JP2000240720A - Vibration eliminating device for vibration disliking equipment with movable mass body - Google Patents
Vibration eliminating device for vibration disliking equipment with movable mass bodyInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は嫌振設備の除振装置
に関し、とりわけ、嫌振設備には可動質量体が設けられ
て、可動質量体が嫌振設備内で走行および停止される可
動質量体を備えた嫌振設備の除振装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anti-vibration apparatus for anti-vibration equipment, and more particularly to an anti-vibration equipment provided with a movable mass body, the movable mass body traveling and stopping in the anti-vibration equipment. The present invention relates to an anti-vibration device for an anti-vibration facility having a body.
【0002】[0002]
【従来の技術】精密機器や精密製品の製造設備は振動を
嫌い、除振装置によって外部から入力される振動を遮断
するようになっている。例えば、ICチップを製造する
大型ウエハーの露光装置にあっても精密嫌振設備として
構成され、光を利用してウエハーに回路図を印刷するよ
うになっている。即ち、かかる露光装置は図8に示すよ
うに光源1から照射された光Fを、回路パターンが記さ
れたフィルム状の基盤2に通過させ、これをレンズ3に
よりウエハー4上に結像させることによりICチップの
回路図が印刷される。2. Description of the Related Art Manufacturing equipment for precision equipment and precision products dislikes vibrations, and is designed to cut off vibrations input from the outside by vibration isolators. For example, even a large wafer exposure apparatus for manufacturing IC chips is configured as a precision anti-vibration facility, and a circuit diagram is printed on a wafer using light. That is, as shown in FIG. 8, the exposure apparatus passes light F emitted from a light source 1 to a film-like substrate 2 on which a circuit pattern is written, and forms an image on a wafer 4 by a lens 3. Prints the circuit diagram of the IC chip.
【0003】従って、基盤2とウエハー4は、印刷位置
やレンズ3の焦点位置などの関係により、両者間の相対
位置を精度良く調整する必要がある。このため、基盤2
は、露光装置の支持枠に対して水平方向の走行が許容さ
れる第1ステージ5に取付けられる一方、ウエハー4は
水平方向および垂直方向の走行が許容される第2ステー
ジ6に取り付けられる。そして、第1ステージ5は水平
面に沿ったX,Y方向にリニアモータ制御されるととも
に、第2ステージ6はX,Y方向のリニアガイドおよび
回転方向を含めた6自由度制御される。そして、露光時
には第1,第2ステージ5,6ともに静止状態を保持し
た状態で行われる。このため、露光装置は除振台の上に
設置され、床または基礎からの振動を遮断するようにな
っている。Accordingly, it is necessary to precisely adjust the relative position between the base 2 and the wafer 4 depending on the relationship between the printing position and the focal position of the lens 3. Therefore, the base 2
The wafer 4 is mounted on a first stage 5 that is allowed to travel horizontally in relation to the support frame of the exposure apparatus, while the wafer 4 is mounted on a second stage 6 that is allowed to travel horizontally and vertically. The first stage 5 is controlled by a linear motor in X and Y directions along a horizontal plane, and the second stage 6 is controlled by six degrees of freedom including a linear guide in the X and Y directions and a rotation direction. The exposure is performed in a state where both the first and second stages 5 and 6 are kept still. For this reason, the exposure apparatus is installed on a vibration isolation table, and blocks vibration from the floor or the foundation.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
露光装置にあっては可動質量体である第1,第2ステー
ジ5,6は20Kgf 〜50Kgf の質量を備え、これがリ
ニアモータで高速走行するようになっている。このた
め、第1,第2ステージ5,6の位置決め時の反力が露
光装置の構造フレームに伝わり、これが除振台を加振す
るためフレームの揺れを収束するのに長時間を要してし
まう。即ち、露光装置自体が発生する加振力によって、
柔らかい除振台はかえって揺すぶられてしまうことにな
る。However, in the conventional exposure apparatus, the first and second stages 5 and 6, which are movable mass bodies, have a mass of 20 kgf to 50 kgf so that they can travel at high speed by a linear motor. It has become. For this reason, the reaction force at the time of positioning the first and second stages 5 and 6 is transmitted to the structural frame of the exposure apparatus, and it takes a long time for the vibration of the anti-vibration table to converge to shake the frame. I will. That is, by the excitation force generated by the exposure apparatus itself,
The soft anti-vibration table will be shaken on the contrary.
【0005】ところで、上記除振台は支持弾性のばね剛
性を、予め除振しようとする嫌振設備の質量に応じて設
定しておくことによりパッシブ制御できる。一方、ばね
剛性を可変制御することによりアクティブ制御が可能と
なり、このアクティブ制御機能を用いてフィードフォワ
ード制御することにより、外部からの振動に対して効果
的に除振制御することができる。この場合のフィードフ
ォワード制御は、露光装置が設置される床または基礎の
振動を採取して、前もって露光装置が応答しないように
制御するものであるが、露光装置自体が発生する加振力
に対しては効果が無い。このため、敢えて露光装置自体
の加振力を効果的に制振するためには、除振台の揺れを
感知して除振台が揺れないように制御するフィードバッ
クアクティブ制御が行われることになる。By the way, the vibration isolation table can be passively controlled by setting the spring rigidity of the supporting elasticity in advance according to the mass of the anti-vibration equipment to be subjected to vibration isolation. On the other hand, active control is enabled by variably controlling the spring stiffness. By performing feedforward control using this active control function, vibration control can be effectively performed against external vibration. In the feedforward control in this case, the vibration of the floor or the foundation on which the exposure apparatus is installed is sampled and controlled so that the exposure apparatus does not respond in advance. Has no effect. For this reason, in order to effectively control the vibration force of the exposure apparatus itself, feedback active control for sensing the vibration of the anti-vibration table and controlling the anti-vibration table so as not to vibrate is performed. .
【0006】ところが、上記露光装置では第1,第2ス
テージ5,6の走行により数十Kgf〜数百Kgf の加振力
を出し、これの構造フレームの応答が数十ガル〜数百ガ
ルとなってしまう。一方、露光時の許容振動量は0.0
5〜0.10ガル程度(応答加速度は数百ガルの1/1
000〜1/2000程度)となって、露光作業では振
動抑制を瞬時に達成されることが望まれるにもかかわら
ず、フィードバックアクティブ制御ではこのような大幅
な振動抑制効果を速やかに達成することが困難になって
しまう。また、アクティブ制御に使用する高感度振動セ
ンサーの感度(約1/1000)の能力も不足すること
になってしまうという課題があった。However, in the above-described exposure apparatus, the driving of the first and second stages 5 and 6 produces an excitation force of several tens Kgf to several hundreds Kgf, and the response of the structural frame thereof is several tens gal to several hundred gal. turn into. On the other hand, the allowable vibration amount during exposure is 0.0
5 to 0.10 gal (response acceleration is 1/1 of several hundred gal)
(About 000 to 1/2000), and it is desired that the vibration suppression be instantaneously achieved in the exposure work. However, such a large vibration suppression effect can be promptly achieved by the feedback active control. It will be difficult. In addition, there is a problem that the sensitivity (about 1/1000) of the high-sensitivity vibration sensor used for active control is insufficient.
【0007】そこで、本発明はかかる従来の課題に鑑み
て成されたもので、可動質量体の走行時に除振台を固定
状態とすることにより、嫌振設備の内部から発生する加
振力が嫌振設備自体に影響するのを低減するようにした
可動質量体を備えた嫌振設備の除振装置を提供すること
を目的とする。In view of the above, the present invention has been made in view of such a conventional problem. By setting the vibration isolation table in a fixed state when the movable mass body travels, the vibration force generated from inside the anti-vibration equipment is reduced. It is an object of the present invention to provide an anti-vibration equipment vibration isolator provided with a movable mass body that reduces influence on the anti-vibration equipment itself.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明の請求項1に示す可動質量体を備えた嫌振
設備の除振装置は、可動質量体を備えた嫌振設備が除振
台を介してベースに弾性支持されるようになった除振装
置において、該除振台を作動状態および固定状態とする
ロック機構を設けるとともに、このロック機構により前
記除振台を、可動質量体の走行状態で固定状態とする一
方、可動質量体の停止状態で作動状態とするロック制御
手段を設けたことを特徴とする。In order to achieve the above object, a vibration damping apparatus for a vibration damping apparatus having a movable mass body according to the present invention is provided with a vibration damping apparatus having a movable mass body. In a vibration isolator that is elastically supported by a base via a vibration isolation table, a lock mechanism for operating the vibration isolation table and fixing the vibration isolation table is provided, and the vibration isolation table can be moved by the lock mechanism. A lock control means is provided for setting the movable body in a stationary state while the movable body is in a running state and operating the movable mass body in a stopped state.
【0009】従って、この除振装置にあっては、ロック
制御手段を設けて、可動質量体の走行状態で除振台を固
定状態とすることにより、除振台は除振機能を無くして
嫌振設備を剛体状態で支持することができる。従って、
可動質量体が走行する間は、これによって発生する加振
力が嫌振設備に影響するのを無くして、嫌振設備が揺れ
るのを防止することができる。一方、可動質量体の停止
状態、つまり、可動質量体による加振力の発生が無い状
態では除振台が作動状態になるので、除振台は本来の除
振機能を発揮して、嫌振設備を静止状態に安定化させる
ことができる。Therefore, in this vibration damping device, the vibration damping table has no vibration damping function by providing the lock control means to fix the vibration damping table in the running state of the movable mass body. The vibration equipment can be supported in a rigid state. Therefore,
While the movable mass body travels, it is possible to prevent the generated vibration force from affecting the anti-vibration equipment and prevent the anti-vibration equipment from shaking. On the other hand, when the movable mass body is stopped, that is, when no exciting force is generated by the movable mass body, the vibration damping table is in an operating state. The equipment can be stabilized at rest.
【0010】また、本発明の請求項2に示す可動質量体
を備えた嫌振設備の除振装置は、上記ロック機構を、除
振台およびベースのいずれか一方に設けられる電磁石
と、いずれか他方に設けられて該電磁石が発生する磁力
に吸引される磁性体とを備えて構成し、これら電磁石と
磁性体との間の吸引力によって除振台を固定することが
望ましい。According to a second aspect of the present invention, there is provided an anti-vibration apparatus for an anti-vibration facility having a movable mass body, wherein the lock mechanism includes an electromagnet provided on one of the anti-vibration table and the base. It is desirable to provide a magnetic body provided on the other side and to be attracted by the magnetic force generated by the electromagnet, and to fix the vibration isolation table by the attractive force between the electromagnet and the magnetic body.
【0011】従って、この除振装置にあっては、電磁石
は通電により励磁して、これにより発生する磁力で磁性
体を吸引して除振台を固定する一方、電磁石への通電を
遮断することにより消磁して磁性体との間の吸引力を除
去し、除振台を作動状態にできる。このように除振台の
固定状態および作動状態を電磁石の磁力によって切り替
えることができるので、ロック制御手段から出力する制
御信号に対してロック機構が実際に作動するまでの応答
性を著しく高めることができる。Therefore, in this vibration isolator, the electromagnet is excited by energization, and the magnetic force generated thereby attracts the magnetic material to fix the vibration isolator while cutting off the power to the electromagnet. As a result, the suction force between the magnetic material and the magnetic material is removed, and the vibration isolation table can be brought into the operating state. In this manner, the fixed state and the operating state of the vibration isolation table can be switched by the magnetic force of the electromagnet, so that the response until the lock mechanism actually operates in response to the control signal output from the lock control means can be significantly improved. it can.
【0012】更に、本発明の請求項3に示す可動質量体
を備えた嫌振設備の除振装置は、上記ロック機構を、除
振台およびベースのいずれか一方に設けられる突部と、
いずれか他方に設けられて該突部を掴持自在な掴持機構
とを備えて構成し、掴持機構による突部の掴持によって
除振台を固定することが望ましい。Further, according to a third aspect of the present invention, there is provided an anti-vibration apparatus for an anti-vibration facility having a movable mass body, wherein the lock mechanism comprises: a projection provided on one of the anti-vibration table and the base;
It is preferable that a gripping mechanism is provided on one of the other sides and is capable of gripping the projection, and the anti-vibration table is fixed by gripping the projection by the gripping mechanism.
【0013】従って、この除振装置にあっては、除振台
の固定時には掴持機構が突部を掴持するので、除振台の
固定力を著しく増大することができる。このため、可動
質量体の走行により嫌振設備に大きな加振力が発生され
る場合にも、除振台は弾性支持機能を無くして剛体状態
で嫌振設備を支持できるため、嫌振設備の揺れを確実に
阻止することができる。Therefore, in this vibration damping device, when the vibration damping table is fixed, the gripping mechanism grips the protrusion, so that the fixing force of the vibration damping table can be significantly increased. For this reason, even when a large excitation force is generated in the anti-vibration equipment due to the traveling of the movable mass body, the anti-vibration table has no elastic support function and can support the anti-vibration equipment in a rigid state. Shaking can be reliably prevented.
【0014】更にまた、本発明の請求項4に示す可動質
量体を備えた嫌振設備の除振装置は、上記ロック機構
を、除振台およびベースのいずれか一方に設けられる突
部と、いずれか他方に設けられて該突部を掴持自在な掴
持機構とを備えて構成し、これら突部とこれを掴持する
掴持機構を、これらにそれぞれ備えた電磁石と磁性体と
することが望ましい。Further, according to a fourth aspect of the present invention, there is provided an anti-vibration apparatus for an anti-vibration facility having a movable mass body, wherein the lock mechanism comprises: a projection provided on one of the anti-vibration table and the base; It is provided with a gripping mechanism provided on one of the other sides and capable of gripping the projection, and the projection and the gripping mechanism for gripping the projection are an electromagnet and a magnetic body provided respectively. It is desirable.
【0015】従って、この除振装置にあっては、掴持機
構による突部の掴持作用を電磁力の作用で行うことがで
きて、上記の作用を兼備させることができる。Therefore, in this vibration isolator, the gripping operation of the projection by the gripping mechanism can be performed by the action of the electromagnetic force, and the above-described function can be combined.
【0016】更にまた、本発明の請求項5に示す可動質
量体を備えた嫌振設備の除振装置は、上記ロック機構
に、除振台の挙動を制御するアクティブ制御機構を設
け、このアクティブ制御機構を、可動質量体の走行指令
信号を利用して加振状態から除振状態に至るまでフィー
ドフォワード制御することが望ましい。Further, in the vibration isolator of the anti-vibration equipment having the movable mass body according to claim 5 of the present invention, the lock mechanism is provided with an active control mechanism for controlling the behavior of the vibration isolation table. It is desirable that the control mechanism be feed-forward controlled from a vibration state to a vibration removal state using a traveling command signal of the movable mass body.
【0017】従って、この除振装置にあっては、可動質
量体が停止して除振台が作動状態とされた際に、可動質
量体の加振力が残存して嫌振設備に影響する場合にも、
アクティブ制御機構を可動質量体の走行指令信号により
フィードフォワード制御するので、除振台の固定状態か
らロック機構のアクティブ制御状態に移行する際の応答
性が著しく向上する。このため、除振台の固定時と作動
時との嫌振設備の振動差が著しく少ない状態でアクティ
ブ制御できるため、可動質量体の加振力が大きい場合に
も除振台の挙動制御を効果的に行って、除振台を作動状
態とするときに嫌振設備に揺れが残存するのを防止若し
くは著しく低減することができる。Therefore, in this vibration isolator, when the movable mass body stops and the vibration isolating table is activated, the vibration force of the movable mass body remains and affects the anti-vibration equipment. In some cases,
Since the active control mechanism is feed-forward controlled by the traveling command signal of the movable mass body, the responsiveness when shifting from the fixed state of the vibration isolation table to the active control state of the lock mechanism is significantly improved. Therefore, active control can be performed in a state where the vibration difference of the anti-vibration equipment between when the vibration isolator is fixed and when it is in operation is extremely small. In this way, it is possible to prevent or significantly reduce the shaking from remaining in the anti-vibration equipment when the anti-vibration table is brought into the operating state.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の可動質量体を備え
た嫌振設備の除振装置を図面に基づいて詳述する。図1
〜図6は本実施形態の除振装置を示し、図1は除振装置
全体を示す正面図、図2は本発明の除振装置に用いられ
る除振台の斜視図、図3は除振台の弾性支持部を示す断
面斜視図、図4は除振台に用いられる皿ばねの斜視図、
図5は皿ばねのばね特性を荷重−変位で示すグラフ、図
6はロック機構を(a)の正面視、(b)の縦断面、
(c)の横断面で示す説明図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an exploded perspective view of an anti-vibration apparatus equipped with a movable mass according to the present invention. FIG.
6 to 6 show the vibration isolator of the present embodiment, FIG. 1 is a front view showing the whole vibration isolator, FIG. 2 is a perspective view of a vibration isolator used in the vibration isolator of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional perspective view showing an elastic supporting portion of the table, FIG.
FIG. 5 is a graph showing the spring characteristics of the disc spring in terms of load-displacement, FIG. 6 is a front view of the lock mechanism shown in FIG.
It is explanatory drawing shown by the cross section of (c).
【0019】本発明の除振装置10の基本構成は、可動
質量体12を備えた嫌振設備14が除振台16を介して
ベースたる床F上に弾性支持されるようになっており、
除振台16の相対移動部分18を作動状態および固定状
態とするロック機構20を設けるとともに、このロック
機構20を、可動質量体12の走行状態で固定状態とす
る一方、可動質量体12の停止状態で作動状態とするロ
ック制御手段22を設ける。The basic configuration of the vibration damping apparatus 10 of the present invention is such that a vibration damping facility 14 having a movable mass body 12 is elastically supported on a floor F as a base via a vibration damping table 16.
A lock mechanism 20 is provided for setting the relative movement portion 18 of the vibration isolation table 16 to the operating state and the fixed state. The lock mechanism 20 is set to the fixed state in the running state of the movable mass body 12, while the movable mass body 12 is stopped. There is provided a lock control means 22 which is activated in the state.
【0020】嫌振設備14は図1に示すように精密機械
として構成され、この嫌振設備14には所定の仕事を行
うために、一定の質量をもって走行する可動質量体12
が備えられる。嫌振設備14は、例えば「従来の技術」
の項に示したと同様に大型ウエハーの露光装置として構
成され、この場合の可動質量体12は、基盤およびウエ
ハーを載置する各ステージとして構成されるが、本実施
形態では便宜上1つの可動質量体12として示してあ
る。可動質量体12は、走行制御手段24から出力され
る走行指令信号によって走行および停止が制御される。The anti-vibration equipment 14 is constructed as a precision machine as shown in FIG. 1. The anti-vibration equipment 14 has a movable mass body 12 running with a constant mass in order to perform a predetermined work.
Is provided. The anti-vibration equipment 14 is, for example, a “conventional technology”
Is configured as a large wafer exposure apparatus in the same manner as described above, and the movable mass body 12 in this case is configured as each stage on which a base and a wafer are mounted. In the present embodiment, one movable mass body is used for convenience. It is shown as 12. Traveling and stopping of the movable mass body 12 are controlled by a traveling command signal output from the traveling control means 24.
【0021】嫌振精密機械として構成される嫌振設備1
4は除振台定盤26上に設置されて、床F或いは基礎か
らの振動を遮断するようになっている。除振台定盤26
は矩形状を成し、図2に示すように各角部に対応して配
置される4個の弾性支持部28上に載置される。弾性支
持部28は、図3に示すように床Fに固定される取付板
30上に設置され、積層ゴム32と皿ばね34とを備え
て構成される。積層ゴム32は皿ばね34の下側に配置
され、これら積層ゴム32と皿ばね34との間には環状
の中間板36が介在されている。Anti-vibration equipment 1 configured as an anti-vibration precision machine
Numeral 4 is installed on the vibration isolator base plate 26 so as to cut off vibration from the floor F or the foundation. Anti-vibration table surface plate 26
Has a rectangular shape, and is mounted on four elastic support portions 28 arranged corresponding to the respective corner portions as shown in FIG. The elastic support portion 28 is installed on a mounting plate 30 fixed to the floor F as shown in FIG. 3, and includes a laminated rubber 32 and a disc spring 34. The laminated rubber 32 is disposed below the disc spring 34, and an annular intermediate plate 36 is interposed between the laminated rubber 32 and the disc spring 34.
【0022】積層ゴム32は一般に知られるようにゴム
層と鋼板とを交互に積層したもので、中間板36と取付
板30との間に、この中間板36の周方向に沿って複数
個(本実施形態では4個)が等間隔に配置される。皿ば
ね34は図4に示すように中央部が開口された傘状に形
成され、中間板36と除振台定盤26との間に配置され
る。そして、除振台定盤26に作用する鉛直荷重は、皿
ばね34および積層ゴム32を介して取付板30に支持
される。積層ゴム32は、これの剪断変形を伴って水平
方向の変位を吸収するとともに、皿ばね34はたわみ変
形を伴って上下方向の変位を吸収する。As is generally known, the laminated rubber 32 is formed by alternately laminating rubber layers and steel plates. A plurality of laminated rubbers 32 are provided between the intermediate plate 36 and the mounting plate 30 along the circumferential direction of the intermediate plate 36. 4 in this embodiment) are arranged at equal intervals. As shown in FIG. 4, the disc spring 34 is formed in an umbrella shape having an open central portion, and is disposed between the intermediate plate 36 and the anti-vibration table 26. The vertical load acting on the table 26 is supported by the mounting plate 30 via the disc spring 34 and the laminated rubber 32. The laminated rubber 32 absorbs displacement in the horizontal direction due to the shearing deformation thereof, and the disc spring 34 absorbs displacement in the vertical direction accompanied by the bending deformation.
【0023】ここで、皿ばね34は図5に示す荷重−変
位曲線を持ったばね特性を備えており、このばね特性の
非線形ばね領域R内で皿ばね34がたわみ変形されるよ
うに設定される。ここで、非線形ばね領域Rとは、除振
台定盤26の上下変位量に対して皿ばね34の弾発力の
変動が小さい領域であり、この非線形ばね領域R内で皿
ばね34を作動させることにより、除振台定盤26が上
下振動した場合にも、ほぼ一定した弾発力をもって嫌振
設備14を支持することができる。Here, the disc spring 34 has a spring characteristic having a load-displacement curve shown in FIG. 5, and is set so that the disc spring 34 is bent and deformed in a nonlinear spring region R of the spring characteristic. . Here, the non-linear spring region R is a region where the fluctuation of the resilient force of the disc spring 34 is small with respect to the amount of vertical displacement of the anti-vibration table 26, and the disc spring 34 is operated within the non-linear spring region R. By doing so, even when the anti-vibration table 26 vibrates up and down, the anti-vibration equipment 14 can be supported with a substantially constant elasticity.
【0024】また、各弾性支持部28には、図1に示し
たように床Fと除振台定盤26との間の上下方向相対変
位を水平方向変位に変換する変位変換手段40が設けら
れている。変位変換手段40は、1対の板ばね40a,
40bの一端部を水平方向に配置して重合するととも
に、他端部をV字状を成すように折曲して構成される。
そして、V字状の先端部の一方を除振台定盤26に結合
するとともに、他方を中間板36に結合してある。各変
位変換手段40は、隣接されるものどうしで板ばね40
a,40bのV字状部分が同一方向を指向するととも
に、それぞれのV字状の傾斜を等しくしてある。板ばね
40a,40bの重合部分は、隣接されるものどうしが
剛体状の連結部材42を介して連結され、それぞれの変
位変換手段40で発生した水平方向変位が相互に伝達さ
れるようになっている。Each elastic support portion 28 is provided with a displacement converting means 40 for converting a vertical relative displacement between the floor F and the vibration isolator table 26 into a horizontal displacement as shown in FIG. Have been. The displacement converting means 40 includes a pair of leaf springs 40a,
One end of 40b is arranged in the horizontal direction and overlapped, and the other end is bent so as to form a V-shape.
Then, one of the V-shaped tip portions is connected to the anti-vibration table 26 and the other is connected to the intermediate plate 36. Each displacement converting means 40 is a leaf spring 40 between adjacent ones.
The V-shaped portions a and 40b are directed in the same direction, and the respective V-shaped slopes are made equal. The overlapping portions of the leaf springs 40a and 40b are connected to each other via a rigid connecting member 42 so that the horizontal displacements generated by the respective displacement converting means 40 are transmitted to each other. I have.
【0025】従って、変位変換手段40が連結部材42
を介して連結されることにより、除振台定盤26に生ず
るロッキング回転振動を効果的に防止することができ
る。即ち、除振台定盤26と床Fとの間に上下方向相対
変位を生じさせる入力振動があり、除振台定盤26の両
側部分に各々異なる上下振動負荷が生じた場合、これに
応じて除振支持をしようとすることで、各弾性支持部2
8で上下方向相対変位が異なって生じることになり、除
振台定盤26にロッキング回転振動が生じようとする。
しかし、変位変換手段40にそれぞれ加わる上下方向振
動負荷を、それに応じた水平方向振動負荷に変換し、こ
れを連結部材42を介して相互に伝達することで、除振
台定盤26つまり嫌振設備14のロッキング回転振動を
防止できる。Therefore, the displacement converting means 40 is connected to the connecting member 42.
, Rocking rotational vibration generated on the vibration isolation table surface plate 26 can be effectively prevented. That is, when there is an input vibration that causes a vertical relative displacement between the anti-vibration table base 26 and the floor F, and different vertical vibration loads occur on both sides of the anti-vibration table base 26, Each of the elastic supporting portions 2
8, the relative displacement in the up-down direction is differently generated, and a rocking rotational vibration is about to occur on the anti-vibration table 26.
However, the vertical vibration loads applied to the displacement conversion means 40 are converted into horizontal vibration loads corresponding to the vertical vibration loads, and the vibration loads are transmitted to each other via the connecting member 42. Locking rotational vibration of the equipment 14 can be prevented.
【0026】また、互いに隣接される弾性支持部28の
中間板36どうし、つまり、積層ゴム32の自由端部側
は剛体状の梁部材44を介して互いに連結される。この
ように梁部材44を介して隣接される積層ゴム32の自
由端部の挙動が規制されることにより、各積層ゴム32
が独自に傾いて局部的に沈み込むのを防止することがで
きる。このため、除振台定盤26に偏心荷重が作用した
場合にも、この除振台定盤26が傾斜されるのを防止す
ることができる。勿論、除振台16としては上記変位変
換手段40および上記梁部材44が設けられないものに
あっても、その機能が低下されるものの嫌振設備14の
除振機能を備える。The intermediate plates 36 of the elastic support portions 28 adjacent to each other, that is, the free end side of the laminated rubber 32 are connected to each other via a rigid beam member 44. In this way, the behavior of the free end of the laminated rubber 32 adjacent via the beam member 44 is regulated, so that each laminated rubber 32
Can be prevented from tilting independently and sinking locally. For this reason, even when an eccentric load is applied to the anti-vibration table base 26, the anti-vibration table base 26 can be prevented from being tilted. Needless to say, even if the vibration isolation table 16 is not provided with the displacement conversion means 40 and the beam member 44, the vibration isolation table 16 is provided with a vibration isolation function of the anti-vibration equipment 14, although its function is reduced.
【0027】ここで、各弾性支持部28に設けられるロ
ック機構20は、図6に示すように除振台定盤26の下
面に取り付けられて、皿ばね34の中央開口部34aお
よび環状の中間板36の中央部を貫通して垂設される突
部としての剛体状の垂下柱46と、取付板30から垂下
柱46の下端部を若干の隙間を設けて囲繞するように立
設される薄い鉄板製の倒立片持ち梁48とが設けられ
る。そして、垂下柱46に電磁石50が取り付けられる
とともに、倒立片持ち梁48に磁性体としての永久磁石
52が取り付けられることにより構成される。Here, the lock mechanism 20 provided on each elastic support portion 28 is attached to the lower surface of the anti-vibration table 26 as shown in FIG. A rigid hanging column 46 as a projection penetrating through the center of the plate 36 and a lower end of the hanging column 46 from the mounting plate 30 are provided so as to surround the lower end of the hanging column 46 with a slight gap. An inverted cantilever 48 made of a thin iron plate is provided. An electromagnet 50 is attached to the hanging column 46, and a permanent magnet 52 as a magnetic material is attached to the inverted cantilever 48.
【0028】垂下柱46は同図(c)に示すように断面
矩形状に形成される一方、倒立片持ち梁48は垂下柱4
6の各側面に対向して4枚が設けられ、これら倒立片持
ち梁48は垂下柱46の外側を掴持する掴持機構として
構成される。電磁石50は垂下柱46の下端部に設けら
れるアルミケース46a内に収納されるとともに、この
電磁石50と同一高さに永久磁石52が位置する。The hanging column 46 is formed in a rectangular cross section as shown in FIG. 3C, while the inverted cantilever 48 is
6, four inverted cantilever beams 48 are formed as a gripping mechanism for gripping the outside of the hanging column 46. The electromagnet 50 is housed in an aluminum case 46 a provided at the lower end of the hanging column 46, and the permanent magnet 52 is located at the same height as the electromagnet 50.
【0029】電磁石50は、ロック制御手段22から出
力される電流のON−OFF信号により励磁および消磁
され、ON信号により励磁されると、永久磁石52が倒
立片持ち梁48のたわみ変形を伴いつつ電磁石50に吸
引されて、永久磁石52がアルミケース46aの側面に
固着される。すると、4枚の倒立片持ち梁48は垂下柱
46を掴持する状態となり、これによって相対移動部分
18は固定状態とされて除振台16による除振機能が無
くなる。一方、OFF信号により電磁石50が消磁され
ると、相対移動部分18は固定が解除されて作動状態と
なり、除振台16は本来の除振機能が発揮される。The electromagnet 50 is excited and demagnetized by the ON-OFF signal of the current output from the lock control means 22. When the electromagnet 50 is excited by the ON signal, the permanent magnet 52 is bent while the inverted cantilever 48 is deformed. The permanent magnet 52 is fixed to the side surface of the aluminum case 46a by being attracted by the electromagnet 50. Then, the four inverted cantilever beams 48 are in a state of gripping the hanging columns 46, whereby the relative moving portion 18 is fixed, and the vibration isolation function of the vibration isolation table 16 is lost. On the other hand, when the electromagnet 50 is demagnetized by the OFF signal, the relative moving portion 18 is released from the fixed state and becomes in the operating state, and the vibration isolation table 16 exhibits the original vibration isolation function.
【0030】ロック制御手段22からロック機構20に
出力するON−OFF信号は、走行制御手段24から可
動質量体12に出力される走行指令信号に基づいて出力
される。可動質量体12は走行制御手段24から出力さ
れるON信号により走行し、OFF信号により停止され
るようになっており、この走行制御信号をロック制御手
段22に導入する。つまり、走行制御信号がONのと
き、ロック制御手段22からロック機構20にON信号
を出力して除振台16を固定する一方、走行制御信号が
OFFのとき、ロック制御手段22からロック機構20
にOFF信号を出力して除振台16を作動状態とするよ
うになっている。An ON-OFF signal output from the lock control means 22 to the lock mechanism 20 is output based on a travel command signal output from the travel control means 24 to the movable mass 12. The movable mass body 12 travels by an ON signal output from the travel control means 24 and stops by an OFF signal. The travel control signal is introduced to the lock control means 22. That is, when the travel control signal is ON, the lock control means 22 outputs an ON signal to the lock mechanism 20 to fix the vibration isolation table 16, while when the travel control signal is OFF, the lock control means 22 outputs the lock mechanism 20.
Is output to output the vibration isolation table 16 to the operating state.
【0031】従って、本実施形態の可動質量体を備えた
嫌振設備の除振装置にあっては、通常の除振時にはロッ
ク制御手段22から電磁石50にはOFF信号が継続し
て出力され、ロック機構20は除振台16を作動状態と
している。この状態では嫌振設備14は、除振台16の
積層ゴム32および皿ばね34からなる弾性支持部28
により弾性支持され、床Fから入力される地震による振
動、また、交通振動や生活振動の微振動を弾性支持部2
8によりパッシブに除振し、嫌振設備14の揺れを阻止
することができる。従って、本実施形態のように嫌振設
備14を大型ウエハーの露光装置とすることにより、精
度良くICチップの回路図を印刷することができる。Therefore, in the vibration isolator of the anti-vibration equipment having the movable mass body of the present embodiment, an OFF signal is continuously output from the lock control means 22 to the electromagnet 50 at the time of normal vibration isolation. The lock mechanism 20 keeps the vibration isolation table 16 in operation. In this state, the anti-vibration equipment 14 includes an elastic support portion 28 including the laminated rubber 32 and the disc spring 34 of the vibration isolation table 16.
Elastically supported by the elastic support portion 2 and vibrates due to an earthquake input from the floor F, and minute vibrations such as traffic vibrations and living vibrations.
By virtue of 8, the vibration can be passively removed, and the vibration of the anti-vibration equipment 14 can be prevented. Accordingly, by using the anti-vibration equipment 14 as a large wafer exposure apparatus as in the present embodiment, a circuit diagram of an IC chip can be printed with high accuracy.
【0032】ここで、嫌振設備14を露光装置とした場
合にステージとして構成される可動質量体12を走行さ
せる際、この可動質量体12は、走行制御手段24から
の走行指令信号によって走行および停止されるが、この
走行指令信号をロック制御手段22に導入してロック機
構20の電磁石50に励磁信号を出力する。即ち、可動
質量体12を走行させるために走行指令信号がONにな
ると、ロック制御手段22からロック機構20にON信
号、つまり、電磁石50の励磁信号が出力されると、倒
立片持ち梁48は垂下柱46を掴持して除振台16の相
対移動部分18を固定する。Here, when the movable mass body 12 configured as a stage travels when the anti-vibration equipment 14 is an exposure apparatus, the movable mass body 12 travels and travels according to a travel command signal from the travel control means 24. Although stopped, the running command signal is introduced into the lock control means 22 to output an excitation signal to the electromagnet 50 of the lock mechanism 20. That is, when the traveling command signal is turned ON to cause the movable mass body 12 to travel, when the ON signal, that is, the excitation signal of the electromagnet 50 is output from the lock control unit 22 to the lock mechanism 20, the inverted cantilever 48 is The relative movement portion 18 of the vibration isolation table 16 is fixed by grasping the hanging column 46.
【0033】即ち、可動質量体12の走行状態でロック
機構20により除振台16は固定状態とされ除振機能を
無くして嫌振設備14を剛体状態で支持することができ
る。従って、可動質量体12が走行する間は、これによ
って発生する加振力が嫌振設備12に影響するのを無く
して、嫌振設備12に揺れが発生されるのを防止するこ
とができる。That is, while the movable mass body 12 is running, the vibration isolation table 16 is fixed by the lock mechanism 20, and the vibration isolation function is eliminated, and the anti-vibration equipment 14 can be supported in a rigid state. Therefore, while the movable mass body 12 is traveling, the vibration force generated by the movable mass body 12 does not affect the anti-vibration equipment 12, and the vibration of the anti-vibration equipment 12 can be prevented.
【0034】一方、可動質量体12を停止させるために
走行指令信号がOFFになると、ロック制御手段22か
らロック機構20の電磁石50に消磁信号が出力され、
永久磁石52は倒立片持ち梁48の自己の弾発力によっ
て垂下柱46から離れて、ロック機構20は除振台16
を作動状態にする。従って、相対移動部分18は自由な
相対移動が可能となって、除振台16は本来の除振機能
を発揮して床Fからの振動を除振し、嫌振設備12を静
止状態に安定化させることができる。On the other hand, when the traveling command signal is turned off to stop the movable mass body 12, a degaussing signal is output from the lock control means 22 to the electromagnet 50 of the lock mechanism 20,
The permanent magnet 52 is separated from the hanging pillar 46 by its own resilient force of the inverted cantilever 48, and the locking mechanism 20 is
To the operating state. Therefore, the relative movement portion 18 can freely move relative to each other, and the vibration damping table 16 exerts its original vibration damping function to dampen vibration from the floor F, and stabilizes the anti-vibration equipment 12 in a stationary state. Can be changed.
【0035】ところで、本実施形態では除振台16のロ
ック機構20は、これを固定状態および作動状態とする
にあたって電磁石50に発生する磁力を用いるようにし
たので、ロック制御手段22から出力する制御信号に対
してロック機構20が実際に作動するまでの応答性を著
しく高めることができる。従って、可動質量体12が走
行および停止される際の除振台16の制御性能を大幅に
高め、嫌振設備12の除振機能の信頼性を著しく向上す
ることができる。In the present embodiment, the lock mechanism 20 of the vibration isolation table 16 uses the magnetic force generated in the electromagnet 50 to bring the vibration isolation table 16 into the fixed state and the operating state. Responsiveness to the signal until the lock mechanism 20 actually operates can be significantly improved. Therefore, the control performance of the anti-vibration table 16 when the movable mass body 12 travels and stops can be greatly improved, and the reliability of the anti-vibration function of the anti-vibration equipment 12 can be significantly improved.
【0036】また、ロック機構20に電磁石50の磁力
を用いるにあたって、電磁石50を剛体状の垂下柱46
に設ける一方、この垂下柱46の外側面を囲繞するよう
に配置した倒立片持ち梁48に永久磁石52を設けて、
電磁石50が励磁された場合に倒立片持ち梁48が垂下
柱46を掴持して除振台16を固定するようにしたの
で、相対移動部分18の固定力を著しく増大することが
できる。このため、質量の大きな可動質量体12の走行
により嫌振設備14に大きな加振力が発生される場合に
も、除振台16は弾性支持機能を無くして剛体状態で嫌
振設備14を支持できるため、嫌振設備14の揺れを確
実に阻止することができる。When the magnetic force of the electromagnet 50 is used for the lock mechanism 20, the electromagnet 50 is connected to the rigid hanging column 46.
On the other hand, a permanent magnet 52 is provided on an inverted cantilever 48 arranged so as to surround the outer surface of the hanging pillar 46,
When the electromagnet 50 is excited, the inverted cantilever beam 48 grips the hanging column 46 and fixes the vibration isolation table 16, so that the fixing force of the relative moving portion 18 can be significantly increased. Therefore, even when a large excitation force is generated in the anti-vibration equipment 14 due to the traveling of the movable mass body 12 having a large mass, the anti-vibration table 16 loses the elastic support function and supports the anti-vibration equipment 14 in a rigid state. Therefore, the vibration of the anti-vibration equipment 14 can be reliably prevented.
【0037】ところで、本実施形態では電磁石50の励
磁によって吸引される磁性体として永久磁石52を用い
ることにより、両者間により大きな吸引力を発生させる
ことができるが、この永久磁石52に限ることなく磁力
に感じて吸引される物質、例えば鉄片を磁性体として用
いることもできる。また、可撓性の倒立片持ち梁48を
用いて掴持機構を構成し、この倒立片持ち梁48が撓み
つつ垂下柱46を掴持するが、勿論、掴持機構はこれに
限ることなく、垂下柱46の外側を確実に掴持できる構
成であればよい。By the way, in the present embodiment, by using the permanent magnet 52 as the magnetic material attracted by the excitation of the electromagnet 50, a larger attractive force can be generated between the two, but the present invention is not limited to this permanent magnet 52. A substance that is attracted by being attracted by a magnetic force, for example, an iron piece can also be used as the magnetic substance. In addition, a gripping mechanism is configured by using the flexible inverted cantilever 48, and the inverted cantilever 48 grips the hanging column 46 while bending, but of course, the gripping mechanism is not limited to this. Any configuration can be used as long as the outside of the hanging pillar 46 can be reliably grasped.
【0038】図7は本発明の他の実施形態を示すアクテ
ィブ制御機構100を示し、このアクティブ制御機構1
00は上記ロック機構20に設けられ、除振台16の挙
動を制御するようになっている。このアクティブ制御機
構100は、可動質量体12の走行指令信号を利用して
除振台16を加振状態から除振状態に至るまでフィード
フォワード制御される。FIG. 7 shows an active control mechanism 100 according to another embodiment of the present invention.
00 is provided in the lock mechanism 20 so as to control the behavior of the vibration isolation table 16. The active control mechanism 100 performs feedforward control of the vibration isolation table 16 from a vibration state to a vibration isolation state using a traveling command signal of the movable mass body 12.
【0039】即ち、アクティブ制御機構100は垂下柱
46の下端部に設けられ、最下端部から所定間隔を設け
て第1,第2,第3電磁石102,104,106が設
けられる。そして、第1電磁石102のZ方向に対向し
て第1永久磁石108が設けられるとともに、第2電磁
石104のX方向に対向して第2永久磁石110が設け
られ、更に、第3電磁石106のY方向に対向して第3
永久磁石112が設けられる。第1永久磁石108は取
付板30に取り付けられるとともに、第2,第3永久磁
石110,112は取付板30から立設される剛体状の
取付板114,116を介して支持される。勿論、図示
省略したがこれら電磁石102,104,106の取付
け部分の上方部分には、上記実施形態に示した電磁石5
0および永久磁石52,倒立片持ち梁48からなるロッ
ク機構20が設けられるものとする。That is, the active control mechanism 100 is provided at the lower end of the hanging column 46, and the first, second, and third electromagnets 102, 104, and 106 are provided at predetermined intervals from the lowermost end. Then, a first permanent magnet 108 is provided to face the first electromagnet 102 in the Z direction, and a second permanent magnet 110 is provided to face the second electromagnet 104 in the X direction. Third in the Y direction
A permanent magnet 112 is provided. The first permanent magnet 108 is mounted on the mounting plate 30, and the second and third permanent magnets 110 and 112 are supported via rigid mounting plates 114 and 116 erected from the mounting plate 30. Of course, although not shown, the electromagnets 5, 104, and 106 are provided above the mounting portions of the electromagnets 5, 104, and 106.
It is assumed that a lock mechanism 20 including a zero, a permanent magnet 52, and an inverted cantilever 48 is provided.
【0040】第1〜第3電磁石102,104,106
には、アクティブ制御回路118から励磁,消磁信号
(ON,OFF電流)が出力されて除振台16のX,
Y,Z方向の挙動が制御される。即ち、第1電磁石10
2と第1永久磁石108との間で上下方向(Z方向)の
変位が制御され、第2電磁石104と第2永久磁石11
0との間で左右方向(X方向)の変位が制御され、か
つ、第3電磁石106と第3永久磁石112との間で前
後方向(Y方向)の変位が制御される。First to third electromagnets 102, 104, 106
The excitation and demagnetization signals (ON and OFF currents) are output from the active control circuit 118, and the X,
The behavior in the Y and Z directions is controlled. That is, the first electromagnet 10
The displacement in the up-down direction (Z direction) is controlled between the second electromagnet 104 and the second permanent magnet 11.
The displacement in the left-right direction (X direction) is controlled between 0 and the displacement in the front-rear direction (Y direction) between the third electromagnet 106 and the third permanent magnet 112 is controlled.
【0041】アクティブ制御回路118には可動質量体
12の走行指令信号、即ち、本実施形態ではこの走行指
令信号としては、可動質量体12の位置決め用駆動モー
タへの信号、或いは、可動質量体12をリニアモータ等
を用いて高速移動させるときのX,Y平面内の移動支持
信号を入力し、この走行指令信号から嫌振設備14の加
振状態から除振状態に至るまで、アクティブ制御機構1
00をフィードフォワード制御するようになっている。In the active control circuit 118, a traveling command signal for the movable mass body 12, that is, in this embodiment, the traveling command signal includes a signal to a drive motor for positioning the movable mass body 12, or a signal for driving the movable mass body 12. A movement support signal in the X and Y planes when the robot is moved at high speed using a linear motor or the like is input.
00 is feed-forward controlled.
【0042】従って、この実施形態にあっては可動質量
体12が停止して除振台16が作動状態とされた際に、
可動質量体12の加振力が残存して嫌振設備14に影響
する場合にも、アクティブ制御機構100を可動質量体
12の走行指令信号によりフィードフォワード制御する
ので、除振台16の固定状態からロック機構20をアク
ティブ制御状態に移行する際の応答性を向上することが
できる。このため、ロック機構20による除振台16の
固定時と作動時との嫌振設備14の振動差が著しく少な
い状態でアクティブ制御できるため、可動質量体12の
加振力が大きい場合にも除振台16の挙動制御を効果的
に行って、除振台16が作動状態とされるときに嫌振設
備14に揺れが残存するのを防止若しくは著しく低減す
ることができる。また、上記アクティブ制御機構100
を用いて除振台16をアクティブ制御する場合において
も、固定時と作動時との振動差が少なくなるため、従来
の高感度振動センサーを利用することができる。Therefore, in this embodiment, when the movable mass body 12 stops and the vibration isolation table 16 is activated,
Even when the exciting force of the movable mass body 12 remains and affects the anti-vibration equipment 14, the active control mechanism 100 is feed-forward controlled by the traveling command signal of the movable mass body 12, so that the vibration isolation table 16 is fixed. The responsiveness when the lock mechanism 20 is shifted to the active control state from the above can be improved. Therefore, active control can be performed in a state where the vibration difference of the anti-vibration equipment 14 between the time when the vibration isolation table 16 is fixed and the time when the vibration isolation table 16 is operated by the lock mechanism 20 is extremely small. By effectively controlling the behavior of the shaking table 16, it is possible to prevent or significantly reduce shaking from remaining in the anti-vibration facility 14 when the vibration isolating table 16 is activated. The active control mechanism 100
In the case where the vibration isolation table 16 is actively controlled using the method, the conventional high-sensitivity vibration sensor can be used because the vibration difference between the fixed state and the operation state is reduced.
【0043】ところで、前記各実施形態にあっては嫌振
設備14として大型ウエハーの露光装置を想定して説明
し、可動質量体12として基盤およびウエハーを載置す
る各ステージを想定したが、これに限ることなく他の精
密装置にあって、質量体となる可動部分を備えた嫌振設
備を除振する除振装置にあっても本発明を適用できるこ
とはいうまでもない。In each of the above embodiments, a large wafer exposure apparatus has been described as the anti-vibration equipment 14, and each stage on which a base and a wafer are mounted is assumed as the movable mass body 12. Needless to say, the present invention can be applied to any other precision equipment, such as an anti-vibration apparatus that vibrates anti-vibration equipment having a movable part that becomes a mass body.
【0044】[0044]
【発明の効果】以上の構成により本発明の可動質量体を
備えた嫌振設備の除振装置は、ロック機構により可動質
量体の走行状態で除振台を固定する一方、可動質量体の
停止状態で除振台を作動状態とすることにより、可動質
量体が走行する間は、これによって発生する加振力が嫌
振設備に影響するのを無くして、嫌振設備が揺れるのを
防止することができる一方、可動質量体の停止状態では
除振台は本来の除振機能を発揮して、嫌振設備を静止状
態に安定化させることができる。The anti-vibration apparatus of the anti-vibration equipment provided with the movable mass body of the present invention having the above-described configuration fixes the vibration isolation table in the running state of the movable mass body by the lock mechanism, and stops the movable mass body. By setting the anti-vibration table in the operating state in the state, while the movable mass body travels, the vibration force generated thereby does not affect the anti-vibration equipment, thereby preventing the anti-vibration equipment from shaking. On the other hand, when the movable mass body is stopped, the anti-vibration table exhibits its original anti-vibration function, and the anti-vibration equipment can be stabilized in a stationary state.
【0045】また、ロック機構による除振台の固定を電
磁石に発生する磁力を用いて行うことにより、ロック制
御手段から出力する制御信号に対してロック機構が実際
に作動するまでの応答性を著しく高めることができる。
従って、可動質量体が走行および停止される際の除振台
の制御性能を大幅に高め、嫌振設備の除振機能の信頼性
を著しく向上することができる。Further, by fixing the anti-vibration table by the lock mechanism using the magnetic force generated in the electromagnet, the responsiveness until the lock mechanism actually operates in response to the control signal output from the lock control means is remarkably increased. Can be enhanced.
Therefore, the control performance of the anti-vibration table when the movable mass body travels and stops can be greatly improved, and the reliability of the anti-vibration function of the anti-vibration equipment can be significantly improved.
【0046】更に、ロック機構による除振台の固定を掴
持機構で構成することにより、除振台の固定力を著しく
増大することができる。従って、質量の大きな可動質量
体の走行により嫌振設備に大きな加振力が発生される場
合にも、除振台は弾性支持機能を無くして剛体状態で嫌
振設備を支持できるため、嫌振設備の揺れを確実に阻止
することができる。Further, by fixing the anti-vibration table by the lock mechanism by a gripping mechanism, the fixing force of the anti-vibration table can be significantly increased. Therefore, even when a large exciting force is generated in the anti-vibration equipment due to the traveling of the movable mass body having a large mass, the anti-vibration table can support the anti-vibration equipment in a rigid state without the elastic support function. Shaking of the equipment can be reliably prevented.
【0047】更にまた、ロック機構を突部とこれを掴持
する掴持機構とし、これらそれぞれに電磁石と磁性体を
備えることで、掴持機構による突部の掴持作用を電磁力
の作用で行うことができて、応答性と固定力の双方を向
上させることができる。Further, the locking mechanism is a projection and a gripping mechanism for gripping the projection, and each of them is provided with an electromagnet and a magnetic body, so that the gripping mechanism of the projection is gripped by the action of electromagnetic force. It can improve both responsiveness and fixing force.
【0048】更にまた、ロック機構に、除振台の挙動を
制御するアクティブ制御機構を設け、このアクティブ制
御機構を、可動質量体の走行指令信号を利用して加振状
態から除振状態に至るまでフィードフォワード制御する
ことにより、除振台の固定状態からロック機構のアクテ
ィブ制御状態に移行する際の応答性を著しく向上するこ
とができる。従って、可動質量体が停止して除振台が作
動状態とされる際に、可動質量体の加振力が残存して嫌
振設備に影響する場合にも、除振台の固定時と作動時と
の嫌振設備の振動差が著しく少ない状態でアクティブ制
御できる。このため、可動質量体の加振力が大きい場合
にも除振台の挙動制御を効果的に行って、除振台を作動
状態とするときに嫌振設備に揺れが残存するのを防止若
しくは著しく低減することができるという優れた効果を
奏する。Further, the lock mechanism is provided with an active control mechanism for controlling the behavior of the anti-vibration table, and the active control mechanism is switched from the vibrating state to the anti-vibration state using a traveling command signal of the movable mass body. By performing feedforward control up to this point, responsiveness when shifting from the fixed state of the vibration isolation table to the active control state of the lock mechanism can be significantly improved. Therefore, when the movable mass body is stopped and the vibration isolation table is activated, even if the vibration force of the movable mass body remains and affects the anti-vibration equipment, the vibration isolation table can be operated when the vibration isolation table is fixed. Active control can be performed in a state where the vibration difference of the anti-vibration equipment with time is extremely small. For this reason, even when the exciting force of the movable mass body is large, the behavior control of the vibration isolation table is effectively performed to prevent the vibration from remaining in the anti-vibration equipment when the vibration isolation table is activated. It has an excellent effect that it can be significantly reduced.
【図1】本発明の一実施形態を示す除振装置全体の正面
図である。FIG. 1 is a front view of an entire vibration isolator according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1の除振装置に用いられる除振台の斜視図で
ある。FIG. 2 is a perspective view of a vibration isolation table used in the vibration isolation device of FIG.
【図3】図1の除振台の弾性支持部の断面斜視図であ
る。FIG. 3 is a sectional perspective view of an elastic support portion of the vibration isolation table of FIG. 1;
【図4】図1の除振台に用いられる皿ばねの斜視図であ
る。FIG. 4 is a perspective view of a disc spring used in the vibration isolation table of FIG. 1;
【図5】本発明の一実施形態に用いられる皿ばねのばね
特性を荷重−変位で示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a spring characteristic of a disc spring used in one embodiment of the present invention by load-displacement.
【図6】図1の除振装置に用いられるロック機構を
(a)の正面視、(b)の縦断面、(c)の横断面で示
す説明図である。FIG. 6 is an explanatory view showing a lock mechanism used in the vibration damping device of FIG. 1 in a front view of (a), a vertical section of (b), and a cross section of (c).
【図7】本発明の他の実施形態に用いられるアクティブ
制御機構を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing an active control mechanism used in another embodiment of the present invention.
【図8】従来の嫌振設備を示す概略構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing a conventional anti-vibration facility.
10 除振装置 12 可動質量体 14 嫌振設備 16 除振台 18 相対移動部分 20 ロック機構 22 ロック制御手段 24 走行制御手段 46 垂下柱(軸部) 48 倒立片持ち梁(掴持機構) 50 電磁石 52 永久磁石(磁性体) 100 アクティブ制御機構 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Vibration isolation apparatus 12 Movable mass body 14 Anti-vibration equipment 16 Vibration isolation table 18 Relative moving part 20 Lock mechanism 22 Lock control means 24 Travel control means 46 Hanging column (shaft) 48 Inverted cantilever (grip mechanism) 50 Electromagnet 52 Permanent magnet (magnetic material) 100 Active control mechanism
Claims (5)
介してベースに弾性支持されるようになった除振装置に
おいて、該除振台を作動状態および固定状態とするロッ
ク機構を設けるとともに、このロック機構により前記除
振台を、可動質量体の走行状態で固定状態とする一方、
可動質量体の停止状態で作動状態とするロック制御手段
を設けたことを特徴とする可動質量体を備えた嫌振設備
の除振装置。An anti-vibration device having a movable mass body is elastically supported by a base via an anti-vibration table. In a vibration isolator, a lock mechanism for setting the anti-vibration table to an operating state and a fixed state. While the vibration isolating table is fixed by the lock mechanism in the traveling state of the movable mass body,
An anti-vibration apparatus for a vibration-damping facility including a movable mass body, comprising: a lock control unit that activates the movable mass body when the movable mass body is stopped.
のいずれか一方に設けられる電磁石と、いずれか他方に
設けられて該電磁石が発生する磁力に吸引される磁性体
とを備えて構成し、これら電磁石と磁性体との間の吸引
力によって除振台を固定することを特徴とする請求項1
に記載の可動質量体を備えた嫌振設備の除振装置。2. The lock mechanism includes an electromagnet provided on one of the vibration isolation table and the base, and a magnetic body provided on one of the other and attracted by a magnetic force generated by the electromagnet. 2. The vibration isolation table is fixed by an attractive force between the electromagnet and the magnetic body.
A vibration damping device for a vibration control facility comprising the movable mass body according to Claim 1.
のいずれか一方に設けられる突部と、いずれか他方に設
けられて該突部を掴持自在な掴持機構とを備えて構成
し、掴持機構による突部の掴持によって除振台を固定す
ることを特徴とする請求項1に記載の可動質量体を備え
た嫌振設備の除振装置。3. The lock mechanism includes a projection provided on one of the vibration isolation table and the base, and a gripping mechanism provided on one of the other and capable of gripping the projection. The anti-vibration apparatus of a vibration-proofing apparatus provided with a movable mass body according to claim 1, wherein the anti-vibration table is fixed by gripping the protrusion by a gripping mechanism.
のいずれか一方に設けられる突部と、いずれか他方に設
けられて該突部を掴持自在な掴持機構とを備えて構成
し、これら突部とこれを掴持する掴持機構がこれらにそ
れぞれ備えられた電磁石と磁性体であることを特徴とす
る請求項1に記載の可動質量体を備えた嫌振設備の除振
装置。4. The lock mechanism includes a projection provided on one of the vibration isolation table and the base, and a gripping mechanism provided on one of the other and capable of gripping the projection. 2. An anti-vibration apparatus for a vibration-proof equipment having a movable mass body according to claim 1, wherein said projections and a gripping mechanism for gripping said projections are an electromagnet and a magnetic body, respectively. .
するアクティブ制御機構を設け、このアクティブ制御機
構を、可動質量体の走行指令信号を利用して加振状態か
ら除振状態に至るまでフィードフォワード制御すること
を特徴とする請求項1〜4いずれかの項に記載の可動質
量体を備えた嫌振設備の除振装置。5. The lock mechanism is provided with an active control mechanism for controlling the behavior of the vibration isolation table, and the active control mechanism switches from the vibration state to the vibration isolation state using a traveling command signal of the movable mass body. The anti-vibration apparatus of the anti-vibration equipment comprising the movable mass body according to claim 1, wherein the anti-vibration apparatus is configured to perform feedforward control up to the feed-forward control.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11044666A JP2000240720A (en) | 1999-02-23 | 1999-02-23 | Vibration eliminating device for vibration disliking equipment with movable mass body |
Applications Claiming Priority (1)
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JP11044666A JP2000240720A (en) | 1999-02-23 | 1999-02-23 | Vibration eliminating device for vibration disliking equipment with movable mass body |
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Publication Number | Publication Date |
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ID=12697781
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JP11044666A Pending JP2000240720A (en) | 1999-02-23 | 1999-02-23 | Vibration eliminating device for vibration disliking equipment with movable mass body |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000240720A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008101659A (en) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Tokkyokiki Corp | Vibration removing device with base isolation function |
KR200468705Y1 (en) | 2012-02-23 | 2013-09-10 | 에스티엑스중공업 주식회사 | Vibration Damping Device of Engine Gallery |
-
1999
- 1999-02-23 JP JP11044666A patent/JP2000240720A/en active Pending
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JP2008101659A (en) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Tokkyokiki Corp | Vibration removing device with base isolation function |
KR200468705Y1 (en) | 2012-02-23 | 2013-09-10 | 에스티엑스중공업 주식회사 | Vibration Damping Device of Engine Gallery |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050104 |
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A02 | Decision of refusal |
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