JP5700045B2 - 電磁波反射フィルムおよびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、所定の波長領域の光を選択的に反射することができる選択反射層が、透明基板上に２層以上積層された構成を有する電磁波反射フィルム、およびその製造方法に関するものである。

可視光線ないし赤外線の波長域において、所望の波長を選択的に反射できる部材として、コレステリック液晶を用いた選択反射部材が知られている。これら選択反射部材は、所望の光（電磁波）のみを選択的に反射することができるため、例えば可視光線は透過させて熱線のみを反射する熱線反射膜や透過性断熱膜としての利用が期待されている。

コレステリック液晶を用いて電磁波を反射する電磁波反射フィルムについては、例えば以下の文献が知られている。特許文献１には、広帯域で近赤外線を反射する薄膜コーティングを施した透明基板と、近赤外線部に鋭い波長選択反射性を有するコレステリック液晶製のフィルタとからなる積層体が開示されている。この技術は、可視光の透過率を低下させることなく、近赤外線を高効率で反射させることを目的としている。また、特許文献２には、赤外線波長範囲内において、入射する放射の少なくとも４０％を反射する１種またはそれ以上のコレステリック層を含む断熱コーティングが開示されている。この技術は、コレステリック層を用いることで、所望の断熱効果を得ることを目的としている。

さらに、特許文献３には、特定の方法により光反射率が向上された高分子液晶層と、この高分子液晶層を支持する支持体とを備える高分子液晶層構造体であって、特定波長の光に対して反射率が３５％以上である高分子液晶層構造体が開示されている。この技術は、主に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いられるものであり、フッ素系非イオン性界面活性剤を用いることで、高分子液晶層の反射率を向上させるものである。また、特許文献４には、可視光を透過させ、かつ特定波長域の近赤外線を選択的に反射させる、コレステリック液晶構造を有する高分子固化体層からなる選択反射層Ａを有する近赤外線遮蔽層を備えた近赤外線遮蔽用の両面粘着フィルムが開示されている。この技術は、主にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いられるものであり、近赤外線遮蔽用の両面粘着フィルムにより、ＰＤＰが周囲に与える電磁波の影響を抑制するものである。

特開平４−２８１４０３号公報 特表２００１−５１９３１７号公報 特許第３４１９５６８号 特開２００８−２０９５７４号公報

ところで、コレステリック液晶化合物が用いられた電磁波反射フィルムは、通常、透明基板上に積層された選択反射層にコレステリック液晶化合物が含有され、そのコレステリック構造に依存して所定の波長領域の光を選択的に反射する機能を発現するものである。すなわち、選択反射層が電磁波反射フィルムに光の選択反射機能を付与するものである。そして、選択反射層が反射する光の波長領域および円偏光の旋回方向はコレステリック構造に起因するものであることから、複数の選択反射層を用いることにより電磁波反射フィルムの選択反射特性を自在に制御することができるものである。例えば、複数の波長領域の光を選択反射することや、同一の波長領域であっても右旋回の円偏光および左旋回の円偏光の双方を反射することが可能になる。このように、コレステリック液晶化合物が用いられる電磁波反射フィルムは、選択反射性が異なる複数の選択反射層を組み合わせて用いることにより、あらゆる用途に使用可能なものを設計することができるという特徴を有するものである。

複数の選択反射層を組み合わせて使用する場合、通常は、透明基板上に当該複数の選択反射層を所定の順序で積層して用いることになる。この場合において選択反射層を積層する方法としては、複数の選択反射層の間に何らかの層を介在させて積層する方法と、他の層を介在させることなく複数の選択反射層が互いに直接的に接するように積層する方法とが考えられる。これらの方法は必要に応じて使い分けることができるものであるが、製造工程を簡略化し、製造適性に優れた電磁波反射フィルムを提供するという観点からは後者の方法が用いられることが好ましいといえる。しかしながら、複数の選択反射層が直接的に接するように積層する方法においては、第１の選択反射層を形成した後、当該第１の選択反射層上に第２の選択反射層を形成する際に、第２の選択反射層が第１の選択反射層から何らかの影響を受けてしまい、第２の選択反射層において所望の選択反射性能を実現することが困難であることが想定される。このため、従来、複数の選択反射層が直接的に接するように積層する方法はほとんど用いられていないのが現状である。また、この方法を用いた場合に生じる問題点についても、その詳細についてはほとんど明らかにされていない。

本発明者らは、複数の選択反射層が直接的に接するように積層する方法の有用性を重視し、これを生産性に優れた電磁波反射フィルムの製造方法へと発展させるために鋭意検討した結果、確かに、第１の選択反射層を形成した後、当該第１の選択反射層上に第２の選択反射層を形成する際に、第２の選択反射層が第１の選択反射層の影響を受けてしまい、第２の選択反射層において、あらかじめ設計した通りの選択反射特性を実現することに困難性が伴うこと確認した。そして、具体的な問題点の一つとして、第１の選択反射層上に直接的に第２の選択反射層を積層すると、第２の選択反射層において次のような現象が生じることを見出した。すなわち、第２の選択反射層はコレステリック構造に依存して所定の波長領域の光を反射するように設計されるものであるが、第１の選択反射層上に直接的に接するように第２の選択反射層が積層されると、選択反射される波長領域は当初の設計通りになり、また反射される光の総量（すなわち、選択反射される波長領域の光に対する透過率）もほぼ設計通りになるが、反射される光のうち正反射される光の割合が減少し、拡散反射される光の割合が増加することを見出した。なお、一般的に拡散反射される光の割合が増加することは電磁波反射フィルムにとっては望ましくないことである。これは、拡散反射は主にコレステリック構造の不均一配列によって生じるが、この不均一配列によって光の散乱が発生して、透明性が損なわれる場合があるからである。

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、コレステリック構造を形成した棒状化合物を含有する複数の選択反射層が、直接的に接するように積層された構成を有し、選択反射される光のうち拡散反射の割合が少ない電磁波反射フィルムを製造することができる、電磁波反射フィルムの製造方法を提供することを主目的とするものである。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、第１の選択反射層に直接的に接するように第２の選択反射層を形成する方法において、第１の選択反射層を形成する際の工程条件を所定の条件に制御することにより、第２の選択反射層において拡散反射の割合が増加することを防止できることを見出すことにより本発明を完成するに至った。

すなわち、上記課題を解決するために本発明は、透明基板を用い、上記透明基板上に、下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第１カイラル剤、および第１レベリング剤を含有する第１選択反射層形成用塗工液を塗工して第１選択反射層形成用層を形成し、上記第１選択反射層形成用層に２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内の紫外線を照射することにより第１選択反射層を形成する第１選択反射層形成工程と、下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第２カイラル剤、および第２レベリング剤を含有する第２選択反射層形成用塗工液を用い、上記第１選択反射層上に直接的に接するように上記第２選択反射層形成用塗工液を塗工して第２選択反射層形成用層を形成し、上記第２選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第２選択反射層を形成する第２選択反射層形成工程と、を有することを特徴とする電磁波反射フィルムの製造方法を提供する。

本発明によれば、上記第１選択反射層形成工程において上記第１選択反射層形成用層に照射される紫外線照射量が上記範囲内であることにより、本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第２選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合を低下させることができる。このため、本発明によれば選択反射される光のうち拡散反射の割合が少ない電磁波反射フィルムを製造することができる。

本発明においては、上記第１選択反射層の表面の純水に対する接触角が６５〜８５度の範囲内であることが好ましい。これにより本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第２選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合をより低下することができるからである。

また本発明においては、上記第１選択反射層の表面のビッカース硬度が５〜２５の範囲内であることが好ましい。これにより本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第２選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合をさらに低下することができるからである。

さらに本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有する第１選択反射層と、上記第１選択反射層上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有する第２選択反射層とを有する電磁波反射フィルムであって、上記第２選択反射層が上記第１選択反射層上に直接的に接するように形成されており、かつ上記第２選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が８０％以上であることを特徴とする電磁波反射フィルムを提供する。

本発明によれば、上記第２選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が上記範囲内であることにより、電磁波反射フィルム全体として拡散反射性の少ないものにすることができる。

本発明は、選択反射される光のうち拡散反射の割合が少ない電磁波反射フィルムを製造することができるという効果を奏する。

本発明の電磁波反射フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。 本発明の電磁波反射フィルムの一例を示す概略断面図である。 地上での太陽光スペクトルである。 本発明の電磁波反射フィルムが有する反射帯域の一例を示すグラフである。 本発明の電磁波反射フィルムが有する反射帯域の他の例を示すグラフである。 実施例および比較例において作製した電磁波反射フィルムの反射スペクトルを示すグラフである。

本発明は、電磁波反射フィルムの製造方法、および電磁波反射フィルムに関するものである。以下、各発明について詳細に説明する。

Ａ．電磁波反射フィルムの製造方法
まず、本発明の電磁波反射フィルムの製造方法について説明する。上述したように本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、透明基板を用い、上記透明基板上に下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第１カイラル剤、および第１レベリング剤を含有する第１選択反射層形成用塗工液を塗工して第１選択反射層形成用層を形成し、上記第１選択反射層形成用層に２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内の紫外線を照射することにより第１選択反射層を形成する第１選択反射層形成工程と、下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第２カイラル剤、および第２レベリング剤を含有する第２選択反射層形成用塗工液を用い、上記第１選択反射層上に直接的に接するように上記第２選択反射層形成用塗工液を塗工して第２選択反射層形成用層を形成し、上記第２選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第２選択反射層を形成する第２選択反射層形成工程と、を有することを特徴とするものである。

このような本発明の電磁波反射フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図１は本発明の電磁波反射フィルムの製造方法について、その一例を示す工程図である。図１に例示するように本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、透明基板１１を用い（図１（ａ））、上記透明基板１１上に上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第１カイラル剤、および第１レベリング剤を含有する第１選択反射層形成用塗工液を塗工して第１選択反射層形成用層１２’を形成し（図１（ｂ））、上記第１選択反射層形成用層１２’に紫外線を照射することにより（図１（ｃ））、透明基板１１上に第１選択反射層１２を形成する（図１（ｄ））、第１選択反射層形成工程と（図１（ａ）〜（ｄ））、上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第２カイラル剤、および第２レベリング剤を含有する第２選択反射層形成用塗工液を用い、上記第１選択反射層１２上に直接的に接するように上記第２選択反射層形成用塗工液を塗工して第２選択反射層形成用層１３’を形成し（図１（ｅ））、上記第２選択反射層形成用層１３’に紫外線を照射することにより（図１（ｆ））、第２選択反射層１３を形成する（図１（ｇ））、第２選択反射層形成工程（図１（ｅ）〜（ｇ））と、を有するものである。そして、これらの工程を有することにより、本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は透明基板１１上に形成され、コレステリック構造を形成した上記棒状化合物を含有する第１選択反射層１２と、第１選択反射層１２上に直接的に接するように形成され、同じくコレステリック構造を形成した上記棒状化合物を含有する第２選択反射層１３とを有する電磁波反射フィルム１０を製造するものである。
このような例において、本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は上記第１選択反射層形成工程において第１選択反射層形成用層１２’に照射される紫外線照射量が２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることを特徴とするものである。

本発明によれば、上記第１選択反射層形成工程において上記第１選択反射層形成用層に照射される紫外線照射量が上記範囲内であることにより、本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第２選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合を低下することができる。また、第１選択反射層は透明基板上に形成されていることから、拡散反射性をほとんど示さない。このため、本発明によれば選択反射される光のうち拡散反射の割合が少ない電磁波反射フィルムを製造することができる。

本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、少なくとも第１選択反射層形成工程と、第２選択反射層形成工程とを有し、必要に応じて他の工程を有してもよいものである。以下、本発明に用いられる各工程について順に説明する。

１．第１選択反射層形成工程
まず、本発明における第１選択反射層形成工程について説明する。本工程は、透明基板上に、上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第１カイラル剤、および第１レベリング剤を含有する第１選択反射層形成用塗工液を塗工して第１選択反射層形成用層を形成し、当該第１選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第１選択反射層を形成する工程である。そして、本工程は上記第１選択反射層形成用層に照射される紫外線照射量が２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることを特徴とするものである。

（１）透明基板
本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板は、少なくとも本工程で形成される第１選択反射層、および後述する第２選択反射層形成工程で形成される第２選択反射層を支持できるものであれば特に限定されるものではない。中でも本工程に用いられる透明基板は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基板の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

本工程に用いられる透明基板は、所望の透明性を具備するものであれば、可撓性を有するフレキシブル材でも、可撓性のないリジッド材でも用いることができる。このような透明基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、（メタ）アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂からなるものを挙げることができる。なかでも本工程においてはポリエチレンテレフタレートからなる透明基板が用いられることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。

透明基板の厚みについては、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途および透明基板を構成する材料等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではない。

（２）第１選択反射層形成用塗工液
次に、本工程に用いられる第１選択反射層形成用塗工液について説明する。本工程に用いられる第１選択反射層形成用塗工液は少なくとも棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第１カイラル剤、および第１レベリング剤を含有するものである。

（ｉ）棒状化合物
本工程に用いられる棒状化合物としては、上記構造式（Ｉ）で表わされるものが用いられる。

（ｉｉ）第１カイラル剤
本工程に用いられる第１カイラル剤は、上記棒状化合物に旋回性を与えることができるものであれば特に限定されるものではない。また、本工程に用いられる第１カイラル剤は上記棒状化合物に右旋回性を与えるものであってもよく、または左旋回性を与えるものであってもよい。

右旋回性を与える第１カイラル剤は、上記棒状化合物に右旋回性を与えてコレステリック構造を形成するものである。このような第１カイラル剤としては、例えば、下記の一般式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表されるような、分子内に軸不斉を有する低分子化合物を用いることが好ましい。

上記一般式（Ａ）において、Ｒ^１は水素又はメチル基を示す。Ｙは上記に示す式（ｉ）〜（ｘｘｉｖ）の任意の一つであるが、中でも、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｖ）及び（ｖｉｉ）のいずれか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示すｃ及びｄは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数をとり得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。また、第１カイラル剤として、以下のような化学式で表わされるものも用いることができる。

左旋回性を与える第１カイラル剤は、上記棒状化合物に左旋回性を与えてコレステリック構造を形成するものである。このような第１カイラル剤は特に限定されるものではないが、例えば、ＡＤＥＫＡ社製ＣＮＬ−７１６等を挙げることができる。

なお、第１選択反射層形成用塗工液中の第１カイラル剤の含有量によって、本工程において形成される第１選択反射層が反射する光の波長を調整することができる。棒状化合物および上記第１カイラル剤の合計に対する第１カイラル剤の割合は、第１カイラル剤の旋回性によって異なるが、例えば、右旋回性を与える第１カイラル剤が用いられる場合は１．０質量％〜５．０質量％の範囲内、中でも１．５質量％〜３．５質量％の範囲内であることが好ましい。一方、左旋回性を与える第１カイラル剤が用いられる場合は、１．０質量％〜７．０質量％の範囲内、中でも２．０質量％〜５．０質量％の範囲内であることが好ましい。

（ｉｉｉ）第１レベリング剤
次に、本工程に用いられる第１レベリング剤について説明する。本工程に用いられる第１レベリング剤は、本工程で形成される第１選択反射層において上記棒状化合物のコレステリック構造の形成を促すものである。本工程に用いられる第１レベリング剤としては、本工程において形成される第１選択反射層において上記棒状化合物のコレステリック配列を促進できるものであれば特に限定されるものではない。このような第１レベリング剤としては、例えば、シリコン系化合物、フッ素系化合物、またはアクリル系化合物等を挙げることができる。本工程においてはこれらのいずれの化合物であっても第１レベリング剤として使用可能な場合がある。本工程に用いられる第１レベリング剤の具体例としては、例えばビックケミー・ジャパン社製ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＡＧＣセイケミカル社製Ｓ−２４１等を挙げることができる。本工程においてはこれらのいずれの第１レベリング剤であっても好適に用いることができるが、なかでもアクリル系化合物であるＢＹＫ−３６１Ｎを用いることがより好ましい。

また、本工程に用いられる第１レベリング剤は１種類であってもよく、または２種類以上であってもよい。

第１選択反射層形成用塗工液における第１レベリング剤の含有量としては、上記棒状化合物のコレステリック構造を所望の規則性で形成できる範囲内であれば特に限定されるものではない。具体的な含有量は、第１レベリング剤の種類等に応じて適宜決定される。なかでも、本工程においては、上記第１選択反射層形成用塗工液中の第１レベリング剤の含有量は０．０１質量％〜５．０質量％の範囲内であることが好ましく、０．０３質量％〜１．０質量％の範囲内であることがより好ましい。

（ｉｖ）その他の成分
本工程に用いられる第１選択反射層形成用塗工液は、さらに重合開始剤を含有することが好ましい。本工程においては第１選択反射層を形成する際に、上記棒状化合物を重合させることを目的として紫外線を照射するが、第１選択反射層形成用塗工液に重合開始剤が含有されることにより、本工程において上記棒状化合物の重合反応が生じやすくなるからである。重合開始剤の種類は上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物の重合反応を促進できるものであれば特に限定されるものではなく、照射するエネルギーの種類に応じて適宜選択することが好ましい。このような重合開始剤の具体的例としては光重合開始剤および熱重合開始剤等を挙げることができる。また、重合開始剤を含有させる場合、その含有量は所望の重合反応が生じる程度であれば特に限定されるものではなく、適宜決定すればよい。

また、本工程に用いられる第１選択反射層形成用塗工液は、通常、溶媒を含有するものが用いられる。上記溶媒としては、少なくとも上記棒状化合物、第１カイラル剤、および第１レベリング剤を分散させることができるものであれば特に限定されるものではない。このような溶媒としては、例えばシクロヘキサノン等を挙げることができる。

（３）第１選択反射層の形成方法
次に、本工程において透明基板上に第１選択反射層を形成する方法について説明する。本工程においては、透明基板上に第１選択反射層形成用塗工液を塗工して第１選択反射層形成用層を形成し、上記第１選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第１選択反射層が形成される。ここで、上記第１選択反射層形成用層は、第１選択反射層形成用塗工液が塗工された後、紫外線が照射される前の段階にあるものを指し、紫外線が照射されることによって第１選択反射層となるものである。

透明基板上に第１選択反射層形成用塗工液を塗布する方法としては、所望の厚みで第１選択反射層形成用塗工液を塗布し、第１選択反射層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、一般的な塗布法を用いることができ、具体的にはバーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。また、通常は、透明基板上に塗布した第１選択反射層形成用塗工液を乾燥し、溶媒を除去することによって第１選択反射層形成用層を得る。

上記第１選択反射層形成用層は紫外線が照射されることによって第１選択反射層となる。本工程において第１選択反射層形成用層に紫外線を照射するのは、第１カイラル剤および第１レベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した棒状化合物を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするためである。本工程においては第１選択反射層形成用層に照射される紫外線の照射量が２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることを特徴とするものである。本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、本工程において第１選択反射層形成用層に照射される紫外線量が上記範囲内であることにより、後述する第２選択反射層形成工程で形成される第２選択反射層を拡散反射性の低いものとすることができるものである。ここで、本工程における第１選択反射層形成用層への紫外線照射量を上記範囲内とするのは、紫外線照射量が上記範囲よりも少ないと、第１選択反射層形成用層に含まれる棒状化合物の重合が不十分になり、結果として本工程で形成される第１選択反射層において棒状化合物のコレステリック構造が乱されやすくなってしまうからである。また、紫外線照射量が上記範囲よりも多いと、第１レベリング剤が第１選択反射層形成用層表面に出現してしまう場合があるからである。本工程における第１選択反射層形成用層への紫外線照射量は上記範囲内であれば特に限定されるものではないが、なかでも２５ｍＪ／ｃｍ^２〜４００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがより好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜２００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがさらに好ましい。

（４）第１選択反射層
次に、本工程で形成される第１選択反射層について説明する。本工程で形成される第１選択反射層は、上記棒状化合物のコレステリック構造に依存して、所定の波長範囲の光のうち、右旋回円偏光または左旋回円偏光の一方を選択的に反射する機能を有するものである。第１選択反射層におけるコレステリック構造が右旋回構造であれば右旋回円偏光を選択反射し、左旋回構造であれば左旋回円偏光を選択反射することになる。また、コレステリック構造のピッチに依存して、選択反射される光の波長領域が決定されることになる。

本工程で形成される第１選択反射層の厚みは、第１選択反射層に所望の選択反射機能を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。このため、第１選択反射層の厚みは、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定されるものであるが、通常は０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。

また、本工程において形成される第１選択反射層は、表面の純水に対する接触角が６５〜８５度の範囲内であることが好ましく、７０〜８５度の範囲内であることがより好ましく、７５〜８０度の範囲内であることがさらに好ましい。第１選択反射層の表面の純水に対する接触角がこのような範囲内であることにより、本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第２選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合をより低下することができるからである。ここで、上記純水に対する接触角は、第１選択反射層の表面のうち後述する第２選択反射層形成工程において第２選択反射層が形成される側の表面に対するものをいう。上記接触角は２３℃環境下で５．０マイクロリットルの純水を手動滴下して５回実施した平均値を意味するものであり、接触角は、例えば、測定装置として協和界面科学製ＤＭ−３０１を用いることにより測定することができる。また、上記接触角は第１選択反射層形成用層への紫外線照射量を上述した範囲内で適宜調整することにより、所望の値を実現することができる。

また本工程において形成される第１選択反射層は、表面のビッカース硬度が５〜２５の範囲内であることが好ましく、１０〜２５の範囲内であることがより好ましく、１０〜２０の範囲内であることがさらに好ましい。第１選択反射層の表面のビッカース硬度がこのような範囲内であることにより、本発明により製造される電磁波反射フィルムにおいて第２選択反射層で選択反射される光のうち、拡散反射される光の割合をさらに低下することができるからである。ここで、上記ビッカース硬度は、第１選択反射層の表面のうち後述する第２選択反射層形成工程において第２選択反射層が形成される側の表面に対するものをいう。上記ビッカース硬度は、サンプルに対し荷重０．５ｍＮ／１０ｓ、測定環境は２５℃で５回測定した平均値を意味するものであり、ビッカース硬度は、例えば測定装置としてフィッシャー・インストルメンツ製ＨＭ５００を用いることにより測定することができる。また、上記ビッカース硬度は第１選択反射層形成用層への紫外線照射量を上述した範囲内で適宜調整することにより、所望の値を実現することができる。

２．第２選択反射層形成工程
次に、本発明に用いられる第２選択反射層形成工程について説明する。本工程は、上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、上記棒状化合物に旋回性を与える第２カイラル剤、および第２レベリング剤を含有する第２選択反射層形成用塗工液を用い、上記第１選択反射層上に直接的に接するように上記第２選択反射層形成用塗工液を塗工して第２選択反射層形成用層を形成し、上記第２選択反射層形成用層に紫外線を照射することによって第２選択反射層を形成する工程である。

本工程においては第２選択反射層形成用塗工液を上記第１選択反射層に直接的に接するように塗布することによって第２選択反射層を形成するが、「直接的に接するように」とは、本工程において形成される第２選択反射層と第１選択反射層との間に他の層が介在しないことを意味するものである。

（１）第２選択反射層形成用塗工液
本工程に用いられる第２選択反射層形成用塗工液は上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、第２カイラル剤、および第２レベリング剤を含有するものである。ここで、本工程に用いられる第２カイラル剤、および第２レベリング剤としては、それぞれ上述した第１選択反射層形成用塗工液に用いられる第１カイラル剤、および第１レベリング剤として用いられるものとして例示したものと同様のものを用いることができる。なお、本工程に用いられる第２カイラル剤、および第２レベリング剤は、それぞれ上記第１選択反射層形成用塗工液に用いられる第１カイラル剤、および第１レベリング剤と同一のものであってもよく、または異なるものであってもよい。第２選択反射層形成用塗工液中における第２カイラル剤、および第２レベリング剤の含有量については、それぞれ上記第１選択反射層形成用塗工液中の第１カイラル剤、および第１レベリング剤の含有量と同程度とすることができる。

（２）第２選択反射層の形成方法
次に、本工程において第２選択反射層を形成する方法について説明する。本工程においては、第１選択反射層形成工程で形成された第１選択反射層上に直接的に接するように第２選択反射層形成用塗工液を塗工して第２選択反射層形成用層を形成し、上記第２選択反射層形成用層に紫外線を照射することによって第２選択反射層を形成する。ここで、上記第２選択反射層形成用層は、第２選択反射層形成用塗工液が塗工された後、紫外線が照射される前の段階にあるものを指し、紫外線が照射されることによって第２選択反射層となるものである。

第１選択反射層上に第２選択反射層形成用塗工液を塗布する方法としては、所望の厚みで第２選択反射層形成用塗工液を塗布し、第２選択反射層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、一般的な塗布法を用いることができ、具体的にはバーコート法、スピンコート法、ブレードコート法等を挙げることができる。また、通常は、第１選択反射層上に塗布した第２選択反射層形成用塗工液を乾燥し、溶媒を除去することによって第２選択反射層形成用層を得る。

上記第２選択反射層形成用層は紫外線が照射されることによって第２選択反射層となる。本工程において第２選択反射層形成用層に紫外線を照射するのは、第１選択反射層形成工程の場合と同様に、第２カイラル剤および第２レベリング剤の作用によりコレステリック構造を形成した棒状化合物を、当該コレステリック構造を維持したまま架橋し、コレステリック構造が乱されにくくするためである。本工程における第２選択反射層形成用層への紫外線照射量は、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの構成に応じて適宜決定される。具体的には、本発明によって製造される電磁波反射フィルムが選択反射層として第１選択反射層、および第２選択反射層のみを有する場合、第２選択反射層形成用層への紫外線照射量は棒状化合物を十分に重合できる範囲内であれば特に限定されるものではない。したがって、具体的にどの程度の紫外線を照射するかは本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定される。例えば、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途が、第２選択反射層に８０℃以上の熱や大気圧以上の荷重が掛からないようなものである場合は、通常、第２選択反射層形成用層への紫外線照射量は２００ｍＪ／ｃｍ^２以上であれば、特段の事情がない限り、特に問題はないといえる。一方、例えば、本発明によって製造される電磁波反射フィルムが自動車用の合わせガラス用に用いられる場合、この場合には第２選択反射層が高温・高圧の状況下に置かれることになるので、第２選択反射層形成用層への紫外線照射量は通常８００ｍＪ／ｃｍ^２程度とされる。
また、本発明によって製造される電磁波反射フィルムが、第１選択反射層、第２選択反射層以外に、さらに第２選択反射層上に第３選択反射層、第４選択反射層、…等の補充選択反射層が積層された構成を有する場合は、本工程において第２選択反射層形成用層に照射される紫外線量は、上記第１選択反射層形成用層への紫外線照射量と同様に、２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、２５ｍＪ／ｃｍ^２〜４００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがより好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜２００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがさらに好ましい。例えば、第２選択反射層上に第３選択反射層が形成される場合には、第１選択反射層形成用層への紫外線照射量を上述した範囲内とすることによって第２選択反射層の拡散反射性を低減することができるのと同様に、第２選択反射層形成用層への紫外線照射量を上記範囲内とすることによって第３選択反射層の拡散反射性を低減することができるからである。なお、このことは第３選択反射層上に第４選択反射層を形成する場合における第３選択反射層形成用層に対する紫外線照射量についても同様である。

（３）第２選択反射層
次に、本工程で形成される第２選択反射層について説明する。本工程で形成される第２選択反射層は、上記棒状化合物のコレステリック構造に依存して、所定の波長範囲の光のうち、右旋回円偏光または左旋回円偏光の一方を選択的に反射する機能を有するものである。第２選択反射層におけるコレステリック構造が右旋回構造であれば右旋回円偏光を選択反射し、左旋回構造であれば左旋回円偏光を選択反射することになる。また、コレステリック構造のピッチに依存して、選択反射される光の波長領域が決定されることになる。

本工程で形成される第２選択反射層の厚みは、第２選択反射層に所望の選択反射機能を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではない。このため、第２選択反射層の厚みは、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定されるものであるが、通常は０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。

３．その他の工程
本発明の電磁波反射フィルムの製造方法は、少なくとも上述した第１選択反射層形成工程と、第２選択反射層形成工程とを有するものであるが、必要に応じて他の任意の工程が用いられてもよいものである。任意の工程は、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて、所望の構成または機能を有する電磁波反射フィルムを製造できるものであれば特に限定されるものではない。このような任意の工程としては、例えば、上記第２選択反射層上に第３選択反射層を形成する第３選択反射層形成工程、当該第３選択反射層上に第４選択反射層を形成する第４選択反射層形成工程等、第２選択反射層上に補充選択反射層を形成する補充選択反射層形成工程を挙げることができる。このような補充選択反射層形成工程は、複数工程が用いられてもよい。

上記補充選択反射層形成工程において、第３選択反射層、第４選択反射層等の補充選択反射層を形成する方法としては、上記第２選択反射層形成工程において第２選択反射層を形成する方法と同様に、棒状化合物、カイラル剤、およびレベリング剤を含有する補充選択反射層形成用塗工液を塗布することにより補充選択反射層形成用層を形成し、当該補充選択反射層形成用層に紫外線を照射することによって形成することができる。ここで、補充選択反射層形成用層への紫外線照射量としては、形成する補充選択反射層が電磁波反射フィルムにおいて最表層に位置するものとなる場合には２００ｍＪ／ｃｍ^２以上とされ、具体的にどの程度の紫外線を照射するかは、本発明によって製造される電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定される。一方、形成される補充選択反射層上に、さらなる補充選択反射層を形成することが予定されている場合は、(例えば、第３選択反射層上に第４選択反射層を形成することが予定されている場合）、補充選択反射層形成用層（前例における第３選択反射層形成用層）への紫外線照射量は、２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、２５ｍＪ／ｃｍ^２〜４００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがより好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ^２〜２００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることがさらに好ましい。第１選択反射層形成用層への紫外線照射量を上述した範囲内とすることによって第２選択反射層の拡散反射性を低減することができるのと同様に、補充選択反射層形成用層への紫外線照射量を上記範囲内とすることによって、さらに積層される補充選択反射層の拡散反射性を低減することができるからである。

なお、上記補充選択反射層形成用塗工液に用いられる棒状化合物、カイラル剤、およびレベリング剤については、上述した第１選択反射層形成用塗工液に用いられる棒状化合物、第１カイラル剤、および第１レベリング剤と同様のものを用いることができる。

４．電磁波反射フィルム
本発明によって製造される電磁波反射フィルムは透明基板と、当該透明基板上に形成された第１選択反射層と、当該第１選択反射層上に直接的に接するように形成された第２選択反射層とを有し、第２選択反射層の拡散反射性が低減されたものになる。そして、第１選択反射層は透明基板上に形成されているため、拡散反射性をほとんど示さないものとなっている。このようなことから、本発明によって製造される電磁波反射フィルムは全体として拡散反射性が著しく低いものとなる。

このような電磁波反射フィルムについては、後述する「Ｂ．電磁波反射フィルム」の項において詳細に説明するため、ここでの説明は省略する。

Ｂ．電磁波反射フィルム
次に、本発明の電磁波反射フィルムについて説明する。上述したように本発明の電磁波反射フィルムは、透明基板と、上記透明基板上に形成され、コレステリック構造を形成した上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有する第１選択反射層と、上記第１選択反射層上に形成され、コレステリック構造を形成した上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有する第２選択反射層とを有するものであって、上記第２選択反射層が上記第１選択反射層上に直接的に接するように形成されており、かつ上記第２選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が８０％以上であることを特徴とするものである。

このような本発明の電磁波反射フィルムについて図を参照しながら説明する。図２は本発明の電磁波反射フィルムの一例を示す概略断面図である。図２に例示するように本発明の電磁波反射フィルム１０は、透明基板１１と、上記透明基板１１上に形成された第１選択反射層１２と、上記第１選択反射層１２上に形成された第２選択反射層１３とを有するものである。ここで、上記第１選択反射層１２および第２選択反射層１３はいずれも、コレステリック構造を形成した上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物が含有されるものである。このような例において本発明の電磁波反射フィルム１０は、上記第２選択反射層１３が上記第１選択反射層１２上に直接的に接するように形成されており、かつ上記第２選択反射層１３において選択反射される光のうち正反射される光の割合が８０％以上であることを特徴とするものである。

本発明によれば、上記第２選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が上記範囲内であることにより、電磁波反射フィルム全体として拡散反射性の少ないものにすることができる。

本発明の電磁波反射フィルムは、少なくとも透明基板と、第１選択反射層と、第２選択反射層とを有するものであり、必要に応じて他の構成を有してもよいものである。以下、本発明に用いられる各構成について順に説明する。

なお、本発明に用いられる透明基板については、上記「Ａ．電磁波反射フィルムの製造方法」の項において説明したものと同様であるため、以下での説明を省略する。

１．第２選択反射層
まず、本発明に用いられる第２選択反射層について説明する。第２選択反射層は、上記棒状化合物のコレステリック構造に依存して、所定の波長範囲の光のうち、右旋回円偏光または左旋回円偏光の一方を選択的に反射する機能を有するものである。本発明に用いられる第２選択反射層は、後述する第１選択反射層上に直接的に接するように形成され、コレステリック構造を形成した上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有するものである。また、本発明に用いられる第２選択反射層は、第２選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が８０％以上であることを特徴とするものである。
ここで、第２選択反射層が「第１選択反射層上に直接的に接するように形成されている」とは、第２選択反射層と第１選択反射層との間に他の層を介することなく、両層が積層されていることを意味する。

本発明における第２選択反射層で選択反射される光のうち、正反射される光の割合は８０％以上であれば特に限定されるものではない。ここで、本発明において第２選択反射層で選択反射される光のうち、正反射される光の割合を上記範囲とするのは、上記範囲よりも割合が低いとコレステリック構造の不均一配列によって生じる光の散乱が発生して、透明性が損なわれるからである。本発明において第２選択反射層で正反射される光の割合は、上記範囲内であれば特に限定されるものではないが、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。なお、第２選択反射層で正反射される光の割合は、例えば、次のような方法によって測定することができる。まず、第２選択反射層によって選択反射される波長領域での透過率を測定する（このとき、第１選択反射層によって選択反射される波長領域を含めてもよい）。次に、５回正反射成分を測定し、次いで拡散反射率を測定する。ここで、１００−透過率ピーク［％］＝反射率ピーク［％］＋拡散反射率ピーク［％］の関係が成立することから、反射率ピーク［％］／（反射率ピーク［％］＋拡散反射率ピーク［％］）を算出することにより、第２選択反射層の正反射率を求めることができる。なお、第１選択反射層によって選択反射される波長領域と、第２選択反射層によって選択反射される波長領域が重複しており、両層において反射される円偏光の旋回性が異なる場合は、上記各測定の際に光源に偏光板及びλ／４板を挿入して第２選択反射層で反射する成分の光を抽出することによって第２選択反射層のみを対象として測定することができる。測定装置としては、例えば島津製作所製ＵＶ−３１００を使用することができる。

本発明に用いられる第２選択反射層の厚みは、所定の波長領域の光を選択反射する機能を実現できる範囲内であれば特に限定されるものではなく、本発明の電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定することができる。中でも本発明における第２選択反射層の厚みは０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。

第２選択反射層における棒状化合物のコレステリック構造は右旋回構造であってもよく、または左旋回構造であってもよい。また、第２選択反射層にはこのような右旋回構造、または左旋回構造を形成させるためにカイラル剤が含有されてもよい。さらに、第２選択反射層には、棒状化合物のコレステリック構造をより規則正しいものにするためにレベリング剤が含有されてもよい。第２選択反射層に用いられるカイラル剤、およびレベリング剤については、上記「Ａ．電磁波反射フィルムの製造方法」の項において、第２選択反射層形成工程に用いられる第２選択反射層形成用塗工液中に含有される第２カイラル剤、第２レベリング剤として説明したものと同様のものを用いることができる。

２．第１選択反射層
次に、本発明に用いられる第１選択反射層について説明する。第２選択反射層と同様に、第１選択反射層も、上記棒状化合物のコレステリック構造に依存して、所定の波長範囲の光のうち、右旋回円偏光または左旋回円偏光の一方を選択的に反射する機能を有するものである。また、本発明に用いられる第１選択反射層は、透明基板上に形成され、コレステリック構造を形成した上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有するものである。

本発明に用いられる第１選択反射層の厚みは、所定の波長領域の光を選択反射する機能を実現できる範囲内であれば特に限定されるものではなく、本発明の電磁波反射フィルムの用途等に応じて適宜決定することができる。中でも本発明における第１選択反射層の厚みは０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。また、第１選択反射層における棒状化合物のコレステリック構造は右旋回構造であってもよく、または左旋回構造であってもよい。また、第１選択反射層にはこのような右旋回構造、または左旋回構造を形成させるためにカイラル剤が含有されてもよい。さらに、第１選択反射層には、棒状化合物のコレステリック構造をより規則正しいものにするためにレベリング剤が含有されてもよい。第１選択反射層に用いられるカイラル剤、およびレベリング剤については、上記「Ａ．電磁波反射フィルムの製造方法」の項において、第１選択反射層形成工程に用いられる第１選択反射層形成用塗工液中に含有される第１カイラル剤、第１レベリング剤として説明したものと同様のものを用いることができる。

３．その他の構成
本発明の電磁波反射フィルムは、少なくとも透明基板、第１選択反射層、および第２選択反射層を有するものであるが、必要に応じて他の構成を有してもよい。他の構成は特に限定されるものではなく、本発明の電磁波反射フィルムの用途等に応じて所望の機能を有する構成を適宜選択して用いることができる。このような他の構成としては、例えば、上記第２選択反射層上形成され、コレステリック構造を形成した棒状化合物を含有する補充選択反射層を挙げることができる。本発明においてはこのような補充選択反射層を、１層または多層を積層して用いることができる。

上記補充選択反射層に用いられる棒状化合物は、コレステリック構造を形成することができる棒状化合物であれば特に限定されるものではないが、第１選択反射層および第２選択反射層に用いられるものと同様に、上記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物が用いられることが好ましい。また、補充選択反射層には必要に応じてカイラル剤、およびレベリング剤が含有されていてもよい。補充選択反射層に用いられるカイラル剤、およびレベリング剤については、上記第２選択反射層に用いられる第２カイラル剤、および第２レベリング剤と同様のものを用いることができる。

４．電磁波反射フィルム
本発明の電磁波反射フィルムは、第１選択反射層および第２選択反射層中のコレステリック構造の旋回性に対応し、特定波長領域の右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する機能を有するものである。ここで、コレステリック構造を形成した棒状化合物は、プレーナー配列のヘリカル軸に沿って入射した光（電磁波）の右旋および左旋の２つの円偏光のうち一方の偏光を選択的に反射する性質を有するが、この場合の最大旋光偏光光散乱は、下記式（１）：
λ＝ｎ_ａｖ・ｐ （１）
において選択波長λで生じる。なお、式（１）中、ｎ_ａｖはヘリカル軸に直交する平面内の平均屈折率であり、ｐは棒状化合物の螺旋構造におけるヘリカルピッチである。
また、反射波長のバンド幅Δλは、下記式（２）：
Δλ＝Δｎ・ｐ （２）
で表される。なお、式（２）中、Δｎは、棒状化合物の複屈折率である。これらの式に示される通り、コレステリック構造を形成した棒状化合物を含有する選択反射層は、選択波長λを中心とした波長バンド幅Δλの範囲の光（電磁波）の右旋または左旋の円偏光成分の一方を反射し、他方の円偏光成分と他の波長領域の無偏光の光（電磁波）とを透過させる。したがって、本発明の電磁波反射フィルムにおいては棒状化合物のｐを適宜制御することにより、所望の電磁波を反射させることができる。

本発明の電磁波反射フィルムは、赤外領域（λ＝８００ｎｍ以上の領域）に反射ピークを有するものであることが好ましい。これにより、車両用の熱線反射ガラス、建築用の熱線反射ガラス、太陽電池用の熱線反射フィルム等に有用な赤外線反射フィルムとすることができるからである。

中でも、本発明の電磁波反射フィルムは、少なくとも地上での太陽光スペクトルの赤外領域で最も短波長側に位置するピークを含む第一輻射エネルギー帯域に対応する第一反射帯域を有することが好ましく、特に上記第一反射帯域における最大反射率をＲ_１とし、上記Ｒ_１の半値の反射率となる短波長側の波長をλ_１とした場合に、上記λ_１が９００ｎｍ〜１０１０ｎｍの範囲内にあることが好ましい（第１実施態様）。第一輻射エネルギー帯域に含まれる赤外線を効率良く反射することができるからである。このような第１実施態様の電磁波反射フィルムは、上記第１選択反射層および第２選択反射層をそれぞれ上記第一反射帯域を有するものとし、第１選択反射層が右旋回円偏光を選択反射し、第２選択反射層が左旋回円偏光を選択反射できるものとすること、あるいはその逆で第１選択反射層が左旋回円偏光を選択反射し、第２選択反射層が右旋回円偏光を選択反射できるものとすることによって得ることができる。

このような第１実施態様の電磁波反射フィルムの反射帯域について図を参照しながら説明する。図３は、地上での太陽光スペクトルである。この「地上での太陽光スペクトル」は、温帯における地上での平均的太陽光の輻射エネルギー（Ｗｍ^−２／ｎｍ）の分布を示すものである（ＡＭ１．５Ｇ）。なお、地球軌道上での太陽光スペクトル（ＡＭ０）では、輻射エネルギーの分布はなだらかになるが、輻射エネルギーは大気中での反射、散乱、吸収等により減衰する。その結果、地上では、図３に示すような太陽光スペクトルが得られる。なお、本明細書においては、「地上での太陽光スペクトル」を単に「太陽光スペクトル」と称する場合がある。

図４は、第１実施態様の電磁波反射フィルムの反射帯域の一例を示すものである。図４に例示するように、第１実施態様の電磁波反射フィルムは、地上での太陽光スペクトルの赤外領域で最も短波長側に位置するピークを含む第一輻射エネルギー帯域２１に対応する第一反射帯域３１を有する。第一輻射エネルギー帯域２１は、通常、波長１０１０ｎｍ付近にピークを有し、その波長範囲は９５０ｎｍ〜１１５０ｎｍである。第一反射帯域３１は、最大反射率Ｒ_１を与える波長が、第一輻射エネルギー帯域２１の波長範囲内にあるものをいう。第１実施態様においては、最大反射率Ｒ_１の半値（１／２Ｒ_１）の反射率となる短波長側の波長をλ_１とした場合に、λ_１が９００ｎｍ〜１０１０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。

ここで、λ_１の上限が１０１０ｎｍであることが好ましい理由は、以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第一輻射エネルギー帯域のピーク波長は１０１０ｎｍ付近であり、そのピーク波長の近傍において、赤外線のエネルギー密度は大きくなる。従って、第一輻射エネルギー帯域のピーク波長近傍の赤外線を効率良く反射するためには、少なくとも、最大反射率Ｒ_１の半値となるλ_１が、第一輻射エネルギー帯域のピーク波長以下であることが好ましい。

さらに、第１実施態様においてはλ_１の上限が９７０ｎｍであることが好ましく、９６０ｎｍであることがより好ましく、９５０ｎｍであることがさらに好ましい。λ_１の上限が９５０ｎｍであることがより好ましい理由は以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第一輻射エネルギー帯域におけるピーク強度をＲ_Ｓ１とし、そのＲ_Ｓ１の半値の強度となる短波長側の太陽光スペクトル波長をλ_Ｓ１とした場合に、λ_Ｓ１は９５０ｎｍ付近となる。そのため、λ_１≦λ_Ｓ１の関係を満たすように、λ_１の値を設定することで、第一反射帯域は、第一輻射エネルギー帯域において赤外線のエネルギー密度が大きい部分をほぼカバーすることができる。そのため、より効果的に赤外線の反射を行うことができる。

一方、λ_１の下限が９００ｎｍであることが好ましい理由は、以下の通りである。すなわち、λ_１はＲ_１の半値の反射率の波長であるため、第一反射帯域は、λ_１よりも短波長側に裾野の反射領域を有する。この裾野の反射領域の波長範囲は、現行の材料系においては、最大で１００ｎｍ程度が想定される。そのため、λ_１の下限が９００ｎｍ未満であると、裾野の反射領域における最も短い波長が８００ｎｍ未満となり、可視光領域に達する可能性がある。その場合、本発明の電磁波反射フィルムが赤味がかり、電磁波反射フィルムを介した視認性が低下する可能性がある。そのため、λ_１の下限は９００ｎｍであることが好ましい。

また、第１実施態様においては図４に示すように、第一反射帯域３１における最大反射率をＲ_１とし、Ｒ_１の半値（１／２Ｒ_１）の反射率となる長波長側の波長をλ_２とした場合に、λ_２の波長範囲は１０１０ｎｍ〜１２１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。さらに、λ_２の下限は１０５０ｎｍであることが好ましく、１０８０ｎｍであることがより好ましく、１０９０ｎｍであることがさらに好ましい。λ_２の下限が１０９０ｎｍであることがより好ましい理由は以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第一輻射エネルギー帯域におけるピーク強度をＲ_Ｓ１とし、そのＲ_Ｓ１の半値の強度となる長波長側の太陽光スペクトル波長をλ_Ｓ２とした場合に、λ_Ｓ２は通常１０９０ｎｍ付近となる。そのため、λ_Ｓ２≦λ_２の関係を満たすように、λ_２の値を設定することが好ましい。一方、λ_２の上限は１１５０ｎｍであることが好ましい。

また、第一反射帯域のピーク波長の位置は、特に限定されるものではないが、第一輻射エネルギー帯域のピーク波長の近傍にあることが好ましく、例えば９００ｎｍ〜１１５０ｎｍの範囲内、中でも９５０ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、λ_１およびλ_２の間隔（λ_２−λ_１）は、例えば５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内、中でも１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。

また、本発明の電磁波反射フィルムは、図５に示すように、上記第一反射帯域３１に加えて、第二反射帯域３２を有することが好ましい（第２実施態様）。このような第２実施態様の電磁波反射フィルムは、第１選択反射層が第一反射帯域を有するものとし、第２選択反射層が第二反射帯域を有するものとすること、またはその逆で第１選択反射層が第二反射帯域を有するものとし、第２選択反射層が第一反射帯域を有するものとすることにより得ることができる。なお、図５においては、便宜上、第一反射帯域３１および第二反射帯域３２を独立に記載しているが、実際には、両者が重複する部分において、合算された反射率が計測される。また、第二反射帯域３２は、地上での太陽光スペクトルの赤外領域で二番目に短波長側に位置するピークを含む第二輻射エネルギー帯域２２に対応するものである。第二輻射エネルギー帯域２２は、通常、波長１２５０ｎｍ付近にピークを有し、その波長範囲は、１１５０ｎｍ〜１３７０ｎｍである。第二反射帯域３２は、最大反射率Ｒ_２を与える波長が、第二輻射エネルギー帯域２２の波長範囲内にあるものをいう。第２実施態様においては、最大反射率Ｒ_２の半値（１／２Ｒ_２）の反射率となる長波長側の波長をλ_４とした場合に、λ_４は１２５０ｎｍ〜１４５０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。

ここで、λ_４の下限が１２５０ｎｍであることが好ましい理由は、以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第二輻射エネルギー帯域のピーク波長は１２５０ｎｍ付近であり、そのピーク波長の近傍において、赤外線のエネルギー密度は大きくなる。従って、第二輻射エネルギー帯域のピーク波長近傍の赤外線を効率良く反射するためには、少なくとも、最大反射率Ｒ_２の半値となるλ_４が、第二輻射エネルギー帯域のピーク波長以上であることが好ましい。そのため、λ_４の下限は１２５０ｎｍであることが好ましい。

さらに、λ_４の下限は１３３０ｎｍであることが好ましい。その理由は以下の通りである。すなわち、太陽光スペクトルの第二輻射エネルギー帯域におけるピーク強度をＲ_Ｓ２とし、そのＲ_Ｓ２の半値の強度となる長波長側の太陽光スペクトル波長をλ_Ｓ４とした場合に、λ_Ｓ４は１３３０ｎｍ付近となる。そのため、λ_Ｓ４≦λ_４の関係を満たすように、λ_４の値を設定することで、第二反射帯域は、第二輻射エネルギー帯域において赤外線のエネルギー密度が大きい部分をほぼカバーすることができる。そのため、より効果的に赤外線の反射を行うことができる。

一方、λ_４の上限が１４５０ｎｍであることが好ましい理由は、以下の通りである。すなわち、上述したように、一つの選択反射層において、λ_１およびλ_２の間隔（λ_２−λ_１）は最大で２００ｎｍ程度になる。なお、λ_３は、Ｒ_２の半値（１／２Ｒ_２）の反射率となる短波長側の波長である。一方、太陽光スペクトルの第二輻射エネルギー帯域のピークが１２５０ｎｍ付近であることを考慮した場合、λ_４を１４５０ｎｍよりも大きくすると、λ_３が１２５０ｎｍよりも大きくなり、第二反射帯域は、第二輻射エネルギー帯域において赤外線のエネルギー密度が大きい部分をほとんどカバーできなくなる。そのため、λ_４の上限は１４５０ｎｍであることが好ましい。また、第二反射帯域が、第二輻射エネルギー帯域をさらに効率良くカバーするためには、λ_４の上限は１４００ｎｍであることがより好ましい。

また、λ_３の波長範囲は特に限定されるものではないが、例えば１０５０ｎｍ〜１２５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１０５０ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。また、太陽光スペクトルの第二輻射エネルギー帯域におけるピーク強度をＲ_Ｓ２とし、そのＲ_Ｓ２の半値の強度となる短波長側の太陽光スペクトル波長をλ_Ｓ３とした場合に、λ_Ｓ３は通常１１５０ｎｍ付近となる。そのため、λ_３≦λ_Ｓ３の関係を満たすように、λ_３の値を設定することが好ましい。そのため、λ_３は１０５０ｎｍ〜１１５０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、第二反射帯域が、第二輻射エネルギー帯域をさらに効率良くカバーするためには、λ_３は、１１００ｎｍ〜１１５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。

また、第二反射帯域のピーク波長の位置は、特に限定されるものではないが、第二輻射エネルギー帯域のピーク波長の近傍にあることが好ましく、例えば１１７５ｎｍ〜１３２５ｎｍの範囲内、中でも１２２５ｎｍ〜１２７５ｎｍの範囲内にあることが好ましい。また、λ_３およびλ_４の間隔（λ_４−λ_３）については、上述したλ_１およびλ_２の間隔（λ_２−λ_１）と同様である。

５．電磁波反射フィルムの製造方法
本発明の電磁波反射フィルムは、例えば、上記「Ａ．電磁波反射フィルムの製造方法」の項において説明した本発明の電磁波反射フィルムの製造方法によって製造することができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、後述する「部」とは、特に断りのない限り、「重量部」を意味するものとする。

［実施例１］
透明基板として、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルムを準備した。次に、両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子ＯＰＴ-０１（ＤＮＰファインケミカル福島製）（下記構造式（Ｉ））９７．４部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（右旋回性、Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標） ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））２．６部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）とレベリング剤(ＢＹＫ−３６１Ｎ)０．０６重量％を添加した（固形分３０重量％）。これを第１選択反射層形成用塗工液とした。

次に両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子ＯＰＴ-０１（ＤＮＰファインケミカル福島製）（上記構造式（Ｉ））９７．９部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（右旋回性、Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標） ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））２．１部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）とレベリング剤(ＢＹＫ−３６１Ｎ)０．０６重量％を添加した（固形分３０重量％）。これを第２選択反射層形成用塗工液とした。

その次に、上記の二軸延伸フィルムに、配向膜を介さずにバーコーターにて、上記第１選択反射層形成用塗工液を塗布した。次いで、１００℃で２分間保持し、第１選択反射層形成用塗工液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜（第１選択反射層形成用層）を得た。そして、得られた第１選択反射層形成用層に、紫外線照射装置（フュージョン社製、Ｈバルブ、以下同じ）を用いて紫外線を５０ｍＪ／ｃｍ^２（照射量測定はオーク製作所社製、ＵＶ−３５１にて測定、以下同じ）照射し、第１選択反射層形成用層中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、二軸延伸フィルム上にコレステリック構造を固定化することにより、第１選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。このとき、第１選択反射層表面の純水に対する接触角は７７．１°、ビッカース硬度は１２．７であった。

更に上記第１選択反射層の上にバーコーターにて、上記第２選択反射層形成用塗工液を塗布した。次いで、１００℃で２分間保持し、第２選択反射層形成用塗工液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させ、右旋回性塗膜（第２選択反射層形成用層）を得た。そして、得られた第２選択反射層形成用層に、紫外線照射装置を用いて紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ^２照射し、第２選択反射層形成用層中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレートおよびカイラル剤のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、コレステリック構造を固定化することにより、第２選択反射層（膜厚５μｍ）を形成した。これにより、電磁波反射フィルム１を得た。

［実施例２］
両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子ＯＰＴ-０１（ＤＮＰファインケミカル福島製）（上記構造式（Ｉ））９６．０部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤（左旋回性、ＣＮＬ−７１６（ＡＤＥＫＡ社製））４．０部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（イルガキュア１８４）とレベリング剤(ＢＹＫ−３６１Ｎ)０．０６重量％を添加した（固形分３０重量％）。これを第２選択反射層形成用塗工液とした。そして、このような第２選択反射層形成用塗工液を用いたこと以外は、実施例１と同様の方法により電磁波反射フィルム２を得た。
なお、第１選択反射層表面の純水に対する接触角は７８．７°、ビッカース硬度は１３．１であった。

［比較例１］
第１選択反射層形成用層に対する紫外線照射量を１６００ｍＪ／ｃｍ^２としたこと以外は、実施例１と同様の方法により電磁波反射フィルム３を得た。

［比較例２］
第１選択反射層形成用層に対する紫外線照射量を１６００ｍＪ／ｃｍ^２としたこと以外は、実施例２と同様の方法により電磁波反射フィルム４を得た。

［評価］
実施例１、２および比較例１、２において作製した電磁波反射フィルム１〜４について第２選択反射層の正反射率を測定した。その結果を図６に示す。図６（ａ）は実施例１および比較例１に関する測定結果を示すグラフであり、図６（ｂ）は実施例２および比較例２に関する測定結果を示すグラフである。また、実施例１、２および比較例１、２において作製した電磁波反射フィルム１〜４についてヘイズを測定した結果、電磁波反射フィルム１（実施例１）が０．８％、電磁波反射フィルム２（実施例２）が０．９％、電磁波反射フィルム３（比較例１）が１．７％、および電磁波反射フィルム４（比較例２）が２．０％であった。なお、ヘイズはＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠し、村上色彩研究所製ＨＭ-１５０を測定装置として用いて測定した。

１０ … 電磁波反射フィルム
１１ … 透明基板
１２ … 第１選択反射層
１２’ … 第１選択反射層形成用層
１３ … 第２選択反射層
１３’ … 第２選択反射層形成用層

Claims (4)

1. 透明基板を用い、前記透明基板上に、下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、前記棒状化合物に旋回性を与える第１カイラル剤、および第１レベリング剤を含有する第１選択反射層形成用塗工液を塗工して第１選択反射層形成用層を形成し、前記第１選択反射層形成用層に２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲の紫外線を照射することにより第１選択反射層を形成する第１選択反射層形成工程と、
   下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、前記棒状化合物に旋回性を与える第２カイラル剤、および第２レベリング剤を含有する第２選択反射層形成用塗工液を用い、前記第１選択反射層上に直接的に接するように前記第２選択反射層形成用塗工液を塗工して第２選択反射層形成用層を形成し、前記第２選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第２選択反射層を形成する第２選択反射層形成工程と、
   を有し、
   前記第１選択反射層の表面の純水に対する接触角が６５〜８５度の範囲内であることを特徴とする、電磁波反射フィルムの製造方法。
   

   
2. 透明基板を用い、前記透明基板上に、下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、前記棒状化合物に旋回性を与える第１カイラル剤、および第１レベリング剤を含有する第１選択反射層形成用塗工液を塗工して第１選択反射層形成用層を形成し、前記第１選択反射層形成用層に２５ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲の紫外線を照射することにより第１選択反射層を形成する第１選択反射層形成工程と、
   下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物、前記棒状化合物に旋回性を与える第２カイラル剤、および第２レベリング剤を含有する第２選択反射層形成用塗工液を用い、前記第１選択反射層上に直接的に接するように前記第２選択反射層形成用塗工液を塗工して第２選択反射層形成用層を形成し、前記第２選択反射層形成用層に紫外線を照射することにより第２選択反射層を形成する第２選択反射層形成工程と、
   を有し、
   前記第１選択反射層の表面のビッカース硬度が５〜２５の範囲内であることを特徴とする、電磁波反射フィルムの製造方法。
   

   
3. 透明基板と、前記透明基板上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有する第１選択反射層と、前記第１選択反射層上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有する第２選択反射層と、を有する電磁波反射フィルムであって、
   前記第２選択反射層が前記第１選択反射層上に直接的に接するように形成されており、かつ前記第２選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が８０％以上であり、
   前記第１選択反射層の表面の純水に対する接触角が６５〜８５度の範囲内であることを特徴とする、電磁波反射フィルム。
   

   
4. 透明基板と、前記透明基板上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有する第１選択反射層と、前記第１選択反射層上に形成され、コレステリック構造を形成した下記構造式（Ｉ）で表わされる棒状化合物を含有する第２選択反射層と、を有する電磁波反射フィルムであって、
   前記第２選択反射層が前記第１選択反射層上に直接的に接するように形成されており、かつ前記第２選択反射層において選択反射される光のうち正反射される光の割合が８０％以上であり、
   前記第１選択反射層の表面のビッカース硬度が５〜２５の範囲内であることを特徴とする、電磁波反射フィルム。
   

   

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