JP2000351742A - ハロゲン化合物の製造法 - Google Patents
ハロゲン化合物の製造法Info
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- JP2000351742A JP2000351742A JP2000090950A JP2000090950A JP2000351742A JP 2000351742 A JP2000351742 A JP 2000351742A JP 2000090950 A JP2000090950 A JP 2000090950A JP 2000090950 A JP2000090950 A JP 2000090950A JP 2000351742 A JP2000351742 A JP 2000351742A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ハロゲン化合物の製造法を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）
で示されるアルコール類と一般式（２）
で示される金属ハロゲン化物とを反応させる一般式
（３）
（３）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、香料、飼料
添加物等の中間体、特にレチノイドの中間体として有用
なハロゲン化合物の製造法に関する。
添加物等の中間体、特にレチノイドの中間体として有用
なハロゲン化合物の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、３級アリルアルコールの転位を伴
うハロゲン化反応は、アルコールに１当量以上の塩基存
在下、塩化チオニルを作用させる方法（日本特許特開昭
63-227565号公報）、触媒量の二酸化セレン存在下、ト
リメチルシリルクロライドを四塩化炭素中で作用させる
方法（J.Org.Chem. 1988 , 53 , 3634）、触媒量の塩化
ビスマス存在下、トリメチルシリルクロライドを作用さ
せる方法（SYNLETT 1994, 723）などが報告されている
が、１級のハロゲン化物と３級のハロゲン化物との混合
物となるか、もしくは高価な試薬を使用するため、必ず
しも工業的に好ましい方法とは言い難いものであった。
うハロゲン化反応は、アルコールに１当量以上の塩基存
在下、塩化チオニルを作用させる方法（日本特許特開昭
63-227565号公報）、触媒量の二酸化セレン存在下、ト
リメチルシリルクロライドを四塩化炭素中で作用させる
方法（J.Org.Chem. 1988 , 53 , 3634）、触媒量の塩化
ビスマス存在下、トリメチルシリルクロライドを作用さ
せる方法（SYNLETT 1994, 723）などが報告されている
が、１級のハロゲン化物と３級のハロゲン化物との混合
物となるか、もしくは高価な試薬を使用するため、必ず
しも工業的に好ましい方法とは言い難いものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようなことから、
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した
結果、下記一般式（２）で示される金属ハロゲン化物を
用いることにより選択的に目的物が得られることを見出
し、本発明に至った。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した
結果、下記一般式（２）で示される金属ハロゲン化物を
用いることにより選択的に目的物が得られることを見出
し、本発明に至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式（１） (式中、ａは０、１、２または３を示す。)で示されるア
ルコール類と一般式（２） （式中、Ｍは金属原子を、Ｘはハロゲン原子を、Ｒは炭
素数1から５の直鎖または分枝状のアルキル基を、ｂは
１、２、３または４を示す。）で示される金属ハロゲン
化物とを反応させることを特徴とする一般式（３） （式中、波線はＥ／Ｚ幾何異性体の混合物を示し、ａお
よびＸは前記と同じ意味を表わす。）で示されるハロゲ
ン化合物の製造法を提供するものである。
般式（１） (式中、ａは０、１、２または３を示す。)で示されるア
ルコール類と一般式（２） （式中、Ｍは金属原子を、Ｘはハロゲン原子を、Ｒは炭
素数1から５の直鎖または分枝状のアルキル基を、ｂは
１、２、３または４を示す。）で示される金属ハロゲン
化物とを反応させることを特徴とする一般式（３） （式中、波線はＥ／Ｚ幾何異性体の混合物を示し、ａお
よびＸは前記と同じ意味を表わす。）で示されるハロゲ
ン化合物の製造法を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明で用いられる金属ハロゲン化物（２）およ
びハロゲン化合物（３）のＸで示されるハロゲン原子と
しては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
また、金属ハロゲン化物（２）のＭで示される金属原子
としては第4族の遷移金属原子が好ましく、例えばチタ
ン、ジルコニウム、ハフニウムなどが挙げられる。特
に、チタン化合物は安価なことから工業的には好まし
い。
する。本発明で用いられる金属ハロゲン化物（２）およ
びハロゲン化合物（３）のＸで示されるハロゲン原子と
しては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
また、金属ハロゲン化物（２）のＭで示される金属原子
としては第4族の遷移金属原子が好ましく、例えばチタ
ン、ジルコニウム、ハフニウムなどが挙げられる。特
に、チタン化合物は安価なことから工業的には好まし
い。
【０００６】金属ハロゲン化物（２）の置換基Ｒとして
は炭素数１から５の直鎖または分枝状のアルキル基を示
すが、具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、iso-
プロピル、n-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル
などが挙げられる。金属ハロゲン化物（２）の具体例と
しては、四塩化チタン、四臭化チタン、ジクロロチタニ
ウムジイソプロポキシド、クロロチタニウムトリイソプ
ロポキシド、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニウムな
どが挙げられる。その使用量は原料のアルコール（１）
に対して、0.3〜２モル倍程度、好ましくは、１〜1.2モ
ル倍程度である。
は炭素数１から５の直鎖または分枝状のアルキル基を示
すが、具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、iso-
プロピル、n-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル
などが挙げられる。金属ハロゲン化物（２）の具体例と
しては、四塩化チタン、四臭化チタン、ジクロロチタニ
ウムジイソプロポキシド、クロロチタニウムトリイソプ
ロポキシド、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニウムな
どが挙げられる。その使用量は原料のアルコール（１）
に対して、0.3〜２モル倍程度、好ましくは、１〜1.2モ
ル倍程度である。
【０００７】上記反応は通常、有機溶媒中で実施され、
使用される溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン、アニソ
ール等のエーテル系溶媒、n-ヘキサン、シクロヘキサ
ン、n-ペンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭
化水素系溶媒、 クロロホルム、ジクロロメタン、1,2-
ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベ
ンゼン等のハロゲン系溶媒、またはアセトニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホス
ホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒が挙げら
れる。中でも、エーテル系溶媒が好ましい。これらは単
一であっても２種以上の混合溶媒で使用してもよい。
使用される溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、1,4-ジオキサン、ジメトキシエタン、アニソ
ール等のエーテル系溶媒、n-ヘキサン、シクロヘキサ
ン、n-ペンタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭
化水素系溶媒、 クロロホルム、ジクロロメタン、1,2-
ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベ
ンゼン等のハロゲン系溶媒、またはアセトニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホス
ホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒が挙げら
れる。中でも、エーテル系溶媒が好ましい。これらは単
一であっても２種以上の混合溶媒で使用してもよい。
【０００８】反応温度は通常、-78℃から溶媒の沸点ま
での範囲内で任意に選択できるが、好ましくは−20〜60
℃程度の範囲である。また、反応時間は、用いる金属ハ
ロゲン化物（２）の種類ならびに反応温度によって異な
るが、通常１時間から２４時間程度の範囲である。
での範囲内で任意に選択できるが、好ましくは−20〜60
℃程度の範囲である。また、反応時間は、用いる金属ハ
ロゲン化物（２）の種類ならびに反応温度によって異な
るが、通常１時間から２４時間程度の範囲である。
【０００９】反応後、通常の後処理操作をすることによ
りハロゲン化合物（３）を得ることができる。また必要
に応じて、抽出、洗浄、蒸留、各種クロマトグラフィー
等により精製することができる。
りハロゲン化合物（３）を得ることができる。また必要
に応じて、抽出、洗浄、蒸留、各種クロマトグラフィー
等により精製することができる。
【００１０】
【発明の効果】かくして、本発明の製造法によれば、レ
チノイド等の中間体として有用なハロゲン化合物（３）
を３級アリルアルコールの転位を伴うハロゲン化反応に
より選択性よく製造することができる。
チノイド等の中間体として有用なハロゲン化合物（３）
を３級アリルアルコールの転位を伴うハロゲン化反応に
より選択性よく製造することができる。
【００１１】
【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらにより限定されるものでは
ない。
説明するが、本発明はこれらにより限定されるものでは
ない。
【００１２】（実施例１）リナロール0.30g（1.94mmo
l）をジメトキシエタン2mlに溶解し、攪拌下、室温で四
塩化チタンのトルエン溶液(1M)1.94ml（1.94mmol）をシ
リンジより滴下した。その後、60℃に昇温し、10時間攪
拌した。反応後、氷水中に反応混合物を注加し、酢酸エ
チルで抽出した。有機層は飽和塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、有機溶媒を留
去することにより微黄色オイルとしてゲラニルクロライ
ドがほぼ100%の含量で、収率93%で得られた。このと
き、３級ハロゲン化物であるリナリルクロライドは0.1%
以下であった。
l）をジメトキシエタン2mlに溶解し、攪拌下、室温で四
塩化チタンのトルエン溶液(1M)1.94ml（1.94mmol）をシ
リンジより滴下した。その後、60℃に昇温し、10時間攪
拌した。反応後、氷水中に反応混合物を注加し、酢酸エ
チルで抽出した。有機層は飽和塩化ナトリウム水溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、有機溶媒を留
去することにより微黄色オイルとしてゲラニルクロライ
ドがほぼ100%の含量で、収率93%で得られた。このと
き、３級ハロゲン化物であるリナリルクロライドは0.1%
以下であった。
【００１３】（実施例２〜５）リナロール0.30g（1.94m
mol）をジメトキシエタン2mlに溶解し、表１に示す金属
ハロゲン化物を室温で滴下し、その後所定温度・時間で
反応させ、実施例１と同様に後処理を行った。但し、実
施例２のみリナロール0.30g（1.94mmol）をジメトキシ
エタン2mlに溶解し、ピリジン（1.05MR）を添加したも
のに金属ハロゲン化物を滴下した。結果を下記表に示
す。
mol）をジメトキシエタン2mlに溶解し、表１に示す金属
ハロゲン化物を室温で滴下し、その後所定温度・時間で
反応させ、実施例１と同様に後処理を行った。但し、実
施例２のみリナロール0.30g（1.94mmol）をジメトキシ
エタン2mlに溶解し、ピリジン（1.05MR）を添加したも
のに金属ハロゲン化物を滴下した。結果を下記表に示
す。
【表１】 *ピリジン(1.05MR)を添加した。
【００１４】（実施例６）リナロールの代わりに２−メ
チル−３−ブテン−２−オールを用いた以外は実施例１
と同様に反応、後処理を行い、１−クロロ−３−メチル
−２−ブテンがほぼ100%の含量で、収率96%で得られ
た。このとき、３級ハロゲン化物である２−クロロ−２
−メチル−３−ブテンは0.1%以下であった。
チル−３−ブテン−２−オールを用いた以外は実施例１
と同様に反応、後処理を行い、１−クロロ−３−メチル
−２−ブテンがほぼ100%の含量で、収率96%で得られ
た。このとき、３級ハロゲン化物である２−クロロ−２
−メチル−３−ブテンは0.1%以下であった。
【００１５】（比較例１）リナロール50.0g（0.325mo
l）およびピリジン26.9g（0.341mol）をヘキサン450ml
とよく混合し、この中に、攪拌下、内温を30℃に保ちな
がら塩化チオニル40.6g（0.341mol）を徐々に滴下し
た。滴下終了後、同温度で2.5時間攪拌した。反応混合
液を500mlの氷水中に注加し、ヘキサン層を分離した。
ヘキサン層を100mlの5%重曹水、200mlの水、および100m
lの飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。乾燥後、溶媒を留去することにより、微黄
色オイルのリナリルクロライド（３級）とゲラニルクロ
ライド（１級）の31:69の混合物を90%の収率で得た。
l）およびピリジン26.9g（0.341mol）をヘキサン450ml
とよく混合し、この中に、攪拌下、内温を30℃に保ちな
がら塩化チオニル40.6g（0.341mol）を徐々に滴下し
た。滴下終了後、同温度で2.5時間攪拌した。反応混合
液を500mlの氷水中に注加し、ヘキサン層を分離した。
ヘキサン層を100mlの5%重曹水、200mlの水、および100m
lの飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。乾燥後、溶媒を留去することにより、微黄
色オイルのリナリルクロライド（３級）とゲラニルクロ
ライド（１級）の31:69の混合物を90%の収率で得た。
フロントページの続き (72)発明者 世古 信三 大阪府高槻市塚原２丁目10番１号 住友化 学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC30 BB11 BB15 BB24 BC31 BE61 BE62 BE90
Claims (5)
- 【請求項１】一般式（１） (式中、ａは０、１、２または３を示す。)で示されるア
ルコール類と一般式（２） （式中、Ｍは金属原子を、Ｘはハロゲン原子を、Ｒは炭
素数1から５の直鎖または分枝状のアルキル基を、ｂは
１、２、３または４を示す。）で示される金属ハロゲン
化物とを反応させることを特徴とする一般式（３） （式中、波線はＥ／Ｚ幾何異性体の混合物を示し、ａお
よびＸは前記と同じ意味を表わす。）で示されるハロゲ
ン化合物の製造法。 - 【請求項２】ａが０または１である請求項１に記載の製
造法。 - 【請求項３】金属原子が第４族の遷移金属である請求項
１または２に記載の製造法。 - 【請求項４】第４属の遷移金属がチタンもしくはジルコ
ニウムである請求項３に記載の製造法。 - 【請求項５】反応溶媒としてエーテル系溶媒単一または
エーテル系溶媒と他溶媒との混合溶媒を用いる請求項
１、２または３に記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000090950A JP4534297B2 (ja) | 1999-04-08 | 2000-03-29 | ハロゲン化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-101234 | 1999-04-08 | ||
| JP10123499 | 1999-04-08 | ||
| JP2000090950A JP4534297B2 (ja) | 1999-04-08 | 2000-03-29 | ハロゲン化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000351742A true JP2000351742A (ja) | 2000-12-19 |
| JP4534297B2 JP4534297B2 (ja) | 2010-09-01 |
Family
ID=26442143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000090950A Expired - Fee Related JP4534297B2 (ja) | 1999-04-08 | 2000-03-29 | ハロゲン化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4534297B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5350107A (en) * | 1976-10-16 | 1978-05-08 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Preparatin of alkyl chlorides |
| JPH06211709A (ja) * | 1993-01-20 | 1994-08-02 | Kuraray Co Ltd | アリルクロライドの製造方法 |
| JPH08133999A (ja) * | 1994-11-08 | 1996-05-28 | Kuraray Co Ltd | ゲラニルゲラニオ−ルの製造方法 |
| JP2000198770A (ja) * | 1998-10-26 | 2000-07-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | レチノ―ルの製造方法および中間体 |
-
2000
- 2000-03-29 JP JP2000090950A patent/JP4534297B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5350107A (en) * | 1976-10-16 | 1978-05-08 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Preparatin of alkyl chlorides |
| JPH06211709A (ja) * | 1993-01-20 | 1994-08-02 | Kuraray Co Ltd | アリルクロライドの製造方法 |
| JPH08133999A (ja) * | 1994-11-08 | 1996-05-28 | Kuraray Co Ltd | ゲラニルゲラニオ−ルの製造方法 |
| JP2000198770A (ja) * | 1998-10-26 | 2000-07-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | レチノ―ルの製造方法および中間体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4534297B2 (ja) | 2010-09-01 |
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