび
に２−エトキシエチルアクリレートまたは−メタクリレ
ート、ビニル−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アルキルエーテル、例えば
ビニルエチル−、ビニルヘキシル−またはビニルオクチ
ルエーテル、Ｃ₁〜Ｃ₁₂−カルボン酸のビニルエステ
ル、例えばビニルアセテート、ビニルプロピオネート、
ビニルラウレート、Ｃ₃〜Ｃ₉−エポキシド、例えば１，
２−ブチレンオキシド、スチレンオキシド、Ｎ−ビニル
ピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルホ
ルムアミド、ビニル芳香族化合物、例えばスチレン、α
−メチルスチレン、クロロスチレンおよび２つ以上の架
橋性基を有する化合物、例えばジオール（ポリエチレン
グリコールを含む）とアクリル酸もしくはメタクリル酸
のジエステルまたはジビニルベンゼン。

【０１３１】有利な重合性の希釈剤の例は、２−エトキ
シエチルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールジメタクリレート、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
トおよびテトラエチレングリコールジメタクリレートで
ある。特に有利な重合性の希釈剤はスチレンである。

【０１３２】混合物もまた少量で、重合性の希釈剤を不
活性希釈剤に加えて含有していてもよい。添加可能な有
利な重合性の溶剤は、アクリレート、特に高官能性のア
クリレート、例えばビス−、トリス−またはテトラアク
リレート、特に有利には高沸点のオリゴアクリレートで
ある。有利な添加量は、混合物の全質量に対して約５質
量％である。

【０１３３】場合により水もまた希釈剤に添加すること
ができ、あるいは単独の希釈剤として使用することもで
きる。

【０１３４】架橋性または重合性の混合物は、光化学的
な重合のために市販されている光重合開始剤を含有して
いてもよい。電子線による硬化のためにこれらは不要で
ある。適切な光重合開始剤は例えばイソブチル−ベンゾ
インエーテル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニル−ホスフィンオキシド、１−ヒドロキシシクロヘ
キシル−フェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−フラン−１
−オン、ベンゾフェノンおよび１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトンの混合物、２，２−ジメトキシ−
２−フェニルアセトフェノン、過フッ化ジフェニルチタ
ノセン、２−メチル−１−（４−［メチルチオ］フェニ
ル）−２−（４−モルホリニル）−１−プロパン、２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１
−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２
−ヒドロキシ−２−プロピルケトン、２，２−ジエトキ
シアセトフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチルジフ
ェニル−スルフィド、エチル−４−（ジメチルアミノ）
ベンゾエート、２−イソプロピルチオキサントンおよび
４−イソプロピル−チオキサントンの混合物、２−（ジ
メチルアミノ）エチルベンゾエート、ｄ，ｌ−カンファ
ーキノン、エチル−ｄ，ｌ−カンファーキノン、ベンゾ
フェノンおよび４−メチルベンゾフェノンの混合物、ベ
ンゾフェノン、４，４′−ビスジメチルアミン−ベンゾ
フェノン、（η₅−シクロペンタジエニル）（η₆−イソ
プロピルフェニル）−鉄（ＩＩ）−ヘキサフルオロ−ホ
スフェート、トリフェニルスルホニウム−ヘキサフルオ
ロホスフェートまたはトリフェニルスルホニウム塩の混
合物、ならびにブタンジオールジアクリレート、ジプロ
ピレングリコールジアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、４−（１，１−ジメチルエチル）シクロ
ヘキシルアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレートおよびトリプロピレングリコールジアクリレ
ートである。

【０１３５】顔料層の光沢は、少量の適切な流展剤の添
加により向上することができる。例えば使用されるコレ
ステリック層の量に対して約０．００５〜１質量％、特
に０．０１〜０．５質量％を使用することができる。適
切な流展剤は例えばグリコール、シリコーンオイルおよ
び特にアクリレートポリマー、例えばＢｙｋ−Ｃｈｅｍ
ｉｅ社から商品名Ｂｙｋ３６１もしくはＢｙｋ３５８で
市販されているアクリレートコポリマーおよびＴｅｇｏ
社から商品名Ｔｅｇｏ ｆｌｏｗ ＺＦＳ ４６０で市
販されている変性されたシリコーン不含のアクリレート
ポリマーである。

【０１３６】場合により重合性または架橋性の混合物
は、ＵＶおよび天候の影響に対する安定剤も含有してい
る。このために例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノンの誘導体、２−シアン−３，３−ジフェニルアクリ
レートの誘導体、２，２′，４，４′−テトラヒドロベ
ンゾフェノンの誘導体、オルトヒドロキシフェニルベン
ゾトリアゾールの誘導体、サリチル酸エステル、オルト
ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンまたは立体障害ア
ミンが適切である。これらの物質を単独で、または有利
には混合物の形で使用することができる。

【０１３７】流延可能な反応性のコレステリック混合物
は、２３℃で測定して有利には約０．１〜５０ｍＰａ
ｓ、特に約１〜１０ｍＰａｓの範囲の粘度を有してい
る。

【０１３８】特に有利には約１〜８００ｍ／分、特に約
５〜１００ｍ／分の速度でコレステリック混合物を担体
上に塗布する。

【０１３９】本方法の有利な１実施態様では、該混合物
をロールコーター、リバースロールコーター、ナイフリ
バースロールコーター、スロットダイ、キスコーターを
用いて、または特に押出コーター、ドクターコーターま
たはナイフコーターを用いて、殊に有利にはドクターコ
ーターまたはナイフコーターを用いて支持体上に塗布す
る。

【０１４０】有利には、該混合物を塗布する際に高い剪
断勾配をかける被覆装置を用いて該混合物を塗布する。
剪断勾配に影響を与えるための措置は、被覆装置に通じ
た当業者には慣用のものである。

【０１４１】有利には、その被覆ギャップ幅が約２〜５
０μｍ、特に約４〜１５μｍの範囲である被覆装置を使
用する。さらに約０．０１〜０．７バール、有利には
０．０５〜０．３バールの被覆過剰圧力で作業すること
は有利である。

【０１４２】コレステリック層を製造するために特に適
切な装置は、ナイフコーターを有する被覆装置であり、
該装置を用いてコレステリック混合物を、極めて高い精
度で回転するローラーにより案内される担体シート上に
塗布することができる。該被覆ナイフは精密キャリッジ
を装備しているので、担体シートに対して規定のギャッ
プを正確に調整することができる。

【０１４３】塗布された層は、乾燥装置、例えば循環空
気乾燥機により乾燥させ、かつ引き続き、または乾燥の
代わりに、熱的に、ＵＶ線により、または電子線により
重合させるか、もしくは架橋させることができ、その
際、ＵＶ線によるか、または電子線による硬化は有利で
ある。

【０１４４】塗布した層は有利には、塗布した層の乾燥
質量に対して揮発性希釈剤の残留量が１質量％よりも少
なくなるまで乾燥させる。乾燥は、有利には２０〜１０
０℃の範囲の温度で、約１〜１２０秒の時間にわたって
行う。この場合、最適な乾燥条件はそれぞれ使用される
層厚さおよび被覆速度に合わせて適合させる。こうして
例えば平均乾燥膜厚０．２〜１μｍを有する硬化したコ
レステリック層が得られる。最低乾燥膜厚は、ピッチの
高さ、つまり反射波長対屈折率の比率に相応する。

【０１４５】本発明により製造したコレステリックな層
は、５０ｎｍ以下、例えば４０、３０、２０または１０
ｎｍより小さい平均層厚さの変動を有し、このことによ
りコレステリック層の高い色彩安定性が得られる。平均
層厚さの変動は、容易な方法で、例えば薄片を用いて顕
微鏡により測定することができる。適切な測定方法は例
えばＥＰ−Ａ−０５６６１００号に記載されている方法
に準拠して実施することができる。

【０１４６】はく離層のため、ならびにコレステリック
層のための結合剤として、モノマー薬剤および該モノマ
ーとポリマー結合剤との混合物もまた使用することがで
きる。モノマー薬剤として有利には、２つ以上の架橋性
基、例えばアクリル基、メタクリル基、α−クロロアク
リル基、ビニル基、ビニルエーテル基、エポキシド基、
シアネート基、イソシアネート基またはイソチオシアネ
ート基を有するものが該当する。特に有利にはアクリル
基、メタクリル基またはビニルエーテル基である。２つ
の架橋性基を有するモノマー薬剤は例えばジオール、例
えばプロパンジオール、ブタンジオール、ヘキサンジオ
ール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコールまたはテトラプロピレングリコー
ルのジアクリレート、ジビニルエーテルまたはジメタク
リレートである。

【０１４７】３つの架橋性基を有するモノマー薬剤は例
えばトリオール、例えばトリメチロールプロパン、１〜
２０個のエチレンオキシド単位を有するエトキシル化ト
リメチロールプロパン、１〜２０個のプロピレンオキシ
ド単位を有するプロポキシル化トリメチロールプロパ
ン、混合されたエトキシル化およびプロポキシル化トリ
メチロールプロパン（その際、エチレンオキシド単位と
プロピレンオキシド単位との合計は１〜２０である）の
トリアクリレート、トリビニルエーテルまたはトリメタ
クリレートである。３つの架橋性基を有するモノマー薬
剤は、例えばグリセリン、１〜２０個のエチレンオキシ
ド単位を有するエトキシル化グリセリン、１〜２０個の
プロピレンオキシド単位を有するプロポキシル化グリセ
リン、混合されたエトキシル化およびプロポキシル化グ
リセリン（その際、エチレンオキシド単位とプロピレン
オキシド単位との合計は１〜２０個である）のトリアク
リレート、トリビニルエーテルまたはトリメタクリレー
トでもある。

【０１４８】４つの架橋性基を有するモノマー薬剤は、
例えばテトラオール、例えばビス−トリメチロールプロ
パン、１〜２０個のエチレンオキシド単位を有するエト
キシル化ビス−トリメチロールプロパン、１〜２０個の
プロピレンオキシド単位を有するプロポキシル化ビス−
トリメチロールプロパン、混合されたエトキシル化およ
びプロポキシル化ビス−トリメチロールプロパン（その
際、エチレンオキシド単位とプロピレンオキシド単位と
の合計は１〜２０である）のテトラアクリレート、テト
ラビニルエーテルまたはテトラメタクリレートである。
４つの架橋性基を有するモノマー薬剤は、例えばテトラ
オール、例えばペンタエリトリトール、１〜２０個のエ
チレンオキシド単位を有するエトキシル化ペンタエリト
リトール、１〜２０個のプロピレンオキシド単位を有す
るプロポキシル化ペンタエリトリトール、混合されたエ
トキシル化およびプロポキシル化ペンタエリトリトール
（その際、エチレンオキシド単位とプロピレンオキシド
単位との合計は１〜２０である）のテトラアクリレー
ト、テトラビニルエーテルまたはテトラメタクリレート
である。

【０１４９】空気中での架橋または重合の際の反応性を
向上させるために、結合剤およびモノマー薬剤は、第一
級または第二級アミンを０．１〜１０％含有していても
よい。適切なアミンのための例は、エタノールアミン、
ジエタノールアミンまたはジブチルアミンである。

【０１５０】顔料含有の組成物の製造は、当業界で公知
の通例の分散法により、および希釈剤、分散剤、光重合
開始剤および場合によりその他の添加剤の使用下に行う
ことができる。

【０１５１】希釈剤として水または有機液体またはこれ
らの混合物を使用することができ、その際、有機液体が
有利である。特に有利には１４０℃を下回る沸点を有す
る有機液体、特にエーテル、例えばテトラヒドロフラ
ン、ケトン、例えばエチルメチルケトンおよびエステ
ル、例えばブチルアセテートである。

【０１５２】分散剤として、低分子量の分散剤、例えば
ステアリン酸またはポリマー分散剤を使用することがで
きる。適切なポリマー分散剤または分散樹脂は、当業者
に公知である。特に組み込まれた官能基を有するか、も
しくは有していないスルホネート基、ホスフェート基、
ホスホネート基またはカルボキシル基を有するポリウレ
タン、カルボキシル基を有する塩化ビニルコポリマー、
ポリイミンポリエステルまたはポリエーテルアクリレー
トが挙げられる。

【０１５３】架橋性もしくは重合性の顔料含有組成物を
製造するために、光化学重合用に市販されている光重合
開始剤、例えばコレステリック混合物の光化学重合のた
めに上に記載した光重合開始剤を使用することができ
る。

【０１５４】本発明による層材料および顔料は、基本的
に以下の層の順序を有する： １）場合により第一の担体、 ２）場合により１つのはく離層、 ３）少なくとも１つのコレステリックな色彩効果層、 ４）場合により透過光を部分的もしくは完全に吸収する
層、 ５）場合により後からコレステリック層上に例えば貼り
合わせにより施与した第二の担体。

【０１５５】担体として有利には公知のポリエステル、
例えばポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン
ナフタレートならびにポリオレフィン、セルローストリ
アセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルホン、アラミドまたは
芳香族ポリアミドからなる、有利には熱可塑性のフィル
ムを使用する。担体の厚さは、有利には約５〜１００μ
ｍ、特に約１０〜２０μｍである。担体は被覆前にコロ
ナ放電処理、プラズマ処理、わずかな接着剤処理、熱処
理、ダスト除去処理などを行ってもよい。担体は、有利
には、０．０３μｍ以下、特に０．０２μｍ以下、特に
有利には０．０１μｍ以下の平均中心線表面粗さを有す
る。担体の表面の粗さのプロフィールは、層担体にその
製造の際に添加する充填剤により変化させることができ
る。適切な充填剤の例は、Ｃａ、ＳｉおよびＴｉの酸化
物および炭酸塩、ならびにアクリル物質の微細な有機粉
末である。

【０１５６】該担体は、金属化したシートまたは有利に
は研磨した金属帯状物であってもよく、これは例えばエ
ンドレスベルトとして形成されていてもよい。

【０１５７】本発明によるコレステリックな層材料を製
造するための方法は、有利には以下のように実施する： ａ）第一工程で、はく離層を層担体上に上記の被覆装置
を用いて塗布し、乾燥させ、かつ硬化させる。前記はく
離層の層厚さは、約０．５〜２０μｍ、特に約０．５〜
１０μｍ、特に有利には約０．５〜３μｍである。はく
離層は、コレステリック層であってもよく、または公知
の方法により硬化させるか、もしくは架橋させる結合剤
を有する結合剤含有層であってもよい。はく離層のため
の流延可能な混合物は、２３℃で測定して有利には約１
〜５００ｍＰａｓ、特に約１０〜１００ｍＰａｓの範囲
の粘度を有する。特に有利には該混合物を毎分約１〜８
００メートル、特に毎分約５〜１００メートルの速度で
層担体上に施与する。硬化もしくは架橋は、有利には電
子線もしくはＵＶ線により行う。

【０１５８】担体上のはく離層の付着力は、少なくとも
１ｃＮ、有利には少なくとも３ｃＮおよび特に有利には
少なくとも１０ｃＮであり、これは架橋の際の温度およ
び照射強度の調整により調整可能である。ＵＶ硬化の場
合、硬化させるべき層の温度は少なくとも８０℃、有利
には少なくとも９０℃、エミッタ出力約５０〜２００ワ
ット／ｃｍで照射の時間は５〜５００ｍｓの範囲であ
る。

【０１５９】高い付着力の調整は、２つの利点と結びつ
いている：担体またははく離層の成分の、その上に存在
するコレステリック層への有害な拡散が生じない、担体
上に残っているはく離層からコレステリック層を離層し
た後で該担体を別の被覆プロセスで使用することができ
る。

【０１６０】ｂ）引き続き第一のコレステリック層を、
所望のコレステリック層または−混合物ではく離層上に
塗布し、乾燥させ、かつ硬化させる。コレステリック層
の製造のために使用される被覆組成物は有利には例えば
はく離層のための被覆組成物と比較可能な、または同一
の組成を有する。前記の層の乾燥層厚さは例えば約０．
２〜１μｍの範囲であり、最低層厚さはピッチの高さに
相応する。

【０１６１】ｃ）次の工程で場合により第二のコレステ
リック層を第一のコレステリック層の上に塗布し、その
際、層厚さをｂ）においてと同様に測定し、次いでｂ）
においてと同様に乾燥させ、かつ硬化させる。流延工程
は有利にはｂ）の製造と同様に行う。このようにして任
意の数の別のコレステリック層を同様に塗布する。

【０１６２】コレステリック層の硬化もしくは架橋は、
有利にははく離層の場合と同じ条件下で実施する。この
場合、それぞれの下の層、つまり例えばはく離層または
その他のコレステリック層の上のそれぞれのコレステリ
ック層の付着のために、１ｃＮより小の範囲、有利には
０．１〜０．８ｃＮの範囲の値が存在する。このことに
よりコレステリック層は、意外にも問題なくはく離層か
ら、および場合により相互に分離することができる。照
射強度および／または温度の変更により、コレステリッ
ク層の付着は互いに要求に応じて調整することができ
る。

【０１６３】ｄ）引き続きコレステリック層を担体層か
らはく離し、かつさらに加工することができる。

【０１６４】第一のはく離層からのコレステリックな多
層構造のはく離は、例えば該複合構造を、直径の小さい
リバースロールを介して案内することにより行う。その
結果、架橋したコレステリック材料ははく離層から離層
する。別の公知法、例えば薄刃を用いた層担体のはく
離、エアーナイフを用いて、層複合構造のスクラッチお
よび引き続き圧縮空気、水流または蒸気流を用いたその
後の吹き飛ばし、超音波、機械的除去、例えばナイフは
く離またはこれらの組み合わせも同様に適切である。

【０１６５】こうして担体を有していないコレステリッ
クな多層材料を場合により所望の粒度に粉砕して多層顔
料に加工することができる。これは例えばユニバーサル
ミル中での粉砕により行うことができる。粉砕した顔料
を引き続き粒度分布を狭くするために、例えばふるい分
け工程により分級することができる。

【０１６６】本発明による層材料の色ずれ安定性を例え
ば以下のように測定することができる：例えば層担体、
はく離層およびその上に被覆したコレステリック層から
なる、被覆した試験体の材料片を８０℃に加温したキシ
レン浴中で１５分間処理し、かつ引き続き乾燥させる
が、これは例えば約８０℃で１時間行うことができる。
その後、こうして処理した試験体の反射極大を公知の光
学的方法を用いて未処理の試験体と比較して測定し、か
つここから色ずれを算出する。こうして測定した前記の
色ずれが最大で約５〜１０ｎｍ、有利には３ｎｍより小
である場合に、本発明によるコレステリック層の充分な
溶剤安定性または温度安定性が得られることが判明し
た。特に前記の条件下で通例の塗料組成物中で本発明に
よるコレステリックな顔料では、適用温度８０℃〜１３
０℃で目視により認識可能な色の違いは確認されなかっ
た。

【０１６７】本発明を添付の図面に関連させて詳細に説
明する。その際、図１は、層担体１、その上に塗布した
はく離層２ならびにその上に被覆したコレステリック層
３〜８からなる本発明による層の組み合わせの略図を表
す。

【０１６８】図２〜５は、付着力の測定を示す。平坦な
金属板１７上に長さ約５ｃｍの接着テープ１８を１つ固
定する。接着テープ１８としてその都度、ＰＥＴ−対照
シートを用いて、それ以外は同一の測定条件で約７．３
〜７．９ｃＮ、特に約７．６ｃＮの付着力を生じる市販
の接着テープを使用することができる。ＰＥＴ対照シー
トとしてここでは帝人社のＰＥＴシート、タイプＥ２Ｒ
を使用するが、これは厚さ９μｍ、幅６．３５ｍｍ、Ｄ
ＩＮ４７６８による表面粗さ：Ｒｚ＝０．８６μｍ、Ｄ
ＩＮ４７６８／１により：Ｒａ＝０．０１２μｍ、ＥＰ
−Ｂ−００３２７１０号により（干渉対比法(interfere
nce contrast method)）：７５〜１２５ｎｍである。接
着層は上を向いており、かつ金属板の方を向いていな
い。層担体１およびコレステリック層２からなる測定す
るべき複合構造を、コレステリック層２が図２に記載さ
れているように接着テープ１８の接着層と接触するよう
に塗布する。次いで該複合構造の自由な末端を、金属板
１７の平面で１６０℃の角度を形成するように曲げる。
毎秒０．１ｍｍの一定の速度で自由なテープ末端を接着
したテープの末端に対して矢印の方向に引っ張り、その
際、テープ中の張力は、位置Ｃでの層複合構造が亀裂す
るまで増加する（図３）。図５には、力の推移が記載さ
れており、かつ点Ａは、層複合構造の亀裂ピークであ
る。その後の測定の経過において、担体１に対するコレ
ステリック層２の付着強度を、図４に記載されているよ
うに測定した。力の表である図５では点Ｂは、担体上で
のコレステリック層の付着強度を意味する。

【０１６９】層複合構造中での引っ張り強さを解像度の
高いセンサでとらえ、かつはく離力としてｃＮによりｙ
−Ｔ−プロッターで記録した。

【０１７０】図６は、色ずれと種々の硬化条件との関係
を示している。

【０１７１】

【実施例】例１：コレステリックな層材料の製造 ａ）コレステリックなはく離層の製造 ドイツ特許出願書類整理記号第１９７３８３６９．６号
に詳細に記載されている被覆装置を用いて、コレステリ
ックス混合物(Cholesterenmischung)（式（Ｋ，ｎ＝
４）により記載されるネマチック成分９３．２％および
式（Ｄ）により記載されるキラル成分３．７％）４５
部、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ^(R)９０７（チバガ
イギー社製） ３部、Ｂｙｋ ３６１（Ｂｙｋ社製）
０．１部およびメチルエチルケトン５５部からなる混合
物を厚さ１５μｍのポリエステルシート上に塗布速度１
０ｍ／分で施与した。流延用の混合物は６ｍＰａｓの粘
度を有していた。次いで被覆したシートを、６５℃に温
度調節した乾燥路へ案内する。引き続き物理的に乾燥さ
せた層をインラインでＵＶ光を用いた照射により作用時
間１２０ｍｓで窒素雰囲気下に硬化させる。このために
層複合構造は担体側で、市販のＵＶ照射装置（ランプ出
力１２０ワット／分）の範囲の一部上で向かい合わせに
配置されていた９５℃に温度調節したローラーにより案
内する。被覆したシートをスプールに巻き取る。コレス
テリック層は厚さ３μｍを有しており、かつ層平面に対
して垂直に、５０５ｎｍの波長で反射の極大を有する光
を反射する。目視で観察すると、該層は、黒色の背景の
上で垂直に仰ぎ見た場合に緑色に見え、該層を斜めに見
ると青色へ色彩が変化する。担体上での付着力は＞７．
６ｃＮである。

【０１７２】ｂ）第一のコレステリックのトップコート
の製造 ａ）に記載したとおりに実施したが、ただしコレステリ
ック混合物にメチルエチルケトン８０部を添加した。そ
の後、粘度は２３℃で測定して３ｍＰａｓであった。塗
布速度は２０ｍ／分であり、塗布溶液を、乾燥膜厚が
０．８μｍに調整されるようにはく離層の上に塗布し
た。乾燥条件および硬化条件は担体層の製造の際の同様
であった。はく離層上での付着力は０．８ｃＮであっ
た。

【０１７３】ｃ）第二のコレステリックのトップコート
の製造 全てのパラメーターをｂ）と同様に調整したが、その
際、こうして製造した層を第一のコレステリック層の上
に塗布した。第一のコレステリック層の上での付着力は
１．５ｃＮであった。

【０１７４】例２：コレステリックなエフェクトピグメ
ントの製造 ａ）担体シートの２層の複合構造の除去 例１により製造した、担体に施与した２層の複合構造
を、該複合構造をかみそりの刃で帯状シートの方向に対
して斜めに傷を付け、かつ次いでノズルから押し出され
る圧縮空気で吹き飛ばしてポリエステル担体シートから
除去する。その際、被覆したシートを連続的にノズルに
通過させ、かつ吹き飛ばした、フレークの形の２層複合
構造を回収する。２層フレークは、厚さ１．６μｍであ
り、かつフレークを垂直に仰ぎ見ると両側に力強い緑色
を示し、該フレークを斜めに見ると青色へ色彩が変化す
る。

【０１７５】ｂ）顔料への２層フレークの粉砕 ａ）に記載したように製造したコレステリックスフレー
ク１０ｇを塩化ナトリウム１００ｇと混合し、かつ衝撃
ナイフミル(Schlagmessermuehle)中で２分間、６回粉砕
する。粉砕後に塩を水で洗い出し、かつ顔料を単離し
た。こうして製造した顔料は、２層複合構造の相互付着
が比較的わずかであるために、粉砕工程後に厚さ８００
ｎｍを有しており、かつ顕著な光沢を示す。

【０１７６】例３ 例１と同様に実施したが、しかし１つのコレステリック
層をはく離層の上に施与したのみである（付着力０．６
ｃＮ）。

【０１７７】例４ 例１と同様に実施したが、しかし５つのコレステリック
層を順次施与した（５つの層の付着力はそれぞれ０．６
ｃＮ）。

【０１７８】例５ 例３と同様に実施したが、しかしコレステリック層は乾
燥膜厚３．５μｍで施与した（付着力０．８ｃＮ）。

【０１７９】比較例１ 例３と同様に実施したが、しかしコレステリック層の架
橋を２３℃で実施した。

【０１８０】比較例２ 例３と同様に実施したが、しかしコレステリック層の架
橋を６０℃で実施した。

【０１８１】以下の表は、実施例ならびに比較例により
得られた層試験体の、キシレン試験後の色ずれおよび光
沢に関する結果を示す。

【０１８２】上にそれぞれ記載した付着力値は、担体層
上のコレステリック層の付着に該当する。層担体上の担
体層の付着力は、全ての実施例ならびに比較例において
８．６ｃＮより大であった。

【０１８３】

【表１】

【０１８４】例１〜４と同様にＵＶ硬化温度を、９０℃
ではなく１００℃で実施し、従って付着、つまりはく離
層からのコレステリック層のはく離ならびに光沢および
色ずれに関して同様に極めて良好な結果が達成された。

【０１８５】例６ 式（Ｋ，ｎ＝４）のネマチック化合物１００ｇを、式
（Ｄ）のキラルな化合物３．２５ｇ、テトラヒドロフラ
ン１０３．２５ｇ、テトラヒドロフラン中Ｂｙｋ３６１
の１％溶液５ｇならびにＩｒｇａｃｕｒｅ １８４ ２
ｇと共に攪拌して清澄な溶液が得られた。前記混合物を
ナイフコーターを用いて塗布過剰圧力０．２バールで厚
さ１４μｍのＰＥＴ層担体上に乾燥膜厚２．５μｍで被
覆した。塗布装置に続く乾燥帯域での滞留時間は８５℃
で２４ｓであった。塗布速度は１０ｍ／分であった。架
橋はＵＶランプを用いて出力１２０Ｗ／ｃｍで窒素雰囲
気下に１００℃で行った。

【０１８６】こうして得られた層は、黒色の支持体の上
で深赤色で光沢のある印象を生じ、斜めから見ると黒色
への著しい角度依存性を有する。

【０１８７】比較例３ａ 例６においてと同様に実施したが、しかし架橋の際の温
度は６０℃であった。

【０１８８】比較例３ｂ 例６においてと同様に実施したが、しかし架橋温度は２
５℃であった。

【０１８９】架橋した層の耐溶剤性を試験するために、
その都度２×５ｃｍの面積を有する試験ストリップを８
０℃に昇温したキシレン溶液中で１５分間浸漬し、引き
続き８０℃で６０分間乾燥させ、かつ色の変化を市販の
分光計で測定した。その際に得られた結果を第２表が示
す。さらに層担体上でのコレステリック層の付着力を測
定した。

【０１９０】

【表２】

【０１９１】例７ 式（Ｋ，ｎ＝４）のネマチック化合物１００ｇを、式
（Ｄ）のキラル化合物４ｇ、テトラヒドロフラン１０４
ｇ、テトラヒドロフラン中のＢｙｋ ３６１の１％溶液
５ｇならびにＩｒｇａｃｕｒｅ １８４ ２ｇと共に攪
拌して清澄な溶液が得られた。前記混合物をナイフコー
ターを用いて塗布過剰圧力０．２バールで、厚さ１４μ
ｍのＰＥＴ層担体上に乾燥膜厚２．５μｍで塗布した。
塗布装置に続く乾燥帯域での滞留時間は８５℃で２４ｓ
であった。塗布速度は１０ｍ／分であった。架橋はＵＶ
ランプを用いて出力１２０Ｗ／ｃｍで窒素雰囲気下に１
００℃で行った。

【０１９２】こうして得られた層は、黒色の支持体上で
緑色の光沢のある印象を生じ、斜めから見ると青色への
著しい角度依存性を有する。

【０１９３】比較例４ａ 例７においてと同様に実施したが、しかし架橋中の温度
は６０℃であった。

【０１９４】比較例４ｂ 例７においてと同様に実施したが、しかし架橋温度は２
５℃であった。

【０１９５】架橋した層の耐溶剤性を試験するために、
その都度２×５ｃｍの面積を有する試験ストリップを８
０℃に昇温したキシレン溶液中で１５分間浸漬し、引き
続き８０℃で６０分間乾燥させ、かつ色の変化を市販の
分光計で測定した。その際に得られた結果を第３表が示
す。さらに層担体上でのコレステリック層の付着力を測
定した。

【０１９６】

【表３】

【０１９７】例８ まず例６においてと同様に実施した。その後、こうして
得られた層の上にさらに同一の組成および厚さの第二の
コレステリック層を例６と同様に塗布した。第一層は、
例６に示したように、耐溶剤性が極めて高いので、第２
相の流エンの際に第一層は溶解せず、このことは第一層
の上での第二層の低い付着に反映されている（第４表を
参照のこと）。

【０１９８】

【表４】

【０１９９】比較例５ 例８においてと同様に実施したが、しかし第一のコレス
テリック層を６０℃でＵＶ硬化させた。前記の層複合構
造で得られた付着強度を第５表に示す。

【０２００】

【表５】

【０２０１】第一層の上での第二層の高い付着強度のた
めに、両方の層は層担体から一緒に分離することができ
るのみである。はく離した層複合構造は、上記の粉砕工
程により妥当な離層度を示すのみであり、つまり複合構
造の電子顕微鏡による観察の際に、一緒につながった２
層フレークが多く観察された。

【０２０２】例９ 例８および比較例３ａ、３ｂ、４ａおよび４ｂにより得
られたコレステリック層を、エアーナイフを用いて層担
体から分離し、かつそれぞれフレークの大きさ３５μｍ
を有する顔料に粉砕した。前記顔料はメラミンで架橋し
たＣＡＢ含有焼き付け塗料からなり、かつ固体含有率２
０％およびキシレン、ブチルアセテート、酢酸エステル
の混合物からなる溶剤含有率８０％を有する噴霧用の調
製物中に混合した。該混合物を黒色の見本板上に乾燥膜
厚２５μｍで噴霧し、その際顔料濃度はその都度４％で
あった。その後、該被覆を焼き付け温度８０、１３０な
らびに１６０℃でそれぞれ焼き付け時間３０分で焼き付
けた。以下の第６表はその際に生じた波長の変化を示し
ているが、これは市販の分光計で測定されたものであ
る。

【０２０３】（ＣＡＢ＝セルロースアセテートブチレー
ト）

【０２０４】

【表６】

【０２０５】例１０：色ずれ−安定性に対する照射時間
ならびに照射出力の影響の試験１μｍ前後の厚さ範囲の
層を有利に高めた塗布速度で被覆することができる。こ
れにより硬化帯域での滞留時間もまた減少する。その他
は同一の条件下での、得られたコレステリック層の色ず
れ安定性に関する高めた塗布速度の影響を、以下の試験
列で調査した。さらに、照射出力の変更により色ずれ安
定性に同様に影響を与えることができることを試験し
た。

【０２０６】試験列の実施のために、以下の組成の被覆
組成物を製造した：式（Ｈ）のネマチック化合物 ９．
５５ｇ、ＴＨＦ、ＮａＯＨ乾燥 ２３．３３ｇ、式
（Ｂ）ねじり成分 ０．４５ｇ、Ｂｙｋ ３６１、ＴＨ
Ｆ中１０％ ０．１０ｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４
０．２０ｇ。

【０２０７】バッチＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｄ１、Ｄ２および
Ｄ３のために、第７表に記載されている塗布速度および
ランプ出力値で、その他は同一の条件（オープンキャス
ター、ギャップ幅３μｍ、担体シートTeijin K7、厚さ
１４μｍ、乾燥温度８５℃、ＵＶローラーの温度１００
℃、ランプ出力１００％＝１２０ワット／ｃｍ）下に被
覆を行う。こうして得られた、担体に施与したコレステ
リック層を用いて上記のキシレン試験を層厚さの測定後
に実施した。さらに反射率ならびに反射極大をキシレン
処理の前および後で測定した。その際に確認された結果
を以下の第８表にまとめる。さらに反射極大の変化なら
びにスポット分析で担体上でのコレステリック層の付着
力を測定した。確認された結果を第９表にまとめる。さ
らに第９表にそれぞれの試験バッチに関してＵＶ硬化領
域での滞留時間を記載した。

【０２０８】記載されている色ずれ値ならびにランプ出
力（ワット／ｃｍ）と滞留時間ＵＶ（ｍｓ）とからの積
により、数学的な関係を確認した。両パラメータ間の相
関関係を図３に記載する。ここから、ランプ出力と滞留
時間とからの積を適切に上昇させることによりコレステ
リック層の色ずれ安定性およびひいては該層から製造さ
れる顔料を適切に改善することができる。

【０２０９】

【表７】

【０２１０】

【表８】

【０２１１】

【表９】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による層複合構造を示す。

【図２】本発明による層複合構造の付着力の測定方法を
示す。

【図３】本発明による層複合構造の付着力の測定方法を
示す。

【図４】本発明による層複合構造の付着力の測定方法を
示す。

【図５】本発明による層複合構造の付着力の測定方法を
示す。

【図６】色ずれと種々の硬化条件との関係を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 5/29 Ｃ０９Ｄ 5/29 201/00 201/00 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ (72)発明者 ノルベルト シュナイダー ドイツ連邦共和国 アルトリップ マーデ ンブルクシュトラーセ ５エフ (72)発明者 フランク マイヤー ドイツ連邦共和国 ハイデルベルク バー ンホフシュトラーセ ９−13 (72)発明者 ペーター ブラーシュカ ドイツ連邦共和国 ルートヴィッヒスハー フェン ダムシュテュッカー ヴェーク 127 (72)発明者 ジルケ ハレムザ ドイツ連邦共和国 ネッカーゲミュント リングシュトラーセ 13 (72)発明者 ティルマン ヘーツェル ドイツ連邦共和国 マンハイム エミール −ヘッケル−シュトラーセ 12 (72)発明者 ロバート パーカー ドイツ連邦共和国 マンハイム クー ２ ９−10 (72)発明者 フォルカー リヒター ドイツ連邦共和国 ハイデルベルク カー ル−クリスト−シュトラーセ 34

Claims (25)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 三次元に架橋し配向したコレステリック
   層を少なくとも１つ有するコレステリック層材料におい
   て、架橋したコレステリック層が外部の刺激により誘発
   される色ずれを示さないことを特徴とする、コレステリ
   ック層材料。
2. 【請求項２】 外部の刺激が、層材料の温度変化、例え
   ば特に加熱、該層材料への希釈剤の作用およびこれらの
   組み合わせから選択される、請求項１記載のコレステリ
   ック層材料。
3. 【請求項３】 色ずれを、 ａ）−３０℃〜２５０℃の範囲の温度変化、 ｂ）８０〜１６０℃の範囲の温度への加熱および同時に
   希釈剤の作用、および／または ｃ）キシレン中８０℃での１５分間の処理および引き続
   き乾燥 の際に示さない、請求項２記載のコレステリック層材
   料。
4. 【請求項４】 キシレン処理後のコレステリック層の反
   射極大が高波長領域または低波長領域へ１０ｎｍより大
   きくシフトしない、請求項１から３までのいずれか１項
   記載のコレステリック層材料。
5. 【請求項５】 コレステリック層が、約５μｍより小、
   特に約２μｍより小、有利には約１μｍ以下の平均乾燥
   膜厚を有している、請求項１から４までのいずれか１項
   記載のコレステリック層材料。
6. 【請求項６】 コレステリック層が少なくとも１ピッチ
   の高さの平均乾燥膜厚を有する、請求項１から５までの
   いずれか１項記載のコレステリック層材料。
7. 【請求項７】 複数の色ずれ安定性コレステリック層が
   同じか、または異なった厚さおよび同じか、または異な
   った化学組成を有している、請求項１から６までのいず
   れか１項記載のコレステリック層材料。
8. 【請求項８】 ５〜５０μｍの範囲の平均粒度および
   ０．２〜５μｍの厚さを有する、架橋し、配向したコレ
   ステリック層を有するコレステリック顔料において、架
   橋したコレステリック層が、目視により認識可能な色ず
   れを示さないことを特徴とする、コレステリック顔料。
9. 【請求項９】 請求項１記載のコレステリック層材料の
   製造方法において、 ａ）少なくとも１種の架橋性の物質を含有するコレステ
   リックな被覆組成物を担体上に流延し、その際に配向さ
   せて第一のコレステリック層を形成し、その際、該担体
   は塗布するべきコレステリック層に対して実質的に化学
   的に不活性であり、 ｂ）担体に塗布した層を乾燥および架橋させ、その際、
   得られる層が目視で認識可能な色ずれを示さないように
   条件を選択し、 ｃ）場合により１種以上の別の配向したコレステリック
   層を工程ａ）により得られた層の上に塗布した後で層材
   料を担体から除去する ことを特徴とする、請求項１記載のコレステリック層材
   料の製造方法。
10. 【請求項１０】 担体上に流延したコレステリック層の
    配向を乾燥および硬化の間に妨げない担体を使用する、
    請求項９記載の方法。
11. 【請求項１１】 担体が、その上に流延し、乾燥させ、
    かつ架橋させた第一のコレステリック層に対して、約１
    ｃＮよりも小さい付着力を有する、請求項９または１０
    記載の方法。
12. 【請求項１２】 複数のコレステリック層を有する層材
    料を製造し、その際、第二の層を場合によりその他の層
    と共に複合構造として選択的に担体上に存在する第一の
    層から除去できる、請求項９から１１までのいずれか１
    項記載の方法。
13. 【請求項１３】 担体をプラスチック担体、金属担体、
    ガラス担体またはセラミック担体から選択する、請求項
    ９から１２までのいずれか１項記載の方法。
14. 【請求項１４】 プラスチック担体が、架橋し、有利に
    配向したコレステリック材料からなるはく離層を有して
    おり、該層の上に第一のコレステリック層を流延する、
    請求項１３記載の方法。
15. 【請求項１５】 プラスチック担体とはく離層との間の
    付着力が、はく離層と第一のコレステリック層との間の
    付着力の少なくとも約２倍の大きさである、請求項１４
    記載の方法。
16. 【請求項１６】 コレステリック層およびはく離層のた
    めの被覆組成物が相互に無関係に約１〜５０ｍＰａｓの
    範囲の粘度を有し、かつ塗布速度が約１〜８００ｍ／分
    の範囲である、請求項９から１５までのいずれか１項記
    載の方法。
17. 【請求項１７】 コレステリック層および場合により存
    在するコレステリックなはく離層の架橋を電子線または
    ＵＶ線により、硬化させるべき層を同時に加熱しながら
    行い、その際、エミッタ出力は約５０〜２００ワット／
    ｃｍの範囲である、請求項９から１６までのいずれか１
    項記載の方法。
18. 【請求項１８】 放射線硬化中の層温度が少なくとも６
    ０℃、特に少なくとも８０℃、有利には少なくとも９０
    ℃である、請求項１７記載の方法。
19. 【請求項１９】 最後に塗布したコレステリック層上に
    もう１つの担体シートを施与し、かつ複合構造の１種以
    上のコレステリック層を担体から除去する、請求項９か
    ら１８までのいずれか１項記載の方法。
20. 【請求項２０】 圧縮空気、水流または水蒸気で吹き飛
    ばすことにより、またはドクターを使用して１種以上の
    コレステリック層を担体から除去し、かつ粉砕して顔料
    を得る、請求項９から１８でのいずれか１項記載の方
    法。
21. 【請求項２１】 請求項８記載のコレステリック顔料を
    少なくとも１種含有している組成物。
22. 【請求項２２】 車両または車両付属品分野において、
    ＥＤＶ、余暇、スポーツおよびゲーム分野において、光
    学素子、例えば偏光子もしくはフィルタにおいて、化粧
    品分野において、テキスタイル、皮革もしくは装飾品分
    野において、贈答品において、筆記用具において、また
    は眼鏡フレームにおいて、建設分野において、家庭用品
    分野において、あらゆる種類の印刷製品において、塗料
    およびコーティングの製造において、物品の偽造を困難
    にする加工における、請求項１から７までのいずれか１
    項記載の層材料または請求項８記載の顔料の使用。
23. 【請求項２３】 日用品の被覆または自動車の塗装のた
    めの請求項２１記載の組成物の使用。
24. 【請求項２４】 場合により担体シート上に施与され
    た、請求項１から７までのいずれか１項記載の層材料を
    有する偏光子。
25. 【請求項２５】 互いに調整した反射極大を有する３〜
    ２０の数のコレステリック層を有する広帯域偏光子であ
    り、その際、該偏光子が約２〜５０μｍの範囲の全厚さ
    （担体シートを含まない）を有する、請求項１から７ま
    でのいずれか１項記載の層材料を含む広帯域偏光子。