[go: up one dir, main page]

JP5616234B2 - エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法およびその硬化物 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法およびその硬化物 Download PDF

Info

Publication number
JP5616234B2
JP5616234B2 JP2010548546A JP2010548546A JP5616234B2 JP 5616234 B2 JP5616234 B2 JP 5616234B2 JP 2010548546 A JP2010548546 A JP 2010548546A JP 2010548546 A JP2010548546 A JP 2010548546A JP 5616234 B2 JP5616234 B2 JP 5616234B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
group
epoxy resin
phenol
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010548546A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2010087393A1 (ja
Inventor
慎司 岡本
慎司 岡本
匡敏 藤永
匡敏 藤永
伸太郎 横沼
伸太郎 横沼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Meiwa Plastic Industries Ltd
Original Assignee
Meiwa Plastic Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Meiwa Plastic Industries Ltd filed Critical Meiwa Plastic Industries Ltd
Priority to JP2010548546A priority Critical patent/JP5616234B2/ja
Publication of JPWO2010087393A1 publication Critical patent/JPWO2010087393A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5616234B2 publication Critical patent/JP5616234B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/02Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
    • C08G59/04Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
    • C08G59/06Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
    • C08G59/08Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols from phenol-aldehyde condensates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は、低溶融粘度、高ガラス転移温度、低吸湿性、高密着性、耐熱性、速硬化及び難燃性を兼ね備えたエポキシ樹脂組成物、その製造方法及びその硬化物に関する。
エポキシ樹脂組成物は作業性及びその硬化物の優れた電気特性、耐熱性、接着性、耐湿性等により電気・電子部品、構造用材料、接着剤、塗料等の分野で幅広く用いられている。
しかし近年、電気・電子材料分野においてはその発展に伴い、フィラーを高充填させるための低粘度化をはじめ、難燃性、耐熱性、耐湿性、密着性、誘電特性等の諸特性の一層の向上が求められている。これらの要求に対するエポキシ樹脂組成物については、多くの提案がなされてはいるが、未だ十分とはいえない。特に電子回路基盤材料において、実装ハンダ処置時のクラックなど吸湿が原因の不良が大きな問題であり、低吸湿性材料への要求が強い。低吸湿率化のためにはフィラーの高充填化が必要であり、この高充填化には、樹脂組成物の低粘度化が必要である。一方、比強度、比弾性率に優れる炭素繊維を強化繊維に、該炭素繊維と濡れ性、接着性が良好なエポキシ樹脂組成物をマトリックス樹脂に使用する炭素繊維強化複合材料においても、低粘度で耐熱性を有する樹脂組成物が求められている。
エポキシ樹脂組成物は、BGA(Ball Grid Array)などの片面封止パッケージに用いた場合、パッケージの反りが小さいという優れた性能を有する。しかし最近の半導体パッケージでは、例えばBGAの場合、さらなるファインピッチ化や一括封止タイプになり、反りが小さいことの他に流動性が高いこと、基板表面との密着性が良いことなどが求められている。また低溶融粘度であれば流動性や密着性が向上し、フィラーも多く配合できるので半田耐熱性や耐水性の面でも有利になる。即ちこれら封止材への要求特性を満たすために、低溶融粘度、高ガラス転移温度、低吸湿性、高密着性、耐熱性、速硬化、及び難燃性を兼ね備えた低溶融粘度エポキシ樹脂組成物の出現が強く望まれている。
また、ビルドアップ基板の層間絶縁材にも、耐水性に優れ、高ガラス転移温度で接着性のよいエポキシ樹脂組成物が望まれており、これを達成するために、元々耐水性や保存安定性に優れたフェノール系硬化剤で、低溶融粘度、高ガラス転移温度、低吸湿性、高密着性、耐熱性、速硬化、及び難燃性を兼ね備えたものが望まれている。
電子材料用樹脂材料にはエポキシ樹脂が多く用いられ、そのエポキシ樹脂の硬化剤としては各種のフェノ−ルノボラック縮合体、アミン類、酸無水物が使用される。特に半導体(IC)封止用エポキシ樹脂の硬化剤としては、耐熱性、信頼性の面からフェノ−ル性ノボラック縮合体が主に用いられる。近年、ICの高集積化、パッケ−ジの小型、薄型化、また表面実装方式の適用が進み、その封止用材料には耐熱衝撃性および表面実装作業時のソルダリング耐熱性を一層向上させることが要求されている。ソルダリング耐熱性を左右する大きな要因として、封止用樹脂材料の吸湿性が挙げられる。すなわち、吸湿した封止用材料は表面実装作業時の高温下で水分の気化による内圧が発生し、内部剥離やパッケ−ジクラックが発生してソルダリング耐熱性が劣る。したがって、エポキシ樹脂は低吸湿性であることが特に要求される。
プリント基板絶縁用のエポキシ樹脂ワニスは、プリプレグ製造時の取り扱い性を考慮すると、その粘度が低い方が好ましく、有機溶剤の使用量も少ない程よい。しかしながら、この分野で使用されるこれまでのエポキシ樹脂溶液の粘度は、十分に満足できるほど低くすることができないか、あるいは有機溶剤の使用量を少なくすることが難しいという問題点がある。
一方、封止用材料の吸湿性を低下させる方法として、封止用樹脂材料に充填される非吸湿性のシリカなどの充填材を増量する方法がある。この場合、ベ−スの樹脂材料の粘度が高いと充填材の高充填性が損なわれるので、エポキシ樹脂の粘度の低いことが望まれる。また、封止用材料には耐熱性、高強度、強靱性、難燃性、接着強さなどが求められる。封止用エポキシ樹脂の硬化剤としてフェノ−ルノボラック縮合体を用いた従来の封止用樹脂材料では、吸湿性が比較的高く、また他の物性の面からも十分に満足できるものではなかった。
そこで、低吸湿性、耐熱性、接着性、難燃性などを向上させるために各種のフェノ−ルノボラック縮合体及びそのエピハロヒドリンとの反応物が提案されている。例えば、o−クレゾ−ルなどのアルキルフェノ−ル類を用いたノボラック縮合体、また、1−ナフト−ルなどのナフト−ル類を用いたノボラック縮合体がある(例えば、特許文献1から3参照)。また、フェノ−ルの縮合剤としてジ(ヒドロキシプロピル)ビフェニルを用いたフェノ−ル性化合物が開示されており(特許文献4参照)、ビス(メトキシメチル)ビフェニル混合物を用いたフェノ−ルノボラック縮合体を提案している(特許文献5参照)。さらに、ホルムアルデヒドを有効に利用した電子部品封止用エポキシ樹脂成型材料(特許文献6参照)が開示されている。
しかし、さらに一層の吸湿性、耐熱性、接着特性、難燃性、速硬化、保存安定性などが向上した材料が望まれている。
特開昭59−230017号公報 特開平05−078437号公報 特開平05−086156号公報 特開平05−117350号公報 特開平08−143648号公報 特開昭63−022824号公報
本発明の課題は、低溶融粘度、高ガラス転移温度、低吸湿性、高密着性、耐熱性、速硬化、及び難燃性などに優れ、特に電気および電子産業用、電子部品の封止用、積層板材料用のエポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法ならびに該エポキシ樹脂組成物から得られる樹脂硬化物を提供することにある。
本発明者らは、上記アラルキル型のフェノール樹脂の低吸湿性、高密着性、耐熱性物性を生かし、かつ溶融粘度が低いエポキシ樹脂組成物を得るために鋭意検討した結果、分子内にアルキレン型重合体単位と、フェノールノボラック重合体単位を共に有し、両者の重合度の比を特定範囲にすることにより、低溶融粘度且つ速硬化で、低吸湿性、高密着性、耐熱性の優れたフェノールノボラック樹脂組成物が得られることを見出し、さらに得られた樹脂組成物とエピハロヒドリンとの反応により同様に優れたエポキシ樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明は、下記一般式(1)で表わされる成分を含有し、下記一般式(3−1)及び一般式(3−2)で表される化合物の含有割合が50%以下であるエポキシ樹脂組成物である。
一般式(1):
Figure 0005616234
(式中、Rは下記一般式(2−1)及び一般式(2−2):
Figure 0005616234
で示されるビフェニリレン基及びキシリレン基から選ばれる少なくとも一つの架橋基を表し、R、R及びRは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基、又はアリール基であり、p、q、rはそれぞれ0〜2の整数である。また、mおよびnは、正の数値であり、Gはグリシジル基を表す。)
一般式(3−1)及び(3−2):
Figure 0005616234
(式中、Gはグリシジル基を表し、R,Rは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基又はアリール基を表す。)
さらには、m/nは0.04〜20であり、150℃における溶融粘度が10〜200mPa・sである上記エポキシ樹脂組成物である。
また、本発明は、下記一般式(4):
Figure 0005616234
(式中、Rは下記一般式(2−1)及び一般式(2−2):
Figure 0005616234
で示されるビフェニリレン基及びキシリレン基から選ばれる少なくとも一つの架橋基を表し、R、R及びRは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、水素原子、炭素数1から6個のアルキル基又はアリール基であり、p、q、rはそれぞれ0〜2の整数である。また、mおよびnは、正の数値を示す。)で表される成分を含有するフェノール樹脂組成物とエピハロヒドリンをアルカリ金属水酸化物の存在下において反応させることを特徴とするエポキシ樹脂組成物の製造方法である。
さらに、本発明は、上記エポキシ樹脂組成物を硬化させたエポキシ樹脂硬化物である。
また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、後述する一般式(6−1)で表されるビフェニリレン化合物及び/又は後述する一般式(6−2)で表されるキシリレン化合物と、フェノール化合物と、ホルムアルデヒドとを反応させて得られるフェノール樹脂組成物に、エピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂組成物である。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、分子内に4,4’−ビフェニリレン基、2,4’−ビフェニリレン基、2,2’−ビフェニリレン基等のビフェニリレン基、及び1,4−キシリレン基、1,2−キシリレン基、1,3−キシリレン基等のキシリレン基から選ばれる少なくとも一つの架橋基を含有するエポキシ樹脂及びメチレン架橋基を含有するエポキシ樹脂の重合単位を共に有し、両者の重合度の比が特定の範囲である構造としたことにより、エポキシ樹脂組成物に好適な、低溶融粘度、高ガラス転移温度、低吸湿性、高密着性、耐熱性、及び難燃性、保存安定性、良好な取り扱い性を兼ね備えた樹脂組成物である。
本発明の樹脂組成物は、BGA等、最新の半導体封止材料に対応できる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記一般式(4)で示されるRがビフェニリレン架橋基及び/またはキシリレン架橋基を含有するフェノール樹脂の重合単位をトータルでn個、メチレン架橋基を含有するフェノール樹脂の重合単位をトータルでm個有する共重合タイプのフェノール樹脂組成物をエピハロヒドリンを用いてグリシジルエーテル化して得られる上記一般式(1)の成分を含有するエポキシ樹脂組成物であり、好ましくは一般式(1)における各重合単位の重合度比m/nが0.04〜20、より好ましくは0.05〜9、さらに好ましくは0.1〜6であり、かつ、150℃における溶融粘度が5〜1000mPa・s、好ましくは10〜200mPa・sのエポキシ樹脂組成物である。m/nが0.04〜20であり、かつ、150℃における溶融粘度が10〜200mPa・sであることが好ましい。
好ましい範囲は、該エポキシ樹脂組成物の平均分子量(重合度:使用するフェノール化合物と一般式(4)のRを構成する架橋体及びホルムアルデヒドとの合計使用量とのモル比により異なる)により異なる。
上記一般式(4)で示されるフェノール樹脂組成物については、特開2008−189708号公報にその詳細が記載されている。
使用するフェノール化合物と一般式(4)のRを構成する架橋体及びホルムアルデヒドとの合計使用量とのモル比が、2.0〜3.0倍モル未満の場合のフェノール樹脂組成物をグリシジルエーテル化したエポキシ樹脂組成物では、150℃での溶融粘度は100〜200mPa・sであり、さらに好ましくは100〜150mPa・sである。
使用するフェノール化合物と一般式(4)のRを構成する架橋体及びホルムアルデヒドとの合計使用量とのモル比が、3.0以上〜10倍モル未満の場合、好ましくは3.0〜5倍モルの場合のフェノール樹脂組成物をグリシジルエーテル化したエポキシ樹脂組成物では、150℃での溶融粘度は、10〜100mPa・sであり、さらに好ましくは30〜80mPa・sである。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、m/nの値については特に制限はないが、m/nの値が0.04未満では、溶融粘度を下げる効果が不十分となる場合もあり、流動性が良くならない場合もある。よって、m/nの値は、0.04以上が好ましい。より好ましくは0.1〜6である。フェノール化合物と一般式(4)のRを構成する架橋体及びホルムアルデヒドとの合計使用量とのモル比(フェノール/(m+n))の好ましい範囲は、2.0〜5であり、これを加味したm/nの好ましい値は0.1〜6であり、より好ましい範囲は0.3〜3である。
本発明で使用するフェノール化合物は、一般式(4)で記載のとおり、ベンゼン環に水酸基を少なくとも1個有し、R、R及びRは、同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素、炭素数1〜6個のアルキル基又はアリール基であり、p、q及びrは、それぞれ0〜2の整数からなる化合物群である。炭素数1〜6個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、ターシャリーブチル基等の分岐鎖状アルキル基などが挙げられ、アリール基としては、フェニル基などが挙げられる。
これらのフェノール化合物は、単独でも2種以上を混合して用いても何ら問題はない。
具体的なフェノール化合物としては、例えばフェノール、クレゾール、エチルフェノール、プロピルフェノール、ブチルフェノール、ヘキシルフェノール、ノニルフェノール、キシレノール、ブチルメチルフェノール等の1価フェノールの他、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン等の2価フェノールも挙げられるが、特にフェノールが好ましい。
本発明でメチレン架橋基を形成する化合物としては、ホルムアルデヒドが好適に挙げられる。さらにホルムアルデヒドの形態としては、特に制限はないが、ホルムアルデヒド水溶液、及びパラホルムアルデヒド、トリオキサンなど酸存在下で分解してホルムアルデヒドとなる重合物を用いることもできる。
好ましくは、取り扱いの容易なホルムアルデヒド水溶液であり、市販品の42%ホルムアルデヒド水溶液をそのまま使用できる。
本発明で使用する架橋基Rは、下記一般式(2−1)及び一般式(2−2)で表される4,4’−ビフェニリレン基、2,4’−ビフェニリレン基又は2,2’−ビフェニリレン基、1,4−キシリレン基、1,2−キシリレン基または、1,3−キシリレン基等があげられる。これらの異性体は、単独でも混合しても使用することができる。
Figure 0005616234
これらの架橋基は、次式(6−1)及び(6−2)で表される化合物から誘導される。
Figure 0005616234
(ここで、式中、Yはハロゲン原子、ヒドロキシル基又は炭素原子数1〜6のアルコキシル基を表す。)
ここで、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられるが、塩素が好ましい。アルコキシル基としては、特に制限はないが、炭素数1〜6個の脂肪族アルコキシが好ましい。
式(6−1)及び(6−2)で表される化合物は、具体的には、4,4’−ジ(ハロゲノメチル)ビフェニル、2,4’−ジ(ハロゲノメチル)ビフェニル、2,2’−ジ(ハロゲノメチル)ビフェニル、4,4’−ジ(アルコキシメチル)ビフェニル、2,4’−ジ(アルコキシメチル)ビフェニル、2,2’−ジ(アルコキシメチル)ビフェニル、1,4−ジ(ハロゲノメチル)ベンゼン、1,4−ジ(アルコキシメチル)ベンゼン、1,2−ジ(ハロゲノメチル)ベンゼン、1,2−ジ(アルコキシメチル)ベンゼン、1,3−ジ(ハロゲノメチル)ベンゼンおよび1,3−ジ(アルコキシメチル)ベンゼン、あるいは、4,4’−ジ(ヒドロキシメチル)ビフェニル、2,4’−ジ(ヒドロキシメチル)ビフェニル、2,2’−ジ(ヒドロキシメチル)ビフェニル、1,4−ジ(ヒドロキシメチル)ベンゼン、1,3−ジ(ヒドロキシメチル)ベンゼンおよび1,2−ジ(ヒドロキシメチル)ベンゼンである。
式(6−1)及び(6−2)で表される化合物の好ましい具体的な化合物としては、4,4’−ジ(クロロメチル)ビフェニル、4,4’−ジ(メトキシメチル)ビフェニル、4,4’−ジ(エトキシメチル)ビフェニル、1,4−ジ(クロロメチル)ベンゼン、1,4−ジ(メトキシメチル)ベンゼン及び1,4−ジ(エトキシメチル)ベンゼンが挙げられる。
これら、(4)式中のRを構成する架橋体としては、ビフェニリレン基および/又はキシリレン基を単一でも混合して使用することも何ら問題ではない。しかし、混合して使用する場合では、その混合比率は、ビフェニリレン基1モルに対して20〜50モル%でキシリレン基を使用するのが好ましい。Rがビフェニリレン架橋基、特に4,4‘−ビフェニリレン架橋基を有することが好ましい。
フェノール樹脂組成物の製造条件については、特開2008−189708号公報に詳細が記されているのでその条件に準じて実施すればよい。
一般式(4)に示すフェノール樹脂組成物の製法の一例を以下に示す。
フェノール樹脂組成物は、下記一般式(5−1)及び一般式(5−2)で表される化合物(これらを総称して「2核体」という場合がある)の含有割合がフェノール樹脂に対して50%以下、特に47%以下であることが好ましく、5〜47%であることがより好ましく、10〜40%であることが特に好ましい。なお、一般式(5−1)及び一般式(5−2)で表される化合物の含有割合は、後述するとおり、ゲル浸透クロマトグラフィーで測定したチャートの面積比から求める。
Figure 0005616234
(式中、R,Rは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基又はアリール基を表す。)
一般式(5−1)及び一般式(5−2)のR,Rにおける炭素数1〜6個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、ターシャリーブチル基等の分岐鎖状アルキル基などが挙げられ、アリール基としては、フェニル基などが挙げられる。
[フェノール樹脂組成物の製造]
一般式(4)で示されるフェノール樹脂組成物の製造方法は、酸触媒存在下、一定量のフェノール化合物に対して、n倍モルのR、即ち4,4’−ビフェニリレン基または、2,4’−ビフェニリレン基または、2,2’−ビフェニリレン基および/又は1,4−キシリレン基または、1,2−キシリレン基または、1,3−キシリレン基等を含む架橋体とm倍モルのホルムアルデヒドを同時に添加して1段の縮合反応で行なうことができる。
この場合は一般式(4)中のRを構成する架橋体及びホルムアルデヒドの合計1モルに対し、フェノールの使用量の制限は特には設けないが、好ましくは1.3〜10倍モル、さらに好ましくは2.0〜5倍モルの範囲で使用すると共に、反応温度を低温(一例として100℃前後)にてフェノール化合物とホルムアルデヒドの反応を優先的に行ない、主として低分子量のメチレン架橋基のフェノール樹脂組成物を形成させ、次いで昇温または触媒を増量してメチレン架橋基フェノール樹脂組成物、一般式(4)中のRを構成する架橋体及びフェノールを反応させる方式を採用するのが好ましい。
用いる酸触媒としては、特に限定はなく、塩酸、蓚酸、硫酸、リン酸、パラトルエンスルホン酸など公知のものを単独であるいは2種以上併用して使用することができるが、硫酸、蓚酸又はパラトルエンスルホン酸が特に好ましい。
縮合反応の温度は、低温条件としては50〜120℃、好ましくは80〜110℃であり、昇温時での反応温度は130〜230℃、好ましくは150〜200℃である。
縮合反応の時間は、反応温度や使用する触媒の種類および量により変動するが、1〜24時間程度である。
反応圧力は、通常、常圧下にて行うが、若干の加圧下あるいは減圧下にて実施しても何ら問題はない。
一般式(4)中のRを構成する架橋体とホルムアルデヒドの合計1モルに対しフェノールの使用量を1.3倍モル未満にした場合には高分子量で溶融粘度の高いフェノール樹脂組成物が得られる傾向が認められる。
また、フェノールの使用量を10倍モルより多く使用すると2核体以下の低分子量成分が増加し、Tgの低下、機械強度の低下が生じるなど物性を低下させ傾向が認められ、フェノール使用量が増加しコスト高、環境負荷の面で問題となる。フェノールの使用量は、好ましくは、1.5〜10倍モルである。
なお、本発明で使用するフェノール樹脂組成物は、フェノール化合物、ホルムアルデヒド、一般式(4)中のRを構成する4,4’−ビフェニリレン基または、2,4’−ビフェニリレン基または、2,2’−ビフェニリレン基および/又は1,4−キシリレン基または、1,2−キシリレン基または、1,3−キシリレン基等の架橋体の添加順序に制限はないが、一括で同時に添加することが、経済性、生産性の観点からは望ましい。
別法としては、架橋体のホルムアルデヒドと一般式(4)中のRを構成する4,4’−ビフェニリレン基または、2,4’−ビフェニリレン基または、2,2’−ビフェニリレン基および/又は1,4−キシリレン基または、1,2−キシリレン基または、1,3−キシリレン基等の架橋体の添加順序をずらす方法も挙げられる。
具体的には、酸触媒の存在下で、予めフェノール化合物とホルムアルデヒドを縮合させ、次いで一般式(4)中のRを構成する4,4’−ビフェニリレン基または、2,4’−ビフェニリレン基または、2,2’−ビフェニリレン基および/又は1,4−キシリレン基または、1,2−キシリレン基または、1,3−キシリレン基等の架橋体を添加して縮合させる2段の縮合反応で製造することもできる。このような2段の縮合反応では、2段目の反応において新たにフェノール化合物を添加することができる。ただし、この場合も1段反応の場合と同様にフェノール化合物を過剰に使用することが好ましい。2段目の反応において追加するフェノール樹脂は、1〜2段反応のトータルで仕込む一般式(4)中のRを構成する架橋体とホルムアルデヒドの合計1モルに対して、1〜2段のトータルで仕込むフェノールが1.3モル倍以上、好ましくは2.3〜5倍モルの範囲で使用することが特に好ましい。このような2段反応で行なうと、アルキレン基含有架橋基型フェノール樹脂及びメチレン架橋基含有フェノール樹脂の各重合単位の重合度、すなわちn及びmの分布が狭くなり、分子量のコントロールが容易となり、所望の溶融粘度の重合体が得やすいので、本発明の目的のためには好ましい。
しかしながら、フェノール化合物、一般式(4)中のRを構成する4,4’−ビフェニリレン基または、2,4’−ビフェニリレン基または、2,2’−ビフェニリレン基および/又は1,4−キシリレン基または、1,2−キシリレン基または、1,3−キシリレン基等の架橋体の反応の後に、ホルムアルデヒドを添加することもできるが、この場合、フェノール化合物のトータルが、仕込む(1)式中のRを構成する架橋体とホルムアルデヒドの合計1モルに対して、1.3倍モル付近で合成すると高分子化が進み、低粘度化が進まず、好ましくないケースが起こる場合もある。
2段階の縮合反応は、1段の縮合反応条件に準じて実施することができる。
前記1段縮合反応及び2段縮合反応における酸触媒の使用量は、その種類によっても異なるが、蓚酸の場合は0.1〜2.0重量%程度、硫酸の場合は0.05〜0.5重量%程度、またパラトルエンスルホン酸の場合は0.02〜0.1重量%程度使用するのがよい。とくに2段縮合反応を行う場合では、2段目のビフェニリレン基またはキシリレン基含有架橋体をフェノール化合物及びメチレン架橋基フェノール樹脂と反応させる際には、硫酸又はパラトルエンスルホン酸を使用することが好ましい。また、反応温度はとくに限定はないが、60〜160℃程度の範囲に設定するのが好ましい。より好ましくは、80〜140℃である。
酸触媒の存在下で縮合反応させた後、未反応のフェノール化合物及び酸触媒を除去することにより、本発明で使用するフェノール樹脂組成物を得ることができる。
フェノール化合物の除去方法は、減圧下あるいは不活性ガスを吹き込みながら熱をかけ、フェノール化合物を蒸留し系外へ除去する方法が一般的である。酸触媒の除去は、水洗などの洗浄による方法が挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、下記一般式(3−1)及び一般式(3−2)で表される化合物(これらを総称して「2核体」という場合がある)の含有割合がエポキシ樹脂に対して50%以下であることが必要であり、47%以下であることが特に好ましく、5〜47%であることがより好ましく、10〜40%であることが特に好ましい。なお、一般式(3−1)及び一般式(3−2)で表される化合物の含有割合は、後述するとおり、ゲル浸透クロマトグラフィーで測定したチャートの面積比から求める。
Figure 0005616234
(式中、Gはグリシジル基を表し、R,Rは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基又はアリール基を表す。)
,Rの炭素数1〜6個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、ターシャリーブチル基等の分岐鎖状アルキル基などが挙げられ、アリール基としては、フェニル基などが挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物において、一般式(3−1)及び一般式(3−2)で表される化合物の含有割合が50%を超えると、エポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度が測定できなくなるほど粘度が高くなる。このため、エポキシ樹脂組成物の取り扱い性が悪くなる。
[エポキシ樹脂組成物の製造]
一般式(1)で示されるエポキシ樹脂組成物の製造方法は、一般式(4)で示されるフェノール樹脂組成物をエピハロヒドリン中で水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下、10℃〜120℃でグリシジルエーテル化することで得ることができる。このグリシジルエーテル化については従来公知の方法が利用でき特に制限されるものではない。
エピハロヒドリンとしてはエピクロルヒドリン、α―メチルエピクロルヒドリン、γ―メチルエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等が使用可能であるが、工業的に入手が容易であり、水酸基との反応性が良好であるエピクロルヒドリンを用いることが好ましい。
エピハロヒドリンの使用量は、特に限定されるものではなく、目的とするエポキシ樹脂の分子量に応じて適宜選択できるが、通常、フェノール樹脂に対して過剰量が使用される。本発明のエポキシ樹脂組成物は低溶融粘度であることが望まれる為、エピクロルヒドリンの使用量は、フェノール樹脂組成物水酸基1モルに対して、3.0〜20モル、好ましくは3.0〜10モルである。
用いるアルカリ金属水酸化物は、固形物でもその水溶液を使用してもよい。水溶液を使用する場合においては、アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加しながら、減圧下、または常圧下において連続的に水とエピハロヒドリンを反応系外に流出させ、水分を除去しエピハロヒドリンは反応系内に連続的に戻す方法でもよい。アルカリ金属水酸化物の使用量は、フェノール樹脂組成物水酸基1モルに対して0.8〜2.0モル、好ましくは0.9〜1.3モルである。
グリシジルエーテル化の際、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行うことが反応進行上好ましい。
また、一般式(4)で示されるフェノール樹脂組成物とエピハロヒドリンの混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩を触媒として添加し、これらの反応によって得られるハロヒドリンエーテル化物にアルカリ金属水酸化物を加えて閉環させる方法でもよい。
反応温度は、特に制限はないが、通常30〜90℃であり、好ましくは35〜80℃である。
反応時間は、反応温度にも影響されるが、通常0.5〜10時間であり、好ましくは1〜8時間である。
これらのエポキシ化反応の反応物を水洗後、または水洗無しに加熱減圧下でエピハロヒドリンや溶媒等を除去する。
また、加水分解性塩素を低減させるために、回収された粗エポキシ樹脂組成物をトルエンやメチルイブチルケトン等の溶剤に溶解し、アルカリ金属水酸化物の水溶液を添加し反応させることで閉環を確実なものにすることが出来る。
反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に加熱減圧下で溶剤を留去することにより、本発明の一般式(1)で示されるエポキシ樹脂組成物が得られる。
本発明のエポキシ樹脂組成物には、硬化剤及び硬化促進剤を添加することができる。硬化剤の添加量は、エポキシ樹脂100重量部に対して、5〜40重量部であることが好ましく、5〜20重量部であることがより好ましい。硬化促進剤の添加量は、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.01〜10重量部であることが好ましく、0.01〜5重量部であることがより好ましい。
以下、硬化剤及び硬化促進剤を記載する
[硬化剤]
使用する硬化剤としては例えばフェノール系化合物、アミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物等が挙げられる。
使用されうる具体的な硬化剤としては、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポリアルキレングリコールポリアミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン等のアミン系硬化剤、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等のアミド系硬化剤、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールA型ノボラック樹脂、ビスフェノールF型ノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニル変性フェノールアラルキル樹脂、フェノールトリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂等を始めとするフェノール樹脂系硬化剤、及びこれらの変性物、イミダゾ−ル、BF3−アミン錯体、並びにグアニジン誘導体などが挙げられるが特にこれらに限定されうるものではない。
[硬化促進剤]
硬化促進剤としては、エポキシ樹脂組成物をフェノール系硬化剤で硬化させるための公知の硬化促進剤を用いることが出来る。このような硬化促進剤としては例えば有機ホスフィン化合物およびそのボロン塩、3級アミン、4級アンモニウム塩、イミダゾール類及びそのテトラフェニルボロン塩などを挙げることができるが、この中でも、硬化性や耐湿性の点から、トリフェニルホスフィン及び1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(DBU)が好ましい。また、より高流動性にするためには、加熱により活性が発現する熱潜在性の硬化促進剤がより好ましく、テトラフェニルホスフォニウム・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルホスフォニウム誘導体が好ましい。
[その他添加剤]
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて、無機充填剤、離型剤、着色剤、難燃剤、低応力剤等を、添加または予め反応して用いることができる。とくに半導体封止用に使用する場合は、無機充填剤の添加は必須である.このような無機充填剤の例として、非晶性シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、ガラス、珪酸カルシウム、石膏、炭酸カルシウム、マグネサイト、クレー、タルク、マイカ、マグネシア、硫酸バリウムなどを挙げることができるが、とくに非晶性シリカ、結晶性シリカなどが好ましい.これら添加剤の使用量は、従来の半導体封止用エポキシ樹脂組成物における使用量と同様でよい。
[エポキシ樹脂組成物の硬化物]
本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化物とすることができる。エポキシ樹脂組成物の硬化物は本発明のエポキシ樹脂組成物と、硬化剤としてのフェノール樹脂組成物と、硬化促進剤とを混合し、その混合物を100〜250℃の温度範囲で硬化させることにより得られる。
また、本発明のエポキシ樹脂組成物を100〜250℃の温度範囲で硬化させることにより硬化物を得ることもできる。
以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説明する。尚、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また、本発明で得られた樹脂組成物の評価方法を以下に示す。
(1) エポキシ当量
JIS K−7236に準拠した方法で測定した。
(2) 150℃溶融粘度:ICI溶融粘度計を用い、150℃でのエポキシ樹脂組成物の溶融粘度を測定した。
ICI粘度の測定方法は以下の通りである。
ICIコーンプレート粘度計 MODEL CV−1S TOA工業(株)
ICI粘度計のプレート温度を150℃に設定し、試料を所定量、秤量した。
プレート部に秤量した樹脂組成物を置き、上部よりコーンで押えつけ、90sec放置する。コーンを回転させて、そのトルク値をICI粘度として読み取った。
(3)ゲルタイム
エポキシ樹脂組成物とフェノール樹脂組成物とを1:1の当量になるように試験管に仕込み、さらにTPPをエポキシに対して0.12wt%になるよう計量し、試験管に仕込んだ。
湯温を150℃、175℃に設定したゲルタイマー(東芝社製時間計 SF0−304M)に試験管を設置し、SUS攪拌棒を使い、1秒間に1回転の攪拌を行った。
はじめは粘度が低く液状であるが、一定時間が経過すると、樹脂組成物の粘度が急激に上昇し、ゲル状となる。この時間をゲルタイムとした。この時間が速いほど、硬化性が良好という指標になる。
(4)吸水率
各組成物を150℃×5Hr.+180℃×3Hr.にて注型し、下記サイズに硬化させて、試料を作成した。
サイズ;(φ50±1)×(3±0.2)(径×厚;mm)
前記試料の表面をクロスで良く拭き取り、試料の重量を測定した。
前記試料を100mlの瓶に入れ、純水80mlを加えた。
前記瓶を熱風循環式乾燥器中にて、95℃×24Hr.放置した。
前記瓶を熱風循環式乾燥器より取り出し、低温恒温水槽に浸けて25℃に冷却した。
冷却後、表面に付着した水分を良く拭き取り重量を測定した。
次式を用いて、吸水率を求めた。
吸水率[%]=((B−A)/A)×100
A:吸水前重量[g]
B:吸水後重量[g]
(5)Tg(ガラス転位温度)
各組成物を150℃×5Hr.+180℃×3Hr.にて注型、硬化させ、下記サイズにカットして、試料を作成した。
サイズ;(50±1)×(40±1)×(100±1)(縦×横×高;mm)
前記試料を熱機械分析装置(TMA−60(SHIMADZU製))にセットし、N雰囲気下にて測定した。
測定は、昇温速度=5℃/min.で350℃まで測定し、変曲点の温度を求めガラス転位温度(Tg)とした。
(6)強度
JIS K 7171に準じて測定した。
(7)スパイラルフロー
低圧トランスファー成形機を用いて、EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型に、金型温度175℃、注入圧力6.8MPa、保圧時間120秒の条件でEMC組成物を注入し、流動長を測定した。
(8)難燃性(UL−94)
UL−94に準じて測定した。
以下に詳細な合成例を示す。
[フェノール樹脂組成物の合成]
合成例1
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール564g(6.00モル)、4,4’−ジ(メトキシメチル)ビフェニル(以下、4,4’−BMMBと略記する。)202.60g(0.84モル)、42%ホルマリン水溶液40.0g(0.56モル)、50%硫酸水溶液0.28gを仕込み、100℃で3時間反応させた。
その後、反応温度を125℃に保ちながら2時間反応させその後165℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより330gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は39mPa・s、アセチル化法によるOH当量は166g/eqであった。
合成例2
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール470g(5.00モル)、4,4’−BMMB 233.44g(0.96モル)、42%ホルマリン水溶液45.71g(0.64モル)、50%硫酸水溶液0.26gを仕込み、100℃で3時間反応させた。
その後、反応温度を125℃に保ちながら2時間反応させその後165℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより360gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は70mPa・s、アセチル化法によるOH当量は164g/eqであった。
合成例3
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール470g(5.00モル)、4,4’−BMMB 288.10g(1.19モル)、42%ホルマリン水溶液56.43g(0.79モル)、50%硫酸水溶液0.29gを仕込み、100℃で3時間反応させた。
その後、反応温度を125℃に保ちながら2時間反応させその後165℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより450gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は75mPa・s、アセチル化法によるOH当量は171g/eqであった。
合成例4
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール404.2g(4.30モル)、4,4’−ジ(クロロメチル)ビフェニル(以下、4,4’−BCMBと略記する。)150.7g(0.60モル)を仕込み、100℃で3時間反応させ、その後42%ホルマリン水溶液28.57g(0.40モル)を添加し、その後100℃で3時間反応させた。その間、生成する塩酸を留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより251gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は40mPa・s、アセチル化法によるOH当量は166g/eqであった。
合成例5
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール470g(5.00モル)、4,4’−BMMB 302.5g(1.25モル)、50%硫酸水溶液0.28gを仕込み、反応温度を125℃に保ちながら2時間反応させその後165℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより380gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は115mPa・s、アセチル化法によるOH当量は202g/eqであった。
合成例6
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール470g(5.00モル)、4,4’−BMMB 389.1g(1.61モル)、50%硫酸水溶液0.28gを仕込み、反応温度を125℃に保ちながら2時間反応させその後165℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより470gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は130mPa・s、アセチル化法によるOH当量は208g/eqであった。
合成例7
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール274.5g(2.92モル)、4,4’−BMMB 290.4g(1.23モル)、42%ホルマリン水溶液57.14g(0.82モル)、50%硫酸水溶液0.22gを仕込み、100℃で3時間反応させた。
その後、反応温度を125℃に保ちながら2時間反応させその後165℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより370gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は90mPa・s、アセチル化法によるOH当量は188g/eqであった。
合成例8
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール685g(7.27モル)、4,4’−BMMB 151.15g(0.62モル)、42%ホルマリン水溶液29.7g(0.4モル)、50%硫酸水溶液0.34gを仕込み、100℃で3時間反応させた。
その後、反応温度を125℃に保ちながら2時間反応させその後165℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより250gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は40mPa・s、アセチル化法によるOH当量は164g/eqであった。
合成例9
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール141g(1.5モル)、4,4’−BMMB 248.6g(1.03モル)、50%硫酸水溶液0.16gを仕込み、反応温度を125℃に保ちながら2時間反応させその後165℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。反応終了後、得られた反応溶液を冷却し、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより280gのフェノール樹脂組成物を得た。
得られたフェノール樹脂組成物のICI粘度は150℃で測定不可能、アセチル化法によるOH当量は240g/eqであった。
合成例1〜9で得られたフェノール樹脂組成物の合成条件および物性値を表1にまとめて示した。なお、フェノール樹脂組成物中の一般式(5−1)及び(5−2)の化合物の含有量(%)は、上記数平均分子量の測定方法で得られたチャートのフェノール樹脂(すなわち、添加物を除いたもの)の全ピーク面積中の一般式(5−1)及び(5−2)の化合物に相当するピーク面積の割合から求めた。
合成例10
撹拌装置、コンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応釜に、フェノール470.00g(5.00モル)、1,4−ジ(メトキシメチル)ベンゼン(以下1,4−PXDMと略記する) 276.67g(1.67モル)、50%硫酸水溶液0.33gを仕込み、130℃で1時間反応させた。
その後、反応温度を160℃に昇温し、3時間反応を行った。その間、生成するメタノールを留去した。その後80℃まで冷却し、42%ホルマリン水溶液83.44g(1.17モル)を滴下投入した。投入後100℃に昇温し、1時間反応を行った。反応終了後、水洗を3回行った。油層を分離し、減圧蒸留により未反応フェノールを留去することにより430gのフェノール樹脂を得た。
〔エポキシ樹脂組成物の製造〕
合成例1〜10で得られたフェノール樹脂組成物を用いて、実施例1〜6及び比較例1〜5のエポキシ樹脂組成物を合成した。エポキシ樹脂組成物について、数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を以下の方法で測定した。
ゲル浸透クロマトグラフィー(HCL−8220(東ソー社製)を用いて、下記の条件で標準物質を測定した結果を用いて検量線を作成し、各樹脂組成物のポリスチレン換算数平均分子量(Mn)と、重量平均分子量(Mw)とを求めた。
カラム:
TSK−GEL Hタイプ
G2000H×L 4本
G3000H×L 1本
G4000H×L 1本
を直列につないで使用した。
カラム圧力:13.5MPa
溶解液:テトラヒドロフラン(THF)
フローレート:1ml/min.
測定温度:40℃
検出器:スペクトロフォトメーター(UV−8020)
RANGE:2.56 WAVE LENGTH 254nm & RI
また、エポキシ樹脂組成物中の一般式(3−1)及び(3−2)の化合物(2核体)の含有量(%)は、上記数平均分子量の測定方法で得られたチャートのエポキシ樹脂(すなわち、添加物を除いたもの)の全ピーク面積中の一般式(3−1)及び(3−2)の化合物に相当するピーク面積の割合から求めた。
実施例1
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例1で得られたフェノール樹脂組成物298.8g(1.80モル)、エピクロルヒドリン999.0g(10.80モル)、メタノール93.75gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム75g(1.80モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを480g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液28.80g(0.18モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで382gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は34mPa・sであり、エポキシ当量は233g/eqであった。得られたエポキシ樹脂組成物のMn及びMwは、それぞれ、682及び835であった。
実施例2
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例2で得られたフェノール樹脂組成物278.8g(1.70モル)、エピクロルヒドリン943.5g(10.20モル)、メタノール88.54gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム70.83g(1.70モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを450g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液27.20g(0.17モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで364gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は56mPa・sであり、エポキシ当量は239g/eqであった。得られたエポキシ樹脂組成物のMn及びMwは、それぞれ、775及び1017であった。
実施例3
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例3で得られたフェノール樹脂組成物290.7g(1.70モル)、エピクロルヒドリン943.5g(10.20モル)、メタノール88.54gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム70.83g(1.70モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを450g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液27.20g(0.17モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで380gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は64mPa・sであり、エポキシ当量は244g/eqであった。得られたエポキシ樹脂組成物のMn及びMwは、それぞれ、873及び1274であった。
実施例4
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例4で得られたフェノール樹脂組成物232.4g(1.40モル)、エピクロルヒドリン777.0g(8.40モル)、メタノール72.92gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム58.33g(1.40モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを373g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液22.40g(0.14モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで290gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は33mPa・sであり、エポキシ当量は233g/eqであった。
実施例5
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例7で得られたフェノール樹脂組成物282g(1.5モル)、エピクロルヒドリン832.5g(9.0モル)、メタノール78.13gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム62.5g(1.5モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを500g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液24.0g(0.1モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで340gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は82mPa・sであり、エポキシ当量は250g/eqであった。
実施例6
撹拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例10で得られたフェノール樹脂272g(2.0モル)、エピクロルヒドリン1110g(12.0モル)、メタノール88.00gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム83.33g(2.0モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを480g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液32.0g(0.2モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで340gのエポキシ樹脂を得た。
比較例1
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例5で得られたフェノール樹脂組成物303.0g(1.50モル)、エピクロルヒドリン832.5g(9.0モル)、メタノール78.13gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム62.50g(1.50モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを460g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液24.00g(0.15モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで380gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は100mPa・sであり、エポキシ当量は273g/eqであった。得られたエポキシ樹脂組成物のMn及びMwは、それぞれ、732及び940であった。
比較例2
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例6で得られたフェノール樹脂組成物312.0g(1.50モル)、エピクロルヒドリン832.5g(9.0モル)、メタノール78.13gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム62.50g(1.50モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを460g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液24.00g(0.15モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで380gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は103mPa・sであり、エポキシ当量は276g/eqであった。得られたエポキシ樹脂組成物のMn及びMwは、それぞれ、822及び1152であった。
比較例3
エポキシ樹脂として、オルソクレゾールとホルマリンから合成された市販のフェノール樹脂をエポキシ化したエポキシ樹脂(EOCN−1020−55:日本化薬株式会社製)を用いた。
比較例4
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例8で得られたフェノール樹脂組成物278.8g(1.70モル)、エピクロルヒドリン943.5g(10.20モル)、メタノール88.54gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム70.83g(1.70モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを450g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液27.20g(0.17モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで360gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は30mPa・sであり、エポキシ当量は230g/eqであった。
比較例5
攪拌装置、及びコンデンサー、及び窒素ガス導入管を備えたガラス製反応容器に、合成例9で得られたフェノール樹脂組成物240g(1.0モル)、エピクロルヒドリン555g(6.0モル)、メタノール78.13gを仕込み、均一に溶解させた。50℃で固形の96%水酸化ナトリウム41.7g(1.0モル)を90分かけて分割投入した。その後50℃で2時間反応させ、70℃昇温後さらに2時間反応を継続した。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを減圧下において除去した。
釜残にメチルイソブチルケトンを500g投入し溶解させた。25%水酸化ナトリウム水溶液16.0g(0.1モル)を添加し70℃で1時間反応させた。反応終了後、水層が中性になるまで水洗処理を5回繰り返した。加熱減圧下メチルイソブチルケトンを留去することで300gのエポキシ樹脂組成物を得た。
得られたエポキシ樹脂組成物の150℃におけるICI粘度は測定不可能であり、エポキシ当量は320g/eqであった。
実施例1〜および比較例1〜5のエポキシ樹脂組成物の物性値、および以下に示した方法で得られたエポキシ樹脂組成物の硬化物1の配合割合と硬化物1の特性を表2にまとめて示した。
[硬化物1の調製]
実施例1〜6および比較例1〜5のエポキシ樹脂組成物、および、硬化剤として明和化成株式会社製HF−3M(水酸基当量107g/eq)の汎用フェノールノボラック樹脂、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPPと略記することもある。)を使用した。
具体的には、上記エポキシ樹脂組成物および上記硬化剤を、フェノール水酸基当量とエポキシ当量比が1:1となるように配合し、TPP触媒は、該配合のエポキシ樹脂組成物重量に対して0.15wt%仕込んだ。これらを、150℃に加熱して溶融混合し、真空脱泡した後に150℃の金型(厚さ4mm)に注型し、150℃、5時間で硬化させた後、さらに180℃、8時間かけて硬化して成形体を試作した。
得られた成形体(硬化物)の各種物性の試験方法は前記の通りである。
〔硬化物2の調製〕
実施例1〜6および比較例1〜5のエポキシ樹脂組成物の物性値、および以下に示した方法で得られたエポキシ樹脂組成物の硬化物2の配合割合と硬化物2の特性を表3にまとめて示した。
実施例1〜6および比較例1〜5のエポキシ樹脂組成物、硬化剤として明和化成株式会社製HF−3M(水酸基当量107g/eq)の汎用フェノールノボラック樹脂、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPPと略記することもある。)、充填剤として(株)龍森製シリカ(MSR−2212)を使用して、以下の方法で、EMC(Epoxy Moldering Compoundを合成した。
実施例1〜6および比較例1〜5のエポキシ樹脂組成物および上記硬化剤を、フェノール水酸基当量とエポキシ当量比が1:1となるように配合し、TPP触媒は、該配合のエポキシ樹脂組成物重量に対して2.3wt%仕込んだ。これに83wt%になるように充填剤を加え、これらを、100℃〜110℃の条件で2軸ニーダで混練後粉砕しEMC粉体を調整した。
得られたEMC粉体を用いてタブレットを作成し、スパイラルフロー測定を行った。
また、トランスファー成形機にて上記のEMC粉体を用いて試験片を作成し、180℃ 8hrのポストキュアを行い、吸水率、強度、難燃評価用のテストピースを得た。
Figure 0005616234

Figure 0005616234

Figure 0005616234
上記表2及び表3において、「%/EP」は、エポキシ樹脂組成物に対する重量%を示す。
上記表2及び表3中、比較例5の150℃でのICI粘度は、各樹脂組成物の粘度が高すぎて、測定できなかった。
本発明の実施例で得られたエポキシ樹脂組成物は、高ガラス転移温度、低吸湿性、高密着性、耐熱性、速硬化、及び難燃性を維持しつつ、低溶融粘度を有するエポキシ樹脂組成物であることが明らかとなった。
本発明によれば、硬化物が高ガラス転移温度、低吸湿性、高密着性、耐熱性、速硬化、及び難燃性を維持しつつ、低溶融粘度を有するエポキシ樹脂組成物が提供できる。

Claims (8)

  1. 下記一般式(1):
    Figure 0005616234

    (式中、Rは下記一般式(2−1)及び(2−2):
    Figure 0005616234

    で示されるビフェニリレン基及びキシリレン基から選ばれる少なくとも一つの架橋基を表し、R、R及びRは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、炭素数1〜6個のアルキル基、又はアリール基であり、p、q、rはそれぞれ0〜2の整数である。また、mおよびnは、正の数値であり、Gはグリシジル基を表す。)の成分を含有し、下記一般式(3−1)及び(3−2):
    Figure 0005616234

    (式中、Gはグリシジル基を表し、R,Rは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基又はアリール基を表す。)で表される化合物の含有割合が50%以下であり、
    150℃における溶融粘度が5mPa・s以上100mPa・s未満である、エポキシ樹脂組成物。
  2. m/nが0.04〜20である、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  3. Rが少なくともビフェニリレン架橋基を含有する請求項1または2に記載のエポキシ樹脂組成物。
  4. 該ビフェニリレン架橋基が4,4‘−ビフェニリレン架橋基を含有する請求項3に記載のエポキシ樹脂組成物。
  5. さらに、硬化剤、必要により硬化促進剤を含有する請求項1〜4のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物。
  6. 請求項1〜5のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
  7. 下記一般式(4):
    Figure 0005616234

    (式中、Rは下記一般式(2−1)及び(2−2):
    Figure 0005616234

    で示されるビフェニリレン基及びキシリレン基から選ばれる少なくとも一つの架橋基を表し、R、R及びRは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、炭素数1〜6個のアルキル基、又はアリール基であり、p、q、rはそれぞれ0〜2の整数である。また、mおよびnは、正の数値を表す。)の成分を含有し、下記一般式(5−1)及び(5−2):
    Figure 0005616234

    (式中、R,Rは同一でも異なっていてもよく、それぞれ、水素原子、炭素数1から6個のアルキル基又はアリール基を表す。)で表される化合物の含有割合が50%以下であるフェノール樹脂組成物と、エピハロヒドリンとをアルカリ金属水酸化物の存在下において反応させることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物の製造方法。
  8. フェノール樹脂組成物が、フェノール化合物とホルムアルデヒドと、下記一般式(6−1)及び(6−2):。
    Figure 0005616234

    (ここで、式中、Yはハロゲン原子、ヒドロキシル基又は炭素原子数1〜6のアルコキシル基を表す。)で表される化合物から選択した1種以上の架橋体とを反応させて得られることを特徴とする請求項7に記載のエポキシ樹脂組成物の製造方法
JP2010548546A 2009-01-30 2010-01-28 エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法およびその硬化物 Active JP5616234B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010548546A JP5616234B2 (ja) 2009-01-30 2010-01-28 エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法およびその硬化物

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009019185 2009-01-30
JP2009019185 2009-01-30
JP2010548546A JP5616234B2 (ja) 2009-01-30 2010-01-28 エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法およびその硬化物
PCT/JP2010/051105 WO2010087393A1 (ja) 2009-01-30 2010-01-28 エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法およびその硬化物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2010087393A1 JPWO2010087393A1 (ja) 2012-08-02
JP5616234B2 true JP5616234B2 (ja) 2014-10-29

Family

ID=42395651

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010548546A Active JP5616234B2 (ja) 2009-01-30 2010-01-28 エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法およびその硬化物

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5616234B2 (ja)
KR (1) KR101609014B1 (ja)
CN (1) CN102300899B (ja)
TW (1) TWI478955B (ja)
WO (1) WO2010087393A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016194034A1 (ja) * 2015-05-29 2016-12-08 住友ベークライト株式会社 封止用樹脂組成物、半導体装置、および構造体

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5515583B2 (ja) * 2009-10-02 2014-06-11 宇部興産株式会社 フェノール樹脂及びエポキシ樹脂並びにエポキシ樹脂硬化物
TWI544011B (zh) * 2013-05-17 2016-08-01 明和化成股份有限公司 含磷之酚樹脂 、其製造方法及其用途
WO2023162693A1 (ja) * 2022-02-25 2023-08-31 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 エポキシ樹脂、多価ヒドロキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、及びエポキシ樹脂硬化物並びに多価ヒドロキシ樹脂の製造方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08120039A (ja) * 1994-10-20 1996-05-14 Mitsui Toatsu Chem Inc ベンジル化ポリフェノール、そのエポキシ樹脂、それらの製造方法および用途
JP2000034393A (ja) * 1998-05-15 2000-02-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2002317102A (ja) * 2001-04-20 2002-10-31 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2006176555A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
WO2007007827A1 (ja) * 2005-07-13 2007-01-18 Ube Industries, Ltd. ビフェニレン架橋フェノールノボラック樹脂ならびにその用途
WO2007026553A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Ube Industries, Ltd. 低軟化点フェノールノボラック樹脂、その製造方法およびそれを用いたエポキシ樹脂硬化物
JP2008156553A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 Ube Ind Ltd 低溶融粘度フェノールノボラック樹脂、その製造方法ならびにその用途
JP2008189708A (ja) * 2007-02-01 2008-08-21 Ube Ind Ltd 低溶融粘度フェノールノボラック樹脂、その製造方法およびそれを用いたエポキシ樹脂硬化物

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW386098B (en) * 1996-12-23 2000-04-01 An Epoxy Resin Which Is Obtain Epoxy resin obtained by reacting a novolak type resin with epihalohydrin
JP5319289B2 (ja) * 2006-10-11 2013-10-16 日本化薬株式会社 エポキシ樹脂及びその製造方法、並びにそれを用いたエポキシ樹脂組成物及びその硬化物

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08120039A (ja) * 1994-10-20 1996-05-14 Mitsui Toatsu Chem Inc ベンジル化ポリフェノール、そのエポキシ樹脂、それらの製造方法および用途
JP2000034393A (ja) * 1998-05-15 2000-02-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2002317102A (ja) * 2001-04-20 2002-10-31 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2006176555A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
WO2007007827A1 (ja) * 2005-07-13 2007-01-18 Ube Industries, Ltd. ビフェニレン架橋フェノールノボラック樹脂ならびにその用途
WO2007026553A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Ube Industries, Ltd. 低軟化点フェノールノボラック樹脂、その製造方法およびそれを用いたエポキシ樹脂硬化物
JP2008156553A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 Ube Ind Ltd 低溶融粘度フェノールノボラック樹脂、その製造方法ならびにその用途
JP2008189708A (ja) * 2007-02-01 2008-08-21 Ube Ind Ltd 低溶融粘度フェノールノボラック樹脂、その製造方法およびそれを用いたエポキシ樹脂硬化物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016194034A1 (ja) * 2015-05-29 2016-12-08 住友ベークライト株式会社 封止用樹脂組成物、半導体装置、および構造体
KR20180013847A (ko) * 2015-05-29 2018-02-07 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 봉지용 수지 조성물, 반도체 장치, 및 구조체
KR102367125B1 (ko) 2015-05-29 2022-02-25 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 봉지용 수지 조성물, 반도체 장치, 및 구조체

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2010087393A1 (ja) 2012-08-02
CN102300899B (zh) 2013-08-07
TW201035151A (en) 2010-10-01
TWI478955B (zh) 2015-04-01
CN102300899A (zh) 2011-12-28
WO2010087393A1 (ja) 2010-08-05
KR20110127166A (ko) 2011-11-24
KR101609014B1 (ko) 2016-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5754731B2 (ja) エポキシ樹脂、エポキシ樹脂の製造方法、及びその使用
JP5228328B2 (ja) 低溶融粘度フェノールノボラック樹脂、その製造方法およびそれを用いたエポキシ樹脂硬化物
JP5413488B2 (ja) フェノールノボラック樹脂、その製造方法、それを用いたエポキシ樹脂組成物および硬化物
JP6091295B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
CN103897143B (zh) 环氧树脂、环氧树脂的制造方法及其使用
JP5170493B2 (ja) フェノール系重合体、その製法及びその用途
KR101408535B1 (ko) 변성 액상 에폭시 수지, 및 그것을 이용한 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물
JP5616234B2 (ja) エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物の製造方法およびその硬化物
JP4451129B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP5734603B2 (ja) フェノール性樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造方法、エポキシ樹脂組成物及び硬化物
JP4210216B2 (ja) フェノール樹脂、エポキシ樹脂、その製造方法及びエポキシ樹脂組成物
JP4493748B2 (ja) エポキシ樹脂、その製造方法、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物
JP3933763B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び電子部品
JP3813105B2 (ja) 硬化性に優れたエポキシ樹脂組成物、その硬化物およびその用途
JP3940945B2 (ja) 電子部品封止用エポキシ樹脂組成物
JP4334446B2 (ja) 半導体封止材料
JP2002128868A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP5515583B2 (ja) フェノール樹脂及びエポキシ樹脂並びにエポキシ樹脂硬化物
JP5390491B2 (ja) エポキシ樹脂、その製造方法、エポキシ樹脂組成物及び硬化物
JP5272963B2 (ja) エポキシ樹脂及びその製造方法
JP4086630B2 (ja) 多価フェノール類化合物、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物
JP4483463B2 (ja) エポキシ樹脂、その製造方法、エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
TW202244099A (zh) 環氧樹脂、其製造方法、使用該環氧樹脂之環氧樹脂組成物及硬化物
JPH06145300A (ja) 電子部品封止用エポキシ樹脂組成物
JP2003277469A (ja) エポキシ樹脂、その製法、エポキシ樹脂組成物及び半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140128

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140328

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140507

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140902

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140911

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5616234

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250