JPH10125593A - Stage apparatus - Google Patents
Stage apparatusInfo
- Publication number
- JPH10125593A JPH10125593A JP29793396A JP29793396A JPH10125593A JP H10125593 A JPH10125593 A JP H10125593A JP 29793396 A JP29793396 A JP 29793396A JP 29793396 A JP29793396 A JP 29793396A JP H10125593 A JPH10125593 A JP H10125593A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- force
- surface plate
- moving body
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、各種測定器、およ
び半導体リソグラフィ工程で用いる投影露光装置などに
おいて高速、高精度で物体の移動、位置決めをするステ
ージ装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage apparatus for moving and positioning an object at high speed and with high accuracy in various measuring instruments and a projection exposure apparatus used in a semiconductor lithography process.
【0002】[0002]
【従来の技術】図6は従来のステージ装置の構成例を示
す図である。同図において、51はステージ基盤であ
り、ステージ基盤51上にY方向(紙面垂直方向)への
移動機構としてのYステージ52が載置されている。5
3はボールねじにより回転方向を直線運動に変換しYス
テージ52をY方向へ駆動するDCサーボモータであ
り、ステージ基盤51に固定されている。54はYステ
ージ52に装着されているXステージである。55はボ
ールねじ56により回転運動を直線運動に変換しXステ
ージ54をX方向へ駆動するDCサーボモータであり、
Yステージ52に固定されている。1はステージ基盤を
保持する定盤である。2. Description of the Related Art FIG. 6 is a diagram showing a configuration example of a conventional stage device. In the figure, reference numeral 51 denotes a stage base on which a Y stage 52 as a moving mechanism in a Y direction (a direction perpendicular to the paper surface) is mounted. 5
Reference numeral 3 denotes a DC servo motor that converts the rotation direction into a linear motion by a ball screw and drives the Y stage 52 in the Y direction, and is fixed to the stage base 51. An X stage 54 is mounted on the Y stage 52. Reference numeral 55 denotes a DC servo motor that converts the rotational motion into a linear motion by a ball screw 56 and drives the X stage 54 in the X direction.
It is fixed to the Y stage 52. Reference numeral 1 denotes a surface plate for holding a stage base.
【0003】9a,9bはレーザ測長器用の反射ミラー
であり、Xステージ54に固定されている。57はXス
テージ54のX方向の位置を検出するレーザ測長器の干
渉計であり、取り付け台58を介して定盤1に固定され
ている。13は定盤1を支持し、装置を設置する床から
の振動伝達を遮断するところのマウント部材である。上
記構成においては、Yステージ52およびXステージ5
4を駆動すると加減速に伴う反力が定盤1に伝わる。[0003] Reference numerals 9a and 9b denote reflection mirrors for a laser measuring device, which are fixed to an X stage 54. Reference numeral 57 denotes an interferometer of a laser measuring device that detects the position of the X stage 54 in the X direction, and is fixed to the surface plate 1 via a mounting table 58. Reference numeral 13 denotes a mount member that supports the surface plate 1 and blocks vibration transmission from the floor on which the device is installed. In the above configuration, the Y stage 52 and the X stage 5
When 4 is driven, a reaction force accompanying acceleration / deceleration is transmitted to the base 1.
【0004】一方、特開平5−77126には、剛性の
低い定盤支持手段によって支持された定盤と、この定盤
に設けられた案内手段と、定盤と案内手段によって支持
された可動ステージと、この可動ステージに推力を与え
る駆動手段とを含む移動ステージにおいて、前記駆動手
段を定盤とは独立した支持手段によって支持する構成が
示されている。On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-77126 discloses a platen supported by a platen support having low rigidity, a guide provided on the platen, and a movable stage supported by the platen and the guide. In the moving stage including a driving means for applying a thrust to the movable stage, a configuration is shown in which the driving means is supported by a supporting means independent of a surface plate.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、上
記図6に示す従来例では、移動体の加減速に伴う反力が
定盤1に伝わるとマウント部材13に支持された定盤1
に関連する機構系の固有振動が励起され、Xステージ5
4やYステージ52やレーザ干渉計57に外乱振動が伝
わり、高速、高精度な位置決めを妨げる傾向があった。However, in the conventional example shown in FIG. 6, when the reaction force accompanying the acceleration / deceleration of the moving body is transmitted to the surface plate 1, the surface plate 1 supported by the mount member 13
The natural vibration of the mechanical system related to
Disturbance vibration is transmitted to the Y stage 4, the Y stage 52, and the laser interferometer 57, and tends to hinder high-speed, high-precision positioning.
【0006】また上記特開平5−77126の装置で
は、移動体の加減速に伴う反力を移動体を搭載する定盤
に伝えない構成となっているが、ステージ構成が限定さ
れている。In the apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-77126, the reaction force accompanying acceleration / deceleration of the moving body is not transmitted to the surface plate on which the moving body is mounted, but the stage structure is limited.
【0007】本発明は、上記の従来例における問題点に
鑑みてなされたもので、上記特開平5−77126の装
置を改善した、移動体の加減速に伴う反力を移動体を搭
載する定盤に伝えない新しいステージ装置を提供するこ
とを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in the prior art, and is an improvement of the apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-77126. It is an object of the present invention to provide a new stage device that is not transmitted to a board.
【0008】[0008]
【発明を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために、本発明では、上面に基準面を有する定盤
と、前記定盤の基準面上で第1の方向に移動する第1の
移動体と、前記第1の移動体を駆動する駆動力を発生す
る第1の移動手段と、前記定盤の基準面上で前記第1の
移動体に対し第1の方向と直交する第2の方向に移動可
能に装着されかつ基体を搭載する第2の移動体と、前記
第2の移動体を駆動する駆動力を発生する第1の移動体
に設けられた第2の移動手段と、前記第1の移動体を前
記第2の方向に力補償素子を介して支持する基台と、前
記基台と定盤間の振動除去手段とを具備する。本発明の
好ましい実施例において、前記力補償素子は第2の移動
手段で発生する駆動力と同じ大きさの補償力を発生する
ことを特徴としている。In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a surface plate having a reference surface on an upper surface, and a first surface moving in a first direction on the reference surface of the surface plate. A moving body, a first moving means for generating a driving force for driving the first moving body, and a second moving body orthogonal to a first direction with respect to the first moving body on a reference surface of the surface plate. A second moving body mounted movably in two directions and mounting a base; and a second moving means provided on the first moving body for generating a driving force for driving the second moving body. A base for supporting the first moving body in the second direction via a force compensating element; and a vibration removing means between the base and the surface plate. In a preferred embodiment of the present invention, the force compensating element generates a compensating force of the same magnitude as the driving force generated by the second moving means.
【0009】本発明によれば、従来例に比し、移動体の
加減速に伴う反力を定盤に伝えず、移動体の高速、高精
度な位置決めを実現することができる。According to the present invention, high-speed, high-precision positioning of a moving body can be realized, without transmitting a reaction force accompanying acceleration / deceleration of the moving body to a surface plate, as compared with the conventional example.
【0010】[0010]
(第1の実施例)本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は本発明の第1の実施例に係るステージ装置
の構成を示す平面図、図2は図1のA−A断面図であ
る。図1において、紙面左右方向がX方向、紙面上下方
向がY方向である。図において、1は上面が案内面1f
を有する定盤である。3は定盤1の案内面1fに直交す
る方向に案内面3fを有する固定ガイドであり、定盤1
に固定されている。4は定盤1の案内面1fに直交する
方向に案内面g1,g2を有するYステージであり、固
定ガイド3の案内面3fおよび定盤1の案内面1fに対
して設けられた静圧軸受けパッド5a,5b,5cによ
って非接触で支持案内され、Y方向にスムーズに動くこ
とができる。10は基体ホルダ10hを介して基体(例
えば半導体ウエハ)12を保持するXステージであり、
定盤1に対して設けられた静圧軸受けパッド11および
Yステージ4の案内面g1,g2に対向して設けられた
静圧軸受けパッド(不図示)によって、Yステージ4に
対して非接触でX方向にスムーズに動くことができる。
9a,9bはレーザ測長器用の反射ミラーであり、Xス
テージ10に固定されている。なおレーザ反射ミラーに
対応する干渉計は図示していないが定盤1に固定されて
おり、Xステージ10のX方向およびY方向の位置を定
盤1基準に正確に測定することができる。2は振動伝達
を遮断するところのマウント部材13を介して定盤1を
支持する基台である。(First Embodiment) An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a stage device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG. In FIG. 1, the horizontal direction on the paper is the X direction, and the vertical direction on the paper is the Y direction. In the drawing, reference numeral 1 denotes a guide surface if
It is a surface plate having Reference numeral 3 denotes a fixed guide having a guide surface 3f in a direction orthogonal to the guide surface 1f of the surface plate 1.
It is fixed to. Reference numeral 4 denotes a Y stage having guide surfaces g1 and g2 in a direction orthogonal to the guide surface 1f of the base 1, and a hydrostatic bearing provided for the guide surface 3f of the fixed guide 3 and the guide surface 1f of the base 1. It is supported and guided by the pads 5a, 5b, 5c in a non-contact manner and can move smoothly in the Y direction. An X stage 10 holds a base (for example, a semiconductor wafer) 12 via a base holder 10h.
A static pressure bearing pad 11 provided on the surface plate 1 and a static pressure bearing pad (not shown) provided facing the guide surfaces g1 and g2 of the Y stage 4 so as to be in non-contact with the Y stage 4. It can move smoothly in the X direction.
9a and 9b are reflection mirrors for a laser length measuring device, which are fixed to the X stage 10. An interferometer corresponding to the laser reflection mirror is not shown, but is fixed to the surface plate 1, so that the position of the X stage 10 in the X direction and the Y direction can be accurately measured based on the surface plate 1. Reference numeral 2 denotes a base that supports the surface plate 1 via a mount member 13 that blocks vibration transmission.
【0011】7(7y,7f)はYステージを非接触で
Y方向に駆動する左右2本のYリニアモータであり、Y
可動子7yが取り付け板8a,8bを介してYステージ
4の両端に結合され、Y固定子7fはフレーム102を
介して基台2に固定されている。6(6y,6m,6
f,6c)はXステージを非接触でX方向に駆動するX
リニアモータであり、図4に示す永久磁石6mとヨーク
6yとにより構成されるX可動子がXステージ10に結
合されている。X固定子はコイル6cとコイル6cを支
持する連結フレーム6fより構成されていて、Yステー
ジ4に固定されている。Xリニアモータ6の部分的な拡
大図を図3に、図3のC−C断面図を図4に示す。Xヨ
ーク6yは磁性体材料からなり、N極とS極が対向する
1組の永久磁石6mが複数組接着等の手段で取り付けら
れ、矢印Hで示す磁束が形成されるような磁気回路とな
っている。X固定子は複数個のコイル6cが固着されて
いて、永久磁石6mが対向する空間にコイル6cが位置
するように配置される。Yリニアモータ7も同様な構成
になっている。上記リニアモータは特開平1−1851
57および特開平1−185158に示されている多極
型リニアモータである。Reference numeral 7 (7y, 7f) denotes two left and right Y linear motors for driving the Y stage in the Y direction without contact.
The mover 7y is connected to both ends of the Y stage 4 via mounting plates 8a and 8b, and the Y stator 7f is fixed to the base 2 via the frame 102. 6 (6y, 6m, 6
f, 6c) is an X that drives the X stage in the X direction without contact.
An X mover constituted by a permanent magnet 6m and a yoke 6y shown in FIG. The X stator includes a coil 6c and a connecting frame 6f that supports the coil 6c, and is fixed to the Y stage 4. FIG. 3 is a partially enlarged view of the X linear motor 6, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. The X yoke 6y is made of a magnetic material, and a plurality of sets of permanent magnets 6m whose N and S poles face each other are attached by means such as bonding, thereby forming a magnetic circuit in which a magnetic flux indicated by an arrow H is formed. ing. The X stator has a plurality of coils 6c fixed thereto, and is arranged such that the coil 6c is located in a space facing the permanent magnet 6m. The Y linear motor 7 has a similar configuration. The above linear motor is disclosed in
57 and JP-A-1-185158.
【0012】図1および図2において、力補償用コイル
100cと力補償用永久磁石100mと力補償用ヨーク
100yにより力補償素子を構成している。力補償用コ
イル100cは連結フレーム6fにより支持されてい
て、力補償用永久磁石100mおよびヨーク100y
は、支持部材101およびフレーム102を介して基台
2に固定されている。力補償素子は前述したリニアモー
タと同様の方式で、基台およびYステージ間に非接触に
X方向に補償力を発生することができる。また力補償用
ヨーク100yは片側開放端となっており、力補償用コ
イル100cがY方向に自由に動くことができ、かつY
ステージのY方向全ストロークを十分カバーできるよう
にY方向に長くのびた構成となっている。1 and 2, a force compensating element is constituted by a force compensating coil 100c, a force compensating permanent magnet 100m, and a force compensating yoke 100y. The force compensating coil 100c is supported by the connecting frame 6f, and includes a force compensating permanent magnet 100m and a yoke 100y.
Is fixed to the base 2 via the support member 101 and the frame 102. The force compensating element can generate a compensating force in the X direction without contact between the base and the Y stage in the same manner as the above-described linear motor. The force compensating yoke 100y has one open end, so that the force compensating coil 100c can freely move in the Y direction.
The stage is extended in the Y direction so as to sufficiently cover the entire stroke of the stage in the Y direction.
【0013】次に本実施例の作用のメカニズムを図5を
使って説明する。簡単化のために定盤1、Yステージ
4、Xステージ10、フレーム102および基台2の質
量要素、ならびに静圧軸受けパッド5aおよびマウント
部材13のバネ要素のみを用いて説明する。Next, the mechanism of operation of this embodiment will be described with reference to FIG. For simplicity, a description will be given using only the mass elements of the base 1, the Y stage 4, the X stage 10, the frame 102 and the base 2, and the spring elements of the static pressure bearing pad 5a and the mount member 13.
【0014】Xステージ10をXプラス方向(紙面右
側)に駆動するとき、Xリニアモータより発生する駆動
力fxがX方向に働き、その時の反力fyがYステージ
4のXマイナス方向に働く。図6の装置においては反力
fyが静圧軸受けパッド5aを介して、定盤1に伝わ
り、結果的にステージの位置決め精度に悪影響を及ぼす
ほど定盤1を振動させてしまう。本実施例においては、
力補償素子100(100c,100m,100y)が
反力fyと同じ大きさで逆向き(Xプラス方向)の補償
力fcをフレーム102よりステージ4に発生させ、反
力fyを打ち消してしまう。結果的に定盤1には反力が
伝わらず、ステージの位置決め精度に悪影響を及ぼさな
い。When the X stage 10 is driven in the X plus direction (right side in the drawing), the driving force fx generated by the X linear motor acts in the X direction, and the reaction force fy at that time acts in the X minus direction of the Y stage 4. In the apparatus shown in FIG. 6, the reaction force fy is transmitted to the surface plate 1 via the static pressure bearing pad 5a, and as a result, the surface plate 1 is vibrated so as to adversely affect the positioning accuracy of the stage. In this embodiment,
The force compensating element 100 (100c, 100m, 100y) generates a compensating force fc in the opposite direction (X plus direction) with the same magnitude as the reaction force fy on the stage 4 from the frame 102, thereby canceling the reaction force fy. As a result, the reaction force is not transmitted to the base 1, and does not adversely affect the positioning accuracy of the stage.
【0015】また本実施例においては力補償素子100
とXリニアモータ6のコイルに流れる電流や磁石の特性
および寸法等をほぼ等しいものとしているため、力補償
素子100においてXリニアモータ6で発生する駆動力
とほぼ同じ大きさ、同じ周波数特性を実現している。し
たがって、ステージを駆動し位置決めを制御するコント
ローラはXリニアモータに与える指令値と同じ値を力補
償素子にも与えることで、簡単に反力を打ち消すことが
できる。In this embodiment, the force compensating element 100
And the characteristics and dimensions of the magnets and the current flowing through the coils of the X linear motor 6 are substantially equal, so that the force compensating element 100 achieves substantially the same magnitude and the same frequency characteristics as the driving force generated by the X linear motor 6. doing. Therefore, the controller that drives the stage and controls the positioning can easily cancel the reaction force by giving the same value as the command value given to the X linear motor to the force compensating element.
【0016】(第2の実施例)第1の実施例において
は、Xリニアモータ6に与える指令値と同じ値を力補償
素子100にも与えることで、補償力を簡単に制御し
た。実際にはコントローラが同じ指令値を出してもXリ
ニアモータ6の駆動力は、コイルの特性のばらつきやリ
ップルなどの影響でXステージ4のX方向の位置によっ
て変動する。そこでコントローラが、各位置ごとの駆動
力の変動値を記憶しておき、それに応じて力補償素子が
発生する補償力を制御するようにしてもよい。Second Embodiment In the first embodiment, the same value as the command value given to the X linear motor 6 is also given to the force compensating element 100 to easily control the compensating force. Actually, even if the controller issues the same command value, the driving force of the X linear motor 6 fluctuates depending on the position of the X stage 4 in the X direction due to the influence of variations in coil characteristics and ripples. Therefore, the controller may store the fluctuation value of the driving force for each position and control the compensating force generated by the force compensating element accordingly.
【0017】(第3の実施例)Xステージが加減速する
時に前述した駆動力の変動によって、補償力と駆動力が
一致できず、定盤1が力を受けてしまうとき、定盤1の
X方向の加速度を検出してフィードバック信号とし加速
度がゼロになるように力補償素子が発生する補償力を制
御するフィードバック制御系をコントローラが含んでも
かまわない。(Third Embodiment) When the compensating force and the driving force cannot be matched due to the fluctuation of the driving force when the X stage is accelerated or decelerated, the surface plate 1 receives the force. The controller may include a feedback control system that detects the acceleration in the X direction and uses it as a feedback signal to control the compensation force generated by the force compensation element so that the acceleration becomes zero.
【0018】[0018]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によればY
方向駆動用のリニアモータの固定子を、X、Yステージ
およびレーザ干渉計を支持する定盤とマウント部材で分
離されたフレーム、基台に支持固定し、さらにX方向駆
動用のリニアモータで発生する駆動力と同じ力を発生す
る力補償素子を介してフレーム基準にYステージを支持
することにより、X、Yステージの加減速に伴う反力を
定盤に伝えることをなくしたため、外乱振動となる定盤
に関連する各種固有振動を励起せずに高速、高精度な送
りを達成することができる。As described above, according to the present invention, Y
The linear motor stator for directional drive is fixedly supported on a frame and base separated by a surface plate and a mount member supporting the X and Y stages and the laser interferometer, and is further generated by a linear motor for X-directional drive. The Y stage is supported on a frame basis through a force compensating element that generates the same force as the driving force to be applied, so that the reaction force accompanying the acceleration and deceleration of the X and Y stages is not transmitted to the surface plate. High-speed, high-precision feed can be achieved without exciting various natural vibrations related to the platen.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】 本発明の一実施例に係るステージ装置の平面
図である。FIG. 1 is a plan view of a stage device according to an embodiment of the present invention.
【図2】 図1のステージ装置のAA断面図である。FIG. 2 is an AA cross-sectional view of the stage device of FIG.
【図3】 図1の装置におけるリニアモータの部分的な
拡大図である。FIG. 3 is a partially enlarged view of a linear motor in the apparatus of FIG.
【図4】 図3におけるC−C断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line CC in FIG. 3;
【図5】 図1の装置の作用を説明する図である。FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the device shown in FIG. 1;
【図6】 従来のステージ装置の側面図である。FIG. 6 is a side view of a conventional stage device.
1:定盤、1f:案内面、2:基台、3:固定ガイド、
3f:案内面、4:Yステージ、g1,g2:案内面、
5a,5b,5c:静圧軸受けパッド、6(6y,6
m,6f,6c):Xリニアモータ、7(7y,7
f):Yリニアモータ、8a,8b:取り付け板、9
a,9b:反射ミラー、10:Xステージ、10h:基
体ホルダ、11:静圧軸受けパッド、12:基体、1
3:マウント部材、51:ステージ基盤、52:Yステ
ージ、53:DCサーボモータ、54:Xステージ、5
5:DCサーボモータ、56:ボールねじ、57:レー
ザ干渉計、58:取り付け台、100(100c,10
0m,100y):力補償素子、101:支持部材、1
02:フレーム。1: Surface plate, 1f: Guide surface, 2: Base, 3: Fixed guide,
3f: guide surface, 4: Y stage, g1, g2: guide surface,
5a, 5b, 5c: hydrostatic bearing pad, 6 (6y, 6
m, 6f, 6c): X linear motor, 7 (7y, 7
f): Y linear motor, 8a, 8b: mounting plate, 9
a, 9b: reflection mirror, 10: X stage, 10h: base holder, 11: static pressure bearing pad, 12: base, 1
3: Mount member, 51: Stage base, 52: Y stage, 53: DC servo motor, 54: X stage, 5
5: DC servo motor, 56: ball screw, 57: laser interferometer, 58: mounting table, 100 (100c, 10)
0m, 100y): force compensating element, 101: support member, 1
02: frame.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B23Q 1/18 A ──────────────────────────────────────────────────の Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B23Q 1/18 A
Claims (9)
の基準面上で第1の方向に移動する第1の移動体と、前
記第1の移動体を駆動する駆動力を発生する第1の移動
手段と、前記定盤の基準面上で前記第1の移動体に対し
第1の方向と直交する第2の方向に移動可能に装着され
かつ基体を搭載する第2の移動体と、前記第2の移動体
を駆動する駆動力を発生する第1の移動体に設けられた
第2の移動手段と、前記第1の移動体を第2の方向に力
補償素子を介して支持する基台と、前記基台と定盤間に
配置された振動除去手段とを具備することを特徴とする
ステージ装置。1. A surface plate having a reference surface on an upper surface, a first moving body moving in a first direction on a reference surface of the surface plate, and a driving force for driving the first moving body. A first moving means, and a second moving means mounted on the reference surface of the surface plate so as to be movable with respect to the first moving body in a second direction orthogonal to the first direction and mounting the base. A second moving means provided on the first moving body for generating a driving force for driving the second moving body, and the first moving body in a second direction via a force compensating element. A stage device comprising: a base for supporting the base; and a vibration removing unit disposed between the base and the surface plate.
する駆動力と同じ大きさの補償力を発生することを特徴
とする請求項1に記載のステージ装置。2. The stage apparatus according to claim 1, wherein said force compensating element generates a compensating force having the same magnitude as a driving force generated by said second moving means.
であることを特徴とする請求項2に記載のステージ装
置。3. The stage apparatus according to claim 2, wherein the force compensating element is a non-contact electromagnetic joint.
された永久磁石と、前記第1の移動体に固定されたコイ
ルとを具備することを特徴とする請求項3のステージ装
置。4. The stage apparatus according to claim 3, wherein the non-contact electromagnetic joint includes a permanent magnet fixed to the base and a coil fixed to the first moving body.
れ配置されていることを特徴とする請求項4に記載のス
テージ装置。5. The stage device according to claim 4, wherein the permanent magnet is arranged so as to extend in the first direction.
するコントローラを具備することを特徴とする請求項2
に記載のステージ装置。6. A controller for controlling a compensation force generated by the force compensation element.
A stage device according to item 1.
生する駆動力の変動に応じた補償力を発生するように制
御する制御系を含むことを特徴とする請求項6に記載の
ステージ装置。7. The stage apparatus according to claim 6, wherein the controller includes a control system that controls so as to generate a compensating force according to a change in the driving force generated by the second moving unit.
方向の加速度をフィードバック信号にして補償力を制御
する制御系を含むことを特徴とする請求項6に記載のス
テージ装置。8. The stage apparatus according to claim 6, wherein the controller includes a control system that controls the compensation force by using the acceleration of the surface plate in the second direction as a feedback signal.
上に搭載されていることを特徴とする請求項1〜8にい
ずれかに記載のステージ装置。9. The stage apparatus according to claim 1, wherein the second moving body is mounted on the first moving body.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29793396A JPH10125593A (en) | 1996-10-22 | 1996-10-22 | Stage apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29793396A JPH10125593A (en) | 1996-10-22 | 1996-10-22 | Stage apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10125593A true JPH10125593A (en) | 1998-05-15 |
Family
ID=17852980
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29793396A Pending JPH10125593A (en) | 1996-10-22 | 1996-10-22 | Stage apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10125593A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000025352A1 (en) * | 1998-10-28 | 2000-05-04 | Nikon Corporation | Stage device, exposure system, method of device manufacture, and device |
WO2000033318A1 (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-08 | Nikon Corporation | Stage device and method of manufacturing the same, and aligner and method of manufacturing the same |
JP2002343706A (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Nikon Corp | Stage system and its driving method, exposing system and exposing method, and device and its fabricating method |
JP2011003587A (en) * | 2009-06-16 | 2011-01-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Reaction force processing mechanism, stage device equipped with reaction force processing mechanism, and semiconductor inspection device equipped with stage device |
JP6338230B1 (en) * | 2017-01-30 | 2018-06-06 | 大銀微系統股▲分▼有限公司 | Reaction force canceling device |
-
1996
- 1996-10-22 JP JP29793396A patent/JPH10125593A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000025352A1 (en) * | 1998-10-28 | 2000-05-04 | Nikon Corporation | Stage device, exposure system, method of device manufacture, and device |
US6999162B1 (en) | 1998-10-28 | 2006-02-14 | Nikon Corporation | Stage device, exposure system, method of device manufacture, and device |
WO2000033318A1 (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-08 | Nikon Corporation | Stage device and method of manufacturing the same, and aligner and method of manufacturing the same |
US6835941B1 (en) | 1998-11-30 | 2004-12-28 | Nikon Corporation | Stage unit and its making method, and exposure apparatus and its making method |
JP2002343706A (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Nikon Corp | Stage system and its driving method, exposing system and exposing method, and device and its fabricating method |
JP2011003587A (en) * | 2009-06-16 | 2011-01-06 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Reaction force processing mechanism, stage device equipped with reaction force processing mechanism, and semiconductor inspection device equipped with stage device |
JP6338230B1 (en) * | 2017-01-30 | 2018-06-06 | 大銀微系統股▲分▼有限公司 | Reaction force canceling device |
JP2018124068A (en) * | 2017-01-30 | 2018-08-09 | 大銀微系統股▲分▼有限公司 | Reaction force cancellation apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3635600B2 (en) | Feeder | |
JP3226704B2 (en) | Exposure equipment | |
US5864389A (en) | Stage apparatus and exposure apparatus and device producing method using the same | |
US6683433B2 (en) | Exposure apparatus and method utilizing isolated reaction frame | |
JP3640971B2 (en) | Positioning device having a force actuator device for compensating for the movement of the center of gravity | |
KR0167850B1 (en) | Stage device and exposure apparatus using the same | |
JP3814453B2 (en) | Positioning apparatus, semiconductor exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP2000106344A (en) | Stage device, aligner, manufacture of the device, and method for driving stage | |
JPH0863231A (en) | Target moving device, positioning device, and movable stage device | |
JPH0577126A (en) | Movable stage device and driving method thereof | |
JPH11189332A (en) | Stage device, exposure device using it, and manufacture of device | |
US20080180053A1 (en) | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device | |
JP2001238485A (en) | Stage equipment | |
JPH10116779A (en) | Stage device | |
JPH10125593A (en) | Stage apparatus | |
JP3732763B2 (en) | Stage equipment | |
JP2005297109A (en) | Slow motion stage | |
JP3540239B2 (en) | Stage equipment | |
JP2002355730A (en) | Table positioning device | |
JPH08248157A (en) | Stage device | |
JP4012199B2 (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JPH10144601A (en) | Command value determining method and stage device | |
JP3720593B2 (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, and exposure method | |
JP2001230178A (en) | Positioning device, aligner and method for manufacturing the device | |
JP4287781B2 (en) | Positioning device having a reference frame for a measurement system |