JP2000234008A - フェノール系重合体及びそれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤 - Google Patents
フェノール系重合体及びそれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤Info
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- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 42
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 38
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 61
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 61
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 23
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 5
- -1 alkenyl ether Chemical compound 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical group C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 abstract description 28
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 abstract description 26
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 22
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 7
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 6
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 6
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 4
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- IXWOUPGDGMCKGT-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC(C=O)=C1O IXWOUPGDGMCKGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBGBGRVKPALMCQ-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1O IBGBGRVKPALMCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- SSUJUUNLZQVZMO-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,8,9,10,10a-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCC=CN2CCCNC21 SSUJUUNLZQVZMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(CCl)C=C1 ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1O GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKZJLOCLABXVMC-UHFFFAOYSA-N 2-Methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=CC=C1C=O PKZJLOCLABXVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABMULKFGWTYIIK-UHFFFAOYSA-N 2-hexylphenol Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1O ABMULKFGWTYIIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 2-propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCYGLFXKCBFGPC-UHFFFAOYSA-N 3,4-Dihydroxy hydroxymethyl benzene Natural products OCC1=CC=C(O)C(O)=C1 PCYGLFXKCBFGPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCUFTLAXJMCWPZ-UHFFFAOYSA-N 3-butyl-2-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=CC(O)=C1C MCUFTLAXJMCWPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPPQNXSAJZOTJZ-UHFFFAOYSA-N 3-methylsalicylaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(C=O)=C1O IPPQNXSAJZOTJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033040 Carbonic anhydrase 12 Human genes 0.000 description 1
- 102100033041 Carbonic anhydrase 13 Human genes 0.000 description 1
- 102100033029 Carbonic anhydrase-related protein 11 Human genes 0.000 description 1
- 101000867855 Homo sapiens Carbonic anhydrase 12 Proteins 0.000 description 1
- 101000867860 Homo sapiens Carbonic anhydrase 13 Proteins 0.000 description 1
- 101000867841 Homo sapiens Carbonic anhydrase-related protein 11 Proteins 0.000 description 1
- 101001075218 Homo sapiens Gastrokine-1 Proteins 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000021736 acetylation Effects 0.000 description 1
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFEHLDPGIKPNKL-UHFFFAOYSA-N allyl iodide Chemical compound ICC=C HFEHLDPGIKPNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical group 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical class OC1CC=CC=C1 MIHINWMALJZIBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012966 insertion method Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
Landscapes
- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体の液状封止材用エポキシ樹脂の硬化剤
に適する低溶融粘度で、かつエポキシ樹脂硬化剤として
用いた場合、高ガラス転移温度となり、優れた硬化特性
を兼ね備えたフェノール系重合体の提供。 【解決手段】 フェニル基当たり0.5〜2.0個のヒ
ドロキシ基が置換されているトリフェニルメタン型樹脂
のヒドロキシ基の5〜50モル%がエーテル化、特にア
リルエーテル化された部分エーテル化フェノール系重合
体、及び上記部分エーテル化フェノール系重合体からな
るエポキシ樹脂用硬化剤。
に適する低溶融粘度で、かつエポキシ樹脂硬化剤として
用いた場合、高ガラス転移温度となり、優れた硬化特性
を兼ね備えたフェノール系重合体の提供。 【解決手段】 フェニル基当たり0.5〜2.0個のヒ
ドロキシ基が置換されているトリフェニルメタン型樹脂
のヒドロキシ基の5〜50モル%がエーテル化、特にア
リルエーテル化された部分エーテル化フェノール系重合
体、及び上記部分エーテル化フェノール系重合体からな
るエポキシ樹脂用硬化剤。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種バインダー、
コーティング材、積層材、成形材料等に有用なフェノー
ル系重合体およびそれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤に
関する。特に半導体封止用、プリント基板絶縁用などの
エポキシ硬化剤に好適な、低溶融粘度、高ガラス転移温
度、優れた硬化特性を兼ね備えたフェノール系重合体に
関する。
コーティング材、積層材、成形材料等に有用なフェノー
ル系重合体およびそれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤に
関する。特に半導体封止用、プリント基板絶縁用などの
エポキシ硬化剤に好適な、低溶融粘度、高ガラス転移温
度、優れた硬化特性を兼ね備えたフェノール系重合体に
関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体パッケージは小型・薄型
化、多ピン化、高密度実装化に伴い、ピン挿入方式(D
IP)から表面実装方式(SOP,QFP)へと移行し
てきており、さらに最近はBGA(Ball Grid
Array)といった新しいパッケージ形態も登場し
てきている。BGAは同一ピン数のQFPに比べて、ピ
ッチ間隔が広い、パッケージサイズが小さい、実装不良
が少ないなどの特長を有し、今後QFPからの移行が急
速に進むと考えられている。
化、多ピン化、高密度実装化に伴い、ピン挿入方式(D
IP)から表面実装方式(SOP,QFP)へと移行し
てきており、さらに最近はBGA(Ball Grid
Array)といった新しいパッケージ形態も登場し
てきている。BGAは同一ピン数のQFPに比べて、ピ
ッチ間隔が広い、パッケージサイズが小さい、実装不良
が少ないなどの特長を有し、今後QFPからの移行が急
速に進むと考えられている。
【0003】BGAは従来のQFPやSOPと異なり、
エポキシ樹脂やBTレジンといった有機基板の上にチッ
プを搭載し、片面のみを樹脂封止した構造をしている。
よって、基板と封止材の熱収縮の差により反りが発生し
やすい。またQFPやSOPに比べて、ボンディングワ
イヤーが長い、基板の表面がソルダーレジストで被覆さ
れているなど従来パッケージとの違いがある。
エポキシ樹脂やBTレジンといった有機基板の上にチッ
プを搭載し、片面のみを樹脂封止した構造をしている。
よって、基板と封止材の熱収縮の差により反りが発生し
やすい。またQFPやSOPに比べて、ボンディングワ
イヤーが長い、基板の表面がソルダーレジストで被覆さ
れているなど従来パッケージとの違いがある。
【0004】そのためBGA用の封止材には、反りが小
さいこと、流動性が高いこと(ワイヤー変形が小さいこ
と)、基板表面との密着性が良いことなどが求められて
いる。これら封止材への要求特性を満たすために、高ガ
ラス転移温度と低溶融粘度を兼ね備えたフェノール系樹
脂(硬化剤)の出現が強く望まれている。ガラス転移温
度が高いと反りが小さくなり、低溶融粘度であれば流動
性や密着性が向上し、フィラーも多く配合できるので半
田耐熱性や耐水性の面でも有利になる。
さいこと、流動性が高いこと(ワイヤー変形が小さいこ
と)、基板表面との密着性が良いことなどが求められて
いる。これら封止材への要求特性を満たすために、高ガ
ラス転移温度と低溶融粘度を兼ね備えたフェノール系樹
脂(硬化剤)の出現が強く望まれている。ガラス転移温
度が高いと反りが小さくなり、低溶融粘度であれば流動
性や密着性が向上し、フィラーも多く配合できるので半
田耐熱性や耐水性の面でも有利になる。
【0005】またビルドアップ基板の層間絶縁材にも、
耐水性に優れ、高ガラス転移温度で接着性のよいエポキ
シ樹脂組成物が望まれており、これを達成するために、
元々耐水性や保存安定性に優れたフェノール系硬化剤
で、高ガラス転移温度と低溶融粘度を両立するものが望
まれている。
耐水性に優れ、高ガラス転移温度で接着性のよいエポキ
シ樹脂組成物が望まれており、これを達成するために、
元々耐水性や保存安定性に優れたフェノール系硬化剤
で、高ガラス転移温度と低溶融粘度を両立するものが望
まれている。
【0006】一般にガラス転移温度を上げるために、ヒ
ドロキシ基濃度を上げると、ヒドロキシ基同士の水素結
合のため溶融粘度が上昇する。すなわち、高ガラス転移
温度と低溶融粘度の両立は原理的に難しいのが実状であ
った。
ドロキシ基濃度を上げると、ヒドロキシ基同士の水素結
合のため溶融粘度が上昇する。すなわち、高ガラス転移
温度と低溶融粘度の両立は原理的に難しいのが実状であ
った。
【0007】この問題を解決するフェノール系硬化剤と
して、架橋密度に頼らず、分子の主鎖そのものをリジッ
ドにする方法(例えば「熱硬化性樹脂」Vol.15,No.3,P
20(1994)で提案されたナフトール系樹脂を用いるもの
等)、主鎖に嵩高い構造をペンダント状にぶら下げる方
法(特開平6−184258)などがあるが、いずれも
低溶融粘度で、しかもガラス転移温度を高くするという
点では不十分であった。
して、架橋密度に頼らず、分子の主鎖そのものをリジッ
ドにする方法(例えば「熱硬化性樹脂」Vol.15,No.3,P
20(1994)で提案されたナフトール系樹脂を用いるもの
等)、主鎖に嵩高い構造をペンダント状にぶら下げる方
法(特開平6−184258)などがあるが、いずれも
低溶融粘度で、しかもガラス転移温度を高くするという
点では不十分であった。
【0008】また、BGA用封止材に使用されるフェノ
ール系硬化剤は、ガラス転移温度を上げるために水酸基
濃度が高いもの、いわゆる多官能タイプが用いられる。
代表的な例としてトリフェノールメタン型のフェノール
樹脂が挙げられる(特公平7−121979、特開平2
−173023など)。
ール系硬化剤は、ガラス転移温度を上げるために水酸基
濃度が高いもの、いわゆる多官能タイプが用いられる。
代表的な例としてトリフェノールメタン型のフェノール
樹脂が挙げられる(特公平7−121979、特開平2
−173023など)。
【0009】またトリフェノールメタン型のフェノール
樹脂にアリル基を付与したタイプの樹脂も提案されてい
る(特開平4−23824)。これらの樹脂はガラス転
移温度が高いため熱収縮が小さく、また樹脂骨格的に自
由体積が大きいため、硬化収縮率も小さく、これが低反
りに寄与しているとされている。しかしこのタイプの樹
脂は、その反面、水酸基濃度が高いため水酸基の水素結
合により溶融粘度が高いといった問題点があった。
樹脂にアリル基を付与したタイプの樹脂も提案されてい
る(特開平4−23824)。これらの樹脂はガラス転
移温度が高いため熱収縮が小さく、また樹脂骨格的に自
由体積が大きいため、硬化収縮率も小さく、これが低反
りに寄与しているとされている。しかしこのタイプの樹
脂は、その反面、水酸基濃度が高いため水酸基の水素結
合により溶融粘度が高いといった問題点があった。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記トリ
フェノールメタン型のフェノール樹脂の高ガラス転移温
度、低熱収縮性、低反り等の優れた物性を生かし、かつ
溶融粘度の低いフェノール系硬化剤を得るために鋭意検
討した結果、特定の構造を有するトリフェニルメタン型
樹脂のヒドロキシ基を部分エーテル化することにより低
溶融粘度でかつ高ガラス転移温度を有するフェノール系
重合体が得られることを見い出し本発明を完成した。
フェノールメタン型のフェノール樹脂の高ガラス転移温
度、低熱収縮性、低反り等の優れた物性を生かし、かつ
溶融粘度の低いフェノール系硬化剤を得るために鋭意検
討した結果、特定の構造を有するトリフェニルメタン型
樹脂のヒドロキシ基を部分エーテル化することにより低
溶融粘度でかつ高ガラス転移温度を有するフェノール系
重合体が得られることを見い出し本発明を完成した。
【0011】すなわち本発明は式(1)で表わされるト
リフェニルメタン型樹脂のヒドロキシ基の5〜50モル
%がエーテル化された部分エーテル化フェノール系重合
体である。
リフェニルメタン型樹脂のヒドロキシ基の5〜50モル
%がエーテル化された部分エーテル化フェノール系重合
体である。
【0012】
【化2】 式中、nは0〜4であり、1個のベンゼン核に置換する
ヒドロキシ基の数、a,b,c,d及びeは0〜2であ
り、フェニル基当たりの置換ヒドロキシ基の平均数は
0.5〜2.0個である。
ヒドロキシ基の数、a,b,c,d及びeは0〜2であ
り、フェニル基当たりの置換ヒドロキシ基の平均数は
0.5〜2.0個である。
【0013】また本発明は、上記部分エーテル化フェノ
ール系重合体からなるエポキシ樹脂用硬化剤である。
ール系重合体からなるエポキシ樹脂用硬化剤である。
【0014】
【発明の実施の形態】[トリフェニルメタン型樹脂の製
造]本発明で用いる上記式(1)で示されるトリフェニ
ルメタン型樹脂は、フェノール類と芳香族カルボニル化
合物基を、酸性触媒下で縮合させる公知の方法で得るこ
とが出来る。
造]本発明で用いる上記式(1)で示されるトリフェニ
ルメタン型樹脂は、フェノール類と芳香族カルボニル化
合物基を、酸性触媒下で縮合させる公知の方法で得るこ
とが出来る。
【0015】フェノール類としては例えばフェノール、
クレゾール、エチルフェノール、プロピルフェノール、
ブチルフェノール、ヘキシルフェノール、ノニルフェノ
ール、キシレノール、ブチルメチルフェノール等の1価
フェノールの他、カテコール、レゾルシン、ハイドロキ
ノン等の2価フェノールも使用することができるが、特
にフェノールが好ましい。
クレゾール、エチルフェノール、プロピルフェノール、
ブチルフェノール、ヘキシルフェノール、ノニルフェノ
ール、キシレノール、ブチルメチルフェノール等の1価
フェノールの他、カテコール、レゾルシン、ハイドロキ
ノン等の2価フェノールも使用することができるが、特
にフェノールが好ましい。
【0016】芳香族カルボニル化合物としては例えば、
ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ジヒ
ドロキシベンズアルデヒド、メチルヒドロキシベンズア
ルデヒド、メトキシベンズアルデヒド等が挙げられる。
これらのうち、特にヒドロキシベンズアルデヒドが好ま
しい。
ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ジヒ
ドロキシベンズアルデヒド、メチルヒドロキシベンズア
ルデヒド、メトキシベンズアルデヒド等が挙げられる。
これらのうち、特にヒドロキシベンズアルデヒドが好ま
しい。
【0017】原料として用いる上記フェノール類及び芳
香族カルボニル化合物の種類により、式(1)における
各フェニル基に置換するヒドロキシ基の数を調整するこ
とができるが、本発明におけるトリフェニルメタン型樹
脂中の、フェニル基当たりの置換ヒドロキシ基の平均数
すなわち[a+b+n(c+d)+e]/(2n+3)
は0.5〜2.0個、好ましくは0.8〜1.2個であ
る。
香族カルボニル化合物の種類により、式(1)における
各フェニル基に置換するヒドロキシ基の数を調整するこ
とができるが、本発明におけるトリフェニルメタン型樹
脂中の、フェニル基当たりの置換ヒドロキシ基の平均数
すなわち[a+b+n(c+d)+e]/(2n+3)
は0.5〜2.0個、好ましくは0.8〜1.2個であ
る。
【0018】フェノール類と芳香族カルボニル化合物と
の縮合反応は公知の酸性触媒を用いて行われる。酸性触
媒としては例えば塩酸、硫酸、パラトルエンスルホン酸
等である。
の縮合反応は公知の酸性触媒を用いて行われる。酸性触
媒としては例えば塩酸、硫酸、パラトルエンスルホン酸
等である。
【0019】上記縮合反応を行った後、減圧濃縮や水蒸
気蒸留等により、未反応物を除去して縮合物が得られ
る。
気蒸留等により、未反応物を除去して縮合物が得られ
る。
【0020】[アリルエーテル化トリフェニルメタン型
樹脂の製造]本発明の部分エーテル化フェノール系重合
体は、式(1)で示されるトリフェニルメタン型樹脂の
ヒドロキシ基(−OH)を、鎖状炭化水素基(−R)で
部分的にエーテル化してアルコキシ基(−OR)とした
ものである。ここにRは、アルケニル基、アルキル基等
の鎖状炭化水素基であり、アルケニル基等の不飽和鎖状
炭化水素基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等のアルキル基を挙げることができるが、これらの中
で、アリル基、ブテニル基、フェニルプロペニル基、1
−エチル−2−プロペニル基等のアルケニル基、特にア
リル基によるエーテル化物が好ましい。特にエポキシ樹
脂用硬化剤として用いる部分エーテル化フェノール系重
合体は、アリル基等、不飽和鎖状炭化水素基による部分
エーテル化物が好ましい。
樹脂の製造]本発明の部分エーテル化フェノール系重合
体は、式(1)で示されるトリフェニルメタン型樹脂の
ヒドロキシ基(−OH)を、鎖状炭化水素基(−R)で
部分的にエーテル化してアルコキシ基(−OR)とした
ものである。ここにRは、アルケニル基、アルキル基等
の鎖状炭化水素基であり、アルケニル基等の不飽和鎖状
炭化水素基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等のアルキル基を挙げることができるが、これらの中
で、アリル基、ブテニル基、フェニルプロペニル基、1
−エチル−2−プロペニル基等のアルケニル基、特にア
リル基によるエーテル化物が好ましい。特にエポキシ樹
脂用硬化剤として用いる部分エーテル化フェノール系重
合体は、アリル基等、不飽和鎖状炭化水素基による部分
エーテル化物が好ましい。
【0021】トリフェニルメタン型樹脂の部分エーテル
化の方法は、フェノール類をアリル化する公知の方法で
得ることができる。
化の方法は、フェノール類をアリル化する公知の方法で
得ることができる。
【0022】即ち、ベースレジンとなるトリフェニルメ
タン型樹脂を有機溶媒に溶解した後、塩基を添加し、次
いでハロゲン化炭化水素、例えば塩化アリル、臭化アリ
ル、ヨウ化アリル等を加えて室温〜100℃で1〜5時
間反応させることにより製造することができる。
タン型樹脂を有機溶媒に溶解した後、塩基を添加し、次
いでハロゲン化炭化水素、例えば塩化アリル、臭化アリ
ル、ヨウ化アリル等を加えて室温〜100℃で1〜5時
間反応させることにより製造することができる。
【0023】ここで使用する有機溶媒としてはメタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール等
のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホル
ムアミド等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。得よ
うとする樹脂の使用目的によって有機溶媒を変えればよ
いので、トリフェニルメタン型樹脂と反応生成物が可溶
であり、塩基によって有機溶媒自身が分解、反応等を起
こさないものであれば使用することができる。好ましく
は、アルコール類が挙げられる。
ル、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール等
のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケ
トン類、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホル
ムアミド等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。得よ
うとする樹脂の使用目的によって有機溶媒を変えればよ
いので、トリフェニルメタン型樹脂と反応生成物が可溶
であり、塩基によって有機溶媒自身が分解、反応等を起
こさないものであれば使用することができる。好ましく
は、アルコール類が挙げられる。
【0024】また、塩基は水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ金属水酸化物や、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム等のアルカリ炭酸塩が挙げられる。添加量
はアリルエーテル化すべきフェノール性ヒドロキシ基に
対して等モルの割合で添加するのが好ましい。使用する
ハロゲン化炭化水素の量は、塩基に対して当量以上であ
る。
リウム等のアルカリ金属水酸化物や、炭酸カリウム、炭
酸ナトリウム等のアルカリ炭酸塩が挙げられる。添加量
はアリルエーテル化すべきフェノール性ヒドロキシ基に
対して等モルの割合で添加するのが好ましい。使用する
ハロゲン化炭化水素の量は、塩基に対して当量以上であ
る。
【0025】本発明のエーテル化フェノール系重合体
は、トリフェニルメタン型樹脂のヒドロキシ基の5〜5
0モル%、好ましくは10〜25モル%がエーテル化さ
れた部分化エーテル化物であり、エーテル化率をこの範
囲に保つことにより、エポキシ硬化剤に好適な、低溶融
粘度、高ガラス転移温度、優れた硬化特性を兼ね備えた
重合体が得られる。エーテル化率が5モル%未満では、
溶融粘度が高く、作業性が劣る。また50モル%を超え
ると、ガラス転移温度が低く、またゲル化時間が長くか
かる等、硬化特性が悪くなる。
は、トリフェニルメタン型樹脂のヒドロキシ基の5〜5
0モル%、好ましくは10〜25モル%がエーテル化さ
れた部分化エーテル化物であり、エーテル化率をこの範
囲に保つことにより、エポキシ硬化剤に好適な、低溶融
粘度、高ガラス転移温度、優れた硬化特性を兼ね備えた
重合体が得られる。エーテル化率が5モル%未満では、
溶融粘度が高く、作業性が劣る。また50モル%を超え
ると、ガラス転移温度が低く、またゲル化時間が長くか
かる等、硬化特性が悪くなる。
【0026】本発明の部分エーテル化フェノール系重合
体は、バインダー、コーティング材、積層材、成形材料
等の用途に広く使用できるが、特に部分アリルエーテル
化物等、鎖状不飽和炭化水素基による部分エーテル化フ
ェノール系重合体は、低溶融粘度、高ガラス転移温度、
優れた硬化特性を有するところから、特に半導体封止
用、プリント基板絶縁用などのエポキシ硬化剤に適して
いる。
体は、バインダー、コーティング材、積層材、成形材料
等の用途に広く使用できるが、特に部分アリルエーテル
化物等、鎖状不飽和炭化水素基による部分エーテル化フ
ェノール系重合体は、低溶融粘度、高ガラス転移温度、
優れた硬化特性を有するところから、特に半導体封止
用、プリント基板絶縁用などのエポキシ硬化剤に適して
いる。
【0027】[エポキシ樹脂硬化物]エポキシ樹脂硬化
物は上記部分不飽和炭化水素基によるエーテル化トリフ
ェニルメタン型樹脂とエポキシ樹脂及び硬化促進剤を混
合し、100〜250℃の温度範囲で硬化させることに
より得られる。
物は上記部分不飽和炭化水素基によるエーテル化トリフ
ェニルメタン型樹脂とエポキシ樹脂及び硬化促進剤を混
合し、100〜250℃の温度範囲で硬化させることに
より得られる。
【0028】エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂
などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジル
エステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ
樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂など、分子中にエポキシ
基を二個以上有するエポキシ樹脂が挙げられる。これら
エポキシ樹脂は単独で使用しても、2種類以上を併用し
てもよい。
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂
などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジル
エステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ
樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂など、分子中にエポキシ
基を二個以上有するエポキシ樹脂が挙げられる。これら
エポキシ樹脂は単独で使用しても、2種類以上を併用し
てもよい。
【0029】本発明の部分エーテル化トリフェニルメタ
ン型樹脂は部分的にエーテル化されたことにより、適度
の割り合いでヒドロキシ基が存在しているので、エポキ
シ樹脂硬化剤として用いた場合、高ガラス転移温度等、
優れた硬化特性を維持し、しかも低粘度化を実現させる
ことができる。この場合のエポキシ樹脂との硬化物の1
例を下記式(2)で示す。
ン型樹脂は部分的にエーテル化されたことにより、適度
の割り合いでヒドロキシ基が存在しているので、エポキ
シ樹脂硬化剤として用いた場合、高ガラス転移温度等、
優れた硬化特性を維持し、しかも低粘度化を実現させる
ことができる。この場合のエポキシ樹脂との硬化物の1
例を下記式(2)で示す。
【0030】
【化3】 (式中、n=0〜4、Rは鎖状炭化水素基を表す。)
【0031】またアリル基等の不飽和炭化水素基による
部分エーテル化トリフェニルメタン型樹脂の場合は、エ
ポキシ樹脂による硬化反応条件(特にポストキュア条
件)下では部分的にアリル基が芳香族へクライゼン転位
してヒドロキシ基が再生し、さらにこれがエポキシ基と
反応して、例えば式(3)のごとき構造を有するエポキ
シ樹脂硬化物が得られる。これにより架橋密度の低下を
起こさず、高ガラス転移温度が維持される。
部分エーテル化トリフェニルメタン型樹脂の場合は、エ
ポキシ樹脂による硬化反応条件(特にポストキュア条
件)下では部分的にアリル基が芳香族へクライゼン転位
してヒドロキシ基が再生し、さらにこれがエポキシ基と
反応して、例えば式(3)のごとき構造を有するエポキ
シ樹脂硬化物が得られる。これにより架橋密度の低下を
起こさず、高ガラス転移温度が維持される。
【0032】
【化4】 (式中、n=0〜4、Rはアルケニル基を表す。)
【0033】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説
明する。なお本発明で得られた部分エーテル化フェノー
ル樹脂の物性測定は以下のとおりである。
明する。なお本発明で得られた部分エーテル化フェノー
ル樹脂の物性測定は以下のとおりである。
【0034】(1)エーテル化率 樹脂のエーテル化率はアセチル化法によりヒドロキシ基
当量を測定して求めた。
当量を測定して求めた。
【0035】(2)溶融粘度 樹脂の溶融粘度はICIコーン&プレート型粘度計(リ
サーチ・イクイップメント社製:ロンドン)を用いて1
50℃で測定した。
サーチ・イクイップメント社製:ロンドン)を用いて1
50℃で測定した。
【0036】(3)ゲル化時間 樹脂にクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を当量比
1:1で混合し、さらに硬化促進剤としてトリフェニル
ホスフィンを1phr混合し、ストロークキュア法によ
り175℃で測定した。
1:1で混合し、さらに硬化促進剤としてトリフェニル
ホスフィンを1phr混合し、ストロークキュア法によ
り175℃で測定した。
【0037】(4)ガラス転移温度(Tg) (3)の混合物を180℃で6時間硬化させ、リガク社
製TMA8310を用いて熱機械分析(TMA)法によ
り線膨張係数を測定して求めた。
製TMA8310を用いて熱機械分析(TMA)法によ
り線膨張係数を測定して求めた。
【0038】[製造例A](トリフェニルメタン型樹脂
の製造) 撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えた
ガラス製反応釜に、フェノール885g、サリチルアル
デヒド(o−ヒドロキシベンズアルデヒド)115g、
36%塩酸10gを加え、窒素気流下で撹拌しながら昇
温し、110℃で3時間の反応を行った。その後減圧蒸
留を行い、未反応のフェノール、サリチルアルデヒドを
除去し、トリフェニルメタン型樹脂を得た。
の製造) 撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えた
ガラス製反応釜に、フェノール885g、サリチルアル
デヒド(o−ヒドロキシベンズアルデヒド)115g、
36%塩酸10gを加え、窒素気流下で撹拌しながら昇
温し、110℃で3時間の反応を行った。その後減圧蒸
留を行い、未反応のフェノール、サリチルアルデヒドを
除去し、トリフェニルメタン型樹脂を得た。
【0039】[製造例B]アルデヒドとして夫々3,4
ジヒドロキシベンズアルデヒド及びベンズアルデヒドを
用い、製造例Aと同様にして、3,4ジヒドロキシベン
ズアルデヒド/フェノール縮合物及びベンズアルデヒド
/フェノール縮合物を合成し、両者を55:45(重量
比)で混合し、トリフェニルメタン型樹脂混合物を得
た。
ジヒドロキシベンズアルデヒド及びベンズアルデヒドを
用い、製造例Aと同様にして、3,4ジヒドロキシベン
ズアルデヒド/フェノール縮合物及びベンズアルデヒド
/フェノール縮合物を合成し、両者を55:45(重量
比)で混合し、トリフェニルメタン型樹脂混合物を得
た。
【0040】製造例A及びBで得られたトリフェニルメ
タン型樹脂の物性は表1のとおりである。
タン型樹脂の物性は表1のとおりである。
【0041】
【表1】 S.A : サリチルアルデヒド D.H.B.A :ジヒドロキシベンズアルデヒド B.A : ベンズアルデヒド
【0042】[製造例C](フェノールアラルキル樹脂
の製造) 製造例Aで用いた反応釜に、1,4−ジ(クロロメチ
ル)ベンゼン175g、フェノール188gを加え、窒
素気流下で撹拌しながら昇温し、120℃で2時間の反
応を行った。さらに温度を150℃に上げ2時間反応さ
せた。このとき発生する塩化水素は水酸化ナトリウム水
溶液でトラップ除去した。その後1,8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデセンを0.1%水溶液を0.1
g添加し減圧蒸留を行い、未反応のフェノールを除去し
目的物を得た。得られたフェノールアラルキル樹脂は、
150℃における溶融粘度が3.6ポイズ、OH基当量
が175g/eqであった。
の製造) 製造例Aで用いた反応釜に、1,4−ジ(クロロメチ
ル)ベンゼン175g、フェノール188gを加え、窒
素気流下で撹拌しながら昇温し、120℃で2時間の反
応を行った。さらに温度を150℃に上げ2時間反応さ
せた。このとき発生する塩化水素は水酸化ナトリウム水
溶液でトラップ除去した。その後1,8−ジアザビシク
ロ(5,4,0)ウンデセンを0.1%水溶液を0.1
g添加し減圧蒸留を行い、未反応のフェノールを除去し
目的物を得た。得られたフェノールアラルキル樹脂は、
150℃における溶融粘度が3.6ポイズ、OH基当量
が175g/eqであった。
【0043】[実施例1](20%アリルエーテル化ト
リフェニルメタン樹脂) 撹拌装置、コンデンサー、及び滴下ロートを備えたガラ
ス製反応釜に、製造例Aで得たトリフェニルメタン型樹
脂100g、メタノール300gを仕込み溶解させ、水
酸化カリウム11.2g(NET)を加え均一になるま
で撹拌した。これに塩化アリル19.1gを15分かけ
て滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに65℃で5時
間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完結させた。次
いで反応液を濾過して副生した塩化カリウムを除去した
後、メタノールを除去した。残留物をメチルイソブチル
ケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチルイソブチルケ
トンを除去し、アリルエーテル化トリフェニルメタン型
樹脂を得た。エーテル化率は20モル%であった。この
アリルエーテル化物について、150 ℃における溶融粘
度、ガラス転移点及びゲル化時間を測定した。結果を表
2に示す。
リフェニルメタン樹脂) 撹拌装置、コンデンサー、及び滴下ロートを備えたガラ
ス製反応釜に、製造例Aで得たトリフェニルメタン型樹
脂100g、メタノール300gを仕込み溶解させ、水
酸化カリウム11.2g(NET)を加え均一になるま
で撹拌した。これに塩化アリル19.1gを15分かけ
て滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに65℃で5時
間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完結させた。次
いで反応液を濾過して副生した塩化カリウムを除去した
後、メタノールを除去した。残留物をメチルイソブチル
ケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチルイソブチルケ
トンを除去し、アリルエーテル化トリフェニルメタン型
樹脂を得た。エーテル化率は20モル%であった。この
アリルエーテル化物について、150 ℃における溶融粘
度、ガラス転移点及びゲル化時間を測定した。結果を表
2に示す。
【0044】[実施例2](10%アリルエーテル化ト
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Aで得たトリフェニ
ルメタン型樹脂60.6g、メタノール300gを仕込
み溶解させ、水酸化カリウム5.6gを加え均一になる
まで撹拌した。これに塩化アリル9.6gを15分かけ
て滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに65℃で5時
間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完結させた。次
いで反応液を濾過して副生した塩化カリウムを除去した
後、メタノールを除去した。残留物をメチルイソブチル
ケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチルイソブチルケ
トンを除去し、エーテル化率10モル%のアリルエーテ
ル化トリフェニルメタン型樹脂が得られた。このエーテ
ル化物について、実施例と同様に物性を測定した。結果
を表2に示す。
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Aで得たトリフェニ
ルメタン型樹脂60.6g、メタノール300gを仕込
み溶解させ、水酸化カリウム5.6gを加え均一になる
まで撹拌した。これに塩化アリル9.6gを15分かけ
て滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに65℃で5時
間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完結させた。次
いで反応液を濾過して副生した塩化カリウムを除去した
後、メタノールを除去した。残留物をメチルイソブチル
ケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチルイソブチルケ
トンを除去し、エーテル化率10モル%のアリルエーテ
ル化トリフェニルメタン型樹脂が得られた。このエーテ
ル化物について、実施例と同様に物性を測定した。結果
を表2に示す。
【0045】[実施例3](20%メチルエーテル化ト
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Aで得たトリフェニ
ルメタン型樹脂100g、メタノール300gを仕込み
溶解させ、水酸化カリウム11.2g(NET)を加え
均一になるまで撹拌した。これにヨウ化メチル35.5
gを15分かけて滴下後、40℃で1時間撹拌し、さら
に65℃で5時間加熱撹拌してメチルエーテル化反応を
完結させた。次いで反応液を濾過して副生した塩化カリ
ウムを除去した後、メタノールを除去した。残留物をメ
チルイソブチルケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチ
ルイソブチルケトンを除去しメチルエーテル化トリフェ
ニルメタン型樹脂を得た(エーテル化率20%)。この
エーテル化物について、実施例1と同様に物性を測定し
た。結果を表2に示す。
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Aで得たトリフェニ
ルメタン型樹脂100g、メタノール300gを仕込み
溶解させ、水酸化カリウム11.2g(NET)を加え
均一になるまで撹拌した。これにヨウ化メチル35.5
gを15分かけて滴下後、40℃で1時間撹拌し、さら
に65℃で5時間加熱撹拌してメチルエーテル化反応を
完結させた。次いで反応液を濾過して副生した塩化カリ
ウムを除去した後、メタノールを除去した。残留物をメ
チルイソブチルケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチ
ルイソブチルケトンを除去しメチルエーテル化トリフェ
ニルメタン型樹脂を得た(エーテル化率20%)。この
エーテル化物について、実施例1と同様に物性を測定し
た。結果を表2に示す。
【0046】[実施例4](20%アリルエーテル化ト
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Bで得たトリフェニ
ルメタン型樹脂100g、メタノール300gを仕込み
溶解させ、水酸化カリウム11.2g(NET)を加え
均一になるまで撹拌した。これに塩化アリル19.1g
を15分かけて滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに
65℃で5時間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完
結させた。次いで反応液を濾過して副生した塩化カリウ
ムを除去した後、メタノールを除去した。残留物をメチ
ルイソブチルケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチル
イソブチルケトンを除去しアリルエーテル化トリフェニ
ルメタン型樹脂を得た(エーテル化率20%)。このエ
ーテル化物について、実施例と同様に物性を測定した。
結果を表2に示す。
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Bで得たトリフェニ
ルメタン型樹脂100g、メタノール300gを仕込み
溶解させ、水酸化カリウム11.2g(NET)を加え
均一になるまで撹拌した。これに塩化アリル19.1g
を15分かけて滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに
65℃で5時間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完
結させた。次いで反応液を濾過して副生した塩化カリウ
ムを除去した後、メタノールを除去した。残留物をメチ
ルイソブチルケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチル
イソブチルケトンを除去しアリルエーテル化トリフェニ
ルメタン型樹脂を得た(エーテル化率20%)。このエ
ーテル化物について、実施例と同様に物性を測定した。
結果を表2に示す。
【0047】[実施例5](20%アリルエーテル化ト
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で得られた20モル%アリルエーテル化物につ
いて、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂との当量比
を1.2:1に変更した以外は実施例1と同様にして、
ガラス転移温度及びゲル化時間を測定した。結果を表2
に示す。
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で得られた20モル%アリルエーテル化物につ
いて、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂との当量比
を1.2:1に変更した以外は実施例1と同様にして、
ガラス転移温度及びゲル化時間を測定した。結果を表2
に示す。
【0048】[比較例1](60%アリルエーテル化ト
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Aで得たトリフェニ
ルメタン型樹脂100g、メタノール300gを仕込み
溶解させ、水酸化カリウム33.7g(NET)を加え
均一になるまで撹拌した。これに塩化アリル53.6g
を15分かけて滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに
65℃で5時間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完
結させた。次いで反応液を濾過して副生した塩化カリウ
ムを除去した後、メタノールを除去した。残留物をメチ
ルイソブチルケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチル
イソブチルケトンを除去し、エーテル化率60モル%の
アリルエーテル化トリフェニルメタン型樹脂が得られ
た。このエーテル化物について、実施例と同様に物性を
測定した。結果を表2に示す。
リフェニルメタン樹脂) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Aで得たトリフェニ
ルメタン型樹脂100g、メタノール300gを仕込み
溶解させ、水酸化カリウム33.7g(NET)を加え
均一になるまで撹拌した。これに塩化アリル53.6g
を15分かけて滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに
65℃で5時間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完
結させた。次いで反応液を濾過して副生した塩化カリウ
ムを除去した後、メタノールを除去した。残留物をメチ
ルイソブチルケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチル
イソブチルケトンを除去し、エーテル化率60モル%の
アリルエーテル化トリフェニルメタン型樹脂が得られ
た。このエーテル化物について、実施例と同様に物性を
測定した。結果を表2に示す。
【0049】[比較例2]製造例Aで得たトリフェニル
メタン型樹脂を、エーテル化せず、そのままで物性を測
定した。結果を表2に示す。
メタン型樹脂を、エーテル化せず、そのままで物性を測
定した。結果を表2に示す。
【0050】[比較例3](アリルエーテル化フェノー
ルアラルキル樹脂の製造) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Cで得たフェノール
アラルキル樹脂100g、メタノール300gを仕込み
溶解させ、水酸化カリウム6.4gを加え均一になるま
で撹拌した。これに塩化アリル10.9gを15分かけ
て滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに65℃で5時
間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完結させた。次
いで反応液を濾過して副生した塩化カリウムを除去した
後、メタノールを除去した。残留物をメチルイソブチル
ケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチルイソブチルケ
トンを除去し目的物を得た。得られたアリル化フェノー
ルアラルキル樹脂の物性を測定した。結果を表2に示
す。
ルアラルキル樹脂の製造) 実施例1で用いた反応釜に、製造例Cで得たフェノール
アラルキル樹脂100g、メタノール300gを仕込み
溶解させ、水酸化カリウム6.4gを加え均一になるま
で撹拌した。これに塩化アリル10.9gを15分かけ
て滴下後、40℃で1時間撹拌し、さらに65℃で5時
間加熱撹拌してアリルエーテル化反応を完結させた。次
いで反応液を濾過して副生した塩化カリウムを除去した
後、メタノールを除去した。残留物をメチルイソブチル
ケトンで溶解させ、純水で洗浄後、メチルイソブチルケ
トンを除去し目的物を得た。得られたアリル化フェノー
ルアラルキル樹脂の物性を測定した。結果を表2に示
す。
【0051】
【表2】
【0052】表2の結果から明らかなように、エーテル
化をしないトリフェニルメタン型樹脂は、ガラス転移点
は高いが、溶融粘度が高く、流動性や密着性が悪い。ま
たエーテル化率の高いアリルエーテル化物は、低溶融粘
度であるが、ガラス転移点が低く、良好な物性のものが
得られない。またフェノールアラルキル樹脂を、本発明
と同様に部分エーテル化しても、ガラス転移点の低いも
のしか得られない。これに比べ、エーテル化率5〜50
モル%の範囲でエーテル化した本発明のトリフェニルメ
タン型樹脂は、高ガラス転移点で、しかも低溶融粘度で
あり、またゲル化時間も短く硬化特性が優れている。
化をしないトリフェニルメタン型樹脂は、ガラス転移点
は高いが、溶融粘度が高く、流動性や密着性が悪い。ま
たエーテル化率の高いアリルエーテル化物は、低溶融粘
度であるが、ガラス転移点が低く、良好な物性のものが
得られない。またフェノールアラルキル樹脂を、本発明
と同様に部分エーテル化しても、ガラス転移点の低いも
のしか得られない。これに比べ、エーテル化率5〜50
モル%の範囲でエーテル化した本発明のトリフェニルメ
タン型樹脂は、高ガラス転移点で、しかも低溶融粘度で
あり、またゲル化時間も短く硬化特性が優れている。
【0053】[実施例6](エポキシ樹脂組成物の製
造) エポキシ樹脂(トリフェニルメタン型、日本化薬(株)
製”EPPN−501H”、エポキシ当量165g/e
q)、実施例1で得られたフェノール系硬化剤及び他の
配合剤を、表3に示す割合で配合し、充分に予備混合し
た後、ミキシングロールで混練して冷却し、これを粉砕
することにより、目的とするエポキシ樹脂組成物からな
る成形材料を得た。このようにして得られた成形材料に
ついて、各種物性を測定評価した。結果を表3に示す。
造) エポキシ樹脂(トリフェニルメタン型、日本化薬(株)
製”EPPN−501H”、エポキシ当量165g/e
q)、実施例1で得られたフェノール系硬化剤及び他の
配合剤を、表3に示す割合で配合し、充分に予備混合し
た後、ミキシングロールで混練して冷却し、これを粉砕
することにより、目的とするエポキシ樹脂組成物からな
る成形材料を得た。このようにして得られた成形材料に
ついて、各種物性を測定評価した。結果を表3に示す。
【0054】なおこれらの成形材料の物性の測定は、以
下の方法で行った。 (1)スパイラルフロー EMMI規格に準じた金型を用いて、175℃で、70
kgf/cm2 の圧力で測定した。
下の方法で行った。 (1)スパイラルフロー EMMI規格に準じた金型を用いて、175℃で、70
kgf/cm2 の圧力で測定した。
【0055】(2)溶融粘度 エポキシ樹脂組成物の175℃における最低溶融粘度
を、フローテスター法(荷重:20kgf/cm2 、ノ
ズル:1mmΦ×2mmL)で測定した。
を、フローテスター法(荷重:20kgf/cm2 、ノ
ズル:1mmΦ×2mmL)で測定した。
【0056】(3)ガラス転移点 成形材料を成形硬化して(成形条件:175℃×150
秒、ポストキュア条件:150℃×2時間+180℃×
6時間)、5×5×2mmの硬化物を調製し、TMA法
によりガラス転移点を求めた。
秒、ポストキュア条件:150℃×2時間+180℃×
6時間)、5×5×2mmの硬化物を調製し、TMA法
によりガラス転移点を求めた。
【0057】[比較例4](エポキシ樹脂組成物の製
造) 実施例4において、フェノール系硬化剤として、実施例
1で得られたフェノール系硬化剤の代わりに、製造例A
で得たトリフェニルメタン型樹脂を、エーテル化せず、
そのままで用いた以外は実施例4と同様にして、エポキ
シ樹脂組成物からなる成形材料を得、その物性を測定し
た。結果を表3に示す。
造) 実施例4において、フェノール系硬化剤として、実施例
1で得られたフェノール系硬化剤の代わりに、製造例A
で得たトリフェニルメタン型樹脂を、エーテル化せず、
そのままで用いた以外は実施例4と同様にして、エポキ
シ樹脂組成物からなる成形材料を得、その物性を測定し
た。結果を表3に示す。
【0058】
【表3】
【0059】表3の結果から明らかなように本発明の部
分エーテル化フェノール系重合体を硬化剤を用いたエポ
キシ樹脂組成物は、低粘度、高流動性と高ガラス転移点
とが両立する優れた物性を有しており、本発明の部分エ
ーテル化フェノール系重合体はエポキシ樹脂用硬化剤と
して有用である。
分エーテル化フェノール系重合体を硬化剤を用いたエポ
キシ樹脂組成物は、低粘度、高流動性と高ガラス転移点
とが両立する優れた物性を有しており、本発明の部分エ
ーテル化フェノール系重合体はエポキシ樹脂用硬化剤と
して有用である。
【0060】
【発明の効果】本発明によれば、トリフェニルメタン型
樹脂のヒドロキシ基を特定のエーテル化率で部分エーテ
ル化することにより、高ガラス転移温度、低熱収縮性と
いうトリフェノールメタン型のフェノール樹脂の特徴を
生かし、かつトリフェノールメタン型樹脂の欠点とされ
ていた高溶融粘度の問題を解決することができた。これ
によりBGA等、最新の半導体封止材料に対応でき、エ
ポキシ硬化剤として利用できるフェノール系重合体が得
られた。
樹脂のヒドロキシ基を特定のエーテル化率で部分エーテ
ル化することにより、高ガラス転移温度、低熱収縮性と
いうトリフェノールメタン型のフェノール樹脂の特徴を
生かし、かつトリフェノールメタン型樹脂の欠点とされ
ていた高溶融粘度の問題を解決することができた。これ
によりBGA等、最新の半導体封止材料に対応でき、エ
ポキシ硬化剤として利用できるフェノール系重合体が得
られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 曽根 嘉久 茨城県鹿嶋市大字光3番地 住金ケミカル 株式会社開発研究所内 Fターム(参考) 4J033 CA01 CA05 CA11 CA12 CA13 CA42 CB18 CC03 CC08 HA12 HB01 HB08 4J036 AD01 AD07 AD08 AD09 AF01 AF06 DA01 FB08 JA07
Claims (4)
- 【請求項1】 式(1)で表わされるトリフェニルメタ
ン型樹脂のヒドロキシ基の5〜50モル%がエーテル化
された部分エーテル化フェノール系重合体。 【化1】 式中、nは0〜4、a,b,c,d,及びeは0〜2で
あり、フェニル基当たりの置換ヒドロキシ基の平均数
は、0.5〜2.0個である。 - 【請求項2】 エーテルがアルケニルエーテルであるこ
とを特徴とする請求項1記載の部分エーテル化フェノー
ル系重合体。 - 【請求項3】 エーテルがアリルエーテルであることを
特徴とする請求項2記載の部分エーテル化フェノール系
重合体。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の部分エ
−テル化フェノール系重合体からなるエポキシ樹脂用硬
化剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11036448A JP2000234008A (ja) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | フェノール系重合体及びそれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11036448A JP2000234008A (ja) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | フェノール系重合体及びそれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000234008A true JP2000234008A (ja) | 2000-08-29 |
Family
ID=12470105
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11036448A Pending JP2000234008A (ja) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | フェノール系重合体及びそれを用いたエポキシ樹脂用硬化剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000234008A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012017423A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-26 | Nitto Denko Corp | 熱硬化性樹脂組成物硬化体の製法およびそれにより得られた硬化物 |
JP2012197400A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-10-18 | Hitachi Chemical Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2014169428A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-09-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | アリルエーテル樹脂およびその製造方法 |
-
1999
- 1999-02-15 JP JP11036448A patent/JP2000234008A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012017423A (ja) * | 2010-07-08 | 2012-01-26 | Nitto Denko Corp | 熱硬化性樹脂組成物硬化体の製法およびそれにより得られた硬化物 |
JP2012197400A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-10-18 | Hitachi Chemical Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
JP2014169428A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-09-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | アリルエーテル樹脂およびその製造方法 |
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