JP2000216421A - 半導体装置および当該半導体装置を使用した光起電力素子モジュ―ル、太陽電池モジュ―ル、建材 - Google Patents
半導体装置および当該半導体装置を使用した光起電力素子モジュ―ル、太陽電池モジュ―ル、建材Info
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- Y02B10/10—Photovoltaic [PV]
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- Roof Covering Using Slabs Or Stiff Sheets (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐腐食性および放熱性に優れるとともに、薄
型である半導体装置を提供する。 【解決手段】 2枚の金属箔102,103間に半導体
チップ101を挟持するとともに、ろう材104を用い
て電気的に接続した半導体装置100において、前記金
属箔102,103の少なくとも一方の少なくとも一面
が露出した状態で、少なくとも前記ろう材部が樹脂モー
ルド105されている。
型である半導体装置を提供する。 【解決手段】 2枚の金属箔102,103間に半導体
チップ101を挟持するとともに、ろう材104を用い
て電気的に接続した半導体装置100において、前記金
属箔102,103の少なくとも一方の少なくとも一面
が露出した状態で、少なくとも前記ろう材部が樹脂モー
ルド105されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置に関
し、特に、薄型であって、耐腐食性と放熱性に優れた半
導体装置に関する。
し、特に、薄型であって、耐腐食性と放熱性に優れた半
導体装置に関する。
【0002】また、本発明は、当該半導体装置をバイパ
スダイオードとして使用した光起電力素子モジュール、
太陽電池モジュール、建材に関する。
スダイオードとして使用した光起電力素子モジュール、
太陽電池モジュール、建材に関する。
【0003】
【従来の技術】近年、CO2の増加による温室効果の影
響で地球の温暖化が生じることが予測され、CO2を排
出しないクリーンなエネルギーの要求がますます高まっ
ている。CO2を排出しないエネルギー源としては、原
子力発電が挙げられるが、放射性廃棄物の問題が解決さ
れておらず、より安全性の高いクリーンなエネルギーが
望まれている。このような状況下において、クリーンな
エネルギーの中でも、特に太陽電池は、そのクリーンさ
と安全性と取扱い易さといった点から非常に注目されて
いる。
響で地球の温暖化が生じることが予測され、CO2を排
出しないクリーンなエネルギーの要求がますます高まっ
ている。CO2を排出しないエネルギー源としては、原
子力発電が挙げられるが、放射性廃棄物の問題が解決さ
れておらず、より安全性の高いクリーンなエネルギーが
望まれている。このような状況下において、クリーンな
エネルギーの中でも、特に太陽電池は、そのクリーンさ
と安全性と取扱い易さといった点から非常に注目されて
いる。
【0004】従来の太陽電池としては、結晶系太陽電
池、アモルファス系太陽電池、化合物半導体太陽電池
等、多種にわたる太陽電池が研究開発されている。これ
らの中でもアモルファスシリコン太陽電池は、変換効率
こそ結晶系の太陽電池に及ばないものの、大面積化が容
易で、かつ光吸収係数が大きく、また薄膜で動作するな
ど、結晶系太陽電池にはない優れた特徴をもっており、
将来を有望視されている太陽電池の1つである。
池、アモルファス系太陽電池、化合物半導体太陽電池
等、多種にわたる太陽電池が研究開発されている。これ
らの中でもアモルファスシリコン太陽電池は、変換効率
こそ結晶系の太陽電池に及ばないものの、大面積化が容
易で、かつ光吸収係数が大きく、また薄膜で動作するな
ど、結晶系太陽電池にはない優れた特徴をもっており、
将来を有望視されている太陽電池の1つである。
【0005】ところで、通常太陽電池を電力の供給源と
してみた場合、1枚の太陽電池セルだけでは出力電圧が
不足している。このため、複数個の太陽電池セルを直列
もしくは並列に接続して使用する必要がある。
してみた場合、1枚の太陽電池セルだけでは出力電圧が
不足している。このため、複数個の太陽電池セルを直列
もしくは並列に接続して使用する必要がある。
【0006】このように複数個のセルを直列接続して動
作させる場合における最大の難点は、建物の影や降雪な
どにより、セルの一部が太陽光から遮られて発電しなく
なった場合、正常に発電している他の素子からの総発生
電圧が逆方向電圧という形で直接印加されることであ
る。そして、このような逆方向電圧が素子の耐圧を超え
る値になった場合には、素子の破壊が起きる可能性があ
る。そこで、このような素子の破壊を避けるために、直
列接続した各素子ごとに、素子と並列で逆の方向にダイ
オードを結線する必要がある。このようなダイオード
は、一般的にバイパスダイオードと呼ばれている。
作させる場合における最大の難点は、建物の影や降雪な
どにより、セルの一部が太陽光から遮られて発電しなく
なった場合、正常に発電している他の素子からの総発生
電圧が逆方向電圧という形で直接印加されることであ
る。そして、このような逆方向電圧が素子の耐圧を超え
る値になった場合には、素子の破壊が起きる可能性があ
る。そこで、このような素子の破壊を避けるために、直
列接続した各素子ごとに、素子と並列で逆の方向にダイ
オードを結線する必要がある。このようなダイオード
は、一般的にバイパスダイオードと呼ばれている。
【0007】バイパスダイオードを太陽電池に応用した
技術は、例えば特開平5−291602号公報や、特開
平9−82865号公報で開示されている。これらの公
報に開示された技術は、チップダイオードをモールドパ
ッケージ樹脂無しで使用する構成(以下モールドレスダ
イオードと記す)となっている。このようなモールドレ
スダイオードは、その厚みが300〜600μm程度と
非常に薄く、モジュールの平面性を保って、外観性を良
好とすることができるとともに、モジュールの周辺を充
填する樹脂を薄くすることにより、樹脂コストを低減す
ることができるという特徴がある。
技術は、例えば特開平5−291602号公報や、特開
平9−82865号公報で開示されている。これらの公
報に開示された技術は、チップダイオードをモールドパ
ッケージ樹脂無しで使用する構成(以下モールドレスダ
イオードと記す)となっている。このようなモールドレ
スダイオードは、その厚みが300〜600μm程度と
非常に薄く、モジュールの平面性を保って、外観性を良
好とすることができるとともに、モジュールの周辺を充
填する樹脂を薄くすることにより、樹脂コストを低減す
ることができるという特徴がある。
【0008】図2に、このようなバイパスダイオードを
使用した従来の太陽電池モジュールの一例を示す。図2
(a)は、ダイオードの概略図、図2(b)はダイオー
ドが接続された太陽電池モジュールの概略図である。
使用した従来の太陽電池モジュールの一例を示す。図2
(a)は、ダイオードの概略図、図2(b)はダイオー
ドが接続された太陽電池モジュールの概略図である。
【0009】図2(a)に示すように、ダイオード(半
導体装置)200は、半導体チップ201、金属箔20
2,203、ろう材204から構成されており、半導体
ップ201が、ろう材204により金属箔202,20
3と接続されている。
導体装置)200は、半導体チップ201、金属箔20
2,203、ろう材204から構成されており、半導体
ップ201が、ろう材204により金属箔202,20
3と接続されている。
【0010】また、図2(b)に示すように、このダイ
オード200を組み込んだ太陽電池205は、封止用の
樹脂206により封止されている。このダイオード20
0は、約400〜500μm程度の厚みとすることが可
能なため、樹脂206の厚みを薄くすることでき、さら
には太陽電池モジュール自体の厚みも薄くすることがで
きる。このような樹脂206としては、透明性、耐候
性、高接着性等の特性が要求され、これを満たす材料と
して、例えばEVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)
が使用されている。
オード200を組み込んだ太陽電池205は、封止用の
樹脂206により封止されている。このダイオード20
0は、約400〜500μm程度の厚みとすることが可
能なため、樹脂206の厚みを薄くすることでき、さら
には太陽電池モジュール自体の厚みも薄くすることがで
きる。このような樹脂206としては、透明性、耐候
性、高接着性等の特性が要求され、これを満たす材料と
して、例えばEVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)
が使用されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来例のように、モールドレス半導体装置(ダイオー
ド)を太陽電池モジュールに組み込んだ構成とした場合
には、以下に述べるような問題点があった。
た従来例のように、モールドレス半導体装置(ダイオー
ド)を太陽電池モジュールに組み込んだ構成とした場合
には、以下に述べるような問題点があった。
【0012】第1に、太陽電池モジュール全体を被覆し
ている樹脂は、通常水分に対するバリア性がほとんどな
く、高温高湿環境下で水分の浸透性が高い。したがっ
て、モールドレス半導体装置のろう材部分が徐々に腐食
され、やがてはオープン故障に至り、長期間安定して使
用することが不可能である。より具体的には、通常半導
体装置に使用されているろう材は鉛比率が高く、水分の
存在で簡単に水酸化鉛を作成して、ろう材が徐々に絶縁
化してしまう。
ている樹脂は、通常水分に対するバリア性がほとんどな
く、高温高湿環境下で水分の浸透性が高い。したがっ
て、モールドレス半導体装置のろう材部分が徐々に腐食
され、やがてはオープン故障に至り、長期間安定して使
用することが不可能である。より具体的には、通常半導
体装置に使用されているろう材は鉛比率が高く、水分の
存在で簡単に水酸化鉛を作成して、ろう材が徐々に絶縁
化してしまう。
【0013】第2に、被覆樹脂としてEVA樹脂を使用
した場合には、さらに腐食が顕著である。すなわち、E
VA樹脂中に含有される酢酸残基が水分の存在下で加水
分解を起こして酢酸が遊離し、この酢酸がろう材と接触
した場合には、簡単に酢酸鉛を形成し、上述した第1の
問題点と同様にオープン故障を起こし、長期信頼性を確
保することができない。
した場合には、さらに腐食が顕著である。すなわち、E
VA樹脂中に含有される酢酸残基が水分の存在下で加水
分解を起こして酢酸が遊離し、この酢酸がろう材と接触
した場合には、簡単に酢酸鉛を形成し、上述した第1の
問題点と同様にオープン故障を起こし、長期信頼性を確
保することができない。
【0014】このような腐食の問題を容易に解決するた
めには、その周囲にカバー樹脂を設けたモールドパッケ
ージの半導体装置を使用することができる。
めには、その周囲にカバー樹脂を設けたモールドパッケ
ージの半導体装置を使用することができる。
【0015】図3に、従来のモールドパッケージダイオ
ードの一例の概略構成を示す。
ードの一例の概略構成を示す。
【0016】図3に示すように、ダイオード300は、
半導体チップ301、金属箔302,303、ろう材3
04から構成され、半導体チップ301が、ろう材30
4により金属箔302,303と接続されている。さら
に、半導体チップ301とその周囲の金属箔を全て被覆
するように、モールド樹脂305が形成されている。
半導体チップ301、金属箔302,303、ろう材3
04から構成され、半導体チップ301が、ろう材30
4により金属箔302,303と接続されている。さら
に、半導体チップ301とその周囲の金属箔を全て被覆
するように、モールド樹脂305が形成されている。
【0017】このようなモールドパッケージダイオード
の場合には、ろう材304が腐食成分と直接接触するこ
とがないために、腐食速度がかなり低減され、故障寿命
を延ばすことが可能である。
の場合には、ろう材304が腐食成分と直接接触するこ
とがないために、腐食速度がかなり低減され、故障寿命
を延ばすことが可能である。
【0018】ところが、これらのモールドパッケージダ
イオードを太陽電池のバイパスダイオードとして使用す
る場合には、以下のような新たな問題が生じてしまう。
イオードを太陽電池のバイパスダイオードとして使用す
る場合には、以下のような新たな問題が生じてしまう。
【0019】第1に、太陽電池自体の厚みが300μm
程度であるのに対し、モールドパッケージダイオードは
薄いものでも1mm程度の厚みを有する。その結果、ダ
イオードが配置された部分だけが極端に厚くなり、モジ
ュールの平面性を著しく損なってしまう。平面性を保つ
ためには、周囲の被覆材を厚くする方法が考えられる
が、極端に被覆材のコストが高くなってしまい実用的で
はない。また、アモルファス太陽電池や薄膜結晶太陽電
池のように、薄型でフレキシブル性を有する太陽電池の
場合には、被覆材が厚くなることによって、フレキシブ
ル性を失い、本来の特徴を生かすことができなくなって
しまう。
程度であるのに対し、モールドパッケージダイオードは
薄いものでも1mm程度の厚みを有する。その結果、ダ
イオードが配置された部分だけが極端に厚くなり、モジ
ュールの平面性を著しく損なってしまう。平面性を保つ
ためには、周囲の被覆材を厚くする方法が考えられる
が、極端に被覆材のコストが高くなってしまい実用的で
はない。また、アモルファス太陽電池や薄膜結晶太陽電
池のように、薄型でフレキシブル性を有する太陽電池の
場合には、被覆材が厚くなることによって、フレキシブ
ル性を失い、本来の特徴を生かすことができなくなって
しまう。
【0020】第2に、ダイオードチップ自体がモールド
樹脂で完全に被覆されているために、ダイオードチップ
に電流が流れる際に、ダイオードチップのPNジャンク
ション部で発生した熱の放熱性が非常に悪く、周囲の被
覆材の熱劣化を促進してしまう。放熱性を高めるため
に、太陽電池が金属基板を構成材料としているような場
合には、その金属を放熱フィンとして利用すればよい。
しかし、モールドパッケージダイオードの場合には、チ
ップが必ずモールド樹脂で覆われているために、チップ
近傍を金属基板に接触させることが不可能であり、放熱
性の向上にも限度がある。
樹脂で完全に被覆されているために、ダイオードチップ
に電流が流れる際に、ダイオードチップのPNジャンク
ション部で発生した熱の放熱性が非常に悪く、周囲の被
覆材の熱劣化を促進してしまう。放熱性を高めるため
に、太陽電池が金属基板を構成材料としているような場
合には、その金属を放熱フィンとして利用すればよい。
しかし、モールドパッケージダイオードの場合には、チ
ップが必ずモールド樹脂で覆われているために、チップ
近傍を金属基板に接触させることが不可能であり、放熱
性の向上にも限度がある。
【0021】そこで、本発明は上述した事情に鑑み提案
されたもので、耐腐食性および放熱性に優れるととも
に、薄型である半導体装置を提供することを目的とす
る。
されたもので、耐腐食性および放熱性に優れるととも
に、薄型である半導体装置を提供することを目的とす
る。
【0022】また、本発明の半導体装置を光起電力素子
モジュール内に組み込んだ場合においても、高信頼性を
有する半導体装置を提供することを目的とする。
モジュール内に組み込んだ場合においても、高信頼性を
有する半導体装置を提供することを目的とする。
【0023】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するために鋭意研究開発を重ねた結果、次のような
半導体装置及び光起電力素子モジュールが最良であるこ
とを見出した。
解決するために鋭意研究開発を重ねた結果、次のような
半導体装置及び光起電力素子モジュールが最良であるこ
とを見出した。
【0024】すなわち、本発明の半導体装置は、2枚の
金属箔間に半導体チップを挟持するとともに、ろう材を
用いて電気的に接続した半導体装置において、前記金属
箔の少なくとも一方の少なくとも一面が露出した状態
で、少なくとも前記ろう材部が樹脂モールドされている
ことを特徴とするものである。
金属箔間に半導体チップを挟持するとともに、ろう材を
用いて電気的に接続した半導体装置において、前記金属
箔の少なくとも一方の少なくとも一面が露出した状態
で、少なくとも前記ろう材部が樹脂モールドされている
ことを特徴とするものである。
【0025】このような構成とすることにより、従来の
モールド半導体装置よりもかなり薄型の半導体装置を提
供することができる。また、半導体装置の厚みは、ほと
んど金属箔と半導体チップの厚みとなり、実質上最低限
度の薄型が実現可能である。また、少なくとも半導体チ
ップおよびろう材が樹脂モールドされているので、最も
浸食され易いろう材部の耐腐食性において、従来のモー
ルド半導体装置と少なくとも同等の特性を有することが
できる。
モールド半導体装置よりもかなり薄型の半導体装置を提
供することができる。また、半導体装置の厚みは、ほと
んど金属箔と半導体チップの厚みとなり、実質上最低限
度の薄型が実現可能である。また、少なくとも半導体チ
ップおよびろう材が樹脂モールドされているので、最も
浸食され易いろう材部の耐腐食性において、従来のモー
ルド半導体装置と少なくとも同等の特性を有することが
できる。
【0026】さらに、少なくとも一方の極側の少なくと
も一方の面が露出しているので、露出面を自由に放熱板
に取り付けることができ、チップの発熱を抑制すること
ができると同時に、半導体装置自体の定格電流を向上す
ることができる。
も一方の面が露出しているので、露出面を自由に放熱板
に取り付けることができ、チップの発熱を抑制すること
ができると同時に、半導体装置自体の定格電流を向上す
ることができる。
【0027】したがって、耐腐食性が高く、放熱性が良
好で、しかも薄型である半導体装置を提供することがで
きる。
好で、しかも薄型である半導体装置を提供することがで
きる。
【0028】また、前記半導体装置において、前記半導
体チップがPN接合部を有するとともに、少なくとも露
出した金属箔が前記半導体チップのN側と接続された金
属箔であることが好ましい。
体チップがPN接合部を有するとともに、少なくとも露
出した金属箔が前記半導体チップのN側と接続された金
属箔であることが好ましい。
【0029】このような構成とすることにより、放熱性
をさらに高めることができる。すなわち、電流が流れ込
むN側の金属箔の方が、P側の金属箔よりも発熱が高い
ため、N側を露出しておくことによって、より放熱性を
高めることがでるのである。
をさらに高めることができる。すなわち、電流が流れ込
むN側の金属箔の方が、P側の金属箔よりも発熱が高い
ため、N側を露出しておくことによって、より放熱性を
高めることがでるのである。
【0030】また、前記半導体装置において、前記半導
体チップのN側と接続された一方の金属箔の厚みが、他
方の金属箔よりも厚いことが好ましい。
体チップのN側と接続された一方の金属箔の厚みが、他
方の金属箔よりも厚いことが好ましい。
【0031】このような構成とすることにより、放熱性
をさらに高めることができる。
をさらに高めることができる。
【0032】また、前記半導体装置において、前記半導
体チップのN側と接続された一方の金属箔が、他方の金
属箔よりも大きい面積を有することが好ましい。
体チップのN側と接続された一方の金属箔が、他方の金
属箔よりも大きい面積を有することが好ましい。
【0033】このような構成とすることにより、放熱性
をさらに高めることができる。
をさらに高めることができる。
【0034】また、前記半導体装置において、前記樹脂
モールドに使用する樹脂は、エポキシ系の樹脂であるこ
とが好ましい。
モールドに使用する樹脂は、エポキシ系の樹脂であるこ
とが好ましい。
【0035】このような構成とすることにより、耐湿
性、低吸水性、耐熱性、加工性等さまざまな特性を最も
満足することが可能であり、より耐腐食性の高い半導体
装置を提供することができる。
性、低吸水性、耐熱性、加工性等さまざまな特性を最も
満足することが可能であり、より耐腐食性の高い半導体
装置を提供することができる。
【0036】また、前記半導体装置において、前記樹脂
モールドに使用する樹脂は、エチレンと不飽和脂肪酸エ
ステルとの共重合樹脂からなることが好ましい。
モールドに使用する樹脂は、エチレンと不飽和脂肪酸エ
ステルとの共重合樹脂からなることが好ましい。
【0037】このような構成とすることにより、半導体
装置を太陽電池モジュールのバイパスダイオードとして
使用する場合に、太陽電池モジュール自体に使用してい
る樹脂との相性が良く、樹脂同士の界面での接着力を向
上することができる。
装置を太陽電池モジュールのバイパスダイオードとして
使用する場合に、太陽電池モジュール自体に使用してい
る樹脂との相性が良く、樹脂同士の界面での接着力を向
上することができる。
【0038】本発明の光起電力素子モジュールは、複数
の光起電力素子と、前記半導体装置を有する光起電力素
子モジュールにおいて、金属箔の露出面が、光起電力素
子の電極部材もしくは、光起電力素子同士を電気的に接
続する接続部材に密着した状態で接続されている半導体
装置を使用したことを特徴とするものである。
の光起電力素子と、前記半導体装置を有する光起電力素
子モジュールにおいて、金属箔の露出面が、光起電力素
子の電極部材もしくは、光起電力素子同士を電気的に接
続する接続部材に密着した状態で接続されている半導体
装置を使用したことを特徴とするものである。
【0039】このような構成とすることにより、光起電
力素子自体を放熱フィンとして活用することができ、半
導体装置に電流が流れた際の温度上昇を低減することが
できる。
力素子自体を放熱フィンとして活用することができ、半
導体装置に電流が流れた際の温度上昇を低減することが
できる。
【0040】また、前記光起電力素子モジュールにおい
て、前記半導体装置の半導体チップは、ダイオードであ
り、該半導体装置は、複数の直列接続された光起電力素
子に対して並列に接続されていることが好ましい。
て、前記半導体装置の半導体チップは、ダイオードであ
り、該半導体装置は、複数の直列接続された光起電力素
子に対して並列に接続されていることが好ましい。
【0041】このような構成とすることにより、半導体
装置を光起電力素子モジュールのバイパスダイオードと
して使用することができる。
装置を光起電力素子モジュールのバイパスダイオードと
して使用することができる。
【0042】本発明の太陽電池モジュールは、前記光起
電力素子モジュールが、少なくとも一層以上の樹脂中に
埋設されていることを特徴とするものである。
電力素子モジュールが、少なくとも一層以上の樹脂中に
埋設されていることを特徴とするものである。
【0043】このような構成とすることにより、光起電
力素子モジュールを太陽電池モジュールとして使用する
ことができると同時に、半導体装置が2重の樹脂で被覆
されることになるので、より耐湿性、耐腐食性を高める
ことができる。
力素子モジュールを太陽電池モジュールとして使用する
ことができると同時に、半導体装置が2重の樹脂で被覆
されることになるので、より耐湿性、耐腐食性を高める
ことができる。
【0044】また、前記太陽電池モジュールにおいて、
光起電力素子モジュールが、補強板上に樹脂封止され、
前記半導体装置が光起電力素子と補強板の間に設置され
ていることが好ましい。
光起電力素子モジュールが、補強板上に樹脂封止され、
前記半導体装置が光起電力素子と補強板の間に設置され
ていることが好ましい。
【0045】このような構成とすることにより、半導体
装置が無機材料の間に挟持された構成となるため、水分
や腐食成分が侵入してくる方向が限定され、より耐腐食
性を高めることができる。
装置が無機材料の間に挟持された構成となるため、水分
や腐食成分が侵入してくる方向が限定され、より耐腐食
性を高めることができる。
【0046】本発明の建材は、前記太陽電池モジュール
と、建材本体とが一体構造となっていることを特徴とす
るものである。
と、建材本体とが一体構造となっていることを特徴とす
るものである。
【0047】このような構成とすることにより、酸性
雨、塩害等の気候の影響に対して信頼性の高いモジュー
ルを提供することができる。
雨、塩害等の気候の影響に対して信頼性の高いモジュー
ルを提供することができる。
【0048】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて、本発明の
半導体装置および当該半導体装置を使用した光起電力素
子モジュール、太陽電池モジュール、建材の実施形態を
説明する。
半導体装置および当該半導体装置を使用した光起電力素
子モジュール、太陽電池モジュール、建材の実施形態を
説明する。
【0049】まず、図1に基づいて、本発明の半導体装
置を説明する。
置を説明する。
【0050】図1は、本発明の半導体装置の一例の概略
構成を示すもので、図1(a)は、半導体装置の概略平
面図、図1(b)は、図1(a)におけるAA’断面図
である。
構成を示すもので、図1(a)は、半導体装置の概略平
面図、図1(b)は、図1(a)におけるAA’断面図
である。
【0051】図1(a),(b)に示すように、半導体
装置100は、2枚の金属箔102,103の間に、半
導体チップ101を挟持して、ろう材104によって電
気的に接続することにより構成されている。
装置100は、2枚の金属箔102,103の間に、半
導体チップ101を挟持して、ろう材104によって電
気的に接続することにより構成されている。
【0052】図1に示す例では、半導体チップ101の
P側に金属箔102を、半導体チップ101のN側に金
属箔103を接続している。また、図1中、105はエ
ボキシ樹脂等のモールド樹脂であり、半導体チップ10
1を機械的に保護すると同時に、水分の侵入等を防ぎ、
ろう材104の耐腐食性を向上させる役目を担ってい
る。
P側に金属箔102を、半導体チップ101のN側に金
属箔103を接続している。また、図1中、105はエ
ボキシ樹脂等のモールド樹脂であり、半導体チップ10
1を機械的に保護すると同時に、水分の侵入等を防ぎ、
ろう材104の耐腐食性を向上させる役目を担ってい
る。
【0053】このモールド樹脂105は、図1(b)中
矢印で示すように、必ず少なくとも一方の面が露出した
状態(図1(b)では金属箔103の下側の面が露出し
ている)で形成されており、この面を利用して放熱性を
向上させることができる。
矢印で示すように、必ず少なくとも一方の面が露出した
状態(図1(b)では金属箔103の下側の面が露出し
ている)で形成されており、この面を利用して放熱性を
向上させることができる。
【0054】本発明の半導体チップ101としては、ダ
イオード、トランジスタ、IC、サイリスタ等半導体デ
バイスであれば特に限定なく使用することが可能であ
る。
イオード、トランジスタ、IC、サイリスタ等半導体デ
バイスであれば特に限定なく使用することが可能であ
る。
【0055】半導体チップがダイオードである場合に
は、そのダイオードの種類としては、検波用ダイオー
ド、整流用ダイオード、エサキダイオード、定電圧ダイ
オード、可変容量ダイオード、スイッチングダイオード
等が限定なく適用可能である。また、そのチップ構造と
してもメサ型、プレーナ型等限定なく適用可能である
が、図1に示すような金属箔がほぼ平行に接続されてい
るような場合には、金属箔/チップ間でのショートを防
止するためにメサ型を用いる方が好適である。
は、そのダイオードの種類としては、検波用ダイオー
ド、整流用ダイオード、エサキダイオード、定電圧ダイ
オード、可変容量ダイオード、スイッチングダイオード
等が限定なく適用可能である。また、そのチップ構造と
してもメサ型、プレーナ型等限定なく適用可能である
が、図1に示すような金属箔がほぼ平行に接続されてい
るような場合には、金属箔/チップ間でのショートを防
止するためにメサ型を用いる方が好適である。
【0056】半導体チップ101にろう材104で接続
される金属箔102,103としては、ろう材104と
の接続が可能であって、良好な電気導電性と、小さな熱
抵抗を有する材料が好適に用いられる。例えば、具体的
な材料としては、金、銀、銅、ニッケルが好適である。
電気抵抗を小さくするためには、外部接続端子の厚みが
大きい程好ましいが、外部接続端子が厚すぎると半導体
装置100全体の厚みが厚くなってしまい、本来の薄型
という特徴が失せることから、35〜200ミクロン程
度が好適である。
される金属箔102,103としては、ろう材104と
の接続が可能であって、良好な電気導電性と、小さな熱
抵抗を有する材料が好適に用いられる。例えば、具体的
な材料としては、金、銀、銅、ニッケルが好適である。
電気抵抗を小さくするためには、外部接続端子の厚みが
大きい程好ましいが、外部接続端子が厚すぎると半導体
装置100全体の厚みが厚くなってしまい、本来の薄型
という特徴が失せることから、35〜200ミクロン程
度が好適である。
【0057】次に、図4に基づいて、金属箔が露出した
状態について説明する。
状態について説明する。
【0058】図1に示す例では、半導体チップ101が
PN接合を有しているような場合であって、かつN側と
接続された金属箔103が露出している例を示したが、
本発明の半導体装置は、これに限るものではなく、図4
(a)に示す半導体チップ401のようにP側に接続さ
れた金属箔402が露出していても構わないし、図4
(b)に示す半導体チップ401のようにP側とN側の
双方の金属箔402,403が露出していても何等問題
はない。
PN接合を有しているような場合であって、かつN側と
接続された金属箔103が露出している例を示したが、
本発明の半導体装置は、これに限るものではなく、図4
(a)に示す半導体チップ401のようにP側に接続さ
れた金属箔402が露出していても構わないし、図4
(b)に示す半導体チップ401のようにP側とN側の
双方の金属箔402,403が露出していても何等問題
はない。
【0059】金属箔102,103(図4においては4
02,403)の厚みとしては、両者が同等の厚みを有
するものを用いてもよいが、電流が流れ込む側であるN
側の方がP側より発熱が大きいことから、少なくともN
側に接続された金属箔を露出しておくことがより好適で
ある。
02,403)の厚みとしては、両者が同等の厚みを有
するものを用いてもよいが、電流が流れ込む側であるN
側の方がP側より発熱が大きいことから、少なくともN
側に接続された金属箔を露出しておくことがより好適で
ある。
【0060】金属箔102,103の形状についても何
等限定はないが、上記したと同様に放熱性を良好とする
意味合いから、N側に接続する金属箔を厚くしておく方
が好ましいし、面積的にも大きくしておく方が好まし
い。
等限定はないが、上記したと同様に放熱性を良好とする
意味合いから、N側に接続する金属箔を厚くしておく方
が好ましいし、面積的にも大きくしておく方が好まし
い。
【0061】また、金属箔102,103は、1種の材
料から構成されていなくても何等問題はない。例えば、
使用するモールド樹脂との接着力を高めるために、金属
箔102,103の表面に、例えばNiメッキなどの金
属メッキを施しておいても構わないし、金属蒸着等を施
しておいても何等構わない。表面に他の材質を設ける場
合には、金属箔102,103の片面に設けても構わな
いし、両面に設けても構わない。
料から構成されていなくても何等問題はない。例えば、
使用するモールド樹脂との接着力を高めるために、金属
箔102,103の表面に、例えばNiメッキなどの金
属メッキを施しておいても構わないし、金属蒸着等を施
しておいても何等構わない。表面に他の材質を設ける場
合には、金属箔102,103の片面に設けても構わな
いし、両面に設けても構わない。
【0062】使用するろう材104に関しては特に限定
はなく、一般に半導体装置に用いられる種々のろう材を
用いることができるが、電流が流れた際の局部的な発熱
を考慮すると、高温半田を用いることが望ましく、融点
250℃以上の半田が好適である。
はなく、一般に半導体装置に用いられる種々のろう材を
用いることができるが、電流が流れた際の局部的な発熱
を考慮すると、高温半田を用いることが望ましく、融点
250℃以上の半田が好適である。
【0063】次に、モールド樹脂105について説明す
る。
る。
【0064】本発明の半導体装置において、モールド樹
脂を形成しておく目的は、最も腐食され易いろう材部の
腐食寿命を伸ばし、かつ厚みをできるだけ薄くすること
にある。よって、この目的を達成できる樹脂であれば何
を用いてもよく、特に限定はない。
脂を形成しておく目的は、最も腐食され易いろう材部の
腐食寿命を伸ばし、かつ厚みをできるだけ薄くすること
にある。よって、この目的を達成できる樹脂であれば何
を用いてもよく、特に限定はない。
【0065】腐食寿命を延ばすという観点では、樹脂自
体の耐湿性がよいことが好ましく、吸水率や水蒸気透過
率の低い樹脂が好適である。吸水率を例にとると、AS
TM−D570に準拠した吸水率の試験で0.3%以下
であることが好ましい。また、樹脂と金属箔の界面から
水分や腐食成分が侵入してくることを考慮すると、金属
箔と樹脂との密着力が良好であることも必要である。
体の耐湿性がよいことが好ましく、吸水率や水蒸気透過
率の低い樹脂が好適である。吸水率を例にとると、AS
TM−D570に準拠した吸水率の試験で0.3%以下
であることが好ましい。また、樹脂と金属箔の界面から
水分や腐食成分が侵入してくることを考慮すると、金属
箔と樹脂との密着力が良好であることも必要である。
【0066】このような観点から、モールド樹脂105
としては、例えばエポキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂、あるいはこれらの樹脂に例え
ばシリカやアルミナなどの無機絶縁材料を混合したもの
を用いることができる。また、用いる樹脂としては単に
防蝕機能だけではなく、ダイオードに電流が流れた際に
必要な150℃程度の耐熱性を有するとともに、簡単に
製造可能である等のように製法上の簡便さを有している
ことが望ましく、特にエボキシ樹脂やシリコン樹脂がよ
り好適である。
としては、例えばエポキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂、あるいはこれらの樹脂に例え
ばシリカやアルミナなどの無機絶縁材料を混合したもの
を用いることができる。また、用いる樹脂としては単に
防蝕機能だけではなく、ダイオードに電流が流れた際に
必要な150℃程度の耐熱性を有するとともに、簡単に
製造可能である等のように製法上の簡便さを有している
ことが望ましく、特にエボキシ樹脂やシリコン樹脂がよ
り好適である。
【0067】また、半導体装置100を太陽電池モジュ
ールのバイパスダイオードとして使用する場合には、半
導体装置100のモールド樹脂105と、太陽電池モジ
ュールに使用している樹脂との接着強度が高いことが好
ましい。あるいは、半導体装置を設置する場所によって
は、そのモールド樹脂105には、高透明性、耐候性が
要求される。
ールのバイパスダイオードとして使用する場合には、半
導体装置100のモールド樹脂105と、太陽電池モジ
ュールに使用している樹脂との接着強度が高いことが好
ましい。あるいは、半導体装置を設置する場所によって
は、そのモールド樹脂105には、高透明性、耐候性が
要求される。
【0068】さらに、本発明の半導体装置100の主眼
である低吸水性や酸の遊離がないという点も満足するた
めには、エチレンと不飽和脂肪酸エステルとの共重合樹
脂が適当である。具体的には、エチレン−アクリル酸メ
チル共重合体(EMA)、エチレン−アクリル酸エチル
共重合体(EEA)、エチレン−アクリル酸ブチル共重
合体(EBA)、エチレン−メタクリル酸メチル共重合
体(EMM)、エチレン−メタクリル酸エチル共重合体
(EEM)などが好適な材料として用いられる。
である低吸水性や酸の遊離がないという点も満足するた
めには、エチレンと不飽和脂肪酸エステルとの共重合樹
脂が適当である。具体的には、エチレン−アクリル酸メ
チル共重合体(EMA)、エチレン−アクリル酸エチル
共重合体(EEA)、エチレン−アクリル酸ブチル共重
合体(EBA)、エチレン−メタクリル酸メチル共重合
体(EMM)、エチレン−メタクリル酸エチル共重合体
(EEM)などが好適な材料として用いられる。
【0069】これらのエチレン−不飽和脂肪酸エステル
共重合体の中で、入手の容易さと経済性の観点からみ
て、EEAが最も好ましい。
共重合体の中で、入手の容易さと経済性の観点からみ
て、EEAが最も好ましい。
【0070】上記したモールド樹脂105は、半導体チ
ップ101に直接接触するものであるから、半導体チッ
プ101の電気的特性を維持するためにも樹脂内に含有
される不純物イオンは少ない方が好ましく、ナトリウム
イオン、カリウムイオン、塩素イオンの量がそれぞれ2
ppm以下のものが好ましい。
ップ101に直接接触するものであるから、半導体チッ
プ101の電気的特性を維持するためにも樹脂内に含有
される不純物イオンは少ない方が好ましく、ナトリウム
イオン、カリウムイオン、塩素イオンの量がそれぞれ2
ppm以下のものが好ましい。
【0071】量産性を考慮した場合に、モールド樹脂1
05はディスペンサー等で滴下可能な粘度を有するもの
が好ましいが、粘度が低すぎる場合には広がり方が大き
く、特定の場所に滴下できないといった不具合を生ず
る。また、極端に粘度が低い場合には、モールド樹脂1
05が薄く盛られすぎて弾性が弱まってしまう。このよ
うな兼ね合いから、モールド樹脂105の硬化前粘度は
500ポイズ以上2000ポイズ以下であることが好ま
しい。
05はディスペンサー等で滴下可能な粘度を有するもの
が好ましいが、粘度が低すぎる場合には広がり方が大き
く、特定の場所に滴下できないといった不具合を生ず
る。また、極端に粘度が低い場合には、モールド樹脂1
05が薄く盛られすぎて弾性が弱まってしまう。このよ
うな兼ね合いから、モールド樹脂105の硬化前粘度は
500ポイズ以上2000ポイズ以下であることが好ま
しい。
【0072】モールド樹脂105を形成する場所として
は、ろう材104の腐食を防止し、かつ金属箔102,
103に少なくとも露出面があって、かつ厚みが薄けれ
ば何等限定はない。例えば、図4(c)に示す半導体チ
ップ401では、モールド樹脂405を、ろう材404
の存在する部分にだけ形成した場合を示しているが、こ
のような構成であっても構わない。しかしながら、この
ように局部だけにモールド樹脂105(405)を形成
することは生産効率上好ましい構成とは言い難く、例え
ば図1、あるいは図4(a)(b)で示すような半導体
チップ101(401)とろう材104(404)を両
方ともモールドした構成がより好適である。図1(b)
中のx部分は、金属箔102上に形成されたモールド樹
脂105の厚みを表しており、モールド樹脂105の厚
みは、樹脂の粘性や、樹脂量によって決定されるもので
あるが、できるだけ薄く形成することが好適である。
は、ろう材104の腐食を防止し、かつ金属箔102,
103に少なくとも露出面があって、かつ厚みが薄けれ
ば何等限定はない。例えば、図4(c)に示す半導体チ
ップ401では、モールド樹脂405を、ろう材404
の存在する部分にだけ形成した場合を示しているが、こ
のような構成であっても構わない。しかしながら、この
ように局部だけにモールド樹脂105(405)を形成
することは生産効率上好ましい構成とは言い難く、例え
ば図1、あるいは図4(a)(b)で示すような半導体
チップ101(401)とろう材104(404)を両
方ともモールドした構成がより好適である。図1(b)
中のx部分は、金属箔102上に形成されたモールド樹
脂105の厚みを表しており、モールド樹脂105の厚
みは、樹脂の粘性や、樹脂量によって決定されるもので
あるが、できるだけ薄く形成することが好適である。
【0073】次に本発明の半導体装置100を、光起電
力素子のバイパスダイオードに適用した例を説明する。
力素子のバイパスダイオードに適用した例を説明する。
【0074】<光起電力素子モジュール>本発明の光起
電力素子は、単結晶、薄膜単結晶、多結晶、薄膜多結晶
あるいはアモルファスシリコン太陽電池に適用できる以
外に、シリコン以外の半導体を用いた太陽電池、ショッ
トキー接合型の太陽電池にも適用可能である。
電力素子は、単結晶、薄膜単結晶、多結晶、薄膜多結晶
あるいはアモルファスシリコン太陽電池に適用できる以
外に、シリコン以外の半導体を用いた太陽電池、ショッ
トキー接合型の太陽電池にも適用可能である。
【0075】図5(a)は、本発明の光起電力素子モジ
ュールの概略図であり、代表例としてアモルファスシリ
コン太陽電池を使用した光起電カモジュールの模式的断
面図を示している。また、図5(b)は、図5(a)に
おけるXX’断面図である。
ュールの概略図であり、代表例としてアモルファスシリ
コン太陽電池を使用した光起電カモジュールの模式的断
面図を示している。また、図5(b)は、図5(a)に
おけるXX’断面図である。
【0076】図5(a),(b)中、501,501’
は光起電力素子、502はバスバー電極、503,50
3’は絶縁性部材、504は金属体(接続部材)、50
5は封止樹脂材、506は集電電極、507は半導体装
置(ダイオード)をそれぞれ示す。
は光起電力素子、502はバスバー電極、503,50
3’は絶縁性部材、504は金属体(接続部材)、50
5は封止樹脂材、506は集電電極、507は半導体装
置(ダイオード)をそれぞれ示す。
【0077】図5(a),(b)に示すように、一対の
光起電力素子501,501’が金属体504により電
気的に直列接続されており、光起電力素子501,50
1’のエッジ部と金属体504の接触部には、絶縁部材
503,503’が設けられている。また、半導体装置
507は、光起電力素子501に対して電気的に並列に
接続されており、露出した金属箔面が光起電力素子50
1に密着した状態で接続され、他方の金属箔は接続部材
504に接続されている。
光起電力素子501,501’が金属体504により電
気的に直列接続されており、光起電力素子501,50
1’のエッジ部と金属体504の接触部には、絶縁部材
503,503’が設けられている。また、半導体装置
507は、光起電力素子501に対して電気的に並列に
接続されており、露出した金属箔面が光起電力素子50
1に密着した状態で接続され、他方の金属箔は接続部材
504に接続されている。
【0078】半導体装置507は、それ自体の発熱によ
って、周囲の被覆材505を熱的に劣化させてしまうた
め、図5(b)に示すように、露出した金属箔面を光起
電力素子501に密着した状態で接続し、光起電力素子
501を放熱フィンとして活用している。図5(b)に
示す例では、半導体装置507の露出した金属箔面を光
起電力素子501に密着させて接続しているが、より詳
しくは、後述の金属基板や下部電極層など、金属に接続
されていることが好適である。また、光起電力素子50
1以外としては、金属体の接続部材504に密着した状
態で接続しても構わないし、表面側のバスバー電極50
2上に接続しても同様の効果を発揮することができる。
って、周囲の被覆材505を熱的に劣化させてしまうた
め、図5(b)に示すように、露出した金属箔面を光起
電力素子501に密着した状態で接続し、光起電力素子
501を放熱フィンとして活用している。図5(b)に
示す例では、半導体装置507の露出した金属箔面を光
起電力素子501に密着させて接続しているが、より詳
しくは、後述の金属基板や下部電極層など、金属に接続
されていることが好適である。また、光起電力素子50
1以外としては、金属体の接続部材504に密着した状
態で接続しても構わないし、表面側のバスバー電極50
2上に接続しても同様の効果を発揮することができる。
【0079】接続する個数に関しては、光起電力素子1
個に対して半導体装置1個以上接続することが、太陽光
が遮られ影が生じた場合の出力低下が少なくなり好適で
あるが、コスト的な意味合いから複数の光起電力素子に
対して半導体装置1個を接続しても構わない。
個に対して半導体装置1個以上接続することが、太陽光
が遮られ影が生じた場合の出力低下が少なくなり好適で
あるが、コスト的な意味合いから複数の光起電力素子に
対して半導体装置1個を接続しても構わない。
【0080】また、図6(a),(b)に、光起電力素
子モジュールが補強板上に樹脂封止され、半導体装置が
光起電力素子と補強板の間に設置されている一例の概略
図を示す。なお、図5(a),(b)に示す光起電力素
子モジュールと同様の機能を有する部材には、同一の符
号を付して説明を省略する。
子モジュールが補強板上に樹脂封止され、半導体装置が
光起電力素子と補強板の間に設置されている一例の概略
図を示す。なお、図5(a),(b)に示す光起電力素
子モジュールと同様の機能を有する部材には、同一の符
号を付して説明を省略する。
【0081】基本的に、半導体装置は光起電力素子の表
側に接続しても裏側に接続しても構わないが、補強板と
光起電力素子の間に半導体装置を設置する目的は、水蒸
気透過率がほとんどゼロに近い材料により半導体装置を
挟むことによって、厚み方向からの水分の侵入を無視す
ることができ、半導体装置に到達する水分を制限できる
ことにある。そして、防水性を高めることにより、ろう
材の腐食寿命を向上することができる。
側に接続しても裏側に接続しても構わないが、補強板と
光起電力素子の間に半導体装置を設置する目的は、水蒸
気透過率がほとんどゼロに近い材料により半導体装置を
挟むことによって、厚み方向からの水分の侵入を無視す
ることができ、半導体装置に到達する水分を制限できる
ことにある。そして、防水性を高めることにより、ろう
材の腐食寿命を向上することができる。
【0082】したがって、本発明の補強板としては、補
強する目的から、例えばフッ素フィルム等の各種プラス
チック、フッ素フィルムにAlなどの金属箔がラミネー
トされたもの、あるいは金属の鋼板、ガラス板等が使用
可能であるが、水蒸気の透過性を考えると金属を使用し
た材料もしくはガラス板が好適である。
強する目的から、例えばフッ素フィルム等の各種プラス
チック、フッ素フィルムにAlなどの金属箔がラミネー
トされたもの、あるいは金属の鋼板、ガラス板等が使用
可能であるが、水蒸気の透過性を考えると金属を使用し
た材料もしくはガラス板が好適である。
【0083】図6(b)に示す例では、光起電力素子5
01,501’の非受光面側に補強板508を形成して
いる。この場合、補強板508としては、金属ラミネー
トフィルム、金属鋼板、ガラス板等を用いることがで
き、金属鋼板は例えばステンレス板、メッキ鋼板、ガル
バリウム鋼板などを使用することができるが、これに限
られたものではない。
01,501’の非受光面側に補強板508を形成して
いる。この場合、補強板508としては、金属ラミネー
トフィルム、金属鋼板、ガラス板等を用いることがで
き、金属鋼板は例えばステンレス板、メッキ鋼板、ガル
バリウム鋼板などを使用することができるが、これに限
られたものではない。
【0084】また、図6(a)に示す例では、図中50
9が補強板であり、光起電力素子の受光面側に補強板を
形成した例を示している。この場合、補強板509とし
ては、透明性が要求され、ガラス板が最適である。
9が補強板であり、光起電力素子の受光面側に補強板を
形成した例を示している。この場合、補強板509とし
ては、透明性が要求され、ガラス板が最適である。
【0085】<光起電力素子>次に、光起電力素子につ
いて説明する。
いて説明する。
【0086】図7は光起電力素子501,501’をよ
り詳しく説明するための模式的断面図である。図7にお
いて、601は基板、602は下部電極、603,61
3,623はn型半導体層、604,614,624は
i型半導体層、605,615,625はp型半導体
層、606は上部電極、607は集電電極をそれぞれ示
す。光起電力素子501,501’は、これらを積層す
ることにより形成されている。
り詳しく説明するための模式的断面図である。図7にお
いて、601は基板、602は下部電極、603,61
3,623はn型半導体層、604,614,624は
i型半導体層、605,615,625はp型半導体
層、606は上部電極、607は集電電極をそれぞれ示
す。光起電力素子501,501’は、これらを積層す
ることにより形成されている。
【0087】基板601は、アモルファスシリコンのよ
うな薄膜の太陽電池の場合に、半導体層を機械的に支持
する部材であり、かつ電極としても使われる。したがっ
て、基板601は、半導体層を成膜する時の加熱温度に
耐える耐熱性が要求されるが、導電性のものでも電気絶
縁性のものでもよい。
うな薄膜の太陽電池の場合に、半導体層を機械的に支持
する部材であり、かつ電極としても使われる。したがっ
て、基板601は、半導体層を成膜する時の加熱温度に
耐える耐熱性が要求されるが、導電性のものでも電気絶
縁性のものでもよい。
【0088】導電性の材料としては、例えばFe、N
i、Cr、Al、Mo、Au、Nb、Ta、V、Ti、
Pt、Pb等の金属またはこれらの合金、例えば真ちゅ
う、ステンレス鋼等の薄板及びその複合体やカーボンシ
ード亜鉛メッキ鋼板が挙げらる。
i、Cr、Al、Mo、Au、Nb、Ta、V、Ti、
Pt、Pb等の金属またはこれらの合金、例えば真ちゅ
う、ステンレス鋼等の薄板及びその複合体やカーボンシ
ード亜鉛メッキ鋼板が挙げらる。
【0089】また、電気絶縁性材料としては、ポリエス
テル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースア
セテードポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、エ
ポキシ等の耐熱性合成樹脂のフィルムまたはシート、あ
るいはこれらとガラスファイバー、カーボンファイバ
ー、ほう素ファイバー、金属繊維等との複合体、および
これらの金属の薄板、樹脂シート等の表面に異種材質の
金属薄膜及び/またはSiO2、Si3N4、Al2O3、
AlN等の絶縁性薄膜をスパッタ法、蒸着法、鍍金法等
により表面コーティング処理を行ったもの、およびガラ
ス、セラミックス等が挙げられる。
テル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースア
セテードポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、エ
ポキシ等の耐熱性合成樹脂のフィルムまたはシート、あ
るいはこれらとガラスファイバー、カーボンファイバ
ー、ほう素ファイバー、金属繊維等との複合体、および
これらの金属の薄板、樹脂シート等の表面に異種材質の
金属薄膜及び/またはSiO2、Si3N4、Al2O3、
AlN等の絶縁性薄膜をスパッタ法、蒸着法、鍍金法等
により表面コーティング処理を行ったもの、およびガラ
ス、セラミックス等が挙げられる。
【0090】下部電極602は、半導体層で発生した電
力を取り出すための一方の電極であり、半導体層に対し
てはオーミックコンタクトとなるような仕事関数を持つ
ことが要求される。
力を取り出すための一方の電極であり、半導体層に対し
てはオーミックコンタクトとなるような仕事関数を持つ
ことが要求される。
【0091】下部電極602の材料としては、例えばA
l、Ag、Pt、Au、Ni、Ti、Mo、Fe、V、
Cr、Cu、ステンレス、真ちゅう、ニクロム、SnO
2、In2O3、ZnO、ITO等のいわゆる金属単体ま
たは合金、および透明導電性酸化物(TCO)等が用い
られる。下部電極602の表面は平滑であることが好ま
しいが、光の乱反射を起こさせる場合には、その表面に
テクスチャー処理をしてもよい。また、基板601が導
電性であるときには、下部電極602は特に設ける必要
はない。下部電極の作成方法としては、例えばメッキ、
蒸着、スパッタ等の方法を用いる。
l、Ag、Pt、Au、Ni、Ti、Mo、Fe、V、
Cr、Cu、ステンレス、真ちゅう、ニクロム、SnO
2、In2O3、ZnO、ITO等のいわゆる金属単体ま
たは合金、および透明導電性酸化物(TCO)等が用い
られる。下部電極602の表面は平滑であることが好ま
しいが、光の乱反射を起こさせる場合には、その表面に
テクスチャー処理をしてもよい。また、基板601が導
電性であるときには、下部電極602は特に設ける必要
はない。下部電極の作成方法としては、例えばメッキ、
蒸着、スパッタ等の方法を用いる。
【0092】アモルファスシリコン半導体層としては、
図7に示すようなpin接合を有するトリプル構成だけ
ではなく、pin接合またはpn接合を重ねたダブル構
成、シングル構成も好適に用いられる。特に、i層60
4,614,624を構成する半導体材料としては、a
−Siの他にa−SiGe、a−SiC等のいわゆるI
V族及びIV族合金系アモルファス半導体が挙げられ
る。
図7に示すようなpin接合を有するトリプル構成だけ
ではなく、pin接合またはpn接合を重ねたダブル構
成、シングル構成も好適に用いられる。特に、i層60
4,614,624を構成する半導体材料としては、a
−Siの他にa−SiGe、a−SiC等のいわゆるI
V族及びIV族合金系アモルファス半導体が挙げられ
る。
【0093】アモルファスシリコン半導体層の成膜方法
としては、蒸着法、スパッタ法、高周波プラズマCVD
法、マイクロプラズマCVD法、ECR法、熱CVD
法、LPCVD法等公知の方法を所望に応じて用いるこ
とができる。アモルファスシリコン半導体層の成膜装置
としては、バッチ式の装置や連続成膜装置等を所望に応
じて使用することができる。
としては、蒸着法、スパッタ法、高周波プラズマCVD
法、マイクロプラズマCVD法、ECR法、熱CVD
法、LPCVD法等公知の方法を所望に応じて用いるこ
とができる。アモルファスシリコン半導体層の成膜装置
としては、バッチ式の装置や連続成膜装置等を所望に応
じて使用することができる。
【0094】上部電極606は、半導体層で発生した起
電力を取り出すための電極であり、下部電極602と対
をなすためのものである。上部電極606は、アモルフ
ァスシリコンのようにシート抵抗が高い半導体の場合に
必要であり、結晶系の太陽電池ではシート抵抗が低いた
め特に必要とはしない。また、上部電極606は、光入
射側に位置するため、透明であることが必要で、透明電
極と呼ばれることもある。
電力を取り出すための電極であり、下部電極602と対
をなすためのものである。上部電極606は、アモルフ
ァスシリコンのようにシート抵抗が高い半導体の場合に
必要であり、結晶系の太陽電池ではシート抵抗が低いた
め特に必要とはしない。また、上部電極606は、光入
射側に位置するため、透明であることが必要で、透明電
極と呼ばれることもある。
【0095】上部電極606は、太陽や白色蛍光灯等か
らの光を半導体層内に効率よく吸収させるために光の透
過率が85%以上であることが好ましく、さらに、電気
的には、光で発生した電流を半導体層に対し横方向に流
れるようにするために、シート抵抗値は100Ω/□以
下であることが好ましい。このような特性を備えた材料
としては、例えばSnO2、In2O3、ZnO、Cd
O、CdSnO4、ITO(In2O3+SnO2)などの
金属酸化物が挙げられる。
らの光を半導体層内に効率よく吸収させるために光の透
過率が85%以上であることが好ましく、さらに、電気
的には、光で発生した電流を半導体層に対し横方向に流
れるようにするために、シート抵抗値は100Ω/□以
下であることが好ましい。このような特性を備えた材料
としては、例えばSnO2、In2O3、ZnO、Cd
O、CdSnO4、ITO(In2O3+SnO2)などの
金属酸化物が挙げられる。
【0096】集電電極607は、図5,6において50
6に相当するものであるが、一般的には櫛状に形成さ
れ、半導体層や上部電極のシート抵抗の値から好適な幅
やピッチが決定される。集電電極607は、比抵抗が低
く太陽電池の直列抵抗とならないことが要求され、好ま
しい比抵抗は10-2Ωcm〜10-6Ωcmである。
6に相当するものであるが、一般的には櫛状に形成さ
れ、半導体層や上部電極のシート抵抗の値から好適な幅
やピッチが決定される。集電電極607は、比抵抗が低
く太陽電池の直列抵抗とならないことが要求され、好ま
しい比抵抗は10-2Ωcm〜10-6Ωcmである。
【0097】集電電極607の材料としては、例えばT
i、Cr、Mo、W、Al、Ag、Ni、Cu、Sn、
Pt等の金属またはこれらの合金や半田が用いられる。
一般的には、金属粉末と高分子樹脂バインダーがペース
ト状になった金属ペーストが用いられているが、これに
限られるものではない。
i、Cr、Mo、W、Al、Ag、Ni、Cu、Sn、
Pt等の金属またはこれらの合金や半田が用いられる。
一般的には、金属粉末と高分子樹脂バインダーがペース
ト状になった金属ペーストが用いられているが、これに
限られるものではない。
【0098】<バスバー電極>本発明のバスバー電極5
02は、グリッド電極506を流れる電流をさらに一端
に集めるための集電の役目を果たすものである。このよ
うな観点から、バスバー電極502に使用する材料とし
ては、体積抵抗率が低く、かつ工業的に安定して供給さ
れている材料が好ましい。
02は、グリッド電極506を流れる電流をさらに一端
に集めるための集電の役目を果たすものである。このよ
うな観点から、バスバー電極502に使用する材料とし
ては、体積抵抗率が低く、かつ工業的に安定して供給さ
れている材料が好ましい。
【0099】このような材料としては、加工性がよく、
安価な銅が好適に用いられる。また、銅を用いる場合に
は、腐食防止、酸化防止等の目的で、表面に薄い金属層
を設けてもよい。この表面金属層としては、例えば、
銀、パラジウム、パラジウムと銀の合金、または金など
の腐食されにくい貴金属や、ニッケル、半田、錫などの
耐食性のよい金属が好適に用いられる。表面金属層の形
成方法としては、例えば、作成が比較的容易な蒸着法、
メッキ法、クラッド法が好適に用いられる。
安価な銅が好適に用いられる。また、銅を用いる場合に
は、腐食防止、酸化防止等の目的で、表面に薄い金属層
を設けてもよい。この表面金属層としては、例えば、
銀、パラジウム、パラジウムと銀の合金、または金など
の腐食されにくい貴金属や、ニッケル、半田、錫などの
耐食性のよい金属が好適に用いられる。表面金属層の形
成方法としては、例えば、作成が比較的容易な蒸着法、
メッキ法、クラッド法が好適に用いられる。
【0100】バスバー電極502の厚は、50μm以上
200μm以下が好ましい。50μm以上とすること
で、光起電力素子の発生電流密度に十分対応できるだけ
の断面積を確保できるとともに、実質上機械的結合部材
として使用することができる。一方、バスバー電極50
2は、厚くするほど抵抗損失を小さくすることができる
が、200μm以下とすることで表面被覆材によるなだ
らかな被覆が可能となる。
200μm以下が好ましい。50μm以上とすること
で、光起電力素子の発生電流密度に十分対応できるだけ
の断面積を確保できるとともに、実質上機械的結合部材
として使用することができる。一方、バスバー電極50
2は、厚くするほど抵抗損失を小さくすることができる
が、200μm以下とすることで表面被覆材によるなだ
らかな被覆が可能となる。
【0101】バスバー電極502は、基板の形態によっ
ては何枚設けてもよく、特に1枚と限定されるものでは
ない。また、ここで用いるバスバー電極502は、設け
る対象となる基板の大きさとほぼ同程度の長さを有する
ものが好ましい。形状に関しても特に制限はなく、円柱
状、箔状等のバスバー電極502を用いることができ
る。
ては何枚設けてもよく、特に1枚と限定されるものでは
ない。また、ここで用いるバスバー電極502は、設け
る対象となる基板の大きさとほぼ同程度の長さを有する
ものが好ましい。形状に関しても特に制限はなく、円柱
状、箔状等のバスバー電極502を用いることができ
る。
【0102】<金属体>本発明の金属体504は、光起
電力同士(501と501’)を電気的に接続、あるい
は機械的に接続するためのものである。電気的に直列接
続する場合には、一般的に金属体504の一端は、一方
の光起電力素子501上のバスバー電極502と半田付
け等の方法で接続され、他端は他方の光起電力素子50
1’の裏面側に接続される。また、並列接続する場合に
は、金属体504の一端は、一方の光起電力素子501
上のバスバー電極502と半田付け等の方法で接続さ
れ、他端は他方の光起電力素子501’上のバスバー電
極502’に接続される。
電力同士(501と501’)を電気的に接続、あるい
は機械的に接続するためのものである。電気的に直列接
続する場合には、一般的に金属体504の一端は、一方
の光起電力素子501上のバスバー電極502と半田付
け等の方法で接続され、他端は他方の光起電力素子50
1’の裏面側に接続される。また、並列接続する場合に
は、金属体504の一端は、一方の光起電力素子501
上のバスバー電極502と半田付け等の方法で接続さ
れ、他端は他方の光起電力素子501’上のバスバー電
極502’に接続される。
【0103】本例では、金属体504を用いて接続して
いるが、バスバー電極502を使用することによってそ
のまま接続を行っても何ら問題はない。金属体504に
使用する材料、形状、厚みは、バスバー電極502の項
で詳述した内容と全く同様のものを用いることができ
る。
いるが、バスバー電極502を使用することによってそ
のまま接続を行っても何ら問題はない。金属体504に
使用する材料、形状、厚みは、バスバー電極502の項
で詳述した内容と全く同様のものを用いることができ
る。
【0104】<被覆材>次に、被覆材505について説
明する。
明する。
【0105】本発明の被覆材505は、大きく分類して
最表面被覆材、充填材、最裏面被覆材の3種類に分類さ
れる。
最表面被覆材、充填材、最裏面被覆材の3種類に分類さ
れる。
【0106】最表面被覆材には、透光性、耐候性があ
り、汚れが付着しにくいことが要求される。最表面被覆
材の材料としては、ガラスを使用する場合や、耐候性フ
ィルム等を使用する場合が一般的である。特に、耐候性
透明フィルムを使用した場合には、軽量化を図ることが
でき、衝撃により割れないうえに、フィルム表面にエン
ボス処理を施すことで、太陽光の表面反射が眩しくない
という効果も生じる。
り、汚れが付着しにくいことが要求される。最表面被覆
材の材料としては、ガラスを使用する場合や、耐候性フ
ィルム等を使用する場合が一般的である。特に、耐候性
透明フィルムを使用した場合には、軽量化を図ることが
でき、衝撃により割れないうえに、フィルム表面にエン
ボス処理を施すことで、太陽光の表面反射が眩しくない
という効果も生じる。
【0107】最表面被覆材の材料としては、ポリエチレ
ンテトラフルオロエチレン(ETFE)、ポリ3フッ化
エチレン、ポリフッ化ビニルなどのフッ素樹脂フィルム
などを用いることができるが、これに限られたものでは
ない。充填剤との接着面には、充填剤が接着しやすいよ
うにコロナ放電処理などの表面処理を施すこともでき
る。
ンテトラフルオロエチレン(ETFE)、ポリ3フッ化
エチレン、ポリフッ化ビニルなどのフッ素樹脂フィルム
などを用いることができるが、これに限られたものでは
ない。充填剤との接着面には、充填剤が接着しやすいよ
うにコロナ放電処理などの表面処理を施すこともでき
る。
【0108】充填材には、耐候性、熱可塑性、熱接着
性、光透過性が要求される。充填材の材料としては、E
VA(酢酸ビニル−エチレン共重合体)、ブチラール樹
脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素化ポリイミド
樹脂などの透明な樹脂を使用することができるが、これ
に限られたものではない。また、充填材に架橋剤を添加
することにより、架橋することも可能である。さらに、
光劣化を抑制するために、紫外線吸収剤が含有されてい
ることが好ましい。
性、光透過性が要求される。充填材の材料としては、E
VA(酢酸ビニル−エチレン共重合体)、ブチラール樹
脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素化ポリイミド
樹脂などの透明な樹脂を使用することができるが、これ
に限られたものではない。また、充填材に架橋剤を添加
することにより、架橋することも可能である。さらに、
光劣化を抑制するために、紫外線吸収剤が含有されてい
ることが好ましい。
【0109】最裏面被覆材は、光起電力素子モジュール
の裏面側を被覆して光起電力素子モジュールと外部の間
の電気的絶縁性を保つために使用される。
の裏面側を被覆して光起電力素子モジュールと外部の間
の電気的絶縁性を保つために使用される。
【0110】最裏面被覆材は、充分な電気絶縁性を確保
でき、しかも長期耐久性に優れ、衝撃、引っ掻き、熱膨
張、熱収縮に耐えられることが要求され、さらに柔軟性
を兼ね備えた材料が好ましい。好適に用いられる材料と
しては、ナイロン、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)等のプラスチックフィルムを用いることができる。
でき、しかも長期耐久性に優れ、衝撃、引っ掻き、熱膨
張、熱収縮に耐えられることが要求され、さらに柔軟性
を兼ね備えた材料が好ましい。好適に用いられる材料と
しては、ナイロン、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)等のプラスチックフィルムを用いることができる。
【0111】充填材だけでも電気的絶縁性を保つことは
できるが、厚さにばらつきが生じ易いため、膜厚の薄い
部分あるいはピンホール部分においては、光起電力素子
と外部の間でのショートが発生するおそれがある。した
がって、このような不都合を解消するため、最裏面被覆
材が使用される。
できるが、厚さにばらつきが生じ易いため、膜厚の薄い
部分あるいはピンホール部分においては、光起電力素子
と外部の間でのショートが発生するおそれがある。した
がって、このような不都合を解消するため、最裏面被覆
材が使用される。
【0112】また、最裏面被覆材として、金属鋼板を使
用することも可能である。金属鋼板の材質は、例えばス
テンレス板、メッキ鋼板、ガルバリウム鋼板などを使用
できるが、これに限られたものではない。この場合、光
起電力素子と外部の間の電気的絶縁性を保つことが困難
であるため、光起電力素子と金属鋼板との間に絶縁フィ
ルムを介在させることにより裏面側被覆材を構成する。
絶縁フィルムとしては、ナイロン、ポリエチレンテレフ
タレート(PET)等のプラスチックフィルムを使用す
ることができる。
用することも可能である。金属鋼板の材質は、例えばス
テンレス板、メッキ鋼板、ガルバリウム鋼板などを使用
できるが、これに限られたものではない。この場合、光
起電力素子と外部の間の電気的絶縁性を保つことが困難
であるため、光起電力素子と金属鋼板との間に絶縁フィ
ルムを介在させることにより裏面側被覆材を構成する。
絶縁フィルムとしては、ナイロン、ポリエチレンテレフ
タレート(PET)等のプラスチックフィルムを使用す
ることができる。
【0113】<光起電力モジュール>次に、光起電力素
子モジュールについて説明する。
子モジュールについて説明する。
【0114】図8は、本発明の光起電力素子モジュール
の概略図であり、単結晶シリコンや多結晶シリコンなど
の結晶系シリコン太陽電池の模式概略図を示している。
の概略図であり、単結晶シリコンや多結晶シリコンなど
の結晶系シリコン太陽電池の模式概略図を示している。
【0115】図8中、701はシリコン基板からなるP
N接合を有する半導体層、702は裏面電極、703は
集電電極、704はバスバー電極、705は絶縁部材、
706は本発明の半導体装置をそれぞれ示す。
N接合を有する半導体層、702は裏面電極、703は
集電電極、704はバスバー電極、705は絶縁部材、
706は本発明の半導体装置をそれぞれ示す。
【0116】単結晶シリコン太陽電池や多結晶シリコン
太陽電池の場合、支持基板を設けず、単結晶ウエハや多
結晶ウエハが基板の役目を果たす。単結晶ウエハは、C
Z法で引き上げられたシリコンインゴットを切断する方
法で得られる。また、多結晶ウエハは、キャスト法によ
り得られたシリコンインゴットを切断する方法や、リボ
ン法を用いてシート状の多結晶を得る方法等により形成
される。
太陽電池の場合、支持基板を設けず、単結晶ウエハや多
結晶ウエハが基板の役目を果たす。単結晶ウエハは、C
Z法で引き上げられたシリコンインゴットを切断する方
法で得られる。また、多結晶ウエハは、キャスト法によ
り得られたシリコンインゴットを切断する方法や、リボ
ン法を用いてシート状の多結晶を得る方法等により形成
される。
【0117】PN接合の形成方法としては、例えばPO
Cl3を用いた気相拡散法、TiO2、SiO2、または
P2O5を用いた塗布拡散法、イオンを直接にドープする
イオン打ち込み法等を用いることにより半導体層701
が得られる。
Cl3を用いた気相拡散法、TiO2、SiO2、または
P2O5を用いた塗布拡散法、イオンを直接にドープする
イオン打ち込み法等を用いることにより半導体層701
が得られる。
【0118】裏面電極702は、例えば、蒸着、スパッ
タ法により金属膜を形成したり、銀ペーストのスクリー
ン印刷等により形成する。
タ法により金属膜を形成したり、銀ペーストのスクリー
ン印刷等により形成する。
【0119】また、半導体層701の表面側には光の反
射による効率の低下を防ぐために、不図示の反射防止膜
が形成されている場合がある。この反射防止膜の材料と
しては、例えば、SiO2、Ta2O5、Nb2O5等が用
いられる。
射による効率の低下を防ぐために、不図示の反射防止膜
が形成されている場合がある。この反射防止膜の材料と
しては、例えば、SiO2、Ta2O5、Nb2O5等が用
いられる。
【0120】図8において接続されている半導体装置7
06に関しては、図5,6で説明したアモルファス太陽
電池の場合と同様に接続することができる。
06に関しては、図5,6で説明したアモルファス太陽
電池の場合と同様に接続することができる。
【0121】また、本発明の半導体装置及び光起電力素
子モジュールは、上述のとおり、腐食に対して非常に強
い構造となっているため、屋外に設置した場合に、酸性
雨、塩害などの気候が影響する外的因子に十分な耐久性
を有する。したがって、本発明の半導体装置及び光起電
力素子モジュールは、屋根に貼りあわせた形態や屋根上
に設置した形態として使用することができる他に、最裏
面被覆材として金属鋼板を用いたような場合には、金属
鋼板をそのまま金属屋根として、家屋の屋根に用いるこ
とができる。この場合、金属鋼板を屋根設置に適した構
造に曲げ加工することは何等問題はない。
子モジュールは、上述のとおり、腐食に対して非常に強
い構造となっているため、屋外に設置した場合に、酸性
雨、塩害などの気候が影響する外的因子に十分な耐久性
を有する。したがって、本発明の半導体装置及び光起電
力素子モジュールは、屋根に貼りあわせた形態や屋根上
に設置した形態として使用することができる他に、最裏
面被覆材として金属鋼板を用いたような場合には、金属
鋼板をそのまま金属屋根として、家屋の屋根に用いるこ
とができる。この場合、金属鋼板を屋根設置に適した構
造に曲げ加工することは何等問題はない。
【0122】<建材>次に、建材について説明する。
【0123】図9は、本発明の建材の一例で、(a)は
横葺型屋根材、(b)は瓦棒葺屋根材、(c)はフラッ
ト型屋根材に適用した例である。
横葺型屋根材、(b)は瓦棒葺屋根材、(c)はフラッ
ト型屋根材に適用した例である。
【0124】図9(a)(b)(c)に示す例では、そ
れぞれ光起電力素子モジュール801を備えた建材80
0は、固定部材802により設置面(屋根面)に固定さ
れている。さらに、屋根への施工性をよくするために、
光起電力素子モジュール、屋根部材(垂木、野地板
等)、断熱材等を一体構造としてもよい。本発明の建材
は、屋根材のみならず、壁材など種々の建材と一体型の
モジュールも構成することができる。
れぞれ光起電力素子モジュール801を備えた建材80
0は、固定部材802により設置面(屋根面)に固定さ
れている。さらに、屋根への施工性をよくするために、
光起電力素子モジュール、屋根部材(垂木、野地板
等)、断熱材等を一体構造としてもよい。本発明の建材
は、屋根材のみならず、壁材など種々の建材と一体型の
モジュールも構成することができる。
【0125】
【実施例】以下、具体的な実施例に基づいて、本発明の
半導体装置を詳細に説明する。
半導体装置を詳細に説明する。
【0126】<実施例1>まず、図10に基づいて、実
施例1に係る半導体装置を作成する手順を説明する。
施例1に係る半導体装置を作成する手順を説明する。
【0127】図10は、本発明の実施例1に係る半導体
装置の外観を示す模式図であり、図10(a)は半導体
装置の平面図、図10(b)は図10(a)におけるA
A’断面図である。
装置の外観を示す模式図であり、図10(a)は半導体
装置の平面図、図10(b)は図10(a)におけるA
A’断面図である。
【0128】実施例1に係る半導体装置を作成するに
は、まず、半導体チップ901、銅の箔体からなる外部
接続用端子902,903を準備した。半導体チップと
しては、メサ構造のPN整流ダイオード(大きさ1.5
mm□、厚み230μm、ピーク繰り返し逆電圧600
V)を用意した。また、銅の箔体からなる外部接続用端
子902,903として、軟質銅(5mm×15mm×
100μm厚、無酸素銅C1020P)を用意した。外
部接続用端子902,903は、図10に示すよう形状
に打ち抜きができるような金型を作成し、金型プレスに
より打ち抜いて作成した。
は、まず、半導体チップ901、銅の箔体からなる外部
接続用端子902,903を準備した。半導体チップと
しては、メサ構造のPN整流ダイオード(大きさ1.5
mm□、厚み230μm、ピーク繰り返し逆電圧600
V)を用意した。また、銅の箔体からなる外部接続用端
子902,903として、軟質銅(5mm×15mm×
100μm厚、無酸素銅C1020P)を用意した。外
部接続用端子902,903は、図10に示すよう形状
に打ち抜きができるような金型を作成し、金型プレスに
より打ち抜いて作成した。
【0129】次に、これらの部材を組み立て治具中に配
置し(図10(b)に示す順序で配置する)、ダイオー
ドチップ901と外部接続用端子902,903との間
に半田ペレットを載置した状態で、窒素リフロー炉に投
入し、半田を溶融して、部材901,902,903を
電気的に接続した。この時の半田としては、組成比95
Pb5Znのものを使用した。
置し(図10(b)に示す順序で配置する)、ダイオー
ドチップ901と外部接続用端子902,903との間
に半田ペレットを載置した状態で、窒素リフロー炉に投
入し、半田を溶融して、部材901,902,903を
電気的に接続した。この時の半田としては、組成比95
Pb5Znのものを使用した。
【0130】次に、エポキシ系樹脂を用いて、モールド
樹脂905を形成した。モールド樹脂905の形成は、
ディスペンサーを用い、チップP側直上方向から滴下し
た後、すぐに銅箔902の下側からチップに向けて滴下
することによって行い、銅箔903の下面は銅を露出さ
せた。この後、100℃で1時間、さらに150℃で3
時間の硬化処理を行った。
樹脂905を形成した。モールド樹脂905の形成は、
ディスペンサーを用い、チップP側直上方向から滴下し
た後、すぐに銅箔902の下側からチップに向けて滴下
することによって行い、銅箔903の下面は銅を露出さ
せた。この後、100℃で1時間、さらに150℃で3
時間の硬化処理を行った。
【0131】なお、図10中、904はろう材を示す。
【0132】上述した作業により、ダイオードAを30
個作成した。作成後に、順逆方向の特性を全数検査した
ところ、30個全てのダイオードにおいて順方向電流2
アンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2V、逆
方向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア
以下であった。
個作成した。作成後に、順逆方向の特性を全数検査した
ところ、30個全てのダイオードにおいて順方向電流2
アンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2V、逆
方向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア
以下であった。
【0133】<実施例2>図11は、本発明の実施例2
に係る半導体装置の外観を示す模式図で、図11(a)
は半導体装置の平面図、図11(b)は図11(a)に
おけるAA’断面図である。
に係る半導体装置の外観を示す模式図で、図11(a)
は半導体装置の平面図、図11(b)は図11(a)に
おけるAA’断面図である。
【0134】実施例2に係る半導体装置では、ダイオー
ドBを30個作成した。
ドBを30個作成した。
【0135】ダイオードBは、P側と接続された銅箔1
002の上面を露出させ、逆にN側と接続された銅箔1
003の下面は樹脂でモールドした点が、実施例1に係
るダイオードAとは異なっており、それ以外は実施例1
に係るダイオードAと全く同様に作成した。ただし、樹
脂の滴下に関しては、チップN側直上方向から滴下した
後、すぐに銅箔1003の上側からチップに向けて滴下
することによって行った。
002の上面を露出させ、逆にN側と接続された銅箔1
003の下面は樹脂でモールドした点が、実施例1に係
るダイオードAとは異なっており、それ以外は実施例1
に係るダイオードAと全く同様に作成した。ただし、樹
脂の滴下に関しては、チップN側直上方向から滴下した
後、すぐに銅箔1003の上側からチップに向けて滴下
することによって行った。
【0136】なお、図11中、1001は半導体チッ
プ、1004はろう材、1005はモールド樹脂を示
す。
プ、1004はろう材、1005はモールド樹脂を示
す。
【0137】完成したダイオードBの順逆方向特性は、
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
【0138】<実施例3>図12は、本発明の実施例3
に係る半導体装置の外観を示す模式図で、図12(a)
は半導体装置の平面図、図12(b)は図12(a)に
おけるAA’断面図である。
に係る半導体装置の外観を示す模式図で、図12(a)
は半導体装置の平面図、図12(b)は図12(a)に
おけるAA’断面図である。
【0139】図12中、1101は半導体チップ、11
02,1103は金属箔、1104はろう材、1105
はモールド樹脂を示す。
02,1103は金属箔、1104はろう材、1105
はモールド樹脂を示す。
【0140】実施例3に係る半導体装置では、ダイオー
ドCを30個作成した。
ドCを30個作成した。
【0141】ダイオードCは、P側と接続された銅箔1
102の上面を露出させ、かつN側と接続された銅箔1
103の下面をも露出させた点が、実施例1に係るダイ
オードAとは異なっており、それ以外は実施例1に係る
ダイオードAと全く同様に作成した。
102の上面を露出させ、かつN側と接続された銅箔1
103の下面をも露出させた点が、実施例1に係るダイ
オードAとは異なっており、それ以外は実施例1に係る
ダイオードAと全く同様に作成した。
【0142】完成したダイオードCの順逆方向特性は、
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98±0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98±0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
【0143】<実施例4>実施例4に係る半導体装置で
は、ダイオードD、E、Fを30個ずつ作成した。
は、ダイオードD、E、Fを30個ずつ作成した。
【0144】なお、上述した実施例1に係る半導体装置
と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して説
明する。
と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して説
明する。
【0145】ダイオードDは、銅箔903として200
μm厚の銅箔を用い、銅箔903の厚みを変更した以外
は、実施例1に係るダイオードAと全く同様に作成し
た。
μm厚の銅箔を用い、銅箔903の厚みを変更した以外
は、実施例1に係るダイオードAと全く同様に作成し
た。
【0146】また、ダイオードEは、銅箔903として
8mm×15mmの銅箔を用い、銅箔903の面積を変
更した以外は、実施例1に係るダイオードAと全く同様
に作成した。
8mm×15mmの銅箔を用い、銅箔903の面積を変
更した以外は、実施例1に係るダイオードAと全く同様
に作成した。
【0147】また、ダイオードFは、銅箔903として
8mm×15mm×200μm厚の銅箔を用い、銅箔9
03の面積と厚みを変更した以外は、実施例1に係るダ
イオードAと全く同様に作成した。
8mm×15mm×200μm厚の銅箔を用い、銅箔9
03の面積と厚みを変更した以外は、実施例1に係るダ
イオードAと全く同様に作成した。
【0148】完成したダイオードD、E、Fの順逆方向
特性は、実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向
電流2アンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2
V、逆方向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロア
ンペア以下であった。
特性は、実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向
電流2アンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2
V、逆方向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロア
ンペア以下であった。
【0149】<実施例5>実施例5に係る半導体装置で
は、ダイオードGを30個作成した。
は、ダイオードGを30個作成した。
【0150】なお、上述した実施例1に係る半導体装置
と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して説
明する。
と同様の機能を有する部材には、同一の符号を付して説
明する。
【0151】ダイオードGは、モールドする樹脂905
として、エポキシ樹脂の代わりにEEA(エチレン−ア
クリル酸エチル共重合体)樹脂(アクリル酸エチル含有
量15wt%)を用いた点が、実施例1に係るダイオー
ドAとは異なっており、それ以外は実施例1に係るダイ
オードAと全く同様に作成した。
として、エポキシ樹脂の代わりにEEA(エチレン−ア
クリル酸エチル共重合体)樹脂(アクリル酸エチル含有
量15wt%)を用いた点が、実施例1に係るダイオー
ドAとは異なっており、それ以外は実施例1に係るダイ
オードAと全く同様に作成した。
【0152】EEAモールドの作成方法としては、まず
厚み230μmのシート状EEAを5mm角の大きさに
切り出し、銅箔902上であってかつ半導体チップ90
1上に載置した。その後、EEAを載置した方向から、
1気圧の圧力を印加したまま、150℃で30分間の熱
処理を行った。上記方法により、溶融したEEAが半導
体チップ901の周囲に回り込み、銅箔903の下面が
露出した状態でモールドが完成した。
厚み230μmのシート状EEAを5mm角の大きさに
切り出し、銅箔902上であってかつ半導体チップ90
1上に載置した。その後、EEAを載置した方向から、
1気圧の圧力を印加したまま、150℃で30分間の熱
処理を行った。上記方法により、溶融したEEAが半導
体チップ901の周囲に回り込み、銅箔903の下面が
露出した状態でモールドが完成した。
【0153】完成したダイオードGの順逆方向特性は、
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98±0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98±0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
【0154】<比較例1>上述した実施例1〜5に係る
半導体装置に対する比較対象として、比較例1に係る半
導体装置を作成した。
半導体装置に対する比較対象として、比較例1に係る半
導体装置を作成した。
【0155】比較例1に係る半導体装置は、エボキシ樹
脂を設けないこと以外は実施例1に係る半導体装置と全
く同様にして、ダイオードHを30個作成した。
脂を設けないこと以外は実施例1に係る半導体装置と全
く同様にして、ダイオードHを30個作成した。
【0156】完成したダイオードHの順逆方向特性は、
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
【0157】<比較例2>上述した実施例1〜5に係る
半導体装置に対する比較対象として、比較例2に係る半
導体装置を作成した。
半導体装置に対する比較対象として、比較例2に係る半
導体装置を作成した。
【0158】図13は、比較例2に係る半導体装置の外
観を示す模式図である。
観を示す模式図である。
【0159】図13中、1201は半導体チップ、12
02,1203は金属箔、1204はろう材、1205
はモールド樹脂を示す。
02,1203は金属箔、1204はろう材、1205
はモールド樹脂を示す。
【0160】比較例2に係る半導体装置では、ダイオー
ドIを30個作成した。
ドIを30個作成した。
【0161】ダイオードIは、銅箔を露出することなく
樹脂を設けた点が、実施例1に係るダイオードAとは異
なっており、それ以外は実施例1に係るダイオードAと
全く同様に作成した。すなわち、比較例2に係るダイオ
ードIは、市販のモールドパッケージダイオードを意識
したものである。
樹脂を設けた点が、実施例1に係るダイオードAとは異
なっており、それ以外は実施例1に係るダイオードAと
全く同様に作成した。すなわち、比較例2に係るダイオ
ードIは、市販のモールドパッケージダイオードを意識
したものである。
【0162】完成したダイオードIの順逆方向特性は、
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
実施例1に係るダイオードAと同様に、順方向電流2ア
ンペアでの順方向電圧Vfは0.98土0.2V、逆方
向600Vでの逆方向電流IRは1マイクロアンペア以
下であった。
【0163】<比較実験1>上述したダイオードA〜I
に対して、以下の比較実験を行った。試験(1)は膜厚
検査を行うための試験であり、試験(2)は半導体装置
の放熱性を調査するための試験である。また、試験
(3)(4)は耐腐食性を調査するための試験である。
すなわち、試験(3)は水分の侵入に対する耐性を調査
するための試験であり、試験(4)は酢酸に対する耐性
を調査するための試験である。
に対して、以下の比較実験を行った。試験(1)は膜厚
検査を行うための試験であり、試験(2)は半導体装置
の放熱性を調査するための試験である。また、試験
(3)(4)は耐腐食性を調査するための試験である。
すなわち、試験(3)は水分の侵入に対する耐性を調査
するための試験であり、試験(4)は酢酸に対する耐性
を調査するための試験である。
【0164】(1)膜厚検査 膜厚検査では、各ダイオードの膜厚をマイクロメーター
で測定した。
で測定した。
【0165】(2)Tc(ケース温度)測定 Tc測定のための試験を説明する概略図を図14に示
す。
す。
【0166】Tc測定のための試験では、30cm×3
0cm×10mm厚のアルミ製の放熱フィン1700を
用意し、図14で示すように予め決めた所定位置にダイ
オードを載置する。この際に、ダイオードの金属箔90
3,1003,1103,1203の露出面が必ずアル
ミフィン1700に接触するように載置した。また、完
全にモールドしたダイオードIに関してだけは、接触が
不可能なため、モールド樹脂を通してN側を接触させ
た。
0cm×10mm厚のアルミ製の放熱フィン1700を
用意し、図14で示すように予め決めた所定位置にダイ
オードを載置する。この際に、ダイオードの金属箔90
3,1003,1103,1203の露出面が必ずアル
ミフィン1700に接触するように載置した。また、完
全にモールドしたダイオードIに関してだけは、接触が
不可能なため、モールド樹脂を通してN側を接触させ
た。
【0167】また、載置したダイオードの金属箔で、か
つアルミフィン1700に近い側の金属箔903,10
03,1103,1203の所定位置にCA熱電対17
01を貼り付け、マルチメーター1702にて温度がモ
ニターできるように準備した。
つアルミフィン1700に近い側の金属箔903,10
03,1103,1203の所定位置にCA熱電対17
01を貼り付け、マルチメーター1702にて温度がモ
ニターできるように準備した。
【0168】このような状態で、室温25℃でダイオー
ドの順方向に2Aの定電流を1時間通電し、1時間後の
温度をマルチメーターから読み取った。これによって、
各ダイオードの温度を測定し、その温度の高低により放
熱性を判断した。
ドの順方向に2Aの定電流を1時間通電し、1時間後の
温度をマルチメーターから読み取った。これによって、
各ダイオードの温度を測定し、その温度の高低により放
熱性を判断した。
【0169】(3)HH試験 HH試験では、気温85℃、湿度85%の環境下に、そ
れぞれのダイオードを2000時間放置した。この試験
においては、試験前に初期特性値(VF、IR)を測定
しておき、試験後にVFは×1、IRは×2以上の特性
を示したものに関してNGとした。また、試験終了後、
モールド樹脂を剥離し、ダイオードの半田部に外観上腐
食が発生しているものに関してもNGとした。
れぞれのダイオードを2000時間放置した。この試験
においては、試験前に初期特性値(VF、IR)を測定
しておき、試験後にVFは×1、IRは×2以上の特性
を示したものに関してNGとした。また、試験終了後、
モールド樹脂を剥離し、ダイオードの半田部に外観上腐
食が発生しているものに関してもNGとした。
【0170】(4)酢酸雰囲気試験 酢酸雰囲気試験では、室温で、酢酸100%雰囲気下に
各ダイオードを100時間放置した。この試験において
は、試験前に初期特性値(VF、IR)を測定してお
き、試験後にVFは×1、IRは×2以上の特性を示し
たものに関してNGとした。また、試験終了後、モール
ド樹脂を剥離し、ダイオードの半田部に外観上腐食が発
生しているものに関してもNGとした。
各ダイオードを100時間放置した。この試験において
は、試験前に初期特性値(VF、IR)を測定してお
き、試験後にVFは×1、IRは×2以上の特性を示し
たものに関してNGとした。また、試験終了後、モール
ド樹脂を剥離し、ダイオードの半田部に外観上腐食が発
生しているものに関してもNGとした。
【0171】以上4項目の試験に関して、A〜Iのダイ
オードを各5個ずつ用いて試験を行った。
オードを各5個ずつ用いて試験を行った。
【0172】比較実験1の結果を表1に示す。
【0173】
【表1】
【0174】以下、表1を参照しつつ、各試験結果を説
明する。
明する。
【0175】試験(1)の結果より、膜厚に関しては、
各ダイオードとも非常に薄型のダイオードが作成可能で
あることがわかる。特に、ダイオードCとダイオードI
を比較すると、100μm程度膜厚を減少することがで
きる。
各ダイオードとも非常に薄型のダイオードが作成可能で
あることがわかる。特に、ダイオードCとダイオードI
を比較すると、100μm程度膜厚を減少することがで
きる。
【0176】なお、ダイオードIは、市販のモールドパ
ッケージダイオードの代用として作成したもので、ダイ
オードI自体が市販品に比べてかなり薄く作成されてお
り、仮に市販品のダイオードが最低でも1mmの膜厚を
有することを考えると、約半分程度の膜厚の実現が可能
である。また、本実施例において、例えばダイオードC
は、100μm厚の銅箔を使用したものであるが、50
μmの銅箔を使用した場合には、さらに100μmの膜
厚減となり、本発明で提案するダイオード(半導体装
置)が非常に薄型であることが明らかである。
ッケージダイオードの代用として作成したもので、ダイ
オードI自体が市販品に比べてかなり薄く作成されてお
り、仮に市販品のダイオードが最低でも1mmの膜厚を
有することを考えると、約半分程度の膜厚の実現が可能
である。また、本実施例において、例えばダイオードC
は、100μm厚の銅箔を使用したものであるが、50
μmの銅箔を使用した場合には、さらに100μmの膜
厚減となり、本発明で提案するダイオード(半導体装
置)が非常に薄型であることが明らかである。
【0177】また、試験(2)の結果より、ダイオード
Iのケース温度が突出して高くなっているのに対し、銅
箔が露出した構成であるダイオードA〜Hに関しては、
ケース温度が低くなっており、放熱性が良くなっている
ことが推測される。このことは、本発明のダイオード
(半導体装置)の適用範囲が広いことを示しており、同
じチップを使用しても環境温度が高い場所や、2Aより
も大きい電流範囲で使用可能であることを示している。
Iのケース温度が突出して高くなっているのに対し、銅
箔が露出した構成であるダイオードA〜Hに関しては、
ケース温度が低くなっており、放熱性が良くなっている
ことが推測される。このことは、本発明のダイオード
(半導体装置)の適用範囲が広いことを示しており、同
じチップを使用しても環境温度が高い場所や、2Aより
も大きい電流範囲で使用可能であることを示している。
【0178】さらに、ダイオードAとBの比較により、
N側に接続された金属箔を露出させておく方がより放熱
性が良くなることが明らかであり、また、ダイオード
A,D,E,Fの比較により、N側に接続された金属箔
を厚く、大きく作成しておくことによって、さらに放熱
性に効果があることが明白である。
N側に接続された金属箔を露出させておく方がより放熱
性が良くなることが明らかであり、また、ダイオード
A,D,E,Fの比較により、N側に接続された金属箔
を厚く、大きく作成しておくことによって、さらに放熱
性に効果があることが明白である。
【0179】次に、試験(3)、(4)の結果について
考察する。
考察する。
【0180】試験(3)、(4)に関してNGであった
のはダイオードHだけであった。ダイオードHは、試験
後の特性は両方の試験とも1V以上の値を示しており、
ダイオード順方向特性の直列抵抗成分が上昇したものと
考えられる。また、外観に関しては、試験(3)、
(4)とも半田部に白い析出物が観察されており、明ら
かに半田部で腐食が起こっていることが確認された。ダ
イオードA〜G及びIに関しては、このような白い析出
物は観察されなかった。これらの結果から、本発明のダ
イオード(半導体装置)の耐腐食性は、従来のモールド
パッケージダイオードと少なくとも同等の効果があると
考えられる。
のはダイオードHだけであった。ダイオードHは、試験
後の特性は両方の試験とも1V以上の値を示しており、
ダイオード順方向特性の直列抵抗成分が上昇したものと
考えられる。また、外観に関しては、試験(3)、
(4)とも半田部に白い析出物が観察されており、明ら
かに半田部で腐食が起こっていることが確認された。ダ
イオードA〜G及びIに関しては、このような白い析出
物は観察されなかった。これらの結果から、本発明のダ
イオード(半導体装置)の耐腐食性は、従来のモールド
パッケージダイオードと少なくとも同等の効果があると
考えられる。
【0181】<実施例6>次に、本発明の光起電力素子
に係る実施例6について説明する。
に係る実施例6について説明する。
【0182】まず、図15に基づいて、実施例6に係る
光起電力素子を用いた非晶質系太陽電池モジュールを作
成する手順を説明する。
光起電力素子を用いた非晶質系太陽電池モジュールを作
成する手順を説明する。
【0183】図15は、本発明の実施例6に係る光起電
力素子の外観を示す模式図であり、図15(a)は光起
電力素子を受光面側から見た図、図15(b)は光起電
力素子同士を直列に接続した場合を受光面側から見た
図、図15(c)は図15(c)におけるXX’断面図
である。
力素子の外観を示す模式図であり、図15(a)は光起
電力素子を受光面側から見た図、図15(b)は光起電
力素子同士を直列に接続した場合を受光面側から見た
図、図15(c)は図15(c)におけるXX’断面図
である。
【0184】図15(a)中、1400は、基板,下部
電極層,光起電力機能を担う非品質シリコン,上部電極
層の3者を含む300mm×280mmの光起電力素子
であり、前記実施態様で記述した材料を適宜に使用する
ことができる。特に、ここでは光起電力素子全体を支え
る基板は厚さ150μmのステンレス板で、基板の直上
には下部電極層がスパッタ法によりAl、ZnOがそれ
ぞれ数千Åの厚みを持たせて順次堆積して形成した。ま
た非晶質シリコンは、プラズマCVD法により基板側よ
りn型、i型、p型、n型、i型、p型、n型、i型、
p型の各層を順次堆積して形成した。また上部電極層は
透明電極膜であって、O2雰囲気中、Inを抵抗加熱法
にて蒸着し、厚み約700Åの酸化インジウム薄膜を形
成した。
電極層,光起電力機能を担う非品質シリコン,上部電極
層の3者を含む300mm×280mmの光起電力素子
であり、前記実施態様で記述した材料を適宜に使用する
ことができる。特に、ここでは光起電力素子全体を支え
る基板は厚さ150μmのステンレス板で、基板の直上
には下部電極層がスパッタ法によりAl、ZnOがそれ
ぞれ数千Åの厚みを持たせて順次堆積して形成した。ま
た非晶質シリコンは、プラズマCVD法により基板側よ
りn型、i型、p型、n型、i型、p型、n型、i型、
p型の各層を順次堆積して形成した。また上部電極層は
透明電極膜であって、O2雰囲気中、Inを抵抗加熱法
にて蒸着し、厚み約700Åの酸化インジウム薄膜を形
成した。
【0185】次に、こうして作成した光起電力素子14
00に対して、光起電力素子1400の外周切断時に発
生する基板と透明電極膜との短絡の悪影響を有効受光範
囲に及ぼさないようにするため、透明電極膜上にFeC
l3、AlCl3等を含むエッチングペーストをスクリー
ン印刷法により塗布し、加熱後洗浄することによって、
光起電力素子1400の透明電極膜の一部を線状に除去
しエッチングライン1401を形成した。
00に対して、光起電力素子1400の外周切断時に発
生する基板と透明電極膜との短絡の悪影響を有効受光範
囲に及ぼさないようにするため、透明電極膜上にFeC
l3、AlCl3等を含むエッチングペーストをスクリー
ン印刷法により塗布し、加熱後洗浄することによって、
光起電力素子1400の透明電極膜の一部を線状に除去
しエッチングライン1401を形成した。
【0186】その後、光起電力素子1400の裏面側端
部の1辺に、裏面側電力取り出し部材である幅7.5m
m、長さ285mm、厚み100μmの軟質銅箔140
3をレーザー溶接法にて導電性基板に接続した。
部の1辺に、裏面側電力取り出し部材である幅7.5m
m、長さ285mm、厚み100μmの軟質銅箔140
3をレーザー溶接法にて導電性基板に接続した。
【0187】その後、光起電力素子1400の端部の裏
面側導電性箔体と対向する受光面側の1辺に、幅7.5
mm、長さ280mm、厚み200μmのポリイミド基
材絶縁テープ1404を貼った。この際、絶縁テープ1
404を、光起電力素子1400の右側の辺のエッジ部
をカバーするように、少しはみ出させて添付した。
面側導電性箔体と対向する受光面側の1辺に、幅7.5
mm、長さ280mm、厚み200μmのポリイミド基
材絶縁テープ1404を貼った。この際、絶縁テープ1
404を、光起電力素子1400の右側の辺のエッジ部
をカバーするように、少しはみ出させて添付した。
【0188】その後、予めカーボンペーストをφl00
μmの銅ワイヤーにコートしたカーボンコートワイヤー
を5.6mmピッチで光起電力素子1400および絶縁
接着テープ1404上に形成し集電電極1405とし
た。
μmの銅ワイヤーにコートしたカーボンコートワイヤー
を5.6mmピッチで光起電力素子1400および絶縁
接着テープ1404上に形成し集電電極1405とし
た。
【0189】さらに、絶縁接着テープ1404の上部
に、集電電極1405のさらなる集電電極であるバスバ
ー電極1406を形成した。このバスバー電極1406
は、幅5mm、長さ285mm、厚み100μmの銀メ
ッキ銅箔を用いて絶縁テープ上に載置した後、200
℃、3kg/cm2、180秒の条件で、ワイヤー電極
と同時に加熱加圧固定する。この際、図15(a)に示
すように、銀メッキ銅箔(バスバー電極)1406の片
側が、光起電力素子1400から外側に延びるようにし
ておいた。
に、集電電極1405のさらなる集電電極であるバスバ
ー電極1406を形成した。このバスバー電極1406
は、幅5mm、長さ285mm、厚み100μmの銀メ
ッキ銅箔を用いて絶縁テープ上に載置した後、200
℃、3kg/cm2、180秒の条件で、ワイヤー電極
と同時に加熱加圧固定する。この際、図15(a)に示
すように、銀メッキ銅箔(バスバー電極)1406の片
側が、光起電力素子1400から外側に延びるようにし
ておいた。
【0190】次に、銀メッキ銅箔(バスバー電極)14
06上であって、光起電力素子から飛び出した部分の一
部に、7mm□、厚さ130μmの透明PETテープ1
407を添付した。
06上であって、光起電力素子から飛び出した部分の一
部に、7mm□、厚さ130μmの透明PETテープ1
407を添付した。
【0191】このようにして作製された光起電力素子1
400を、電気的に直列接続した状態を図15(b)
(c)に示している。
400を、電気的に直列接続した状態を図15(b)
(c)に示している。
【0192】図15(b)(c)に示すように、光起電
力素子1400から外側に伸びたPETテープ付き銀メ
ッキ銅箔(バスバー電極)1406を隣接する光起電力
素子1400の裏面側にもぐりこませ、裏面側の軟質銅
箔1403と半田接続した。この際、PETテープ14
07が隣接する光起電力素子1400のエッジ部に接触
するように接続を行った。なお、図中では、2直列の場
合を図示しているが、実際には5枚の光起電力素子14
00を直列接続した。
力素子1400から外側に伸びたPETテープ付き銀メ
ッキ銅箔(バスバー電極)1406を隣接する光起電力
素子1400の裏面側にもぐりこませ、裏面側の軟質銅
箔1403と半田接続した。この際、PETテープ14
07が隣接する光起電力素子1400のエッジ部に接触
するように接続を行った。なお、図中では、2直列の場
合を図示しているが、実際には5枚の光起電力素子14
00を直列接続した。
【0193】次に、実施例2で作成したダイオードB1
408を、図15(c)のように光起電力素子の裏面側
に配置し、ダイオードのP側に接続された外部接続用端
子を裏面軟質銅箔1403に、またダイオードのN側に
接続された外部接続用端子をバスバー電極1406に半
田で接続し、電気的な導通を確保した。ダイオードB1
408は、光起電力素子1個に対して1個接続した。
408を、図15(c)のように光起電力素子の裏面側
に配置し、ダイオードのP側に接続された外部接続用端
子を裏面軟質銅箔1403に、またダイオードのN側に
接続された外部接続用端子をバスバー電極1406に半
田で接続し、電気的な導通を確保した。ダイオードB1
408は、光起電力素子1個に対して1個接続した。
【0194】次に、これらの5直列の光起電力素子モジ
ュールを樹脂被覆(ラミネーション)した。以下にその
手順を示す。
ュールを樹脂被覆(ラミネーション)した。以下にその
手順を示す。
【0195】5直列の光起電力素子、EVA(エチレン
−酢酸ビニル共重合体)シート(厚さ460マイクロメ
ートル)、片面をプラズマ放電処理した無延伸のETF
E(ポリエチレンテトラフルオロエチレン)フィルム
(厚さ50μm)、ポリエチレンテレフタレート(PE
Dフィルム(厚さ50μm))、有機不織布、ガルバリ
ウム鋼板(厚さ0.4mm)をETFE/EVA/有機
不織布/5直列の光起電力素子/EVA/PET/EV
A/鋼板という順に重ねて太陽電池モジュール積層体と
した。
−酢酸ビニル共重合体)シート(厚さ460マイクロメ
ートル)、片面をプラズマ放電処理した無延伸のETF
E(ポリエチレンテトラフルオロエチレン)フィルム
(厚さ50μm)、ポリエチレンテレフタレート(PE
Dフィルム(厚さ50μm))、有機不織布、ガルバリ
ウム鋼板(厚さ0.4mm)をETFE/EVA/有機
不織布/5直列の光起電力素子/EVA/PET/EV
A/鋼板という順に重ねて太陽電池モジュール積層体と
した。
【0196】次に、ETFEの外側に、離型用テフロン
フィルム(厚さ50μm)を介してステンレスメッシュ
(40×40メッシュ、線径0.15mm)を配し、積
層体を真空ラミネート装置を用いて加圧脱気しながら、
150℃で30分加熱圧着することにより図16に示す
太陽電池モジュールを得た。
フィルム(厚さ50μm)を介してステンレスメッシュ
(40×40メッシュ、線径0.15mm)を配し、積
層体を真空ラミネート装置を用いて加圧脱気しながら、
150℃で30分加熱圧着することにより図16に示す
太陽電池モジュールを得た。
【0197】図16は、本発明に係る太陽電池モジュー
ルの一例を示すもので、図16(a)は太陽電池モジュ
ールの斜視図、図16(b)は、太陽電池モジュールの
断面図である。
ルの一例を示すもので、図16(a)は太陽電池モジュ
ールの斜視図、図16(b)は、太陽電池モジュールの
断面図である。
【0198】表面被覆材の表面には、メッシュにより最
大30μmの高低差の凹凸が形成された。また、出力端
子を予め光起電力素子裏面にまわしておき、ラミネート
後、ガルバリウム鋼板1501に予め開けておいた端子
取り出し口から出力が取り出せるようにした。さらに、
この太陽電池モジュールの補強板1501の光起電力素
子1504よりも外側に延在している部分を、ローラー
フォーマーにて折り曲げ加工して、補強板1501がそ
のまま屋根材の機能を果たす「屋根材一体型太陽電池モ
ジュール」とした。
大30μmの高低差の凹凸が形成された。また、出力端
子を予め光起電力素子裏面にまわしておき、ラミネート
後、ガルバリウム鋼板1501に予め開けておいた端子
取り出し口から出力が取り出せるようにした。さらに、
この太陽電池モジュールの補強板1501の光起電力素
子1504よりも外側に延在している部分を、ローラー
フォーマーにて折り曲げ加工して、補強板1501がそ
のまま屋根材の機能を果たす「屋根材一体型太陽電池モ
ジュール」とした。
【0199】なお、ここで用いたEVAシートは、太陽
電池の封止材として広く用いられているものであり、E
VA樹脂(酢酸ビニル含有率33%)100重量部に対
して架橋剤として有機過酸化物を1.5重量部、紫外線
吸収剤を0.3重量部、光安定化剤を0.1重量部、熱
酸化防止剤を0.22重量部、シランカップリング剤を
0.25重量部を配合したものである。
電池の封止材として広く用いられているものであり、E
VA樹脂(酢酸ビニル含有率33%)100重量部に対
して架橋剤として有機過酸化物を1.5重量部、紫外線
吸収剤を0.3重量部、光安定化剤を0.1重量部、熱
酸化防止剤を0.22重量部、シランカップリング剤を
0.25重量部を配合したものである。
【0200】上述した手順により、屋根材一体型太陽電
池モジュールA’を作成した。
池モジュールA’を作成した。
【0201】<実施例7>次に、本発明の光起電力素子
に係る実施例7について説明する。
に係る実施例7について説明する。
【0202】実施例7では、光起電力素子を用いて屋根
材一体型太陽電池モジュールB’を作成した。
材一体型太陽電池モジュールB’を作成した。
【0203】図17は、本発明の実施例7に係る光起電
力素子の外観を示す模式図であり、図17(a)は光起
電力素子を受光面側から見た図、図17(b)は光起電
力素子同士を直列に接続した場合を受光面側から見た
図、図17(c)は図17(b)におけるXX’断面図
である。
力素子の外観を示す模式図であり、図17(a)は光起
電力素子を受光面側から見た図、図17(b)は光起電
力素子同士を直列に接続した場合を受光面側から見た
図、図17(c)は図17(b)におけるXX’断面図
である。
【0204】図17(a)(b)(c)中、1600は
光起電力素子、1601はエッチングライン、1603
は銅箔、1604は基材絶縁テープ、1605は集電電
極、1606はバスバー電極、1607は透明PETテ
ープ、1608はダイオードBを示す。
光起電力素子、1601はエッチングライン、1603
は銅箔、1604は基材絶縁テープ、1605は集電電
極、1606はバスバー電極、1607は透明PETテ
ープ、1608はダイオードBを示す。
【0205】実施例7に係る光起電力素子1600で
は、ダイオードBを光起電力素子1600の非受光面側
(裏面側)ではなく、受光面側に接続した点が、実施例
6に係る光起電力素子1400とは異なっており、それ
以外は実施例6に係る光起電力素子1400と同様にし
て作成した。
は、ダイオードBを光起電力素子1600の非受光面側
(裏面側)ではなく、受光面側に接続した点が、実施例
6に係る光起電力素子1400とは異なっており、それ
以外は実施例6に係る光起電力素子1400と同様にし
て作成した。
【0206】ダイオードBの接続に関しては、図17
(c)に示すようにダイオードBのP側に接続された外
部接続用端子をバスバー電極1606に、またダイオー
ドBのN側に接続された外部接続用端子を隣接する光起
電力素子1600のバスバー電極1606に半田で接続
した。
(c)に示すようにダイオードBのP側に接続された外
部接続用端子をバスバー電極1606に、またダイオー
ドBのN側に接続された外部接続用端子を隣接する光起
電力素子1600のバスバー電極1606に半田で接続
した。
【0207】<実施例8>次に、本発明の光起電力素子
に係る実施例8について説明する。
に係る実施例8について説明する。
【0208】実施例8では、光起電力素子を用いて屋根
材一体型太陽電池モジュールC’を作成した。
材一体型太陽電池モジュールC’を作成した。
【0209】実施例8に係る光起電力素子は、ダイオー
ドBを用いる代わりに、実施例5で述べたダイオードG
を使用した点が、実施例6に係る光起電力素子1400
とは異なっており、それ以外は実施例6に係る光起電力
素子1400と同様にして行った。
ドBを用いる代わりに、実施例5で述べたダイオードG
を使用した点が、実施例6に係る光起電力素子1400
とは異なっており、それ以外は実施例6に係る光起電力
素子1400と同様にして行った。
【0210】<比較例3>上述した実施例6〜8に係る
光起電力素子に対する比較対象として、比較例3に係る
光起電力素子を作成した。
光起電力素子に対する比較対象として、比較例3に係る
光起電力素子を作成した。
【0211】比較例3では、光起電力素子を用いて屋根
材一体型太陽電池モジュールD’を作成した。
材一体型太陽電池モジュールD’を作成した。
【0212】比較例3に係る光起電力素子は、ダイオー
ドBを用いる代わりに、比較例1で述べたダイオードH
を使用した点が、実施例6に係る光起電力素子1400
とは異なっており、それ以外は実施例6に係る光起電力
素子1400と同様にして行った。
ドBを用いる代わりに、比較例1で述べたダイオードH
を使用した点が、実施例6に係る光起電力素子1400
とは異なっており、それ以外は実施例6に係る光起電力
素子1400と同様にして行った。
【0213】<比較例4>上述した実施例6〜8に係る
光起電力素子に対する比較対象として、比較例4に係る
光起電力素子を作成した。
光起電力素子に対する比較対象として、比較例4に係る
光起電力素子を作成した。
【0214】比較例4では、光起電力素子を用いて屋根
材一体型太陽電池モジュールE’を作成した。
材一体型太陽電池モジュールE’を作成した。
【0215】比較例4に係る光起電力素子は、ダイオー
ドBを用いる代わりに、比較例2で述べたダイオードI
を使用した点が、実施例6に係る光起電力素子1400
とは異なっており、それ以外は実施例6に係る光起電力
素子1400と同様にして行った。
ドBを用いる代わりに、比較例2で述べたダイオードI
を使用した点が、実施例6に係る光起電力素子1400
とは異なっており、それ以外は実施例6に係る光起電力
素子1400と同様にして行った。
【0216】<比較実験2>上述した屋根一体型太陽電
池モジュールA’〜E’に対して、実際の屋根の取り付
けと同じ設置台に設置し、実際の屋外での環境状況を想
定し、以下の比較実験を行った。
池モジュールA’〜E’に対して、実際の屋根の取り付
けと同じ設置台に設置し、実際の屋外での環境状況を想
定し、以下の比較実験を行った。
【0217】試験(1)は、光起電力素子が太陽光に対
して影になった際のダイオード通電を想定した場合の試
験であり、試験(2)は、屋外での水分の侵入を想定し
た場合の試験であり、試験(3)は、塩害地域に太陽電
池を設置した際の腐蝕を想定した試験である。
して影になった際のダイオード通電を想定した場合の試
験であり、試験(2)は、屋外での水分の侵入を想定し
た場合の試験であり、試験(3)は、塩害地域に太陽電
池を設置した際の腐蝕を想定した試験である。
【0218】(1)通電試験 通電試験では、75℃の炉中で、光起電力素子の短絡電
流であるIsc=3.2(A)をダイオードに1000
時間通電した。通電試験に関しては、試験後にモジュー
ルを分解してダイオード特性を測定すると同時に、ダイ
オードチップ近傍の状況を観察した。
流であるIsc=3.2(A)をダイオードに1000
時間通電した。通電試験に関しては、試験後にモジュー
ルを分解してダイオード特性を測定すると同時に、ダイ
オードチップ近傍の状況を観察した。
【0219】(2)高温高湿試験 高温高湿試験では、IEEE規格draft9に準拠し
た高温高湿試験(温度85℃、湿度85%)を3000
時間行った。本試験に関しても通電試験と同様に、試験
後にモジュールを分解してダイオード特性を測定すると
同時に、ダイオードチップ近傍の状況を観察した。
た高温高湿試験(温度85℃、湿度85%)を3000
時間行った。本試験に関しても通電試験と同様に、試験
後にモジュールを分解してダイオード特性を測定すると
同時に、ダイオードチップ近傍の状況を観察した。
【0220】(3)塩水噴霧試験 塩水噴霧試験では、JASO−M609に準拠した塩水
腐蝕試験を100サイクル行った。本試験に関しても通
電試験と同様に、試験後にモジュールを分解してダイオ
ード特性を測定すると同時に、ダイオードチップ近傍の
状況を観察した。
腐蝕試験を100サイクル行った。本試験に関しても通
電試験と同様に、試験後にモジュールを分解してダイオ
ード特性を測定すると同時に、ダイオードチップ近傍の
状況を観察した。
【0221】また、これら全ての試験においては、試験
前後での光起電力素子の変換効率をソーラーシミュレー
タを用いて測定した。
前後での光起電力素子の変換効率をソーラーシミュレー
タを用いて測定した。
【0222】比較実験2結果を表2に示す。
【0223】
【表2】
【0224】以下、表2を参照しつつ、各試験結果を説
明する。
明する。
【0225】通電試験については、どのモジュールとも
変換効率の低下はなく、また、ダイオードの特性異常も
皆無であった。しかしながら、試験後の観察では、太陽
電池モジュールE’のダイオード周辺部だけEVAが黄
変し、かつチップ周辺部で太陽電池の基板であるSUS
とEVAが剥離している様子が観察された。これは、モ
ジュールE’のダイオードだけが、放熱性が悪かったた
めと考えられる。
変換効率の低下はなく、また、ダイオードの特性異常も
皆無であった。しかしながら、試験後の観察では、太陽
電池モジュールE’のダイオード周辺部だけEVAが黄
変し、かつチップ周辺部で太陽電池の基板であるSUS
とEVAが剥離している様子が観察された。これは、モ
ジュールE’のダイオードだけが、放熱性が悪かったた
めと考えられる。
【0226】また、高温高湿試験に関しては、モジュー
ルA’、B’、C’、E’に関しては、変換効率、ダイ
オード特性とも異常無しであったが、モジュールD’の
ダイオードは、チップの半田部に多量の白錆が発生して
いた。また、この白錆に起因すると思われる特性の異常
が認められ、順方向の抵抗異常が見られた。
ルA’、B’、C’、E’に関しては、変換効率、ダイ
オード特性とも異常無しであったが、モジュールD’の
ダイオードは、チップの半田部に多量の白錆が発生して
いた。また、この白錆に起因すると思われる特性の異常
が認められ、順方向の抵抗異常が見られた。
【0227】また、モジュールB’のダイオードに関し
ては、チップの半田部周辺に、非常に少量の白錆の発生
が認められた。この現象に関しては、モジュールA’の
ダイオードが光起電力素子と補強板であるバッキングプ
レート間に挟まれていて水分の侵入方向が規制されるの
に対し、モジュールB’のダイオードは規制がなく、そ
の差が現れたものである。
ては、チップの半田部周辺に、非常に少量の白錆の発生
が認められた。この現象に関しては、モジュールA’の
ダイオードが光起電力素子と補強板であるバッキングプ
レート間に挟まれていて水分の侵入方向が規制されるの
に対し、モジュールB’のダイオードは規制がなく、そ
の差が現れたものである。
【0228】塩水噴霧試験に関しては、高温高湿試験と
全く同様の傾向が現れた。
全く同様の傾向が現れた。
【0229】以上の結果から、本発明の半導体装置が接
続された光起電力素子は、従来よりも信頼性が向上して
いると考えることができる。
続された光起電力素子は、従来よりも信頼性が向上して
いると考えることができる。
【0230】
【発明の効果】本発明に係る半導体装置は上述した構成
からなるので、極めて薄型で、放熱性がよく、また耐腐
蝕性に優れている。
からなるので、極めて薄型で、放熱性がよく、また耐腐
蝕性に優れている。
【0231】また、本発明に係る半導体装置をバイパス
ダイオードとして使用した光起電力素子モジュール、太
陽電池モジュール、建材においても、上述した効果を奏
することができ、従来の技術が有していた種々の問題点
を解決して高信頼性を確保することができる。
ダイオードとして使用した光起電力素子モジュール、太
陽電池モジュール、建材においても、上述した効果を奏
することができ、従来の技術が有していた種々の問題点
を解決して高信頼性を確保することができる。
【図1】本発明の実施態様の半導体装置の概略図であ
る。
る。
【図2】従来の太陽電池モジュールの一例の概略図であ
る。
る。
【図3】従来の半導体装置の概略図である。
【図4】本発明の半導体装置で用いる金属箔の露出状態
を説明するための概略図である。
を説明するための概略図である。
【図5】本発明の光起電力素子モジュールの概略構成図
である。
である。
【図6】本発明の光起電力素子モジュールの概略構成図
である。
である。
【図7】アモルファスシリコン太陽電池の層構成を示す
概略図である。
概略図である。
【図8】本発明の結晶系の光起電力素子モジュールの概
略構成図である。
略構成図である。
【図9】本発明の建材の斜視図である。
【図10】本発明の実施例1に係る半導体装置を示す概
略図である。
略図である。
【図11】本発明の実施例2に係る半導体装置を示す概
略図である。
略図である。
【図12】本発明の実施例3に係る半導体装置を示す概
略図である。
略図である。
【図13】本発明の比較例2に係る光半導体装置を示す
概略図である。
概略図である。
【図14】比較実験1のケース温度測定方法を説明する
概略図である。
概略図である。
【図15】本発明の実施例6に係る光起電力素子モジュ
ールを示す概略図である。
ールを示す概略図である。
【図16】本発明の太陽電池モジュールの斜視図及び断
面図である。
面図である。
【図17】本発明の実施例7に係る光起電力素子モジュ
ールを示す概略図である。
ールを示す概略図である。
100,200,300,507,706 半導体装置 101,201,301,401,901,1001,
1101,1201半導体チップ 102,103,202,203,302,303,4
02,403,902,903、102,1002,1
003,1102,1103,1201,1203 金
属箔 104,204,304,404,904,1004,
1104,1204ろう材 105,305,405,905,1005,110
5,1205 モールド樹脂 205 太陽電池 206,505 樹脂(被覆材) 501,501’ 光起電力素子 502,704 バスバー電極 503,503’,705 絶縁性部材 504 金属体 506,607,703 集電電極 508,509,1501 補強板 601 基板 602 下部電極 603,613,623 n型半導体層 604,614,624 i型半導体層 605,615,625 p型半導体層 606 上部電極 701 シリコン基板 702 裏面電極 800 建材 801 光起電力素子モジュール 802 固定部材 1400,1600 光起電力素子 1401,1601 エッチングライン 1403,1603 軟質銅箔 1404,1604 絶縁接着テープ 1405,1605 集電電極 1406,1606 バスバー電極 1407,1607 透明PETテープ 1408,1608 ダイオード 1502 EVA(充填材) 1503 PET(絶縁部材) 1504 光起電力素子 1505 ガラス繊維 1506 ETFE(表面フィルム) 1700 アルミフィン 1701 熱電対 1702 マルチメーター
1101,1201半導体チップ 102,103,202,203,302,303,4
02,403,902,903、102,1002,1
003,1102,1103,1201,1203 金
属箔 104,204,304,404,904,1004,
1104,1204ろう材 105,305,405,905,1005,110
5,1205 モールド樹脂 205 太陽電池 206,505 樹脂(被覆材) 501,501’ 光起電力素子 502,704 バスバー電極 503,503’,705 絶縁性部材 504 金属体 506,607,703 集電電極 508,509,1501 補強板 601 基板 602 下部電極 603,613,623 n型半導体層 604,614,624 i型半導体層 605,615,625 p型半導体層 606 上部電極 701 シリコン基板 702 裏面電極 800 建材 801 光起電力素子モジュール 802 固定部材 1400,1600 光起電力素子 1401,1601 エッチングライン 1403,1603 軟質銅箔 1404,1604 絶縁接着テープ 1405,1605 集電電極 1406,1606 バスバー電極 1407,1607 透明PETテープ 1408,1608 ダイオード 1502 EVA(充填材) 1503 PET(絶縁部材) 1504 光起電力素子 1505 ガラス繊維 1506 ETFE(表面フィルム) 1700 アルミフィン 1701 熱電対 1702 マルチメーター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 聡 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 清水 孝一 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 村上 勉 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 吉野 豪人 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2E108 KK04 LL03 LL04 MM00 NN07 5F051 BA03 BA18 EA06 EA17 JA07
Claims (11)
- 【請求項1】 2枚の金属箔間に半導体チップを挟持す
るとともに、ろう材を用いて電気的に接続した半導体装
置において、前記金属箔の少なくとも一方の少なくとも
一面が露出した状態で、少なくとも前記ろう材部が樹脂
モールドされていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 前記半導体チップがPN接合部を有する
とともに、少なくとも露出した金属箔が前記半導体チッ
プのN側と接続された金属箔であることを特徴とする請
求項1記載の半導体装置。 - 【請求項3】 前記半導体チップのN側と接続された一
方の金属箔の厚みが、他方の金属箔よりも厚いこと特徴
とする請求項1または2記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記半導体チップのN側と接続された一
方の金属箔が、他方の金属箔よりも大きい面積を有する
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の半
導体装置。 - 【請求項5】 前記樹脂モールドに使用する樹脂は、エ
ポキシ系の樹脂であることを特徴とする請求項1〜4の
いずれか1項記載の半導体装置。 - 【請求項6】 前記樹脂モールドに使用する樹脂は、エ
チレンと不飽和脂肪酸エステルとの共重合樹脂からなる
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の半
導体装置。 - 【請求項7】 複数の光起電力素子と、前記半導体装置
を有する光起電力素子モジュールにおいて、金属箔の露
出面が、光起電力素子の電極部材もしくは、光起電力素
子同士を電気的に接続する接続部材に密着した状態で接
続されている請求項1〜6のいずれか1項記載の半導体
装置を使用したことを特徴とする光起電力素子モジュー
ル。 - 【請求項8】 前記半導体装置の半導体チップは、ダイ
オードであり、該半導体装置は、複数の直列接続された
光起電力素子に対して並列に接続されていることを特徴
とする請求項7記載の光起電力素子モジュール。 - 【請求項9】 請求項7または8記載の光起電力素子モ
ジュールが、少なくとも一層以上の樹脂中に埋設されて
いることを特徴とする太陽電池モジュール。 - 【請求項10】 請求項7または8記載の光起電力素子
モジュールが、補強板上に樹脂封止され、前記半導体装
置が光起電力素子と補強板の間に設置されていることを
特徴とする太陽電池モジュール。 - 【請求項11】 請求項9または10記載の太陽電池モ
ジュールと、建材本体とが一体構造となっていることを
特徴とする建材。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP11013711A JP2000216421A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 半導体装置および当該半導体装置を使用した光起電力素子モジュ―ル、太陽電池モジュ―ル、建材 |
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JP11013711A JP2000216421A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 半導体装置および当該半導体装置を使用した光起電力素子モジュ―ル、太陽電池モジュ―ル、建材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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ID=11840829
Family Applications (1)
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JP11013711A Withdrawn JP2000216421A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | 半導体装置および当該半導体装置を使用した光起電力素子モジュ―ル、太陽電池モジュ―ル、建材 |
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-
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- 1999-01-22 JP JP11013711A patent/JP2000216421A/ja not_active Withdrawn
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