JP2001152088A - カチオン電着塗料組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低加熱減量及び低温硬化性、及び平滑性
に優れた電着塗膜を提供すること。 【解決手段】 ブロックポリイソシアネート硬化型カチ
オン電着塗料において、架橋剤として1分子中に少なく
とも2個のイソシアネート基が、一般式(1) R1−CO−NH−R2 (1) (式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピ
ル基を示し、R2はメチル基又はエチル基を示す。)で表
わされるアミド化合物でブロック化されてなる、一般式
(2) 【化5】 (式中、Aはイソシアネート化合物残基を示し、R1及びR
2は上記と同様の意味を示す。)で表される基を含有す
るブロック化ポリイソシアネートを架橋剤として含むこ
とを特徴とするカチオン電着塗料組成物。
に優れた電着塗膜を提供すること。 【解決手段】 ブロックポリイソシアネート硬化型カチ
オン電着塗料において、架橋剤として1分子中に少なく
とも2個のイソシアネート基が、一般式(1) R1−CO−NH−R2 (1) (式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピ
ル基を示し、R2はメチル基又はエチル基を示す。)で表
わされるアミド化合物でブロック化されてなる、一般式
(2) 【化5】 (式中、Aはイソシアネート化合物残基を示し、R1及びR
2は上記と同様の意味を示す。)で表される基を含有す
るブロック化ポリイソシアネートを架橋剤として含むこ
とを特徴とするカチオン電着塗料組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】 本発明は電着塗料組成物に
関し、詳しくはブロックポリイソシアネート架橋剤を含
む電着塗料組成物で、低加熱減量(低ヤニ・スス)、低
温硬化性、かつ塗面平滑性良好な電着塗膜を形成でき
る、カチオン電着塗料組成物に関する。
関し、詳しくはブロックポリイソシアネート架橋剤を含
む電着塗料組成物で、低加熱減量(低ヤニ・スス)、低
温硬化性、かつ塗面平滑性良好な電着塗膜を形成でき
る、カチオン電着塗料組成物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】 アミ
ン付加エポキシ樹脂とブロックポリイソシアネートを反
応させ、熱硬化させてなるカチオン電着塗料組成物にお
いて架橋剤として用いるブロックポリイソシアネート化
合物には、ポリイソシアネート化合物とブロック化剤が
包含される。このポリイソシアネート化合物としては、
例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソ
シイアネート、ビス(イソシアネートメチル)シクロヘ
キサン、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、イ
ソホロンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネー
ト、ジフェニルジイソシアネートなどの芳香族、脂環
族、脂肪族のポリイソシアネート化合物が挙げられる。
ン付加エポキシ樹脂とブロックポリイソシアネートを反
応させ、熱硬化させてなるカチオン電着塗料組成物にお
いて架橋剤として用いるブロックポリイソシアネート化
合物には、ポリイソシアネート化合物とブロック化剤が
包含される。このポリイソシアネート化合物としては、
例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソ
シイアネート、ビス(イソシアネートメチル)シクロヘ
キサン、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、イ
ソホロンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネー
ト、ジフェニルジイソシアネートなどの芳香族、脂環
族、脂肪族のポリイソシアネート化合物が挙げられる。
【0003】一方、ブロック化剤はポリイソシアネート
化合物のイソシアネート基に付加してブロックするもの
であり、そして付加によって生成するブロックイソシア
ネート化合物は、常温において安定で、かつ通常約10
0〜約200℃の範囲内の温度に加熱した際にブロック
化剤を解離して遊離のイソシアネート基を再生しうるも
のであることが重要である。このような要件を満たすブ
ロック剤としては、例えば、ε−カプロラクタム、γ−
ブチロラクタムなどのラクタム化合物;メチルエチルケ
トオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム
系化合物;フェノール、パラ−t−ブチルフェノール、
クレゾールなどのフェノール系化合物;n−ブタノー
ル、2−エチルヘキサノールなどの脂肪族アルコール
類;フェニルカルビノール、メチルフェニルカルビノー
ルなどの芳香族アルキルアルコール類;エチレングリコ
ールモノブチルエーテルなどのエーテルアルコール系化
合物等が挙げられる。
化合物のイソシアネート基に付加してブロックするもの
であり、そして付加によって生成するブロックイソシア
ネート化合物は、常温において安定で、かつ通常約10
0〜約200℃の範囲内の温度に加熱した際にブロック
化剤を解離して遊離のイソシアネート基を再生しうるも
のであることが重要である。このような要件を満たすブ
ロック剤としては、例えば、ε−カプロラクタム、γ−
ブチロラクタムなどのラクタム化合物;メチルエチルケ
トオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム
系化合物;フェノール、パラ−t−ブチルフェノール、
クレゾールなどのフェノール系化合物;n−ブタノー
ル、2−エチルヘキサノールなどの脂肪族アルコール
類;フェニルカルビノール、メチルフェニルカルビノー
ルなどの芳香族アルキルアルコール類;エチレングリコ
ールモノブチルエーテルなどのエーテルアルコール系化
合物等が挙げられる。
【0004】従来、塗膜の防食性や塗料としての安定性
の面から、ポリイソシアネートとして芳香族系や脂肪族
系、またブロック化剤としてはエーテルアルコール系化
合物が使われていた。しかし加熱減量分(塗膜の焼き付
け硬化時の減量割合)によるところのライン乾燥機内で
のヤニ・ススの増大、またライン乾燥機焼き付け温度低
下によるコストダウンから、塗膜の低温硬化性が求めら
れておりブロック化剤としてはオキシム系化合物が有効
であった。
の面から、ポリイソシアネートとして芳香族系や脂肪族
系、またブロック化剤としてはエーテルアルコール系化
合物が使われていた。しかし加熱減量分(塗膜の焼き付
け硬化時の減量割合)によるところのライン乾燥機内で
のヤニ・ススの増大、またライン乾燥機焼き付け温度低
下によるコストダウンから、塗膜の低温硬化性が求めら
れておりブロック化剤としてはオキシム系化合物が有効
であった。
【0005】しかしポリイソシアネートとして芳香族系
や脂肪族系、ブロック化剤としてオキシム系を適用した
場合、塗料としての経時安定性及び防食性が問題であ
り、防食性及び塗料の安定性を備え、低加熱減量及び低
温硬化性を得るところの電着塗料組成物中の架橋剤の開
発が求められていた。
や脂肪族系、ブロック化剤としてオキシム系を適用した
場合、塗料としての経時安定性及び防食性が問題であ
り、防食性及び塗料の安定性を備え、低加熱減量及び低
温硬化性を得るところの電着塗料組成物中の架橋剤の開
発が求められていた。
【0006】
【課題を解決するための手段】 本発明者らは、上記問
題を解決すべく鋭意検討した。その結果、電着塗料組成
物中の架橋剤にブロックポリイソシアネート硬化型カチ
オン電着において、架橋剤として特定の架橋剤を使用す
ることにより防食性及び安定性にも優れ上記問題点を改
善することを見出し、本発明を完成するに至った。
題を解決すべく鋭意検討した。その結果、電着塗料組成
物中の架橋剤にブロックポリイソシアネート硬化型カチ
オン電着において、架橋剤として特定の架橋剤を使用す
ることにより防食性及び安定性にも優れ上記問題点を改
善することを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】即ち本発明は、 1.ブロックポリイソシアネート硬化型カチオン電着塗
料において、架橋剤として1分子中に少なくとも1個の
イソシアネート基が一般式(1)、 R1−CO−NH−R2 (1) (式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピ
ル基を示し、R2はメチル基又はエチル基を示す。)で表
わされるアミド化合物でブロック化されてなる一般式
(2)、
料において、架橋剤として1分子中に少なくとも1個の
イソシアネート基が一般式(1)、 R1−CO−NH−R2 (1) (式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピ
ル基を示し、R2はメチル基又はエチル基を示す。)で表
わされるアミド化合物でブロック化されてなる一般式
(2)、
【0008】
【化2】
【0009】(式中、Aはイソシアネート化合物残基を
示し、R1及びR2は上記と同様の意味を示す。)で表され
る基を含有するブロック化ポリイソシアネートを架橋剤
として含むことを特徴とするカチオン電着塗料組成物、 ブロックポリイソシアネート硬化型カチオン電着塗料に
おいて、該塗料で使用される樹脂が、一般式(2)で表
わされる基が平均0.1個以上結合してなるブロック化
されたイソシアネート基を含有するカチオン性電着塗料
用樹脂であることを特徴とするカチオン電着塗料組成
物、 3.上記ポリイソシアネート化合物が、芳香族ポリイソ
シアネートであるところのカチオン電着塗料組成物、 4.アミド化合物が、n−メチルアセトアミド、n−エ
チルアセトアミド、n−メチルプロピルアミド、n−メ
チルフォルムアミドから選ばれる少なくとも1種の化合
物であることを特徴とする上記1又は2項に記載のカチ
オン電着塗料組成物、 5.上記カチオン電着塗料組成物において、電着塗料中
の樹脂固形分100重量部に対して無機ビスマス化合
物、及び/又は有機酸ビスマス塩をビスマス含有量で
0.01〜10重量部となるように配合する上記1〜4
項のいずれか1項に記載のカチオン電着塗料組成物、
示し、R1及びR2は上記と同様の意味を示す。)で表され
る基を含有するブロック化ポリイソシアネートを架橋剤
として含むことを特徴とするカチオン電着塗料組成物、 ブロックポリイソシアネート硬化型カチオン電着塗料に
おいて、該塗料で使用される樹脂が、一般式(2)で表
わされる基が平均0.1個以上結合してなるブロック化
されたイソシアネート基を含有するカチオン性電着塗料
用樹脂であることを特徴とするカチオン電着塗料組成
物、 3.上記ポリイソシアネート化合物が、芳香族ポリイソ
シアネートであるところのカチオン電着塗料組成物、 4.アミド化合物が、n−メチルアセトアミド、n−エ
チルアセトアミド、n−メチルプロピルアミド、n−メ
チルフォルムアミドから選ばれる少なくとも1種の化合
物であることを特徴とする上記1又は2項に記載のカチ
オン電着塗料組成物、 5.上記カチオン電着塗料組成物において、電着塗料中
の樹脂固形分100重量部に対して無機ビスマス化合
物、及び/又は有機酸ビスマス塩をビスマス含有量で
0.01〜10重量部となるように配合する上記1〜4
項のいずれか1項に記載のカチオン電着塗料組成物、
【0010】
【発明の実施の形態】 本発明カチオン電着塗料は、イ
ソシアネート基と反応する活性水素を含有するカチオン
性基体樹脂がブロック化されたポリイソシアネート基に
より加熱硬化するカチオン電着塗料である。
ソシアネート基と反応する活性水素を含有するカチオン
性基体樹脂がブロック化されたポリイソシアネート基に
より加熱硬化するカチオン電着塗料である。
【0011】上記ブロック化されたポリイソシアネート
は、活性水素基含有カチオン性基体樹脂に外部架橋剤と
して配合(請求項1に記載の塗料組成物A)しても、も
しくは活性水素基含有カチオン性基体樹脂中に結合した
内部架橋剤として含有(請求項2に記載の塗料組成物
B)しても構わない。
は、活性水素基含有カチオン性基体樹脂に外部架橋剤と
して配合(請求項1に記載の塗料組成物A)しても、も
しくは活性水素基含有カチオン性基体樹脂中に結合した
内部架橋剤として含有(請求項2に記載の塗料組成物
B)しても構わない。
【0012】上記塗料組成物Aについて以下に述べる。
基体樹脂としては、エポキシ系、アクリル系、ポリブタ
ジエン系、アルキド系、ポリエステル系などのいずれの
樹脂でも使用することができるが、エポキシ樹脂が好ま
しく、そのものにアミンを付加してカチオン電着塗料組
成物として用いられる。
基体樹脂としては、エポキシ系、アクリル系、ポリブタ
ジエン系、アルキド系、ポリエステル系などのいずれの
樹脂でも使用することができるが、エポキシ樹脂が好ま
しく、そのものにアミンを付加してカチオン電着塗料組
成物として用いられる。
【0013】上記アミン付加エポキシ樹脂としては、例
えば、(I)ポリエポキシ化合物と1級モノ−及びポリ
アミン、2級モノ−及びポリアミン又は1、2級混合ポ
リアミンとの付加物(例えば、米国特許第3,984,299号
明細書参照);(II)ポリエポキシド化合物とケチミン
化された1級アミノ基を有する2級モノ−及びポリアミ
ンとの付加物(例えば、米国特許第4,017,438号 明細書
参照);(III)ポリエポキシド化合物とケチミン化さ
れた1級アミノ基を有するヒドロキシ化合物とのエーテ
ル化により得られる反応物(例えば、特開昭59−43013
号公報参照)等を挙げることができる。
えば、(I)ポリエポキシ化合物と1級モノ−及びポリ
アミン、2級モノ−及びポリアミン又は1、2級混合ポ
リアミンとの付加物(例えば、米国特許第3,984,299号
明細書参照);(II)ポリエポキシド化合物とケチミン
化された1級アミノ基を有する2級モノ−及びポリアミ
ンとの付加物(例えば、米国特許第4,017,438号 明細書
参照);(III)ポリエポキシド化合物とケチミン化さ
れた1級アミノ基を有するヒドロキシ化合物とのエーテ
ル化により得られる反応物(例えば、特開昭59−43013
号公報参照)等を挙げることができる。
【0014】上記アミン付加エポキシ樹脂の製造に使用
されるポリエポキシド化合物は、エポキシ基を1分子中
に2個以上有する化合物であり、一般に少なくとも20
0、好ましくは400〜4000、更に好ましくは80
0〜2000の範囲内の数平均分子量を有するものが適
しており、特にポリフェノール化合物とエピクロルヒド
リンとの反応によって得られるものが好ましい。該ポリ
エポキシド化合物の形成のために用い得るポリフェノー
ル化合物としては、例えば、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2,2−プロパン、4,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1
−エタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1−
イソブタン、ビス(4−ヒドロキシ−tert−ブチル−フ
ェニル)−2,2−プロパン、ビス(2−ヒドロキシナ
フチル)メタン、テトラ(4−ヒドロキシフェニル)−
1,1,2,2−エタン、4,4−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、フェノールノボラック、クレゾールノボ
ラック等を挙げることができる。
されるポリエポキシド化合物は、エポキシ基を1分子中
に2個以上有する化合物であり、一般に少なくとも20
0、好ましくは400〜4000、更に好ましくは80
0〜2000の範囲内の数平均分子量を有するものが適
しており、特にポリフェノール化合物とエピクロルヒド
リンとの反応によって得られるものが好ましい。該ポリ
エポキシド化合物の形成のために用い得るポリフェノー
ル化合物としては、例えば、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2,2−プロパン、4,4−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1
−エタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1−
イソブタン、ビス(4−ヒドロキシ−tert−ブチル−フ
ェニル)−2,2−プロパン、ビス(2−ヒドロキシナ
フチル)メタン、テトラ(4−ヒドロキシフェニル)−
1,1,2,2−エタン、4,4−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、フェノールノボラック、クレゾールノボ
ラック等を挙げることができる。
【0015】該ポリエポキシド化合物は、ポリオール、
ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポ
リアミドアミン、ポリカルボン酸、ポリイソシアネート
化合物などと一部反応させたものであってもよく、更に
また、ε−カプロラクトン、アクリルモノマーなどをグ
ラフト重合させたものであってもよい。塗料組成物Aの
架橋剤として用いるブロック化ポリイソシアネートとし
ては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレン
ジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ビス
(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、テトラメチ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、メチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシア
ネートなどの芳香族、脂肪族又は脂環族のポリイソシア
ネート化合物、及びこれらのイソシアネート化合物の過
剰量にエチレングリコール、プロピレングリコール、ト
リメチロールプロパン、ヘキサントリオール、ヒマシ油
などの低分子活性水素含有化合物を反応させて得られる
末端イソシアネート含有化合物を一般式(1)で表わさ
れるアミド化合物と反応させたものである。
ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポ
リアミドアミン、ポリカルボン酸、ポリイソシアネート
化合物などと一部反応させたものであってもよく、更に
また、ε−カプロラクトン、アクリルモノマーなどをグ
ラフト重合させたものであってもよい。塗料組成物Aの
架橋剤として用いるブロック化ポリイソシアネートとし
ては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレン
ジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ビス
(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、テトラメチ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、メチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシア
ネートなどの芳香族、脂肪族又は脂環族のポリイソシア
ネート化合物、及びこれらのイソシアネート化合物の過
剰量にエチレングリコール、プロピレングリコール、ト
リメチロールプロパン、ヘキサントリオール、ヒマシ油
などの低分子活性水素含有化合物を反応させて得られる
末端イソシアネート含有化合物を一般式(1)で表わさ
れるアミド化合物と反応させたものである。
【0016】この中で特に芳香族ジイソシアネート、な
かでもジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネー
ト、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート
(通常、MDIと呼ばれる)、及びジフェニルメタン−
4,4'−ジイソシアネートとジフェニルメタン−2,
4'−ジイソシアネートとポリメチレンポリフェニルイ
ソシアネートとの混合物(通常、クルードMDIと呼ば
れる)などのようなポリイソシアネート化合物が好まし
い。
かでもジフェニルメタン−2,4'−ジイソシアネー
ト、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート
(通常、MDIと呼ばれる)、及びジフェニルメタン−
4,4'−ジイソシアネートとジフェニルメタン−2,
4'−ジイソシアネートとポリメチレンポリフェニルイ
ソシアネートとの混合物(通常、クルードMDIと呼ば
れる)などのようなポリイソシアネート化合物が好まし
い。
【0017】ブロック化剤はポリイソシアネート化合物
のイソシアネート基に付加してブロックするものであ
り、そして付加によって生成するブロックポリイソシア
ネート化合物は常温において安定で且つ約100〜20
0℃、好ましくは120〜150℃に加熱した際、ブロ
ック剤を解離して遊離のイソシアネート基を再生しうる
ものであることが望ましい。また解離するブロック剤と
しては分子量が小さい程、形成した加熱減量が少なく、
またそのことにより乾燥炉の低ヤニ・ススに寄与する。
のイソシアネート基に付加してブロックするものであ
り、そして付加によって生成するブロックポリイソシア
ネート化合物は常温において安定で且つ約100〜20
0℃、好ましくは120〜150℃に加熱した際、ブロ
ック剤を解離して遊離のイソシアネート基を再生しうる
ものであることが望ましい。また解離するブロック剤と
しては分子量が小さい程、形成した加熱減量が少なく、
またそのことにより乾燥炉の低ヤニ・ススに寄与する。
【0018】そのようなブロック化剤として、低分子ポ
リアミドが挙げられ、特に好ましいものとしてn−メチ
ルアセトアミド、n−エチルアセトアミド、n−メチル
プロピオンアミド、n−メチルホルムアミドなどのアミ
ド系が挙げられ、単独でも併用してもかまわない。また
従来から用いられているブロックを一部併用してもかま
わない。このようなブロック剤としては、例えば、ε−
カプロラクタム、γ−ブチロラクタムなどのラクタム系
化合物;メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノン
オキシムなどのオキシム系化合物;フェノール、パラ−
t−ブチルフェノール、クレゾールなどのフェノール系
化合物;n−ブタノール、2−エチルヘキサノールなど
の脂肪族アルコール類;フェニルカルビノール、メチル
フェニルカルビノールなどの芳香族アルキルアルコール
類;エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエー
テルアルコール系化合物等を挙げることができる。
リアミドが挙げられ、特に好ましいものとしてn−メチ
ルアセトアミド、n−エチルアセトアミド、n−メチル
プロピオンアミド、n−メチルホルムアミドなどのアミ
ド系が挙げられ、単独でも併用してもかまわない。また
従来から用いられているブロックを一部併用してもかま
わない。このようなブロック剤としては、例えば、ε−
カプロラクタム、γ−ブチロラクタムなどのラクタム系
化合物;メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノン
オキシムなどのオキシム系化合物;フェノール、パラ−
t−ブチルフェノール、クレゾールなどのフェノール系
化合物;n−ブタノール、2−エチルヘキサノールなど
の脂肪族アルコール類;フェニルカルビノール、メチル
フェニルカルビノールなどの芳香族アルキルアルコール
類;エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエー
テルアルコール系化合物等を挙げることができる。
【0019】このブロック剤の配合量としては、イソシ
アネートのNCO基に対して1:1〜1:1.3で反応
させることが好ましい。比率が1.3を越えるとブロッ
ク剤が残存して塗膜の防食性を低下させ、1.0未満で
はNCO基が残存して塗料組成物の安定性を損なうので
好ましくない。
アネートのNCO基に対して1:1〜1:1.3で反応
させることが好ましい。比率が1.3を越えるとブロッ
ク剤が残存して塗膜の防食性を低下させ、1.0未満で
はNCO基が残存して塗料組成物の安定性を損なうので
好ましくない。
【0020】ブロック化ポリイソシアネートにおいて、
ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート(MD
I)を例にとると下記した構造となる。
ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート(MD
I)を例にとると下記した構造となる。
【0021】
【化3】
【0022】(式中、R1は水素原子、メチル基、エチ
ル基又はプロピル基を示し、R2はメチル基又はエチル
基を示し。Aはイソシアネート化合物残基を示す。)基
体樹脂の中和・水性化は、通常、該樹脂を脂肪族カルボ
ン酸、特に酢酸及び/又はギ酸などの水溶性有機酸で中
和して水溶化・水分散化することによって行われる。中
和剤として酢酸及び/又はギ酸を用いると、仕上がり
性、つきまわり性、低温硬化性などに優れるので好まし
い。
ル基又はプロピル基を示し、R2はメチル基又はエチル
基を示し。Aはイソシアネート化合物残基を示す。)基
体樹脂の中和・水性化は、通常、該樹脂を脂肪族カルボ
ン酸、特に酢酸及び/又はギ酸などの水溶性有機酸で中
和して水溶化・水分散化することによって行われる。中
和剤として酢酸及び/又はギ酸を用いると、仕上がり
性、つきまわり性、低温硬化性などに優れるので好まし
い。
【0023】次に、塗料組成物Bについて述べる。塗料
組成物Bは、ブロックポリイソシアネート硬化型カチオ
ン電着塗料であって、該塗料で使用される樹脂は、一般
式(2)で表わされる基が平均0.1個以上結合してな
るブロック化されたイソシアネート基とカチオン性基を
含有するカチオン性電着塗料用樹脂である。該塗料用樹
脂は、例えば、エポキシ樹脂とポリアミン化合物を反応
させて得られる活性水素基(1級、2級等のアミノ基や水
酸基(エポキシ樹脂中))を含有する基体樹脂とハーフ
ブロック化したポリイソシアネート化合物とを反応させ
ることによって得られる。該樹脂はブロック化されたポ
リイソシアネート成分とカチオン性基(アミノ基、第4
級アミノ基等)とを含有する内部架橋型カチオン性基体
樹脂である。該樹脂中に一般式(2)で表される基が平
均0.1個以上、好ましくは0.2〜1.2個含有する
ことが好ましい。0.1個未満になると架橋密度が低下
し防食性が悪くなる。
組成物Bは、ブロックポリイソシアネート硬化型カチオ
ン電着塗料であって、該塗料で使用される樹脂は、一般
式(2)で表わされる基が平均0.1個以上結合してな
るブロック化されたイソシアネート基とカチオン性基を
含有するカチオン性電着塗料用樹脂である。該塗料用樹
脂は、例えば、エポキシ樹脂とポリアミン化合物を反応
させて得られる活性水素基(1級、2級等のアミノ基や水
酸基(エポキシ樹脂中))を含有する基体樹脂とハーフ
ブロック化したポリイソシアネート化合物とを反応させ
ることによって得られる。該樹脂はブロック化されたポ
リイソシアネート成分とカチオン性基(アミノ基、第4
級アミノ基等)とを含有する内部架橋型カチオン性基体
樹脂である。該樹脂中に一般式(2)で表される基が平
均0.1個以上、好ましくは0.2〜1.2個含有する
ことが好ましい。0.1個未満になると架橋密度が低下
し防食性が悪くなる。
【0024】塗料組成物Bの中和・水性化は、通常、該
樹脂を脂肪族カルボン酸、特に酢酸及び/又はギ酸など
の水溶性有機酸で中和して水溶化・水分散化することに
よって行われる。中和剤として酢酸及び/又はギ酸を用
いると、仕上がり性、つきまわり性、低温硬化性などに
優れるので好ましい。
樹脂を脂肪族カルボン酸、特に酢酸及び/又はギ酸など
の水溶性有機酸で中和して水溶化・水分散化することに
よって行われる。中和剤として酢酸及び/又はギ酸を用
いると、仕上がり性、つきまわり性、低温硬化性などに
優れるので好ましい。
【0025】このハーフブロック化されたポリイソシア
ネート化合物を基体樹脂に付加した樹脂の製造方法とし
ては、例えば、上記塗料組成物Aに記載のアミン付加エ
ポキシ樹脂と部分ブロック化 架橋剤の遊離イソシアネ
ート基が実質的になくなる(赤外吸収スペクトルに分析
で確認することが出来る)まで反応させることによって
得られる。該部分ブロック化架橋剤はMDIを、必要に
応じてMDI及びアミド化合物と実質的に反応しない不
活性有機溶剤(例えばエステル系溶剤、ケトン系溶剤、
芳香族系溶剤、エーテル系溶剤等)で希釈し、次いで、
例えば約20〜150℃、好ましくは30〜100℃で
約10分間〜24時間、好ましくは約20分間〜15時
間反応させることにより得られる。MDIとアミド化合
物を含むブロック剤との配合割合はMDI1モルに対し
て約1.0〜1.98モル、好ましくは約1.05〜
1.95モルの範囲である。
ネート化合物を基体樹脂に付加した樹脂の製造方法とし
ては、例えば、上記塗料組成物Aに記載のアミン付加エ
ポキシ樹脂と部分ブロック化 架橋剤の遊離イソシアネ
ート基が実質的になくなる(赤外吸収スペクトルに分析
で確認することが出来る)まで反応させることによって
得られる。該部分ブロック化架橋剤はMDIを、必要に
応じてMDI及びアミド化合物と実質的に反応しない不
活性有機溶剤(例えばエステル系溶剤、ケトン系溶剤、
芳香族系溶剤、エーテル系溶剤等)で希釈し、次いで、
例えば約20〜150℃、好ましくは30〜100℃で
約10分間〜24時間、好ましくは約20分間〜15時
間反応させることにより得られる。MDIとアミド化合
物を含むブロック剤との配合割合はMDI1モルに対し
て約1.0〜1.98モル、好ましくは約1.05〜
1.95モルの範囲である。
【0026】このハーフブロック化されたポリイソシア
ネート化合物を基体樹脂に付加した、樹脂の模式図を以
下に示す。
ネート化合物を基体樹脂に付加した、樹脂の模式図を以
下に示す。
【0027】
【化4】
【0028】(式中、A、R1及びR2は前記と同様の意
味を示す。)本発明の電着塗料組成物は、さらに錫化合
物を含有することができる。該錫化合物としては、例え
ば、ジブチル錫オキサイド、ジオクチル錫オキサイドな
どの有機錫酸化物;ジブチル錫ジラウレート、ジオクチ
ル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチ
ル錫ベンゾエートオキシ、ジブチル錫ベンゾエートオキ
シ、ジオクチル錫ジベンゾエート、ジブチル錫ジベンゾ
エートなどのジアルキル錫の脂肪酸または芳香族カルボ
ン酸塩等を挙げることができ、このうち低温硬化性の点
からジアルキル錫芳香族カルボン酸塩などが好適であ
る。
味を示す。)本発明の電着塗料組成物は、さらに錫化合
物を含有することができる。該錫化合物としては、例え
ば、ジブチル錫オキサイド、ジオクチル錫オキサイドな
どの有機錫酸化物;ジブチル錫ジラウレート、ジオクチ
ル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチ
ル錫ベンゾエートオキシ、ジブチル錫ベンゾエートオキ
シ、ジオクチル錫ジベンゾエート、ジブチル錫ジベンゾ
エートなどのジアルキル錫の脂肪酸または芳香族カルボ
ン酸塩等を挙げることができ、このうち低温硬化性の点
からジアルキル錫芳香族カルボン酸塩などが好適であ
る。
【0029】電着塗料組成物中での錫化合物の含有量
は、厳密に規定されるものではなく、電着塗料に要求さ
れる性能等に応じて広範囲にわたって変えることができ
るが、通常、電着塗料中の樹脂固形分100重量部あた
りの錫含有量が0〜8重量部、好ましくは0.05〜5
重量部の範囲内となるようにするのが好適である。
は、厳密に規定されるものではなく、電着塗料に要求さ
れる性能等に応じて広範囲にわたって変えることができ
るが、通常、電着塗料中の樹脂固形分100重量部あた
りの錫含有量が0〜8重量部、好ましくは0.05〜5
重量部の範囲内となるようにするのが好適である。
【0030】本発明の電着塗料組成物には、さらに必要
に応じて、着色顔料、体質顔料、有機溶剤、顔料分散
剤、塗面調整剤などの塗料添加物を配合することができ
る。
に応じて、着色顔料、体質顔料、有機溶剤、顔料分散
剤、塗面調整剤などの塗料添加物を配合することができ
る。
【0031】本発明の電着塗料組成物は、電着塗装によ
って所望の基材表面に塗装することができる。電着塗装
は、一般には、固形分濃度が約5〜40重量%となるよ
うに脱イオン水などで希釈し、さらにpHを5.5〜
9.0の範囲内に調整した本発明の電着塗料組成物から
なる電着浴を、通常、浴温15〜35℃に調整し、負荷
電圧100〜400Vの条件で行うことができる。
って所望の基材表面に塗装することができる。電着塗装
は、一般には、固形分濃度が約5〜40重量%となるよ
うに脱イオン水などで希釈し、さらにpHを5.5〜
9.0の範囲内に調整した本発明の電着塗料組成物から
なる電着浴を、通常、浴温15〜35℃に調整し、負荷
電圧100〜400Vの条件で行うことができる。
【0032】本発明の電着塗料組成物を用いて形成しう
る電着塗膜の膜厚は、特に制限されるものではないが、
一般的には、乾燥塗膜に基づいて10〜40μm、好ま
しくは15〜30μmの範囲がよい。また、塗膜の焼き
付け硬化温度は、一般に100〜200℃、好ましくは
120〜160℃の範囲が適している。
る電着塗膜の膜厚は、特に制限されるものではないが、
一般的には、乾燥塗膜に基づいて10〜40μm、好ま
しくは15〜30μmの範囲がよい。また、塗膜の焼き
付け硬化温度は、一般に100〜200℃、好ましくは
120〜160℃の範囲が適している。
【0033】
【発明の効果】 本発明によれば、電着塗料組成物中の
架橋剤として用いるブロックポリイソシアネートにおい
て、ブロック化剤として低分子アミド化合物を用いるこ
とにより低加熱減量、低温硬化性に優れた電着塗膜が得
られる。
架橋剤として用いるブロックポリイソシアネートにおい
て、ブロック化剤として低分子アミド化合物を用いるこ
とにより低加熱減量、低温硬化性に優れた電着塗膜が得
られる。
【0034】
【実施例】 以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明する。本発明はこれによって限定されるものでは
ない。尚、「%」は「重量%」を示す。
に説明する。本発明はこれによって限定されるものでは
ない。尚、「%」は「重量%」を示す。
【0035】製造例1 エピコート828EL(油化シェル社製、商品名、エポ
キシ樹脂)1010g、ビスフェノールA390g、ジ
メチルベンジルアミノ0.2gを加え、130℃でエポ
キシ当量800になるまで反応させた。次にε−カプロ
ラクトン260g、テトラブトキシチタン0.03gを
加え、170℃に昇温し、この温度を保ちながら経時で
サンプリングを行い、赤外吸収スペクトル測定において
未反応のε−カプロラクトン量を追跡し、反応率が98
%以上になった時点で120℃に温度を下げた。次にジ
エタノールアミン160g、ジエチレントリアミンのメ
チルイソブチルジケチミン化物65gを加え、120℃
で4時間反応させ、ブチルセルソルブ420gを加え、
アミン価58、樹脂固形分80%の樹脂NO.1(可塑
変性エポキシ樹脂)を得た。
キシ樹脂)1010g、ビスフェノールA390g、ジ
メチルベンジルアミノ0.2gを加え、130℃でエポ
キシ当量800になるまで反応させた。次にε−カプロ
ラクトン260g、テトラブトキシチタン0.03gを
加え、170℃に昇温し、この温度を保ちながら経時で
サンプリングを行い、赤外吸収スペクトル測定において
未反応のε−カプロラクトン量を追跡し、反応率が98
%以上になった時点で120℃に温度を下げた。次にジ
エタノールアミン160g、ジエチレントリアミンのメ
チルイソブチルジケチミン化物65gを加え、120℃
で4時間反応させ、ブチルセルソルブ420gを加え、
アミン価58、樹脂固形分80%の樹脂NO.1(可塑
変性エポキシ樹脂)を得た。
【0036】製造例2 MDI 250g、メチルイソブチルケトン40gを加え
70℃に昇温した。メチルアセトアミド110gをゆっ
くり加えた後90℃に昇温した。この温度を5時間保つ
ことにより、固形分90%の部分ブロック化架橋剤A
(MDI架橋剤(部分ブロックイソシアネート化合物))
を得た。
70℃に昇温した。メチルアセトアミド110gをゆっ
くり加えた後90℃に昇温した。この温度を5時間保つ
ことにより、固形分90%の部分ブロック化架橋剤A
(MDI架橋剤(部分ブロックイソシアネート化合物))
を得た。
【0037】製造例3 エピコート828EL(油化シェル社製、商品名、エポ
キシ樹脂)1010g、ビスフェノールA 390g、ジ
メチルベンジルアミン0.2gを加え、130℃でエポ
キシ当量800になるまで反応させた。次にε−カプロ
ラクトン 260g、テトラブトキシチタン0.03g
を加え170℃に昇温し、この温度を保ちながら経時で
サンプリングし、赤外吸収スペクトル測定にて未反応の
ε−カプロラクトン量を追跡し、反応率が98%以上に
なった時点で100℃に温度を下げた。次に製造例2で
作成した、部分ブロック化架橋剤Aを399g加え、1
00℃を保ちながら経時でサンプリングし、赤外吸収ス
ペクトル測定にて未反応のイソシアネートの吸収がなく
なったことを確認するまで反応させた。次にジエタノー
ルアミン160g、ジエチレントリアミンのケチミン化
物65gを加え、120℃で4時間反応させ、ブチルセ
ロソルブ447gを加え、アミン価48、樹脂固形分8
0%の樹脂NO.2(硬化剤付加型可塑変性エポキシ樹
脂)を得た。
キシ樹脂)1010g、ビスフェノールA 390g、ジ
メチルベンジルアミン0.2gを加え、130℃でエポ
キシ当量800になるまで反応させた。次にε−カプロ
ラクトン 260g、テトラブトキシチタン0.03g
を加え170℃に昇温し、この温度を保ちながら経時で
サンプリングし、赤外吸収スペクトル測定にて未反応の
ε−カプロラクトン量を追跡し、反応率が98%以上に
なった時点で100℃に温度を下げた。次に製造例2で
作成した、部分ブロック化架橋剤Aを399g加え、1
00℃を保ちながら経時でサンプリングし、赤外吸収ス
ペクトル測定にて未反応のイソシアネートの吸収がなく
なったことを確認するまで反応させた。次にジエタノー
ルアミン160g、ジエチレントリアミンのケチミン化
物65gを加え、120℃で4時間反応させ、ブチルセ
ロソルブ447gを加え、アミン価48、樹脂固形分8
0%の樹脂NO.2(硬化剤付加型可塑変性エポキシ樹
脂)を得た。
【0038】製造例4 M−200(三井化学社製、商品名、クルードMDI) 2
70g、メチルイソブチルケトン 46gを加え、70
℃に昇温した。メチルアセトアミド146g、をゆっく
り加えた後、90℃に昇温した。この温度を保ちなが
ら、経時でサンプリングし、赤外吸収スペクトル測定に
て未反応のイソシアネートの吸収がなくなったことを確
認することにより、固形分90%の架橋剤B(クルード
MDI架橋剤)を得た。
70g、メチルイソブチルケトン 46gを加え、70
℃に昇温した。メチルアセトアミド146g、をゆっく
り加えた後、90℃に昇温した。この温度を保ちなが
ら、経時でサンプリングし、赤外吸収スペクトル測定に
て未反応のイソシアネートの吸収がなくなったことを確
認することにより、固形分90%の架橋剤B(クルード
MDI架橋剤)を得た。
【0039】製造例5 M−200(三井化学社製、商品名、クルードMDI) 2
70g、メチルイソブチルケトン45gを加え70℃に
昇温した。メチルアセトアミド73g次いでメチルフォ
ルムアミド59gをゆっくり加えた後、90℃に昇温し
た。この温度を保ちながら、経時でサンプリングし、赤
外吸収スペクトル測定にて未反応のイソシアネートの吸
収がなくなったことを確認することにより、固形分90
%の架橋剤C(クルードMDI架橋剤)を得た。
70g、メチルイソブチルケトン45gを加え70℃に
昇温した。メチルアセトアミド73g次いでメチルフォ
ルムアミド59gをゆっくり加えた後、90℃に昇温し
た。この温度を保ちながら、経時でサンプリングし、赤
外吸収スペクトル測定にて未反応のイソシアネートの吸
収がなくなったことを確認することにより、固形分90
%の架橋剤C(クルードMDI架橋剤)を得た。
【0040】製造例6 MDI250g、メチルイソブチルケトン44gを加え
70℃に昇温した。メチルアセトアミド146gをゆっ
くり加えた後、90℃に昇温した。この温度を保ちなが
ら、経時でサンプリングし赤外吸収スペクトル測定にて
未反応のイソシアネートの吸収がなくなったことを確認
することにより、固形分90%の架橋剤D( MDI
[ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート]架
橋剤)を得た。
70℃に昇温した。メチルアセトアミド146gをゆっ
くり加えた後、90℃に昇温した。この温度を保ちなが
ら、経時でサンプリングし赤外吸収スペクトル測定にて
未反応のイソシアネートの吸収がなくなったことを確認
することにより、固形分90%の架橋剤D( MDI
[ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート]架
橋剤)を得た。
【0041】製造例7 M−200(三井化学社製、商品名、クルードMDI)
270g、メチルイソブチルケトン 92gを加え70
℃に昇温した。オレイン酸アミド562gをゆっくり加
えた後90℃に昇温した。この温度を保ちながら、経時
でサンプリングし赤外吸収スペクトル測定にて未反応の
イソシアネートの吸収がなくなったことを確認すること
により、固形分90%の架橋剤E(クルードMDI架橋
剤)を得た。
270g、メチルイソブチルケトン 92gを加え70
℃に昇温した。オレイン酸アミド562gをゆっくり加
えた後90℃に昇温した。この温度を保ちながら、経時
でサンプリングし赤外吸収スペクトル測定にて未反応の
イソシアネートの吸収がなくなったことを確認すること
により、固形分90%の架橋剤E(クルードMDI架橋
剤)を得た。
【0042】製造例8 M−200(三井化学社製、商品名、クルードMDI)
270g、メチルイソブチルケトン 40gを加え70
℃に昇温した。エタノール92gをゆっくり加えた後9
0℃に昇温した。この温度を保ちながら経時でサンプリ
ングし、赤外スペクトル測定にて未反応のイソシアネー
トの吸収がなくなったことにより、固形分90%の架橋
剤F(クルードMDI架橋剤)を得た。
270g、メチルイソブチルケトン 40gを加え70
℃に昇温した。エタノール92gをゆっくり加えた後9
0℃に昇温した。この温度を保ちながら経時でサンプリ
ングし、赤外スペクトル測定にて未反応のイソシアネー
トの吸収がなくなったことにより、固形分90%の架橋
剤F(クルードMDI架橋剤)を得た。
【0043】クリアーエマルションの製造 上記、製造例1で得られた樹脂NO.1 87.5g
(樹脂固形分で70g)、及び製造例2で得られた架橋
剤A(クルードMDIのメチルアセトアミドブロック化
物)33.3g(樹脂固形分で30g)、LSN−105
(三共有機合成社製、商品名、ジブチル錫ジベンゾエー
ト、固形分40%) 2.5g、10%酢酸15gを配
合し、均一に攪拌した後、脱イオン水156gを強く攪
拌しながら約15分かけて滴下し、固形分34.0%の
カチオン電着用クリアーエマルションaを得た。同様に
表1に示すような組み合わせで、エマルションb、c、
d、e、fを得た。
(樹脂固形分で70g)、及び製造例2で得られた架橋
剤A(クルードMDIのメチルアセトアミドブロック化
物)33.3g(樹脂固形分で30g)、LSN−105
(三共有機合成社製、商品名、ジブチル錫ジベンゾエー
ト、固形分40%) 2.5g、10%酢酸15gを配
合し、均一に攪拌した後、脱イオン水156gを強く攪
拌しながら約15分かけて滴下し、固形分34.0%の
カチオン電着用クリアーエマルションaを得た。同様に
表1に示すような組み合わせで、エマルションb、c、
d、e、fを得た。
【0044】
【表1】
【0045】顔料分散ペーストの製造 60%第4級塩化エポキシ樹脂5.83g、チタン白
14.5g、カーボンブラック0.4g、体質顔料
7.0g、ケイ酸鉛 2.0g、脱イオン水22.4g
を加え、固形分55.0%の顔料分散ペーストを得た。
14.5g、カーボンブラック0.4g、体質顔料
7.0g、ケイ酸鉛 2.0g、脱イオン水22.4g
を加え、固形分55.0%の顔料分散ペーストを得た。
【0046】実施例及び比較例 実施例1 カチオン電着用エマルションa 297gに、
顔料分散ペーストを49.8g、及び脱イオン水29
5.2gを加え固形分20%のカチオン電着塗料を得
た。
顔料分散ペーストを49.8g、及び脱イオン水29
5.2gを加え固形分20%のカチオン電着塗料を得
た。
【0047】実施例2〜5及び比較例1、2 カチオン
電着用エマルションb、c、d、及びe、f、それぞれ
に顔料分散ペースト、及び脱イオン水を、実施例1と同
様の配合量を加え固形分20%のカチオン電着塗料を得
た。
電着用エマルションb、c、d、及びe、f、それぞれ
に顔料分散ペースト、及び脱イオン水を、実施例1と同
様の配合量を加え固形分20%のカチオン電着塗料を得
た。
【0048】塗装試験 上記、実施例及び比較例で得た各カチオン電着塗料中
に、パルボンド#3020(日本パーカラジジング社
製、商品名、リン酸亜鉛処理剤)で化成処理した。0.
8×150×70mmの冷延ダル鋼板を浸漬し、これを
カソードとして電着塗装を行った。焼き付けは雰囲気温
度を2段階とし、焼き付け時間を20分間として電気熱
風乾燥機を用いて行った。得られた塗装板の性能試験結
果を表2に示す。性能試験は下記の方法に従って実施し
た。
に、パルボンド#3020(日本パーカラジジング社
製、商品名、リン酸亜鉛処理剤)で化成処理した。0.
8×150×70mmの冷延ダル鋼板を浸漬し、これを
カソードとして電着塗装を行った。焼き付けは雰囲気温
度を2段階とし、焼き付け時間を20分間として電気熱
風乾燥機を用いて行った。得られた塗装板の性能試験結
果を表2に示す。性能試験は下記の方法に従って実施し
た。
【0049】
【表2】
【0050】(*1)加熱減量 電着後、105℃−3時間プレヒートを行った。そのの
ち焼き付け乾燥を行い減量の割合を示す。以下の計算式
によって計算を行った。 被塗物の重量 プレヒート後の塗板重量 焼き付け乾燥後の塗板重量 (( − )/( − )) × 100 重量
% (*2)低温硬化性 各焼き付け温度で得られた電着
塗板の塗面をアセトンをしみこませた4枚重ねのガーゼ
で圧力3.92mPa(約4kgf/cm2)で約3〜
4cmの長さを20往復こすった時の塗面外観を目視で
以下の条件で評価した。○は、塗面に傷が認められな
い、△は、塗面に傷が認められるが素地は見えない。×
は、塗膜が溶解し素地がみえる。
ち焼き付け乾燥を行い減量の割合を示す。以下の計算式
によって計算を行った。 被塗物の重量 プレヒート後の塗板重量 焼き付け乾燥後の塗板重量 (( − )/( − )) × 100 重量
% (*2)低温硬化性 各焼き付け温度で得られた電着
塗板の塗面をアセトンをしみこませた4枚重ねのガーゼ
で圧力3.92mPa(約4kgf/cm2)で約3〜
4cmの長さを20往復こすった時の塗面外観を目視で
以下の条件で評価した。○は、塗面に傷が認められな
い、△は、塗面に傷が認められるが素地は見えない。×
は、塗膜が溶解し素地がみえる。
【0051】(*3)防食性 各焼き付け温度で得ら
れた塗板に、素地に達するように電着塗膜にナイフでク
ロスカット傷を入れ、これをJIS Z−2371に準じて
840時間耐塩水噴霧試験を行い、ナイフ傷からの傷、
フクレ幅によって以下の基準で評価した。 ○は、錆、
フクレの最大幅がカット部より2mm未満(片側)。△
は、錆、フクレの最大幅がカット部より2mm以上、3
mm未満(片側)でかつ平面部にブリスターがかなり目
立つ。×は、錆、フクレの最大幅がカット部より3mm
以上でかつ塗面全面にブリスターの発生がみられる。
れた塗板に、素地に達するように電着塗膜にナイフでク
ロスカット傷を入れ、これをJIS Z−2371に準じて
840時間耐塩水噴霧試験を行い、ナイフ傷からの傷、
フクレ幅によって以下の基準で評価した。 ○は、錆、
フクレの最大幅がカット部より2mm未満(片側)。△
は、錆、フクレの最大幅がカット部より2mm以上、3
mm未満(片側)でかつ平面部にブリスターがかなり目
立つ。×は、錆、フクレの最大幅がカット部より3mm
以上でかつ塗面全面にブリスターの発生がみられる。
Claims (5)
- 【請求項1】 ブロックポリイソシアネート硬化型カチ
オン電着塗料において、架橋剤として1分子中に少なく
とも1個のイソシアネート基が一般式(1) R1−CO−NH−R2 (1) (式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピ
ル基を示し、R2はメチル基又はエチル基を示す。)で表
わされるアミド化合物でブロック化されてなる一般式
(2) 【化1】 (式中、Aはイソシアネート化合物残基を示し、R1及びR
2は上記と同様の意味を示す。)で表される基を含有す
るブロック化ポリイソシアネートを架橋剤として含むこ
とを特徴とするカチオン電着塗料組成物。 - 【請求項2】 ブロックポリイソシアネート硬化型カチ
オン電着塗料において、該塗料で使用される樹脂が、一
般式(2)で表わされる基が平均0.1個以上結合して
なるブロック化されたイソシアネート基を含有するカチ
オン性電着塗料用樹脂であることを特徴とするカチオン
電着塗料組成物。 - 【請求項3】 請求項1乃至請求項2におけるポリイソ
シアネート化合物が、芳香族ポリイソシアネートである
ところのカチオン電着塗料組成物。 - 【請求項4】 アミド化合物が、n−メチルアセトアミ
ド、n−エチルアセトアミド、n−メチルプロピルアミ
ド、n−メチルフォルムアミドから選ばれる少なくとも
1種の化合物であることを特徴とする請求項1に記載の
カチオン電着塗料組成物。 - 【請求項5】上記カチオン電着塗料組成物において、電
着塗料中の樹脂固形分100重量部に対して無機ビスマ
ス化合物、及び/又は有機酸ビスマス塩をビスマス含有
量で0.01〜10重量部となるように配合することを
特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載
のカチオン電着塗料組成物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33350399A JP2001152088A (ja) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | カチオン電着塗料組成物 |
US09/716,245 US6475366B1 (en) | 1999-11-24 | 2000-11-21 | Cationically electrodepositable coating composition |
CA002326539A CA2326539A1 (en) | 1999-11-24 | 2000-11-23 | Cationically electrodepositable coating composition |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33350399A JP2001152088A (ja) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | カチオン電着塗料組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001152088A true JP2001152088A (ja) | 2001-06-05 |
Family
ID=18266790
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---|---|---|---|
JP33350399A Pending JP2001152088A (ja) | 1999-11-24 | 1999-11-24 | カチオン電着塗料組成物 |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US6475366B1 (ja) |
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CA (1) | CA2326539A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005532457A (ja) * | 2002-07-02 | 2005-10-27 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | モルホリンジオンブロック化ポリイソシアネート架橋剤を含む陰極電気塗装組成物 |
JP2008208339A (ja) * | 2007-01-29 | 2008-09-11 | Kansai Paint Co Ltd | カチオン電着塗料組成物及び当該電着塗料を用いて塗装した物品 |
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CN100457843C (zh) * | 2006-07-13 | 2009-02-04 | 上海金力泰化工股份有限公司 | 含双酰胺结构的树脂、含该树脂的阴极电泳涂料及其制法 |
US7666971B2 (en) * | 2006-11-14 | 2010-02-23 | Bayer Materialscience Llc | Amide/urea-modified liquid diphenylmethane diisocyanates |
DE102008022464A1 (de) * | 2008-05-07 | 2009-11-12 | Basf Coatings Ag | Kathodischer Elektrotauchlack enthaltend Vinylpyrrolidon-Copolymer |
JP6441126B2 (ja) | 2015-03-06 | 2018-12-19 | 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 | カチオン電着塗料組成物の調製方法 |
BR112018013275A2 (pt) | 2015-12-31 | 2018-12-11 | Henkel Ag & Co Kgaa | revestimentos de autodeposição de baixo cozimento |
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WO1999012660A1 (fr) * | 1997-09-11 | 1999-03-18 | Kansai Paint Co., Ltd. | Procede de formation de films de revetement multicouches |
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US5074979B1 (en) | 1990-06-20 | 1995-02-28 | Ppg Industries Inc | Cationic resin containing blocked isocyanate groups suitable for use in electrodeposition |
US5630922A (en) * | 1995-12-26 | 1997-05-20 | Ppg Industries, Inc. | Electrodepositable coating composition containing diorganotin dicarboxylates |
JPH09188736A (ja) * | 1996-01-08 | 1997-07-22 | Nippon Paint Co Ltd | 表面平滑性にすぐれたカチオン電着塗料 |
US5972189A (en) * | 1998-05-29 | 1999-10-26 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Electrodepositable coating composition containing bismuth diorganodithiocarbamates and method of electrodeposition |
CA2292483A1 (en) * | 1998-12-17 | 2000-06-17 | Sinzi Hirato | Electrodeposition paint composition |
-
1999
- 1999-11-24 JP JP33350399A patent/JP2001152088A/ja active Pending
-
2000
- 2000-11-21 US US09/716,245 patent/US6475366B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-11-23 CA CA002326539A patent/CA2326539A1/en not_active Abandoned
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Publication number | Publication date |
---|---|
US6475366B1 (en) | 2002-11-05 |
CA2326539A1 (en) | 2001-05-24 |
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