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JP2001024001A - 樹脂封止型半導体装置の製造方法及びリードフレーム - Google Patents

樹脂封止型半導体装置の製造方法及びリードフレーム

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Publication number
JP2001024001A
JP2001024001A JP11197561A JP19756199A JP2001024001A JP 2001024001 A JP2001024001 A JP 2001024001A JP 11197561 A JP11197561 A JP 11197561A JP 19756199 A JP19756199 A JP 19756199A JP 2001024001 A JP2001024001 A JP 2001024001A
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JP
Japan
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resin
lead frame
molded product
sealing
semiconductor device
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JP11197561A
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Katsuki Uchiumi
勝喜 内海
Yukio Yamaguchi
幸雄 山口
Takahiro Matsuo
隆広 松尾
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP19756199A priority Critical patent/JP4205260B2/ja
Publication of JP2001024001A publication Critical patent/JP2001024001A/ja
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Publication of JP4205260B2 publication Critical patent/JP4205260B2/ja
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    • H10W72/0198
    • H10W72/884
    • H10W74/00
    • H10W90/736
    • H10W90/756

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】切断工程での成形品反り矯正時の成形品内部応
力を小さくでき生産性が高く安価で品質の良い樹脂封止
型半導体装置の製造方法とリードフレームを提供する。 【解決手段】複数のチップ搭載領域Rcpの外周部に開
口部10を備えたリードフレーム4を準備し、半導体チ
ップ2の電極パッドと信号接続用端子1を電気的に接続
し、封止用金型15のキャビティ凹部に対向する金型面
とリードフレーム4の裏面との間に封止シート6を介在
させ、キャビティ凹部14に被成形品20をセットして
樹脂7を充填し、リードフレーム4の開口部10まで封
止し、封止シート6を剥し、成形品を加圧しながら樹脂
を加熱硬化させ、成形品を切断する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子を搭載
したリードフレームの外囲い、特に半導体素子が搭載さ
れた面を封止樹脂で封止し、底面に外部電極を露出させ
た樹脂封止型半導体装置の製造方法とその製造方法に適
したリードフレームに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に、半導体部品の高密度実装がますます要求されてきて
おり、これに伴なって半導体装置の小型化及び薄型化が
進展している。さらに、生産コスト、生産性向上のため
に種々の工夫がなされている。
【0003】以下、従来の樹脂封止型半導体装置の製造
方法について説明する。図5は従来の樹脂封止型半導体
装置の製造工程を示す断面図である。
【0004】まず、図5(a)に示す工程で、信号接続
用端子101(101a、101b)、ダイパッド10
3を複数有するリードフレーム104を用意する。な
お、図中、ダイパッド103は吊りリードによって支持
されているものであるが、吊りリードの図示は省略して
いる。また、吊りリードにはディプレス部が形成され、
ダイパッド103はアップセットされている。なお、こ
のリードフレーム104には、樹脂封止の際、封止樹脂
の流出を止めるタイバーが設けられていない。
【0005】次に、図5(b)に示す工程で、用意した
リードフレーム104のダイパッド103の上に半導体
チップ102を接着剤により接合する。この工程は、い
わゆるダイボンド工程である。
【0006】そして、図5(c)に示す工程で、ダイパ
ッド103上に接合された半導体チップ102と信号接
続用端子101とを金属細線105により電気的に接続
する。この工程は、いわゆるワイヤーボンド工程であ
る。金属細線105には、アルミニウム細線または金
(Au)線などが適宜用いられる。
【0007】次に、図5(d)に示す工程で、ダイパッ
ド103、半導体チップ102、信号接続用端子10
1、吊りリード及び金属細線105を封止樹脂107に
より封止する。この場合、半導体チップ102が接合さ
れたリードフレーム104が封止金型内に収納されて、
トランスファモールドされるが、特に信号接続用端子1
01の裏面が封止金型の上金型または下金型に接触した
状態で、樹脂封止が行われる。
【0008】そして、樹脂封止した成形品106を封止
金型から取出し、図5(e)に示す工程で硬化炉108
に入れ、所定の加熱処理を行い、樹脂を完全に硬化させ
る。この工程はいわゆるポストキュア工程である。最後
に、図5(f)に示す工程で信号接続用端子101、ま
た封止樹脂107を切断し、個々の樹脂封止型半導体装
置を得る。
【0009】そして、従来の樹脂封止型半導体装置の製
造方法では、封止工程で封止金型より取出した成形品1
06は金型温度から常温に温度低下し、封止樹脂107
とリードフレーム104との熱収縮差により図5(d)
に示すようにA1だけ反る。さらに、ポストキュア工程
では、常温からポストキュア温度まで温度上昇し、封止
樹脂107とリードフレーム104との熱膨張差で図5
(e)に示すようにA2だけ反り、最終的に、図5
(f)に示す切断工程では通常常温で行うため、成形品
はA量反る(図示せず)。従って切断工程ではA量反って
いる成形品を矯正しながら、個々の樹脂封止型半導体装
置に分断している。また、封止工程で、封止樹脂107
が信号接続用端子101の裏面側に回り込んで、樹脂バ
リ(樹脂はみ出し分)を形成する場合があることから、
通常では、樹脂封止工程の後、信号接続用端子101の
切断工程の前に樹脂バリを吹き飛ばすためのウォータジ
ェット工程または、ブラスト工程を導入している。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
樹脂封止型半導体装置の製造方法では、封止工程及びポ
ストキュア工程での昇降温によるリードフレームと封止
樹脂との熱膨張差及び熱収縮差で生じる成形品の反り量
を切断工程で矯正しながら個々の樹脂封止型半導体装置
に分断している為、樹脂封止型半導体装置に反り矯正時
に外力が加わり外力で発生する成形品内部応力で図5
(f)に示すような、樹脂クラック109aや信号端子
剥離109b、または金属細線の切断109c、また最
悪の場合、半導体チップのクラック109dといった品
質上の大きな問題が発生する恐れがあった。
【0011】また、従来の樹脂封止型半導体装置の製造
方法の樹脂封止工程においては、半導体チップを封止金
型のキャビティの凹部に入り込ませ、リードフレームの
インナーリードを金型面に密着させた状態で樹脂封止し
ているが、それでも封止樹脂がインナーリードの裏面側
に回り込んで、外部電極の表面に樹脂バリ(樹脂のはみ
出し分)が発生する。そこで、従来は、外部電極上の樹
脂バリを吹き飛ばすためにウォータージェット工程を導
入していたが、このようなウォータージェット工程には
多大の手間を要し、樹脂封止型半導体装置の量産工程に
おける工程削減等の工程の簡略化の要請に反する。つま
り、樹脂バリの発生は、そのような工程の簡略化のため
の大きな阻害要因となっていた。また、ウォータージェ
ット工程によって、樹脂バリだけでなく柔らかい金属メ
ッキも剥がれるという品質上の大きな問題が発生するお
それもあった。
【0012】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
って、その目的は切断工程前に予め成形品の反りを低減
し切断工程での成形品反り矯正時の外力で発生する成形
品内部応力を小さくする事で品質の良い樹脂封止型半導
体装置を提供し、更に封止シートを用いながら複数の半
導体チップを共通のキャビティ凹部に収納して樹脂封止
を行う事により、生産性が高く安価で品質の良い樹脂封
止型半導体装置の製造方法と、この製造方法の実施に適
したリードフレームとを提供する事にある。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の樹脂封止
型半導体装置の製造方法は、半導体チップを搭載するた
めのダイパッドおよび信号接続用端子を有する複数のチ
ップ搭載領域と、この複数のチップ搭載領域同士の間に
設けられた連結部と、複数のチップ搭載領域の外周部か
ら所定のモールドライン近傍まで設けられた開口部とを
備えたリードフレームを準備する第1の工程と、複数の
チップ搭載領域に半導体チップを搭載し、半導体チップ
の電極パッドと信号接続用端子とを電気的に接続して被
成形品を形成する第2の工程と、封止用金型のキャビテ
ィ凹部に対向する金型面とリードフレームの裏面との間
に封止シートを介在させた状態で、キャビティ凹部に各
半導体チップが入り込むように被成形品を封止用金型に
セットした後に、キャビティ凹部内に樹脂を充填し、リ
ードフレームの開口部まで封止する第3の工程と、封止
用金型から成形品を取出し封止シートを成形品の裏面か
ら剥す第4の工程と、成形品の表面および裏面側から加
圧しながら、樹脂を加熱硬化させる第5の工程と、樹脂
の硬化が完了した成形品を切断する第6の工程とを含む
ものである。
【0014】請求項1記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、モールドライン近傍まで設けられた開
口部まで封止樹脂が充填されるため、リードフレームと
封止樹脂との熱収縮差による成形品の反り量が緩和され
る。さらにポストキュア工程で封止金型内での成形品加
圧保持状態(封止樹脂充填後のキュア保圧)と同様に成
形品の表面側及び裏面側から加圧しながら樹脂の加熱硬
化を行う為、成形品の反りが更に低減される。また封止
金型に設けられた共通のキャビティ凹部内に多数の樹脂
封止型半導体装置が形成されるが、第3の工程で封止シ
ートを使用する事によって、信号接続用端子の裏面への
樹脂バリの形成は阻止される。更に封止シートが信号接
続用端子の下部より封止樹脂側に食い込む形となるので
信号接続用端子の下部を外部電極として使用する際のス
タンドオフも確保される。よって成形品の反りに起因す
る樹脂封止型半導体装置のクラックなどの品質不良が阻
止され、切断工程を容易、迅速にでき、更に製造工程の
簡素化を図りつつ、裏面側に突出した樹脂バリのない電
極を有しながら、生産性の高く品質の良い樹脂封止型半
導体装置の製造方法を提供する事ができる。
【0015】請求項2記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、請求項1において、第3の工程における封止
シートは、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート等を主成分とする樹脂、または銅、ア
ルミニウム、ステンレスもしくは鉄を含む導電性金属と
したものである。
【0016】請求項2記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1と同様な効果のほか、多数の
半導体チップを共通のキャビティ凹部内で封止しなが
ら、各信号接続用端子のスタンドオフの確保と信号接続
用端子の裏面の樹脂バリ防止ができる。またこれらスタ
ンドオフの確保と樹脂バリ防止の役目を持つ封止シート
基材及び接着剤の材質を目的、機能およびコストの観点
から任意に組み合わせて選択することができる。例えば
導電性金属基材は第4の工程で成形品の裏面から封止シ
ートを剥す際、封止シートの基材は導電性金属のため、
貼付したフレームが樹脂基板であっても電解剥離法が使
用でき、確実に成形品から封止シートを剥す事ができ
る。更に剥がした後の封止シートの基材は金属なので廃
材としてリサイクル可能であり、環境に優しくまた樹脂
封止型半導体装置の製造コストも低減できる。また樹脂
系基材は導電性金属基材に対して弾性率が大きいため少
ない圧着力で信号接続用端子に食い込みさせやすくスタ
ンドオフ確保が容易である。
【0017】請求項3記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、請求項1または請求項2において、第3の工
程における封止シートの接着剤が、シリコーン系、フェ
ノール系またはエポキシ系の接着剤であり、加熱圧着さ
れリードフレームまたは基板に貼り付けられるものであ
る。
【0018】請求項3記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1または請求項2と同様な効果
がある。
【0019】請求項4記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、請求項1において、第3の工程後に封止金型
から成形品を取出し成形品の表面および裏面側から加圧
しながら樹脂を加熱硬化させる第5の工程を行い、その
後に、封止シートを成形品の裏面から剥す第4の工程を
行うものである。
【0020】請求項4記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1と同様な効果のほか、加熱硬
化で樹脂が架橋した安定した状態になっているので、剥
がし時に成形品を溶剤などに浸漬し封止シートを膨潤、
または溶解させる方法が採用しやすくなり、より確実に
容易に成形品から封止シートを剥がすことができる。ま
た、製造工程順序の自由度が増し、製造方法を設備状況
などに応じて任意に選択する事ができる。
【0021】請求項5記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、請求項1において、第5の工程において複数
の成形品をタワー内に積層し、積層した最端の成形品を
加圧蓋で押さえ、積層した成形品の全てを加圧するもの
である。
【0022】請求項5記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1と同様な効果のほか、構造が
いたって単純な加圧方式のタワーを製作でき、さらに加
圧方式のタワーを準備するだけで、既存の封止設備やポ
ストキュア設備を改造せずに済み、反りの少ない成形品
を大量に量産でき、高品質で安価な樹脂封止型半導体装
置を製造できる。
【0023】請求項6記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法は、請求項1または請求項5において、第5の工
程において複数の成形品を立てた状態で加圧するもので
ある。
【0024】請求項6記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1または請求項5と同様な効果
のほか、成形品自体の重量による加圧量の変動を無視す
ることができ、タワーに積層した成形品の表面側と底面
側との加圧量の違いが無く、反り量の少ない安定した成
形品を生産でき、高品質な樹脂封止型半導体装置を製造
できる。
【0025】請求項7記載の樹脂封止型半導体装置のリ
ードフレームは、半導体チップを搭載するためのダイパ
ッドおよび信号接続用端子を有する複数のチップ搭載領
域と、この複数のチップ搭載領域同士の間に設けられた
連結部と、複数のチップ搭載領域の外周部から所定のモ
ールドライン近傍まで設けられた開口部とを備えたリー
ドフレームであって、連結部の延長線上のリードフレー
ムの外枠に設けられた熱応力緩和用のスリットを有し、
開口部は複数のチップ搭載領域の外周部からモールドラ
インよりも外に大きく開口することを特徴とするもので
ある。
【0026】請求項7記載の樹脂封止型半導体装置のリ
ードフレームによれば、モールドライン近傍まで設けら
れた開口部まで封止樹脂が充填されるため、リードフレ
ームと封止樹脂との熱収縮差による成形品の反り量が緩
和される。更にリードフレーム連結部の延長線上にスリ
ットが設けられているので、特にワイヤーボンド工程等
の高温時の連結部の熱膨張によるリードフレーム自体の
熱変形がこのスリットで吸収される。また開口部をモー
ルドラインよりも外に大きく開口したため、確実にリー
ドフレームと封止樹脂の接触部が減少でき、かつリード
フレームの板厚分のみの封止樹脂量のみで済み、高品質
かつ経済的に成形品の反り量が緩和できる。
【0027】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を参照しながら説明する。
【0028】図1は本発明の一実施の形態に係る樹脂封
止型半導体装置の製造工程であり、図2は本実施の形態
に係る樹脂封止型半導体装置に用いられるリードフレー
ムである。まず図1(a)は、本実施の形態に係る樹脂
封止型半導体装置に用いられるリードフレーム4の断面
図であり、図2(a)はそのリードフレーム4の全体構
造を示す平面図である。なお、図中は破断線により示す
右方の領域では、記載を簡略化している。また、図2
(b)、(c)は、図2(a)の一部を拡大して示す部
分平面図である。リードフレーム4には、半導体チップ
2を実装するための領域である多数のチップ搭載領域R
cpが設けられており、各チップ搭載領域Rcpには、
半導体チップ2を搭載する為のダイパッド3とダイパッ
ド3を支持す為の吊りリード8と、チップ搭載領域Rc
pの各4つの辺部から内方に延びる信号接続用端子1と
が設けられている。なお、吊りリード8には、ダイパッ
ド3を信号接続用端子1の位置よりも上方にアップセッ
トする為のディプレス部が形成されている。各チップ搭
載領域Rcp間には、信号接続用端子1の付け根ともな
る連結部A11が設けられている。なお、信号接続用端
子1は後工程で樹脂封止型半導体装置の外部電極となる
ように切断されるために切断加工代を考慮した長さの延
長分を含んでいる。
【0029】ここで、リードフレーム4の外枠9には、
モールドライン近傍まで、またチップ搭載領域Rcpの
1辺の長さに相当する開口部10が設けられていて、封
止樹脂7はこの開口部10まで充填される。よって封止
樹脂7に対するリードフレーム4の接触面積が低減され
る。従って、成形品21の反りに大きく起因するリード
フレーム4と封止樹脂7の熱収縮量の差は阻止できる。
つまり、リードフレーム4の開口部10は封止樹脂7の
みとなるのでリードフレーム4の熱収縮量は無視でき
る。特に封止樹脂7に対するリードフレーム4の接触面
積は外枠9に集中している為、開口部10を有する本実
施の形態に係るリードフレーム4は成形品21の反りの
低減に大きな効果を得られる。なお、本実施の形態では
封止シート6を用いているためキャビティ凹部14に充
填される溶融した封止樹脂7の圧力によって連結部B1
2は変形しない。封止シート6を用いず、チップ搭載領
域Rcpの1辺の長さが長く封止樹脂7の圧力によって
連結部B12が変形する恐れがある場合は、図2(c)
に示すように、図2(b)開口部10の中央に相当する
箇所にサポート13を設置してもよい。この実施の形態
ではチップ搭載領域Rcpの1辺の長さが、10mm以
上の場合、サポート13を設置した。なお、封止樹脂工
程において溶融した封止樹脂の注入経路であるランナ
(図2(a)の○で示す部分)は、リードフレーム4の
外枠9のみに設けられており、チップ搭載領域Rcp間
の領域には設けられていない。
【0030】次に図1(b)に示す工程で、用意したリ
ードフレーム4のダイパッド3の上に半導体チップ2を
接着剤により接合する。この工程はいわゆるダイボンド
工程である。そして、ダイパッド3上に接合された半導
体チップ2と、信号接続用端子1とを金属細線5によ
り、電気的に接合する。この工程は、いわゆるワイヤボ
ンド工程である。この被成形品20は、このリードフレ
ーム4とリードフレーム4上に搭載された半導体チップ
2と、金属細線5とからなっている。
【0031】次に図1(c)に示す工程で、多数の半導
体チップ2が接合されたリードフレーム4の裏面側に封
止シート6を貼り付ける。この封止シート6はリードフ
レーム4の半導体チップ2が接合されている面に対向す
る面、つまりリードフレーム4の裏面全体に密着してい
るが、吊りリード8のディプレス部によってアップセッ
トされた吊りリード8の一部やダイパッド3には密着し
ていない。この封止シート6の役割は、第一に信号接続
用端子1の裏面側に樹脂封止時に封止樹脂7が回り込ま
ないようにストッパー的な役割であり、信号接続用端子
1の裏面に樹脂バリが形成されるのを防止する機能を果
たす。第2に図1(c)の部分拡大図に示すように、封
止シート6が信号接続用端子1の裏面よりも上方に入り
込み、その状態で樹脂封止されるため、スタンドオフが
確保できる。上記封止シート6の接着剤6aはシリコー
ン系接着剤で基材6bはポリイミド系のフィルムかある
いは、銅またはアルミニウムなどの導電性金属である。
接着剤6a、基材6bともに封止工程またはポストキュ
ア工程の際の高温時の耐熱性があり、さらに接着剤6a
は封止工程での樹脂封止圧力に耐える接着力を備える。
さらに樹脂封止後は、成形品から容易に剥すことができ
る。本実施の形態における封止シート6の厚みは例えば
接着剤6aが25μm、基材6bが50μmである。封
止シート6が信号接続用端子1の裏面よりも上方に入り
込む量は封止シート6の厚さ、貼付圧力、時間、および
温度で定まるが信号接続用端子1の裏面と封止樹脂7の
裏面との間の段差の大きさは特に封止シート6の厚みと
貼付圧力で定まる。本発明では、総厚75μmの封止シ
ート6を用いているので、段差の大きさつまり、外部電
極の突出量は、その半分程度であり、最大限封止シート
6の厚みである。なお、本実施の形態ではワイヤボンド
工程後にリードフレーム4の裏面側に封止シート6を貼
り付けたが、ダイボンド工程前のリードフレーム4の裏
面側に封止シート6を貼付しておいても構わない。半導
体チップ2や金属細線5がないリードフレーム状態なの
で、より容易に封止シートが貼り付けられる。
【0032】次に図1(d)に示す工程でキャビティ凹
部14を有する下金型15aと、ほぼフラットな金型面
を有する上金型15bとからなる封止金型15を用意す
る。そして、リードフレーム4上の多数の半導体チップ
2が搭載されている側を下方に向けて、各半導体チップ
2が下金型15aの共通のキャビティ凹部14に入り込
むように、リードフレーム4を下金型15aに位置合わ
せする。そして、この状態で、リードフレーム4及び封
止シート6をキャビティ凹部14の周囲のパーティング
面16で狭圧し、複数個の半導体チップ2を搭載した被
成形物20を封止樹脂7により樹脂封止を行う。この
時、半導体チップ2の上面側、つまり金属細線5が接続
されている面側とダイパッド3の下方とに封止樹脂7が
充填されるとともに、半導体チップ2上方の封止樹脂7
の上端面が金属細線5のループ高さ以上の高さ位置にあ
るように封止される。そして、ダイパッド3の下方の封
止樹脂7の下端面と半導体チップ2の上方の封止樹脂7
の上端面との間の寸法が封止樹脂7の厚みである。
【0033】ここで、リードフレーム4に形成した開口
部10にも封止樹脂7がキャビティ凹部14を伝わり、
樹脂封止される。上記までの封止樹脂7がキャビティ凹
部14と開口部10のようなリードフレームのすきま
(例えば信号接続用端子1どうしの間、ダイパッド3の
下面部など)に充填される。その後、被成形品20と封
止樹脂7は一定時間圧力と熱を封止金型15から与えら
れ封止樹脂7はある程度硬化し、被成形品20と封止樹
脂7は一体化し、成形品21となる。
【0034】次に図1(e)に示すように、上記の成形
品21を封止金型15から取出す。この時、成形品21
は常温に戻され、封止樹脂7とリードフレーム4は熱収
縮する。しかしながら封止樹脂7とリードフレーム4と
の間には熱収縮量の差があり、それが成形品21の反り
となって不具合を生じる。ところが本実施の形態のリー
ドフレーム4には開口部10が設けられ、封止樹脂7が
樹脂封止されている。従って成形品21は殆どが封止樹
脂7であり、特に熱収縮時、封止樹脂7がリードフレー
ム4に引っ張られやすいリードフレーム4の外枠9の部
分が開口部10によって樹脂封止されていることから、
封止樹脂7とリードフレーム4との熱収縮差が緩和さ
れ、成形品21の反り量が殆ど無くなる。
【0035】次に図1(f)に示す工程でリードフレー
ム4の裏面に貼付された封止シート6をピールオフによ
り除去すると、信号接続用端子1の下部が封止樹脂7の
裏面よりも突出した構造を有する成形品21が得られ
る。ここで、封止シート6のピールオフは、接着剤6a
のガラス転移温度Tg以上に加熱すると、接着剤6aが
軟化し剥しやすくなる。別の方法として、成形品21を
アルカリ電解液に浸漬させリードフレーム4を導通させ
ることで、接着剤6aが膨潤剥離し、封止シート6をピ
ールオフすることもある。
【0036】次に図1(g)に示す工程で、封止シート
6をピールオフした成形品21を裏面側押え治具18a
の上にセットし、セットした成形品21の表面側に表面
側押え治具18bを載せ、成形品21の表面及び裏面側
から加圧する状態をつくる。なお、裏面側押え治具18
aの上は成形品21の表面側がきても、成形品21の表
面及び裏面側から押さえ治具18で加圧できればよい。
【0037】そして、この押え治具18で加圧した成形
品21を硬化炉17にセットし、一定時間、所定温度で
加熱する。この工程は、いわゆるポストキュア工程であ
る。成形品21は上述した通り本実施の形態でリードフ
レーム4の開口部10まで樹脂封止され反りの殆どない
状態であるため、押え治具18で加圧しても、クラック
などの不具合が生じることはない。さらに、押え治具1
8で加圧された成形品21の封止樹脂7は硬化炉17か
らの加熱により、完全に硬化される。そして、完全に封
止樹脂7が硬化した成形品21は硬化炉から取出され、
次工程に流されるが加熱時加圧していた為に封止樹脂7
は異方的に熱膨張・収縮せずに、結果的に成形品21は
反りの殆ど無い状態となる。
【0038】次に、図1(h)に示す工程で成形品21
をリードフレーム4の連結部A11や連結部B12に沿
ってダイシングソーや切断金型を用いてカットし、個々
の樹脂封止型半導体装置を得る。ここで、成形品21は
反りの殆ど無い状態である為、カット時に成形品21の
反りを矯正する必要も無く、成形品21に余分な応力を
与えず、成形品の切断が容易にかつ迅速に対応でき、品
質の良い樹脂封止型半導体装置を得ることができる。
【0039】なお、図1では成形品21の裏面から封止
シート6を剥がした(図1(f))後に、ポストキュア
(図1(g))したがポストキュアした後に、成形品2
1の裏面から封止シート6を剥がしても良く、樹脂封止
型半導体装置の品質に何ら支障はない。ポストキュア時
の加熱硬化で樹脂が架橋した安定した状態になっている
ので、剥がし時に成形品を溶剤などに浸漬し封止シート
を膨潤、または溶解させる方法が採用しやすくなり、よ
り確実に容易に成形品から封止シートを剥がすことがで
きる。
【0040】また、本実施の形態で成形品21の反り量
をなくす構造をリードフレーム4に開口部10を設置し
たことと、ポストキュア時に加圧する方法を採用したこ
とで例えば、チップ搭載領域Rcpの大きさが変更とな
っても、つまり、樹脂封止型半導体装置の外形寸法が変
わりリードフレーム4のレイアウトが変更となっても、
封止金型15のキャビティ凹部14の平面サイズを変更
しなくても成形品21の反り量をなくすことができる。
換言すれば1機種の封止金型15でリードフレーム4の
品種交換をするだけで、反りの無い成形品21を製造で
き新たに封止金型を製作せずに、封止金型投資を抑制し
短納期で多品種の樹脂封止型半導体装置を生産できる。
【0041】図3に本実施の形態に係る樹脂封止型半導
体装置に用いられるリードフレーム変形形態を示す。図
2と同様にリードフレーム4の外枠9には、モールドラ
イン近傍まで、またチップ搭載領域Rcpの1辺の長さ
に相当する開口部10が設けられていて、封止樹脂7は
この開口部10まで充填される。よって封止樹脂7に対
するリードフレーム4の接触面積が低減される。従っ
て、成形品21の反りに大きく起因するリードフレーム
4と封止樹脂7の熱収縮量の差は阻止できる。更にリー
ドフレーム4の連結部A11の延長線上にスリット19
が設けられているので、特にワイヤーボンド工程等の高
温時の連結部A11の熱膨張によるリードフレーム自体
の熱変形がこのスリット19で吸収される。
【0042】図4に、本実施の形態に係る成形品の加圧
例を示す。図4(a)に示すように封止工程で樹脂封止
された成形品21はタワー31に積層される。その後、
タワー31に一定量の成形品21をストックすると図4
(b)に示すように加圧蓋35にて積層した最端の成形
品21を押しタワー31に加圧蓋35を固定する。加圧
蓋35は積層した最端の成形品21の裏面側(表面側で
も構わない)に加圧プレート32が面接触し、加圧プレ
ート32と蓋34との間に設置されたばね33により発
生した所定の圧力で加圧プレート32とタワー31間の
積層された成形品21の全体を所定の圧力で加圧するこ
とができる。さらに、図4(c)に示すように図4
(b)で加圧した複数の成形品21をタワー31ごと硬
化炉17に入れ、所定時間加熱される。ここで、硬化炉
17のタワー31は横に向けた状態で置かれる。つま
り、加圧した成形品21を立てた状態で硬化炉17内に
入れられる。これは、成形品21自体に重量がありタワ
ー31の底面にある成形品21は積層した成形品21の
重量が積み重なり、タワー31の底面部と表面部の成形
品21に加わる圧力が異なってくるためである。
【0043】これらの構成により、複数の成形品21を
一定の圧力にて加熱でき、生産性を向上させ反りのない
品質の良い樹脂封止型半導体装置を製造することができ
る。
【0044】上記実施の形態による本発明の樹脂封止型
半導体装置の製造方法によると、半導体チップが接合さ
れたリードフレームに対して封止金型内で封止シートを
介在させ、多数の半導体チップを封止金型の共通のキャ
ビティ凹部内で樹脂封止する際に、リードフレームに設
置された開口部に封止樹脂を充填させて成形品の反りを
低減させ、さらにポストキュア時に成形品を加圧し、そ
の成形品の反りをなくすことで裏面側に突出した外部電
極を有しながら品質の良いかつ、生産性の高い樹脂封止
型半導体装置の製造方法を提供することができる。ま
た、本発明のリードフレームによると、上記樹脂封止型
半導体装置の製造方法の実施に適したリードフレームを
提供することができるなお、前記実施の形態の封止シー
ト6は、基材としてポリイミド系のフィルムあるいは銅
またはアルミニウム等の導電性金属を用いたが、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート等を主成分と
する樹脂、またはステンレスもしくは鉄を含む導電性金
属でもよい。封止シート6の接着剤は、シリコン系接着
剤を用いたが、フェノール系またはエポキシ系の接着剤
でもよく、加熱圧着されてリードフレーム4または基板
に貼り付けられる。そして、少なくとも封止後にリード
フレームまたは基板から封止シート6を取り除く。な
お、基板についても樹脂バリの発生する形状、例えば穴
などが存在しても封止シート6を用いて、樹脂バリを防
止できる。
【0045】
【発明の効果】請求項1記載の樹脂封止型半導体装置の
製造方法によれば、モールドライン近傍まで設けられた
開口部まで封止樹脂が充填されるため、リードフレーム
と封止樹脂との熱収縮差による成形品の反り量が緩和さ
れる。さらにポストキュア工程で封止金型内での成形品
加圧保持状態(封止樹脂充填後のキュア保圧)と同様に
成形品の表面側及び裏面側から加圧しながら樹脂の加熱
硬化を行う為、成形品の反りが更に低減される。また封
止金型に設けられた共通のキャビティ凹部内に多数の樹
脂封止型半導体装置が形成されるが、第3の工程で封止
シートを使用する事によって、信号接続用端子の裏面へ
の樹脂バリの形成は阻止される。更に封止シートが信号
接続用端子の下部より封止樹脂側に食い込む形となるの
で信号接続用端子の下部を外部電極として使用する際の
スタンドオフも確保される。よって成形品の反りに起因
する樹脂封止型半導体装置のクラックなどの品質不良が
阻止され、切断工程を容易、迅速にでき、更に製造工程
の簡素化を図りつつ、裏面側に突出した樹脂バリのない
電極を有しながら、生産性の高く品質の良い樹脂封止型
半導体装置の製造方法を提供する事ができる。
【0046】請求項2記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1と同様な効果のほか、多数の
半導体チップを共通のキャビティ凹部内で封止しなが
ら、各信号接続用端子のスタンドオフの確保と信号接続
用端子の裏面の樹脂バリ防止ができる。またこれらスタ
ンドオフの確保と樹脂バリ防止の役目を持つ封止シート
基材及び接着剤の材質を目的、機能およびコストの観点
から任意に組み合わせて選択することができる。例えば
導電性金属基材は第4の工程で成形品の裏面から封止シ
ートを剥す際、封止シートの基材は導電性金属のため、
貼付したフレームが樹脂基板であっても電解剥離法が使
用でき、確実に成形品から封止シートを剥す事ができ
る。更に剥がした後の封止シートの基材は金属なので
としてリサイクル可能であり、環境に優しくまた樹脂
封止型半導体装置の製造コストも低減できる。また樹脂
系基材は導電性金属基材に対して弾性率が大きいため少
ない圧着力で信号接続用端子に食い込みさせやすくスタ
ンドオフ確保が容易である。
【0047】請求項3記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1または請求項2と同様な効果
がある。
【0048】請求項4記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1と同様な効果のほか、加熱硬
化で樹脂が架橋した安定した状態になっているので、剥
がし時に成形品を溶剤などに浸漬し封止シートを膨潤、
または溶解させる方法が採用しやすくなり、より確実に
容易に成形品から封止シートを剥がすことができる。ま
た、製造工程順序の自由度が増し、製造方法を設備状況
などに応じて任意に選択する事ができる。
【0049】請求項5記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1と同様な効果のほか、構造が
いたって単純な加圧方式のタワーを製作でき、さらに加
圧方式のタワーを準備するだけで、既存の封止設備やポ
ストキュア設備を改造せずに済み、反りの少ない成形品
を大量に量産でき、高品質で安価な樹脂封止型半導体装
置を製造できる。
【0050】請求項6記載の樹脂封止型半導体装置の製
造方法によれば、請求項1または請求項5と同様な効果
のほか、成形品自体の重量による加圧量の変動を無視す
ることができ、タワーに積層した成形品の表面側と底面
側との加圧量の違いが無く、反り量の少ない安定した成
形品を生産でき、高品質な樹脂封止型半導体装置を製造
できる。
【0051】請求項7記載の樹脂封止型半導体装置のリ
ードフレームによれば、モールドライン近傍まで設けら
れた開口部まで封止樹脂が充填されるため、リードフレ
ームと封止樹脂との熱収縮差による成形品の反り量が緩
和される。更にリードフレーム連結部の延長線上にスリ
ットが設けられているので、特にワイヤーボンド工程等
の高温時の連結部の熱膨張によるリードフレーム自体の
熱変形がこのスリットで吸収される。また開口部をモー
ルドラインよりも外に大きく開口したため、確実にリー
ドフレームと封止樹脂の接触部が減少でき、かつリード
フレームの板厚分のみの封止樹脂量のみで済み、高品質
かつ経済的に成形品の反り量が緩和できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る樹脂封止型半導体
装置の製造工程を順に示す説明図である。
【図2】本発明の一実施の形態に係る樹脂封止型半導体
装置に用いられるリードフレームを示し、(a)は一部
を簡略して全体を示す平面図、(b)はその一部を拡大
した図、(c)は(b)と同様な図であるが別の形態を
示す図である。
【図3】本発明の他の実施の形態に係る樹脂封止型半導
体装置に用いられるリードフレームの部分拡大平面図で
ある。
【図4】本発明の他の実施の形態に係る成形品の加圧例
を示し、(a)はタワーに成形品を挿入する状態の断面
図、(b)は加圧状態の断面図、(c)は加圧加熱状態
の断面図である。
【図5】従来の樹脂封止型半導体装置の製造方法を順に
示す説明図である。
【符号の説明】
1 信号接続用端子 2 半導体チップ 3 ダイパッド 4 リードフレーム 5 金属細線 6 封止シート 7 封止樹脂 8 吊りリード 9 外枠 10 開口部 11 連結部A 12 連結部B 13 サポート 14 キャビティ凹部 15 封止金型 16 パーティング面 17 硬化炉 18 押え治具 19 スリット 20 被成形品 21 成形品 31 タワー 32 加圧プレート 33 ばね 34 蓋 35 加圧蓋
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/50 H01L 23/50 B 25/10 25/14 Z 25/11 25/18 (72)発明者 松尾 隆広 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内 Fターム(参考) 4M109 AA01 BA01 CA21 DA02 5F061 AA01 BA01 CA21 CA24 EA01 5F067 AA06 AA07 AA09 AB03 BA02 BD05 BD10 DB01 DE01 DF17

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップを搭載するためのダイパッ
    ドおよび信号接続用端子を有する複数のチップ搭載領域
    と、この複数のチップ搭載領域同士の間に設けられた連
    結部と、前記複数のチップ搭載領域の外周部から所定の
    モールドライン近傍まで設けられた開口部とを備えたリ
    ードフレームを準備する第1の工程と、 前記複数のチップ搭載領域に前記半導体チップを搭載
    し、前記半導体チップの電極パッドと前記信号接続用端
    子とを電気的に接続して被成形品を形成する第2の工程
    と、 封止用金型のキャビティ凹部に対向する金型面と前記リ
    ードフレームの裏面との間に封止シートを介在させた状
    態で、前記キャビティ凹部に前記各半導体チップが入り
    込むように前記被成形品を前記封止用金型にセットした
    後に、前記キャビティ凹部内に樹脂を充填し、前記リー
    ドフレームの前記開口部まで封止する第3の工程と、 前記封止用金型から成形品を取出し前記封止シートを前
    記成形品の裏面から剥す第4の工程と、 前記成形品の表面および裏面側から加圧しながら、樹脂
    を加熱硬化させる第5の工程と、 前記樹脂の硬化が完了した成形品を切断する第6の工程
    とを含む樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 第3の工程における封止シートは、ポリ
    イミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
    ト等を主成分とする樹脂、または銅、アルミニウム、ス
    テンレスもしくは鉄を含む導電性金属である請求項1記
    載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 第3の工程における封止シートの接着剤
    は、シリコーン系、フェノール系またはエポキシ系の接
    着剤であり、加熱圧着されリードフレームまたは基板に
    貼り付けられる請求項1または請求項2記載の樹脂封止
    型半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の樹脂封止型半導体装置の
    製造方法において、第3の工程後に封止金型から成形品
    を取出し成形品の表面および裏面側から加圧しながら樹
    脂を加熱硬化させる第5の工程を行い、その後に、封止
    シートを成形品の裏面から剥す第4の工程を行う樹脂封
    止型半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 第5の工程において複数の成形品をタワ
    ー内に積層し、積層した最端の成形品を加圧蓋で押さ
    え、積層した成形品の全てを加圧する請求項1記載の樹
    脂封止型半導体装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 第5の工程において複数の成形品を立て
    た状態で加圧する請求項1または請求項5記載の樹脂封
    止型半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 半導体チップを搭載するためのダイパッ
    ドおよび信号接続用端子を有する複数のチップ搭載領域
    と、この複数のチップ搭載領域同士の間に設けられた連
    結部と、前記複数のチップ搭載領域の外周部から所定の
    モールドライン近傍まで設けられた開口部とを備えたリ
    ードフレームであって、前記連結部の延長線上の前記リ
    ードフレームの外枠に設けられた熱応力緩和用のスリッ
    トを有し、前記開口部は前記複数のチップ搭載領域の外
    周部から前記モールドラインよりも外に大きく開口する
    ことを特徴とするリードフレーム。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002075809A1 (en) * 2001-03-21 2002-09-26 Tomoegawa Paper Co., Ltd. Mask sheet for assembling semiconductor device and method for assembling semiconductor device
US6800508B2 (en) * 2000-04-25 2004-10-05 Torex Semiconductor Ltd Semiconductor device, its manufacturing method and electrodeposition frame
JP2004319824A (ja) * 2003-04-17 2004-11-11 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂封止型半導体装置とその製造方法
CN100388485C (zh) * 2003-03-05 2008-05-14 三洋电机株式会社 树脂密封型半导体装置及其制造方法
JP2009170679A (ja) * 2008-01-17 2009-07-30 Fujitsu Microelectronics Ltd 基板保持用キャリア、基板の着脱方法、及び、基板着脱装置
JP2010080971A (ja) * 2009-11-25 2010-04-08 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂封止型半導体装置とその製造方法
JP2010212715A (ja) * 2010-04-28 2010-09-24 Nitto Denko Corp リードフレーム積層物および半導体装置の製造方法
CN110034024A (zh) * 2018-01-10 2019-07-19 株式会社迪思科 封装基板的制造方法
CN113410292A (zh) * 2020-03-16 2021-09-17 株式会社东芝 半导体装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6800508B2 (en) * 2000-04-25 2004-10-05 Torex Semiconductor Ltd Semiconductor device, its manufacturing method and electrodeposition frame
WO2002075809A1 (en) * 2001-03-21 2002-09-26 Tomoegawa Paper Co., Ltd. Mask sheet for assembling semiconductor device and method for assembling semiconductor device
CN100388485C (zh) * 2003-03-05 2008-05-14 三洋电机株式会社 树脂密封型半导体装置及其制造方法
JP2004319824A (ja) * 2003-04-17 2004-11-11 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂封止型半導体装置とその製造方法
JP2009170679A (ja) * 2008-01-17 2009-07-30 Fujitsu Microelectronics Ltd 基板保持用キャリア、基板の着脱方法、及び、基板着脱装置
JP2010080971A (ja) * 2009-11-25 2010-04-08 Dainippon Printing Co Ltd 樹脂封止型半導体装置とその製造方法
JP2010212715A (ja) * 2010-04-28 2010-09-24 Nitto Denko Corp リードフレーム積層物および半導体装置の製造方法
CN110034024A (zh) * 2018-01-10 2019-07-19 株式会社迪思科 封装基板的制造方法
JP2019121722A (ja) * 2018-01-10 2019-07-22 株式会社ディスコ パッケージ基板の製造方法
CN113410292A (zh) * 2020-03-16 2021-09-17 株式会社东芝 半导体装置

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