JP2000186225A - カラーフィルター用顔料の製造方法およびこれを用いたカラーフィルター - Google Patents
カラーフィルター用顔料の製造方法およびこれを用いたカラーフィルターInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】カラーフィルターからの不純物の発生を低減し
て液晶ディスプレイの表示不良を抑制・防止すること。 【解決手段】本発明は、フタロシアニンを塩素化および
/または臭素化する際の溶媒を特定したことにより顔料
に含まれる不純物の中でも液晶に溶解して液晶ディスプ
レイの表示不良を引き起こすおそれが高い不純物を効率
よく除去することができる。
て液晶ディスプレイの表示不良を抑制・防止すること。 【解決手段】本発明は、フタロシアニンを塩素化および
/または臭素化する際の溶媒を特定したことにより顔料
に含まれる不純物の中でも液晶に溶解して液晶ディスプ
レイの表示不良を引き起こすおそれが高い不純物を効率
よく除去することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
用顔料、カラーフィルター用カラーペーストおよびカラ
ーフィルターに関するものであり、さらに詳しくは、液
晶表示素子にしたときに表示ムラが発生しにくい顔料な
らびに該顔料を使用したカラーペーストおよびカラーフ
ィルターならびに液晶表示素子に関するものである。
用顔料、カラーフィルター用カラーペーストおよびカラ
ーフィルターに関するものであり、さらに詳しくは、液
晶表示素子にしたときに表示ムラが発生しにくい顔料な
らびに該顔料を使用したカラーペーストおよびカラーフ
ィルターならびに液晶表示素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子をカラー化するために、透
明基板上にR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の画素
を、ライン状またはモザイク状に配置したカラーフィル
ターが用いられている。たとえば、現在広く普及してい
るTFT(薄膜トランジスター)カラー液晶表示素子
は、カラーフィルターが形成された透明ガラス基板とT
FTが形成された透明ガラス基板の間に液晶を封入した
パネルと、バックライトと称される光源から構成され
る。バックライトから発する光が液晶パネルを通る際、
その透過率を液晶への印加電圧により制御することによ
って、画像が表示される。各画素はCRT蛍光体の色度
特性に類似させる必要があるため、顔料はバックライト
と液晶表示素子の光線透過特性に合うよう選択され、ま
た2種類以上の顔料を一定の割合で調色されて用いられ
ることが多い。例えばカラーフィルターのR(赤)画素
は、赤色、橙色、黄色の顔料を2種類以上を選び、一定
の割合で調色して用いられる。同様にG(緑)画素も、
緑色、橙色、黄色の顔料を2種類以上を選び、調色して
用いられる。顔料はこのように要求される色度特性を重
視して選ばれ、イオン性不純物については考慮されてい
ないのが実情である。一般に市販されている顔料にはナ
トリウム、カリウム、カルシウム、バリウムなどのアル
カリ金属を始めイオン性不純物が多く含まれている。ま
た、イオン性不純物、特にナトリウム、カリウムイオン
については、特開平7−198928号公報にアルカリ
金属であるナトリウム、カリウムを合計で0.001〜
80ppm含有するカラーペーストおよびイオン交換法
でナトリウム、カリウムの全部または一部を除去する電
子工業用カラーペーストの製造方法が示されている。本
発明者らは顔料に含まれる不純物のうち特にフタロシア
ニン骨格を持つ緑顔料である塩素化および/または・臭
素化した銅フタロシアニンである緑顔料に含まれる不純
物が液晶表示素子の表示特性に悪影響を与えることを見
出し、また、顔料の製造工程およびその後の精製工程に
ついて鋭意検討し本発明に到達したものである。
明基板上にR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の画素
を、ライン状またはモザイク状に配置したカラーフィル
ターが用いられている。たとえば、現在広く普及してい
るTFT(薄膜トランジスター)カラー液晶表示素子
は、カラーフィルターが形成された透明ガラス基板とT
FTが形成された透明ガラス基板の間に液晶を封入した
パネルと、バックライトと称される光源から構成され
る。バックライトから発する光が液晶パネルを通る際、
その透過率を液晶への印加電圧により制御することによ
って、画像が表示される。各画素はCRT蛍光体の色度
特性に類似させる必要があるため、顔料はバックライト
と液晶表示素子の光線透過特性に合うよう選択され、ま
た2種類以上の顔料を一定の割合で調色されて用いられ
ることが多い。例えばカラーフィルターのR(赤)画素
は、赤色、橙色、黄色の顔料を2種類以上を選び、一定
の割合で調色して用いられる。同様にG(緑)画素も、
緑色、橙色、黄色の顔料を2種類以上を選び、調色して
用いられる。顔料はこのように要求される色度特性を重
視して選ばれ、イオン性不純物については考慮されてい
ないのが実情である。一般に市販されている顔料にはナ
トリウム、カリウム、カルシウム、バリウムなどのアル
カリ金属を始めイオン性不純物が多く含まれている。ま
た、イオン性不純物、特にナトリウム、カリウムイオン
については、特開平7−198928号公報にアルカリ
金属であるナトリウム、カリウムを合計で0.001〜
80ppm含有するカラーペーストおよびイオン交換法
でナトリウム、カリウムの全部または一部を除去する電
子工業用カラーペーストの製造方法が示されている。本
発明者らは顔料に含まれる不純物のうち特にフタロシア
ニン骨格を持つ緑顔料である塩素化および/または・臭
素化した銅フタロシアニンである緑顔料に含まれる不純
物が液晶表示素子の表示特性に悪影響を与えることを見
出し、また、顔料の製造工程およびその後の精製工程に
ついて鋭意検討し本発明に到達したものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の欠点に鑑み創案されたもので、その目的とすると
ころは、液晶表示に悪影響を与える不純物を低減させた
顔料およびこれを用いたカラーペースト、カラーフィル
ター、液晶表示素子を提供することにある。
技術の欠点に鑑み創案されたもので、その目的とすると
ころは、液晶表示に悪影響を与える不純物を低減させた
顔料およびこれを用いたカラーペースト、カラーフィル
ター、液晶表示素子を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の構
成により達成される。
成により達成される。
【0005】(1)フタロシアニン骨格を有する化合物
を塩素化および/または臭素化する際の溶媒として、発
煙硫酸または硫酸を用いたことを特徴とするカラーフィ
ルター用顔料の製造方法。
を塩素化および/または臭素化する際の溶媒として、発
煙硫酸または硫酸を用いたことを特徴とするカラーフィ
ルター用顔料の製造方法。
【0006】(2)該顔料を有機溶剤で洗浄することを
特徴とする(1)記載のカラーフィルター用顔料の製造
方法。
特徴とする(1)記載のカラーフィルター用顔料の製造
方法。
【0007】(3)該有機溶剤の双極子モーメントが2
デバイ以上であることを特徴とする(2)記載のカラー
フィルター用顔料の製造方法。
デバイ以上であることを特徴とする(2)記載のカラー
フィルター用顔料の製造方法。
【0008】(4)少なくとも顔料、有機溶剤と樹脂を
含有するカラーフィルター用カラーペーストであって、
該顔料が(1)〜(3)いずれかに記載の製造方法によ
って得られたものであることを特徴とするカラーフィル
ター用カラーペースト。
含有するカラーフィルター用カラーペーストであって、
該顔料が(1)〜(3)いずれかに記載の製造方法によ
って得られたものであることを特徴とするカラーフィル
ター用カラーペースト。
【0009】(5)任意の色数で各色別に所望のパター
ン状に設けられた着色層からなる画素を有するカラーフ
ィルターにおいて、該着色層が(4)に記載のカラーペ
ーストによって得られた着色被膜であることを特徴とす
るカラーフィルター。
ン状に設けられた着色層からなる画素を有するカラーフ
ィルターにおいて、該着色層が(4)に記載のカラーペ
ーストによって得られた着色被膜であることを特徴とす
るカラーフィルター。
【0010】(6)(5)に記載のカラーフィルターを
用いたことを特徴とする液晶表示素子。
用いたことを特徴とする液晶表示素子。
【0011】
【発明の実施の形態】フタロシアンニン骨格を有する化
合物は青色を呈するが、これをハロゲン化すなわち塩素
化および/または臭素化すると緑色素が得られる。フタ
ロシアニン骨格を有する顔料用化合物としては、銅フタ
ロシアニンが広く用いられるが、銅の代わりに他の金属
が配位した化合物や無金属のフタロシアニンであっても
本発明の効果がある。
合物は青色を呈するが、これをハロゲン化すなわち塩素
化および/または臭素化すると緑色素が得られる。フタ
ロシアニン骨格を有する顔料用化合物としては、銅フタ
ロシアニンが広く用いられるが、銅の代わりに他の金属
が配位した化合物や無金属のフタロシアニンであっても
本発明の効果がある。
【0012】ハロゲン化フタロシアニンを生成するには
大別して2つの方法がある。ハロゲン化無水フタル酸ま
たはハロゲン化フタロジニトリルを原料として縮合反応
により合成する方法と、フタロシアニンをハロゲン化す
るいわゆる後ハロゲン化の方法である。工業的には後ハ
ロゲン化法が多く採用されている。
大別して2つの方法がある。ハロゲン化無水フタル酸ま
たはハロゲン化フタロジニトリルを原料として縮合反応
により合成する方法と、フタロシアニンをハロゲン化す
るいわゆる後ハロゲン化の方法である。工業的には後ハ
ロゲン化法が多く採用されている。
【0013】後ハロゲン化法では、フタロシアニンと触
媒を投入した溶媒中にハロゲンガスを吹き込むことでフ
タロシアニンをハロゲン化する。該溶媒としては、いく
つかのものが提案されており、一般的には、融解無水フ
タル酸、塩化アルミニウムと塩化ナトリウムの共融塩、
クロロスルホン酸、トリクロロベンゼン、濃硫酸などが
ある。
媒を投入した溶媒中にハロゲンガスを吹き込むことでフ
タロシアニンをハロゲン化する。該溶媒としては、いく
つかのものが提案されており、一般的には、融解無水フ
タル酸、塩化アルミニウムと塩化ナトリウムの共融塩、
クロロスルホン酸、トリクロロベンゼン、濃硫酸などが
ある。
【0014】銅フタロシアニンを合成する場合の原料と
しては、無水フタル酸、尿素、塩化第一銅が用いられ
る。また、溶媒としては、アルキルベンゼン、ニトロベ
ンゼン、トリクロロベンゼンなどが採用され、触媒とし
てはモリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン、4塩
化チタン等が採用される。
しては、無水フタル酸、尿素、塩化第一銅が用いられ
る。また、溶媒としては、アルキルベンゼン、ニトロベ
ンゼン、トリクロロベンゼンなどが採用され、触媒とし
てはモリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン、4塩
化チタン等が採用される。
【0015】本発明に用いられる顔料はフタロシアニン
骨格を有する化合物を塩素化および/または臭素化する
際の溶媒として発煙硫酸または硫酸を用いたことが特徴
である。フタロシアニンをハロゲン化する際の溶媒とし
ては、融解無水フタル酸、塩化アルミニウムと塩化ナト
リウムの共融塩、クロロスルホン酸、トリクロロベンゼ
ン、発煙硫酸または硫酸などが採用可能であり、顔料の
色としては同等のものが得られる。硫酸でも特に濃硫酸
が好ましく用いられる。また、得られた顔料から抽出さ
れるアルカリ金属イオンやハロゲンイオンの濃度も同等
である。しかしながら、液晶に溶解して表示に悪影響を
及ぼしやすいイオン性の有機不純物に関しては使用する
溶媒によって違いがあることが本発明者らの検討で明ら
かになった。イオン性の有機不純物は、後述するクルー
ドや顔料状態での洗浄でも除去することができるが、顔
料製造工程の違いにより不純物除去レベルに差が残るこ
ともわかった。
骨格を有する化合物を塩素化および/または臭素化する
際の溶媒として発煙硫酸または硫酸を用いたことが特徴
である。フタロシアニンをハロゲン化する際の溶媒とし
ては、融解無水フタル酸、塩化アルミニウムと塩化ナト
リウムの共融塩、クロロスルホン酸、トリクロロベンゼ
ン、発煙硫酸または硫酸などが採用可能であり、顔料の
色としては同等のものが得られる。硫酸でも特に濃硫酸
が好ましく用いられる。また、得られた顔料から抽出さ
れるアルカリ金属イオンやハロゲンイオンの濃度も同等
である。しかしながら、液晶に溶解して表示に悪影響を
及ぼしやすいイオン性の有機不純物に関しては使用する
溶媒によって違いがあることが本発明者らの検討で明ら
かになった。イオン性の有機不純物は、後述するクルー
ドや顔料状態での洗浄でも除去することができるが、顔
料製造工程の違いにより不純物除去レベルに差が残るこ
ともわかった。
【0016】イオン性の塩素化合物よりもイオン性臭素
化合物の方が、液晶中で解離して表示に悪影響を与えや
すいので、本発明は特に臭素化されたフタロシアニン化
合物に対して効果が大きい。
化合物の方が、液晶中で解離して表示に悪影響を与えや
すいので、本発明は特に臭素化されたフタロシアニン化
合物に対して効果が大きい。
【0017】本発明の顔料は、さらに不純物量を減らす
ために有機溶剤で洗浄されることが好ましい。水による
洗浄は無機不純物の除去には優れるが、有機溶剤洗浄の
方が液晶に溶解しやすい有機不純物を除去する効果が大
きい。本発明で用いられる有機溶剤としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセト
ニトリル、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリド
ン、酢酸エチルなどが採用できるが、中でも極子モーメ
ントが2デバイ以上である有機溶剤が洗浄効果を高める
上で好ましい。双極子モーメントが2デバイ以上の有機
溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチ
ルホルムアミド、アセトニトリル、γ−ブチロラクト
ン、N−メチルピロリドンなどがある。双極子モーメン
トが2.5デバイ以上であるアセトン、メチルエチルケ
トン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリルなどの有
機溶剤で洗浄することがさらに好ましい。洗浄後の乾燥
が容易で顔料の凝集が生じにくい点で、低沸点のアセト
ンの採用が好ましい。有機溶剤洗浄に先立ち水洗するこ
とやあるいは有機溶剤洗浄後に水洗することは適宜許さ
れるが、アセトンを仕上げ洗浄用溶剤として使用するこ
とが不純物除去効果が大きく好ましい。
ために有機溶剤で洗浄されることが好ましい。水による
洗浄は無機不純物の除去には優れるが、有機溶剤洗浄の
方が液晶に溶解しやすい有機不純物を除去する効果が大
きい。本発明で用いられる有機溶剤としては、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセト
ニトリル、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリド
ン、酢酸エチルなどが採用できるが、中でも極子モーメ
ントが2デバイ以上である有機溶剤が洗浄効果を高める
上で好ましい。双極子モーメントが2デバイ以上の有機
溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチ
ルホルムアミド、アセトニトリル、γ−ブチロラクト
ン、N−メチルピロリドンなどがある。双極子モーメン
トが2.5デバイ以上であるアセトン、メチルエチルケ
トン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリルなどの有
機溶剤で洗浄することがさらに好ましい。洗浄後の乾燥
が容易で顔料の凝集が生じにくい点で、低沸点のアセト
ンの採用が好ましい。有機溶剤洗浄に先立ち水洗するこ
とやあるいは有機溶剤洗浄後に水洗することは適宜許さ
れるが、アセトンを仕上げ洗浄用溶剤として使用するこ
とが不純物除去効果が大きく好ましい。
【0018】顔料の洗浄方法としては、顔料またはクル
ードの状態でフィルタープレス装置にて、水洗または湯
洗をおこなうことが通常である。しかしながら、水洗に
比べて有機洗浄は液晶表示に悪影響を与える不純物の除
去効果が大きいことが本発明者らの検討で明らかになっ
た。
ードの状態でフィルタープレス装置にて、水洗または湯
洗をおこなうことが通常である。しかしながら、水洗に
比べて有機洗浄は液晶表示に悪影響を与える不純物の除
去効果が大きいことが本発明者らの検討で明らかになっ
た。
【0019】有機溶剤洗浄の方法としては、生産性の点
で前述の顔料またはクルードの状態でのフィルタープレ
ス装置での洗浄が好ましいが、大規模になり防爆対策な
どで有機溶剤洗浄には不向きな面もある。より簡便に
は、顔料と有機溶剤とを混合し攪拌したり超音波振動を
与える方法の他、ソックスレーのような連続抽出器を用
いる方法や、透析などの方法も使用可能である。ボール
ミル、高速度衝撃ミルなどで顔料を分散しつつ洗浄する
方法も洗浄効果を高める点で好ましい。本発明の有機洗
浄に先立ち顔料を洗浄に使う有機溶剤もしくは洗浄に使
用する有機溶剤に置換が容易な分散液に分散させる工程
を入れることは洗浄効果を上げ好ましい。また、顔料の
洗浄は複数回実施することがロット内ばらつきを抑えて
均一な顔料を得られる点で好ましい。顔料と有機溶剤と
を混合し攪拌する洗浄方法の場合は、顔料に比べて10
倍以上、さらに好ましくは100倍以上の十分大量の有
機溶剤を用い、顔料の凝集を防ぎつつ洗浄効果を上げる
ことが望ましい。
で前述の顔料またはクルードの状態でのフィルタープレ
ス装置での洗浄が好ましいが、大規模になり防爆対策な
どで有機溶剤洗浄には不向きな面もある。より簡便に
は、顔料と有機溶剤とを混合し攪拌したり超音波振動を
与える方法の他、ソックスレーのような連続抽出器を用
いる方法や、透析などの方法も使用可能である。ボール
ミル、高速度衝撃ミルなどで顔料を分散しつつ洗浄する
方法も洗浄効果を高める点で好ましい。本発明の有機洗
浄に先立ち顔料を洗浄に使う有機溶剤もしくは洗浄に使
用する有機溶剤に置換が容易な分散液に分散させる工程
を入れることは洗浄効果を上げ好ましい。また、顔料の
洗浄は複数回実施することがロット内ばらつきを抑えて
均一な顔料を得られる点で好ましい。顔料と有機溶剤と
を混合し攪拌する洗浄方法の場合は、顔料に比べて10
倍以上、さらに好ましくは100倍以上の十分大量の有
機溶剤を用い、顔料の凝集を防ぎつつ洗浄効果を上げる
ことが望ましい。
【0020】本発明では、クルードまたは顔料を強酸に
溶解して析出・再結晶させて精製したアシッドペースト
法による顔料精製を上記の顔料洗浄工程の前にさらに付
加して採用することが好ましい。例えば、塩素化・臭素
化した銅フタロシアニンであるピグメントグリーン36
においては、発煙硫酸に該顔料を溶解し、硫酸塩化反応
させてから、水中に注入して顔料を析出・再結晶させる
ことで含有される不純物を非常に少なくすることができ
る。また、アシッドペースト法よりも低濃度の硫酸を用
いた場合、ピグメントグリーン36は溶解に至らず、硫
酸塩結晶が見られるスラリーになる。このスラリーを水
中に注入して顔料を生成させる方法はアシッドスラリー
法と呼ばれる。アシッドスラリー法はアシッドペースト
法に比べて顔料の粒径が大きくなるためカラーフィルタ
ー用には適していないことがあるが、アシッドペースト
法と同様に不純物低減の効果がある。塩素化した銅フタ
ロシアニンであるピグメントグリーン7も同様にアシッ
ドペースト法またはアシッドスラリー法にて精製するこ
とができる。銅フタロシアニンであるピグメントブルー
15では90%程度の濃硫酸によりアシッドペースト法
が可能である。
溶解して析出・再結晶させて精製したアシッドペースト
法による顔料精製を上記の顔料洗浄工程の前にさらに付
加して採用することが好ましい。例えば、塩素化・臭素
化した銅フタロシアニンであるピグメントグリーン36
においては、発煙硫酸に該顔料を溶解し、硫酸塩化反応
させてから、水中に注入して顔料を析出・再結晶させる
ことで含有される不純物を非常に少なくすることができ
る。また、アシッドペースト法よりも低濃度の硫酸を用
いた場合、ピグメントグリーン36は溶解に至らず、硫
酸塩結晶が見られるスラリーになる。このスラリーを水
中に注入して顔料を生成させる方法はアシッドスラリー
法と呼ばれる。アシッドスラリー法はアシッドペースト
法に比べて顔料の粒径が大きくなるためカラーフィルタ
ー用には適していないことがあるが、アシッドペースト
法と同様に不純物低減の効果がある。塩素化した銅フタ
ロシアニンであるピグメントグリーン7も同様にアシッ
ドペースト法またはアシッドスラリー法にて精製するこ
とができる。銅フタロシアニンであるピグメントブルー
15では90%程度の濃硫酸によりアシッドペースト法
が可能である。
【0021】カラーフィルターに採用できる緑顔料とし
ては、ピグメントグリーン7、36、37、38、青顔
料としてはピグメントブルー15、15:1、15:
2、15:3、15:4、15:6、16、17、2
2、60、64など、赤顔料としては、ピグメントレッ
ド9、97、122、123、149、168、17
7、180、192、215などが一般的に用いられ
る。緑や赤の色調を調色するために黄色顔料などを添加
することは適宜許される。黄色顔料の例としてはピグメ
ントイエロー13、17、20、24、83、86、9
3、95、109、110、117、125、137、
138、139、147、148、153、154、1
66、168、185などが挙げられるがこれらに限定
されない。顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸性基処
理、塩基性処理などの表面処理がされてもよいが、本発
明の趣旨に合致するよう選択されるべきである。
ては、ピグメントグリーン7、36、37、38、青顔
料としてはピグメントブルー15、15:1、15:
2、15:3、15:4、15:6、16、17、2
2、60、64など、赤顔料としては、ピグメントレッ
ド9、97、122、123、149、168、17
7、180、192、215などが一般的に用いられ
る。緑や赤の色調を調色するために黄色顔料などを添加
することは適宜許される。黄色顔料の例としてはピグメ
ントイエロー13、17、20、24、83、86、9
3、95、109、110、117、125、137、
138、139、147、148、153、154、1
66、168、185などが挙げられるがこれらに限定
されない。顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸性基処
理、塩基性処理などの表面処理がされてもよいが、本発
明の趣旨に合致するよう選択されるべきである。
【0022】本発明のカラーペーストで使用する樹脂
は、顔料を分散保持するためのものであり、通常、カラ
ーフィルター用ぺーストに使用される樹脂であれば特に
限定されず、どのようなものも使用が可能である。例え
ば、アクリル樹脂、アルキド樹脂、メラミン樹脂、ポリ
ビニルアルコール、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリ
アミドイミド、ポリイミドなど種々の樹脂を用いること
ができる。特にアルカリ水溶液に溶解する樹脂は現像あ
るいはエッチング工程で設備が簡略化出来るので望まし
い。アルカリ水溶液に溶解する樹脂のなかでは、カルボ
キシル基を有する樹脂が好ましく使用され、具体的には
アクリル樹脂、ポリイミドが耐溶剤性の点で好ましい。
ポリイミドの場合、ポリイミドの前駆体類が顔料の分散
剤として機能するのでより一層好ましい。また、カラー
フィルターの耐熱性の面からも、ポリイミドの使用が好
ましい。
は、顔料を分散保持するためのものであり、通常、カラ
ーフィルター用ぺーストに使用される樹脂であれば特に
限定されず、どのようなものも使用が可能である。例え
ば、アクリル樹脂、アルキド樹脂、メラミン樹脂、ポリ
ビニルアルコール、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリ
アミドイミド、ポリイミドなど種々の樹脂を用いること
ができる。特にアルカリ水溶液に溶解する樹脂は現像あ
るいはエッチング工程で設備が簡略化出来るので望まし
い。アルカリ水溶液に溶解する樹脂のなかでは、カルボ
キシル基を有する樹脂が好ましく使用され、具体的には
アクリル樹脂、ポリイミドが耐溶剤性の点で好ましい。
ポリイミドの場合、ポリイミドの前駆体類が顔料の分散
剤として機能するのでより一層好ましい。また、カラー
フィルターの耐熱性の面からも、ポリイミドの使用が好
ましい。
【0023】本発明においてポリイミド前駆体とは、ポ
リアミド酸およびその一部分をエステル化した物をい
う。ポリイミド前駆体は、熱または化学的処理により、
イミド環を形成する。ここで言うポリアミド酸は、次の
一般式(1)で表される。
リアミド酸およびその一部分をエステル化した物をい
う。ポリイミド前駆体は、熱または化学的処理により、
イミド環を形成する。ここで言うポリアミド酸は、次の
一般式(1)で表される。
【0024】
【化1】 ここでR1 は炭素数2〜22の4価の有機基、R2 炭素
数1〜22の2価の有機基、nは1および/または2
で、重量平均分子量が最低2000をもつ重合体であ
る。
数1〜22の2価の有機基、nは1および/または2
で、重量平均分子量が最低2000をもつ重合体であ
る。
【0025】ポリアミド酸は、テトラカルボン酸二無水
物とジアミンを反応させることにより得ることができ
る。テトラカルボン酸二無水物として、たとえば、脂肪
族系または脂環式系のものを用いることができ、その具
体的な例として、1,2,3,4−シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタン
テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,5−シクロペ
ンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ビ
シクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,
4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、
1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テ
トラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフ
ト[1,2−C]フラン−1,3−ジオンなどが挙げら
れる。また、芳香族系のものを用いると、耐熱性の良好
なポリイミドに変換しうるポリイミド前駆体組成物を得
ることができ、その具体的な例として、3,3´,4,
4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロ
メリット酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテト
ラカルボン酸二無水物、3,3´,4,4´−ジフェニ
ルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,4´−オキ
シジフタル酸二無水物、3,3´,4,4´−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタ
レンテトラカルボン酸二無水物、3,3´,4,4´−
パラターフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3
´,4,4´−メタターフェニルテトラカルボン酸二無
水物が挙げられる。また、フッ素系のものを用いると、
短波長領域での透明性が良好なポリイミドに変換しうる
ポリイミド前駆体組成物を得ることができ、その具体的
な例として、4,4´−(ヘキサフルオロイソプロピリ
デン)ジフタル酸二無水物などが挙げられる。なお、本
発明は、これらに限定されずにテトラカルボン酸二無水
物が1種または2種以上用いられる。
物とジアミンを反応させることにより得ることができ
る。テトラカルボン酸二無水物として、たとえば、脂肪
族系または脂環式系のものを用いることができ、その具
体的な例として、1,2,3,4−シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタン
テトラカルボン酸二無水物、1,2,3,5−シクロペ
ンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ビ
シクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,
4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、
1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テ
トラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフ
ト[1,2−C]フラン−1,3−ジオンなどが挙げら
れる。また、芳香族系のものを用いると、耐熱性の良好
なポリイミドに変換しうるポリイミド前駆体組成物を得
ることができ、その具体的な例として、3,3´,4,
4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロ
メリット酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテト
ラカルボン酸二無水物、3,3´,4,4´−ジフェニ
ルスルホンテトラカルボン酸二無水物、4,4´−オキ
シジフタル酸二無水物、3,3´,4,4´−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタ
レンテトラカルボン酸二無水物、3,3´,4,4´−
パラターフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3
´,4,4´−メタターフェニルテトラカルボン酸二無
水物が挙げられる。また、フッ素系のものを用いると、
短波長領域での透明性が良好なポリイミドに変換しうる
ポリイミド前駆体組成物を得ることができ、その具体的
な例として、4,4´−(ヘキサフルオロイソプロピリ
デン)ジフタル酸二無水物などが挙げられる。なお、本
発明は、これらに限定されずにテトラカルボン酸二無水
物が1種または2種以上用いられる。
【0026】本発明ではジアミンとして、たとえば、脂
肪族系または脂環式系のものを用いることができ、その
具体的な例として、エチレンジアミン、1,3−ジアミ
ノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、
4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチルジシクロヘキ
シルメタン、4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチル
ジシクロヘキシルなどが挙げられる。また、芳香族系の
ものを用いると、耐熱性の良好なポリイミドに変換しう
るポリイミド前駆体組成物を得ることができ、その具体
的な例として、4,4´−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4´−ジアミノジフェニルエーテル、4,4´
−ジアミノジフェニルメタン、4,4´−ジアミノベン
ズアニリド、3,3´−ジアミノジフェニルメタン、
4,4´−ジアミノジフェニルスルホン、3,3´−ジ
アミノジフェニルスルホン、4,4´−ジアミノジフェ
ニルサルファイド、m−フェニレンジアミン、p−フェ
ニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−
ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエン、ベンジ
ジン、3,3´−ジメチルベンジジン、3,3´−ジメ
トキシベンジジン、o−トリジン、4,4”−ジアミノ
ターフェニル、1,5−ジアミノナフタレン、3,3´
−ジメチル−4,4´−ジアミノジフェニルメタン、
4,4´−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]エ−テル、ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェ
ノキシ)フェニル]スルホンなどが挙げられる。また、
フッ素系のものを用いると、短波長領域での透明性が良
好なポリイミドに変換しうるポリイミド前駆体組成物を
得ることができ、その具体的な例として、2,2−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフル
オロプロパンなどが挙げられる。
肪族系または脂環式系のものを用いることができ、その
具体的な例として、エチレンジアミン、1,3−ジアミ
ノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、
4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチルジシクロヘキ
シルメタン、4,4´−ジアミノ−3,3´−ジメチル
ジシクロヘキシルなどが挙げられる。また、芳香族系の
ものを用いると、耐熱性の良好なポリイミドに変換しう
るポリイミド前駆体組成物を得ることができ、その具体
的な例として、4,4´−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4´−ジアミノジフェニルエーテル、4,4´
−ジアミノジフェニルメタン、4,4´−ジアミノベン
ズアニリド、3,3´−ジアミノジフェニルメタン、
4,4´−ジアミノジフェニルスルホン、3,3´−ジ
アミノジフェニルスルホン、4,4´−ジアミノジフェ
ニルサルファイド、m−フェニレンジアミン、p−フェ
ニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−
ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエン、ベンジ
ジン、3,3´−ジメチルベンジジン、3,3´−ジメ
トキシベンジジン、o−トリジン、4,4”−ジアミノ
ターフェニル、1,5−ジアミノナフタレン、3,3´
−ジメチル−4,4´−ジアミノジフェニルメタン、
4,4´−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]エ−テル、ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェ
ノキシ)フェニル]スルホンなどが挙げられる。また、
フッ素系のものを用いると、短波長領域での透明性が良
好なポリイミドに変換しうるポリイミド前駆体組成物を
得ることができ、その具体的な例として、2,2−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフル
オロプロパンなどが挙げられる。
【0027】また、ビス−3−(アミノプロピル)テト
ラメチルシロキサンに代表されるシロキサンジアミンを
用いると、無機基板との接着性を良好にすることができ
る。シロキサンジアミンは、通常、全ジアミン中の1〜
20モル%量用いる。シロキサンジアミンの量が少なす
ぎれば接着性向上効果が発揮されず、多すぎれば耐熱性
が低下する。本発明は、これらに限定されずにジアミン
が1種または2種以上用いられる。
ラメチルシロキサンに代表されるシロキサンジアミンを
用いると、無機基板との接着性を良好にすることができ
る。シロキサンジアミンは、通常、全ジアミン中の1〜
20モル%量用いる。シロキサンジアミンの量が少なす
ぎれば接着性向上効果が発揮されず、多すぎれば耐熱性
が低下する。本発明は、これらに限定されずにジアミン
が1種または2種以上用いられる。
【0028】ポリアミド酸の合成は、極性有機溶媒中で
ジアミンとテトラカルボン酸二無水物を反応させること
により行うのが一般的である。この時、ジアミンとテト
ラカルボン酸二無水物の混合比により得られるポリアミ
ド酸の重合度を調節することができる。また、上記のポ
リアミド酸のエステル化物などの誘導体に対しても適用
が可能である。溶媒としてN−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミドなどのアミド系極性溶媒が使用される。ポ
リアミド酸は顔料の分散効果を高めるため、ラクトン類
が主成分もしくはラクトン類単独からなる溶媒中で合成
するのが望ましい。ここでラクトン類が主成分もしくは
ラクトン類単独からなる溶媒とはラクトン類が50重量
%以上含有されていることをいう。ラクトン類以外の溶
媒としては上記アミド系極性溶媒の他にメチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカ
ルビトールなどを挙げることができる。
ジアミンとテトラカルボン酸二無水物を反応させること
により行うのが一般的である。この時、ジアミンとテト
ラカルボン酸二無水物の混合比により得られるポリアミ
ド酸の重合度を調節することができる。また、上記のポ
リアミド酸のエステル化物などの誘導体に対しても適用
が可能である。溶媒としてN−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミドなどのアミド系極性溶媒が使用される。ポ
リアミド酸は顔料の分散効果を高めるため、ラクトン類
が主成分もしくはラクトン類単独からなる溶媒中で合成
するのが望ましい。ここでラクトン類が主成分もしくは
ラクトン類単独からなる溶媒とはラクトン類が50重量
%以上含有されていることをいう。ラクトン類以外の溶
媒としては上記アミド系極性溶媒の他にメチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカ
ルビトールなどを挙げることができる。
【0029】ラクトン類とは脂肪族環状エステルで炭素
数3〜12の化合物をいう。具体的な例として、β−プ
ロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラク
トン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−
カプロラクトンなどが挙げられるがこれらに限定されな
い。とくにポリアミド酸の溶解性の点で、γ−ブチロラ
クトンが好ましい。
数3〜12の化合物をいう。具体的な例として、β−プ
ロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラク
トン、δ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、ε−
カプロラクトンなどが挙げられるがこれらに限定されな
い。とくにポリアミド酸の溶解性の点で、γ−ブチロラ
クトンが好ましい。
【0030】本発明のカラーフィルター用カラーペース
トは、顔料、有機溶剤と樹脂を含有する。
トは、顔料、有機溶剤と樹脂を含有する。
【0031】本発明で用いられる有機溶剤としては溶媒
に特に制限はなく、一般的な有機溶媒を用いることがで
きる。画素のマトリクスの成分として、ポリイミドを用
いる場合、カラーペーストの樹脂はポリイミド前駆体を
用いるのが好ましいが、その際用いられる溶剤は、ポリ
イミド前駆体を溶解する溶媒であることが望ましい。ポ
リイミド前駆体を溶解する溶媒としては、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなど
のアミド類、γ−ブチロラクトンなどのラクトン類、2
−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドンなどのピロ
リドン類などの極性有機溶媒が挙げられる。また、通
常、単独ではポリイミド前駆体を溶解しない、エタノー
ル、ブタノール、イソプロパノールなどのアルコール
類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソ
ルブ類、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど
のプロピレングリコール誘導体類等の有機溶媒をポリイ
ミド前駆体を溶解する溶媒と混合して用いることができ
る。顔料の分散効果を高めるため、ラクトン類が主成分
の溶媒が好ましい。溶剤の使用量は特に限定されない
が、樹脂の溶解に十分な量でありかつ適度な粘度を有す
る量であることが望ましい。
に特に制限はなく、一般的な有機溶媒を用いることがで
きる。画素のマトリクスの成分として、ポリイミドを用
いる場合、カラーペーストの樹脂はポリイミド前駆体を
用いるのが好ましいが、その際用いられる溶剤は、ポリ
イミド前駆体を溶解する溶媒であることが望ましい。ポ
リイミド前駆体を溶解する溶媒としては、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなど
のアミド類、γ−ブチロラクトンなどのラクトン類、2
−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドンなどのピロ
リドン類などの極性有機溶媒が挙げられる。また、通
常、単独ではポリイミド前駆体を溶解しない、エタノー
ル、ブタノール、イソプロパノールなどのアルコール
類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソ
ルブ類、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど
のプロピレングリコール誘導体類等の有機溶媒をポリイ
ミド前駆体を溶解する溶媒と混合して用いることができ
る。顔料の分散効果を高めるため、ラクトン類が主成分
の溶媒が好ましい。溶剤の使用量は特に限定されない
が、樹脂の溶解に十分な量でありかつ適度な粘度を有す
る量であることが望ましい。
【0032】カラーペーストは、分散機を用いて樹脂溶
液中に直接顔料を分散させる方法や、分散機を用いて水
または有機溶媒中に顔料を分散して顔料分散液を作製
し、その後樹脂溶液と混合する方法などにより製造され
る。顔料の分散方法には特に限定はなく、ボールミル、
サンドグラインダー、3本ロールミル、高速度衝撃ミル
など、種々の方法がとりうる。
液中に直接顔料を分散させる方法や、分散機を用いて水
または有機溶媒中に顔料を分散して顔料分散液を作製
し、その後樹脂溶液と混合する方法などにより製造され
る。顔料の分散方法には特に限定はなく、ボールミル、
サンドグラインダー、3本ロールミル、高速度衝撃ミル
など、種々の方法がとりうる。
【0033】本発明のカラーペーストは、通常、樹脂:
顔料=5:5〜8:2(重量比)の範囲において製造さ
れる。
顔料=5:5〜8:2(重量比)の範囲において製造さ
れる。
【0034】カラーペーストの塗布性および着色膜の表
面の均一性を良好にする目的で、あるいは、顔料の分散
性を良好にする目的で、本発明のカラーペーストに界面
活性剤を添加することができるが、本発明の目的に合致
するよう選択されるべきである。カラーペーストを基板
上に塗布する方法としては、スピンコーター、バーコー
ター、ブレードコーター、ロールコーター、ダイコータ
ー、スクリーン印刷法などで基板に塗布する方法、基板
をカラーペースト中に浸漬する方法、カラーペーストを
基板に噴霧するなどの種々の方法を用いることができ
る。
面の均一性を良好にする目的で、あるいは、顔料の分散
性を良好にする目的で、本発明のカラーペーストに界面
活性剤を添加することができるが、本発明の目的に合致
するよう選択されるべきである。カラーペーストを基板
上に塗布する方法としては、スピンコーター、バーコー
ター、ブレードコーター、ロールコーター、ダイコータ
ー、スクリーン印刷法などで基板に塗布する方法、基板
をカラーペースト中に浸漬する方法、カラーペーストを
基板に噴霧するなどの種々の方法を用いることができ
る。
【0035】基板としては通常、ソーダガラス、無アル
カリガラス、石英ガラスなどの透明基板が用いられる
が、特にこれらに限定されない。なお、基板上にカラー
ペーストを塗布する場合、シランカップリング剤などの
接着助剤で基板表面を処理しておくと、着色膜と基板の
接着力を向上させることができる。
カリガラス、石英ガラスなどの透明基板が用いられる
が、特にこれらに限定されない。なお、基板上にカラー
ペーストを塗布する場合、シランカップリング剤などの
接着助剤で基板表面を処理しておくと、着色膜と基板の
接着力を向上させることができる。
【0036】カラーペーストを用いて形成される着色膜
の厚みには特に制限は無いが、通常、0.1〜10μ
m、好ましくは、0.5〜5μmである。膜厚が小さす
ぎれば、光の吸収が小さくなりすぎ、カラーフィルター
としての光学特性が満足されない。膜厚が大きすぎる場
合は、逆に光の吸収が大きくなりすぎるなどの問題が生
じ、カラーフィルターとしての光学特性が満足されない
おそれがある。
の厚みには特に制限は無いが、通常、0.1〜10μ
m、好ましくは、0.5〜5μmである。膜厚が小さす
ぎれば、光の吸収が小さくなりすぎ、カラーフィルター
としての光学特性が満足されない。膜厚が大きすぎる場
合は、逆に光の吸収が大きくなりすぎるなどの問題が生
じ、カラーフィルターとしての光学特性が満足されない
おそれがある。
【0037】次に画素のマトリクスの樹脂成分としてポ
リイミドを、その前駆体としてポリアミド酸を使用した
場合の、カラーフィルターの作製法の一例を説明する。
カラーペーストを、前記のような方法で透明基板上に塗
布した後、風乾、加熱乾燥、真空乾燥などにより、ポリ
イミド前駆体着色膜を形成する。加熱乾燥の場合、オー
ブン、ホットプレートなどを使用し、50〜180℃
の範囲、より好ましくは80〜120℃ で30秒〜3
時間行う。温度が低すぎる場合、溶媒がなかなか蒸発せ
ず、逆に温度が高すぎると現像液への溶解性が低下す
る。このようにして得られたポリイミド前駆体着色膜
に、通常の湿式エッチングによりパターンを形成する。
まず、ポリイミド前駆体着色膜上にポジ型フォトレジス
トを塗布し、フォトレジスト被膜を形成する。続いて該
フォトレジスト被膜上にマスクを置き、露光装置を用い
て紫外線を照射する。露光後、ポジ型フォトレジスト用
アルカリ現像液により、フォトレジスト被膜とポリイミ
ド前駆体着色膜のエッチングを同時に行う。エッチング
後、不要となったフォトレジスト被膜を剥離する。
リイミドを、その前駆体としてポリアミド酸を使用した
場合の、カラーフィルターの作製法の一例を説明する。
カラーペーストを、前記のような方法で透明基板上に塗
布した後、風乾、加熱乾燥、真空乾燥などにより、ポリ
イミド前駆体着色膜を形成する。加熱乾燥の場合、オー
ブン、ホットプレートなどを使用し、50〜180℃
の範囲、より好ましくは80〜120℃ で30秒〜3
時間行う。温度が低すぎる場合、溶媒がなかなか蒸発せ
ず、逆に温度が高すぎると現像液への溶解性が低下す
る。このようにして得られたポリイミド前駆体着色膜
に、通常の湿式エッチングによりパターンを形成する。
まず、ポリイミド前駆体着色膜上にポジ型フォトレジス
トを塗布し、フォトレジスト被膜を形成する。続いて該
フォトレジスト被膜上にマスクを置き、露光装置を用い
て紫外線を照射する。露光後、ポジ型フォトレジスト用
アルカリ現像液により、フォトレジスト被膜とポリイミ
ド前駆体着色膜のエッチングを同時に行う。エッチング
後、不要となったフォトレジスト被膜を剥離する。
【0038】ポリイミド前駆体着色膜は、その後、加熱
処理することによって、ポリイミド着色膜に変換され
る。加熱処理は通常、空気中、窒素雰囲気中、あるい
は、真空中などで、150〜450℃ 、好ましくは1
80〜350℃ 、より好ましくは200〜320℃ の
温度のもとで、0.5〜5時間、連続的または段階的に
行われる。以上の工程を3原色すなわちR(レッド)、
G(グリーン)、B(ブルー)もしくはY(イエロ
ー)、M(マゼンダ)、C(シアン)の3色のカラーペ
ーストおよび必要に応じてブラックのカラーペーストに
ついて行うと、液晶ディスプレイ用カラーフィルターが
作製できる。シアンは塩素化・臭素化した銅フタロシア
ニン顔料が採用される。
処理することによって、ポリイミド着色膜に変換され
る。加熱処理は通常、空気中、窒素雰囲気中、あるい
は、真空中などで、150〜450℃ 、好ましくは1
80〜350℃ 、より好ましくは200〜320℃ の
温度のもとで、0.5〜5時間、連続的または段階的に
行われる。以上の工程を3原色すなわちR(レッド)、
G(グリーン)、B(ブルー)もしくはY(イエロ
ー)、M(マゼンダ)、C(シアン)の3色のカラーペ
ーストおよび必要に応じてブラックのカラーペーストに
ついて行うと、液晶ディスプレイ用カラーフィルターが
作製できる。シアンは塩素化・臭素化した銅フタロシア
ニン顔料が採用される。
【0039】3原色の着色膜の上に平坦性を向上する目
的で透明樹脂からなるオーバーコートが付与されること
があるが、一方で、積層数が増えることによるコスト増
のデメリットもある。本発明は、着色膜を覆うオーバー
コートがない場合に特に効果が大きい。STN方式、T
N方式、垂直配向方式などを採用した場合には着色膜上
に液晶駆動用の透明導電膜が形成される。該透明導電膜
にはITO膜などの酸化金属薄膜が好適に採用される。
的で透明樹脂からなるオーバーコートが付与されること
があるが、一方で、積層数が増えることによるコスト増
のデメリットもある。本発明は、着色膜を覆うオーバー
コートがない場合に特に効果が大きい。STN方式、T
N方式、垂直配向方式などを採用した場合には着色膜上
に液晶駆動用の透明導電膜が形成される。該透明導電膜
にはITO膜などの酸化金属薄膜が好適に採用される。
【0040】コントラストを向上させるために画素周囲
にブラックマトリックスが形成されることがある。反射
率が低いことやクロムを使用しておらず環境に優しい点
でブラックマトリックスには樹脂に遮光材を分散したブ
ラックペーストでブラックマトリックスを作製する例が
増えてきている。分光スペクトルを平らにしてニュート
ラルな黒を実現するためにブラックマトリックス用ブラ
ックペーストに顔料を添加する場合があるが、本発明は
ブラックマトリックスおよびブラックマトリックス用ペ
ーストにも適用される。
にブラックマトリックスが形成されることがある。反射
率が低いことやクロムを使用しておらず環境に優しい点
でブラックマトリックスには樹脂に遮光材を分散したブ
ラックペーストでブラックマトリックスを作製する例が
増えてきている。分光スペクトルを平らにしてニュート
ラルな黒を実現するためにブラックマトリックス用ブラ
ックペーストに顔料を添加する場合があるが、本発明は
ブラックマトリックスおよびブラックマトリックス用ペ
ーストにも適用される。
【0041】本発明のカラーフィルターは、バックライ
トを備えた透過型液晶表示素子だけでなく、外光を反射
して使用する反射型液晶表示素子においても同様の効果
がある。また、本発明は、液晶を挟み込む透明基板のど
ちら側にカラーフィルターが形成されていても表示不良
を低減する効果がある。カラーフィルターをTFTなど
の能動素子が形成された基板側に作製する場合(カラー
フィルター・オン・アレイ:COA)は、開口率向上や
絶縁膜による電圧低下を防ぐために、着色層の下に能動
素子を置き、着色層に形成したスルーホールを介して、
着色層上の透明導電膜もしくは反射電極と能動素子との
電気的接続をとる構成が一般的である。この構成では、
着色膜にスルーホールを開けた際に、スルーホール内壁
に樹脂にくるまれず液晶に露出した状態の顔料ができや
すい上に液晶駆動のための電圧ストレスがかかって不純
物が溶出しやすい。また、画素電極である透明導電膜が
画素毎に分割され、画素間の着色層が直接液晶に接触す
る部分ができるので、特に本発明の効果が大きい。ま
た、能動素子が設けられた基板とは対向する側の基板に
カラーフィルターが設けられた場合は、透明樹脂による
オーバーコートで着色膜全体を覆い顔料からの不純物溶
出を低減することが可能であるが、COAの場合は、上
記のスルーホール部分はオーバーコートにて覆うことが
できないことも、COAで本発明の効果が大きい理由の
一つである。
トを備えた透過型液晶表示素子だけでなく、外光を反射
して使用する反射型液晶表示素子においても同様の効果
がある。また、本発明は、液晶を挟み込む透明基板のど
ちら側にカラーフィルターが形成されていても表示不良
を低減する効果がある。カラーフィルターをTFTなど
の能動素子が形成された基板側に作製する場合(カラー
フィルター・オン・アレイ:COA)は、開口率向上や
絶縁膜による電圧低下を防ぐために、着色層の下に能動
素子を置き、着色層に形成したスルーホールを介して、
着色層上の透明導電膜もしくは反射電極と能動素子との
電気的接続をとる構成が一般的である。この構成では、
着色膜にスルーホールを開けた際に、スルーホール内壁
に樹脂にくるまれず液晶に露出した状態の顔料ができや
すい上に液晶駆動のための電圧ストレスがかかって不純
物が溶出しやすい。また、画素電極である透明導電膜が
画素毎に分割され、画素間の着色層が直接液晶に接触す
る部分ができるので、特に本発明の効果が大きい。ま
た、能動素子が設けられた基板とは対向する側の基板に
カラーフィルターが設けられた場合は、透明樹脂による
オーバーコートで着色膜全体を覆い顔料からの不純物溶
出を低減することが可能であるが、COAの場合は、上
記のスルーホール部分はオーバーコートにて覆うことが
できないことも、COAで本発明の効果が大きい理由の
一つである。
【0042】本発明のカラー液晶表示素子は、パソコ
ン、ワードプロセッサー、エンジニアリング・ワークス
テーション、ナビゲーションシステム、テレビ、ビデオ
などの表示に用いられる他、光変調素子としても利用可
能である。
ン、ワードプロセッサー、エンジニアリング・ワークス
テーション、ナビゲーションシステム、テレビ、ビデオ
などの表示に用いられる他、光変調素子としても利用可
能である。
【0043】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、実施例
中に記載された測定法の、具体的な手法は以下に示すと
おりである。
明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、実施例
中に記載された測定法の、具体的な手法は以下に示すと
おりである。
【0044】(測定法) (精製効果の判定)ツイストネマチック液晶3gに顔料
0.2gを添加し、80℃ で10時間加熱する。液晶
を0.22μmのメンブランフィルターで濾過し、顔料
から溶出した不純物で汚染された液晶を得る。
0.2gを添加し、80℃ で10時間加熱する。液晶
を0.22μmのメンブランフィルターで濾過し、顔料
から溶出した不純物で汚染された液晶を得る。
【0045】ITO膜を形成したガラス基板2枚を5μ
mのセルギャップを設けて貼り合わせたセルを用意し、
このセルに上記の汚染液晶を注入して封口した後、電圧
保持率を測定する。電圧保持率は充電直後のセル電極間
の電圧差に対する維持時間経過後のセル電極間の電圧差
の割合とし、測定条件は、充電時間60μ秒、維持時間
16.7m秒で、雰囲気温度は90℃とした。電圧保持
率が大きいほど顔料からの不純物が悪影響を与えないこ
とを示す。
mのセルギャップを設けて貼り合わせたセルを用意し、
このセルに上記の汚染液晶を注入して封口した後、電圧
保持率を測定する。電圧保持率は充電直後のセル電極間
の電圧差に対する維持時間経過後のセル電極間の電圧差
の割合とし、測定条件は、充電時間60μ秒、維持時間
16.7m秒で、雰囲気温度は90℃とした。電圧保持
率が大きいほど顔料からの不純物が悪影響を与えないこ
とを示す。
【0046】本判定において、電圧保持率の好ましい範
囲は50%以上であり、これを下回ると液晶表示装置を
作製した場合に表示不良の原因となることがある。
囲は50%以上であり、これを下回ると液晶表示装置を
作製した場合に表示不良の原因となることがある。
【0047】実施例1 無水フタル酸5部、尿素10部、塩化第1銅2部、三塩
化ベンゼン25部およモリブデン酸アンモニウム0.5
部を反応容器に入れ撹拌しつつ、室温から180℃まで
30分間で昇温し、次いで180℃を2時間保ち、銅フ
タロシアニン合成した。溶媒と銅フタロシアニン含む反
応物とを分離後、希アルカリ水溶液で煮沸し、濾過、水
洗する。さらに希酸水溶液で煮沸し、濾過、水洗、乾燥
して粗製銅フタロシアニンを得た。
化ベンゼン25部およモリブデン酸アンモニウム0.5
部を反応容器に入れ撹拌しつつ、室温から180℃まで
30分間で昇温し、次いで180℃を2時間保ち、銅フ
タロシアニン合成した。溶媒と銅フタロシアニン含む反
応物とを分離後、希アルカリ水溶液で煮沸し、濾過、水
洗する。さらに希酸水溶液で煮沸し、濾過、水洗、乾燥
して粗製銅フタロシアニンを得た。
【0048】該銅フタロシアニン240部を60℃に保
ち、撹拌しながらモノ水和硫酸1440部を入れた。次
いで、これを5℃に冷却し25%の発煙硫酸150部と
ヨウ素0.8部を加えた溶液を調製した。該溶液に7時
間塩素ガスと臭素ガスを吹き込んでフタロシアニンを塩
素化、臭素化した。塩素ガス、臭素ガスの供給を停止し
た後、溶液中の溶存塩素、臭素を空気を送り込むことで
排除した。該溶液を60℃に加熱してから、撹拌しつつ
水10000部を溶液に注入し、沈殿した色素を吸引濾
過して収集する。該色素を水でさらに洗浄してから水3
000部に懸濁させて、30%の水酸化ナトリウム液2
0部でアルカリ性にしてから、90℃に昇温して30分
間撹拌した。再び沈殿した色素を吸引濾過してから水
洗、乾燥した。かくして塩素化および臭素化された銅フ
タロシアニン粉末を得た。該銅フタロシアニンは、銅フ
タロシアニン分子1つに対して置換した塩素原子が4〜
5個、臭素原子が9〜10個あった。
ち、撹拌しながらモノ水和硫酸1440部を入れた。次
いで、これを5℃に冷却し25%の発煙硫酸150部と
ヨウ素0.8部を加えた溶液を調製した。該溶液に7時
間塩素ガスと臭素ガスを吹き込んでフタロシアニンを塩
素化、臭素化した。塩素ガス、臭素ガスの供給を停止し
た後、溶液中の溶存塩素、臭素を空気を送り込むことで
排除した。該溶液を60℃に加熱してから、撹拌しつつ
水10000部を溶液に注入し、沈殿した色素を吸引濾
過して収集する。該色素を水でさらに洗浄してから水3
000部に懸濁させて、30%の水酸化ナトリウム液2
0部でアルカリ性にしてから、90℃に昇温して30分
間撹拌した。再び沈殿した色素を吸引濾過してから水
洗、乾燥した。かくして塩素化および臭素化された銅フ
タロシアニン粉末を得た。該銅フタロシアニンは、銅フ
タロシアニン分子1つに対して置換した塩素原子が4〜
5個、臭素原子が9〜10個あった。
【0049】該銅フタロシアニン粉末を粉砕してから、
0.2gをツイストネマチック液晶3gに添加し、80
℃ で10時間加熱した。該液晶を0.22μmのメン
ブランフィルターで濾過し、顔料からの溶出物を含む液
晶を得た。該液晶をセルに注入して封口した後、電圧保
持率を測定したところ、55%で良好であった。
0.2gをツイストネマチック液晶3gに添加し、80
℃ で10時間加熱した。該液晶を0.22μmのメン
ブランフィルターで濾過し、顔料からの溶出物を含む液
晶を得た。該液晶をセルに注入して封口した後、電圧保
持率を測定したところ、55%で良好であった。
【0050】比較例1 無水フタル酸5部、尿素10部、塩化第1銅2部、三塩
化ベンゼン25部およモリブデン酸アンモニウム0.5
部を反応容器に入れ撹拌しつつ、室温から180℃まで
30分間で昇温し、次いで180℃を2時間保ち銅フタ
ロシアニンを合成した。銅フタロシアニンを含んだ溶液
を150℃に保ち、1時間塩素ガスと臭素ガスを吹き込
んでフタロシアニンを塩素化、臭素化した。塩素ガス、
臭素ガスの供給を停止した後、溶液中の溶存塩素、臭素
を空気を送り込むことで排除した。該溶液を冷却後、濾
過し、ベンゼンで洗浄、乾燥して塩素化および臭素化さ
れた銅フタロシアニン粉末を得た。該銅フタロシアニン
は、銅フタロシアニン分子1つに対して置換した塩素原
子が2〜4個、臭素原子が12〜14個あった。
化ベンゼン25部およモリブデン酸アンモニウム0.5
部を反応容器に入れ撹拌しつつ、室温から180℃まで
30分間で昇温し、次いで180℃を2時間保ち銅フタ
ロシアニンを合成した。銅フタロシアニンを含んだ溶液
を150℃に保ち、1時間塩素ガスと臭素ガスを吹き込
んでフタロシアニンを塩素化、臭素化した。塩素ガス、
臭素ガスの供給を停止した後、溶液中の溶存塩素、臭素
を空気を送り込むことで排除した。該溶液を冷却後、濾
過し、ベンゼンで洗浄、乾燥して塩素化および臭素化さ
れた銅フタロシアニン粉末を得た。該銅フタロシアニン
は、銅フタロシアニン分子1つに対して置換した塩素原
子が2〜4個、臭素原子が12〜14個あった。
【0051】該銅フタロシアニン粉末を粉砕してから、
0.2gをツイストネマチック液晶3gに添加し、80
℃ で10時間加熱した。該液晶を0.22μmのメン
ブランフィルターで濾過し、顔料からの溶出物を含む液
晶を得た。該液晶をセルに注入して封口した後、電圧保
持率を測定したところ、28%で不足であった。
0.2gをツイストネマチック液晶3gに添加し、80
℃ で10時間加熱した。該液晶を0.22μmのメン
ブランフィルターで濾過し、顔料からの溶出物を含む液
晶を得た。該液晶をセルに注入して封口した後、電圧保
持率を測定したところ、28%で不足であった。
【0052】実施例2 実施例1で得た塩素化および臭素化された銅フタロシア
ニン粉末を5g計量し、少量のメタノールで湿らせた
後、5000gのイオン交換水に投入して1時間攪拌し
た。遠心分離器機で濾過後、該顔料を5000gのアセ
トンに投入して1時間攪拌した。遠心分離機で濾過後、
再び顔料を5000gのアセトンに投入して1時間攪拌
した。アセトンの双極子モーメントは2.72デバイで
ある。遠心分離機で濾過後、顔料を粉砕した。該顔料
0.2gを液晶3gに添加して80℃で10時間加熱し
た後、濾過して顔料を取り除いた。該液晶をセルに注入
して電圧保持率を測定したところ、64%で良好であっ
た。
ニン粉末を5g計量し、少量のメタノールで湿らせた
後、5000gのイオン交換水に投入して1時間攪拌し
た。遠心分離器機で濾過後、該顔料を5000gのアセ
トンに投入して1時間攪拌した。遠心分離機で濾過後、
再び顔料を5000gのアセトンに投入して1時間攪拌
した。アセトンの双極子モーメントは2.72デバイで
ある。遠心分離機で濾過後、顔料を粉砕した。該顔料
0.2gを液晶3gに添加して80℃で10時間加熱し
た後、濾過して顔料を取り除いた。該液晶をセルに注入
して電圧保持率を測定したところ、64%で良好であっ
た。
【0053】比較例2 比較例1で得た塩素化および臭素化された銅フタロシア
ニン粉末を5g計量し、少量のメタノールで湿らせた
後、5000gのイオン交換水に投入して1時間攪拌し
た。遠心分離器機で濾過後、該顔料を5000gのアセ
トンに投入して1時間攪拌した。遠心分離機で濾過後、
再び顔料を5000gのアセトンに投入して1時間攪拌
した。アセトンの双極子モーメントは2.72デバイで
ある。遠心分離機で濾過後、顔料を粉砕した。該顔料
0.2gを液晶3gに添加して80℃で10時間加熱し
た後、濾過して顔料を取り除いた。該液晶をセルに注入
して電圧保持率を測定したところ、37%でやや不足で
あった。
ニン粉末を5g計量し、少量のメタノールで湿らせた
後、5000gのイオン交換水に投入して1時間攪拌し
た。遠心分離器機で濾過後、該顔料を5000gのアセ
トンに投入して1時間攪拌した。遠心分離機で濾過後、
再び顔料を5000gのアセトンに投入して1時間攪拌
した。アセトンの双極子モーメントは2.72デバイで
ある。遠心分離機で濾過後、顔料を粉砕した。該顔料
0.2gを液晶3gに添加して80℃で10時間加熱し
た後、濾過して顔料を取り除いた。該液晶をセルに注入
して電圧保持率を測定したところ、37%でやや不足で
あった。
【0054】比較例3 実施例1で得た塩素化および臭素化された銅フタロシア
ニン粉末を5g計量し、少量のメタノールで湿らせた
後、5000gのイオン交換水に投入して1時間攪拌し
た。遠心分離器機で濾過後、顔料を粉砕した。該顔料
0.2gを液晶3gに添加して80℃ で10時間加熱
した後、濾過して顔料を取り除いた。該液晶をセルに注
入して電圧保持率を測定したところ、53%であり、洗
浄効果はなかった。
ニン粉末を5g計量し、少量のメタノールで湿らせた
後、5000gのイオン交換水に投入して1時間攪拌し
た。遠心分離器機で濾過後、顔料を粉砕した。該顔料
0.2gを液晶3gに添加して80℃ で10時間加熱
した後、濾過して顔料を取り除いた。該液晶をセルに注
入して電圧保持率を測定したところ、53%であり、洗
浄効果はなかった。
【0055】実施例3 実施例1と同様にして得た未ハロゲン化の粗製銅フタロ
シアニン240部を60℃に保ち、撹拌しながらモノ水
和硫酸1440部を入れた。次いで、これを5℃に冷却
し25%の発煙硫酸150部とヨウ素0.8部を加えた
溶液を調製した。該溶液に7時間臭素ガスを吹き込んで
フタロシアニンを臭素化した。臭素ガスの供給を停止し
た後、溶液中の溶存臭素を空気を送り込むことで排除し
た。該溶液を60℃に加熱してから、撹拌しつつ水10
000部を溶液に注入し、沈殿した色素を吸引濾過して
収集する。該色素を水でさらに洗浄してから水3000
部に懸濁させて、30%の水酸化ナトリウム液20部で
アルカリ性にしてから、90℃に昇温して30分間撹拌
した。再び沈殿した色素を吸引濾過してから水洗、乾燥
した。かくして臭素化された銅フタロシアニン粉末を得
た。
シアニン240部を60℃に保ち、撹拌しながらモノ水
和硫酸1440部を入れた。次いで、これを5℃に冷却
し25%の発煙硫酸150部とヨウ素0.8部を加えた
溶液を調製した。該溶液に7時間臭素ガスを吹き込んで
フタロシアニンを臭素化した。臭素ガスの供給を停止し
た後、溶液中の溶存臭素を空気を送り込むことで排除し
た。該溶液を60℃に加熱してから、撹拌しつつ水10
000部を溶液に注入し、沈殿した色素を吸引濾過して
収集する。該色素を水でさらに洗浄してから水3000
部に懸濁させて、30%の水酸化ナトリウム液20部で
アルカリ性にしてから、90℃に昇温して30分間撹拌
した。再び沈殿した色素を吸引濾過してから水洗、乾燥
した。かくして臭素化された銅フタロシアニン粉末を得
た。
【0056】該銅フタロシアニン粉末を粉砕してから、
0.2gをツイストネマチック液晶3gに添加し、80
℃ で10時間加熱した。該液晶を0.22μmのメン
ブランフィルターで濾過し、顔料からの溶出物を含む液
晶を得た。該液晶をセルに注入して封口した後、電圧保
持率を測定したところ、61%で良好であった。
0.2gをツイストネマチック液晶3gに添加し、80
℃ で10時間加熱した。該液晶を0.22μmのメン
ブランフィルターで濾過し、顔料からの溶出物を含む液
晶を得た。該液晶をセルに注入して封口した後、電圧保
持率を測定したところ、61%で良好であった。
【0057】比較例4 無水塩化アルミニウム40部、塩化ナトリウム10部の
混合物を溶融し170℃にした。次いで、実施例1で得
た粗製銅フタロシアニン8部を加え撹拌した。塩素ガス
および臭素ガスを吹き込み、銅フタロシアニンを塩素化
および臭素化した。該溶融物を2000部の水に注入
し、沈殿物を濾過後、希塩酸および水で洗浄して臭素化
された銅フタロシアニン粉末を得た。該銅フタロシアニ
ン粉末を粉砕してから、0.2gをツイストネマチック
液晶3gに添加し、80℃ で10時間加熱した。該液
晶を0.22μmのメンブランフィルターで濾過し、顔
料からの溶出物を含む液晶を得た。該液晶をセルに注入
して封口した後、電圧保持率を測定したところ、32%
で不足であった。
混合物を溶融し170℃にした。次いで、実施例1で得
た粗製銅フタロシアニン8部を加え撹拌した。塩素ガス
および臭素ガスを吹き込み、銅フタロシアニンを塩素化
および臭素化した。該溶融物を2000部の水に注入
し、沈殿物を濾過後、希塩酸および水で洗浄して臭素化
された銅フタロシアニン粉末を得た。該銅フタロシアニ
ン粉末を粉砕してから、0.2gをツイストネマチック
液晶3gに添加し、80℃ で10時間加熱した。該液
晶を0.22μmのメンブランフィルターで濾過し、顔
料からの溶出物を含む液晶を得た。該液晶をセルに注入
して封口した後、電圧保持率を測定したところ、32%
で不足であった。
【0058】実施例4 4,4’−ジアミノベンズアニリド161.93g、
3,3’−ジアミノジフェニルスルホン176.70
g、およびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジ
シロキサン18.64gをγ−ブチロラクトン3266
g、N−メチル−2−ピロリドン622gと共に仕込
み、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物439.09gを添加、70℃で3時間反応さ
せた後、無水フタル酸2.22gを添加し、更に70℃
で1時間反応させ、その後、粘度45ポアズ(25℃)
のポリマ分散剤の17%溶液(P−1)を得た。
3,3’−ジアミノジフェニルスルホン176.70
g、およびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジ
シロキサン18.64gをγ−ブチロラクトン3266
g、N−メチル−2−ピロリドン622gと共に仕込
み、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物439.09gを添加、70℃で3時間反応さ
せた後、無水フタル酸2.22gを添加し、更に70℃
で1時間反応させ、その後、粘度45ポアズ(25℃)
のポリマ分散剤の17%溶液(P−1)を得た。
【0059】3,3’−ジアミノジフェニルスルホン2
04.79gおよびビス(3−アミノプロピル)テトラ
メチルジシロキサン13.62gをγ−ブチロラクトン
3809gと共に仕込み、ピロメリット酸二水物59.
98g、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテト
ラカルボン酸二水物295.6gを添加、60℃で3時
間反応させた後、2−アミノアントラキノン98.22
gを添加し、さらに60℃で1時間反応させ、オリゴマ
分散剤の15%溶液(O−1)を得た。
04.79gおよびビス(3−アミノプロピル)テトラ
メチルジシロキサン13.62gをγ−ブチロラクトン
3809gと共に仕込み、ピロメリット酸二水物59.
98g、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテト
ラカルボン酸二水物295.6gを添加、60℃で3時
間反応させた後、2−アミノアントラキノン98.22
gを添加し、さらに60℃で1時間反応させ、オリゴマ
分散剤の15%溶液(O−1)を得た。
【0060】3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二水物144.1gをγ−ブチロラクトン10
95g、N−メチル−2−ピロリドン209gと共に仕
込み、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル95.1
gおよびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシ
ロキサン6.20gを添加し、70℃で3時間反応させ
た後、無水フタル酸2.96gを添加し、さらに70℃
で1時間反応させ、ポリアミド酸の16%溶液(PAA
1)を得た。
ルボン酸二水物144.1gをγ−ブチロラクトン10
95g、N−メチル−2−ピロリドン209gと共に仕
込み、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル95.1
gおよびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシ
ロキサン6.20gを添加し、70℃で3時間反応させ
た後、無水フタル酸2.96gを添加し、さらに70℃
で1時間反応させ、ポリアミド酸の16%溶液(PAA
1)を得た。
【0061】3,3’−ジアミノジフェニルスルホン3
72.4g、パラフェニレンジアミン146.0g、お
よびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキ
サン32.3gをN−メチル−2−ピロリドン5750
gに溶解し、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物 873.9gを添加し、70℃で3
時間反応させた後、無水マレイン酸5.88gを添加、
さらに70℃で1時間反応させ、ポリアミド酸の20%
溶液(PAA2)を得た。
72.4g、パラフェニレンジアミン146.0g、お
よびビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキ
サン32.3gをN−メチル−2−ピロリドン5750
gに溶解し、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物 873.9gを添加し、70℃で3
時間反応させた後、無水マレイン酸5.88gを添加、
さらに70℃で1時間反応させ、ポリアミド酸の20%
溶液(PAA2)を得た。
【0062】次いで下記の手順でカラーフィルター基板
を作製した。
を作製した。
【0063】カーボンブラック46g、ポリアミド酸溶
液(PAA1)240gおよびN−メチル−2−ピロリ
ドン614gをジルコニアビーズと共にミル型分散機に
仕込み、7000rpmで30分間分散し、ブラックペ
ーストを得た。
液(PAA1)240gおよびN−メチル−2−ピロリ
ドン614gをジルコニアビーズと共にミル型分散機に
仕込み、7000rpmで30分間分散し、ブラックペ
ーストを得た。
【0064】実施例2で得た硫酸溶媒中でハロゲン化し
た顔料をアセトン洗浄した塩素化および臭素化した銅フ
タロシアニンを71.2g、ピグメントイエロー83を
12.6g計量し、それぞれゼネカ社製分散剤”ソルス
パーズ”12000を4.41g、γ−ブチロラクトン
を557g、3−メトキシ−5−メチル−1−ブタノー
ルを323g、ポリマ分散剤(P−1)を494gをジ
ルコニアビーズと共にミル型分散機に仕込み、3000
rpmで2時間分散し分散液を得た。該分散液300g
とポリマ分散剤(P−1)156.3gをγ−ブチロラ
クトン198.3g、3−メトキシ−3−メチル−1−
ブタノール185.3gで希釈した溶液とを混合し、緑
ペーストを得た。
た顔料をアセトン洗浄した塩素化および臭素化した銅フ
タロシアニンを71.2g、ピグメントイエロー83を
12.6g計量し、それぞれゼネカ社製分散剤”ソルス
パーズ”12000を4.41g、γ−ブチロラクトン
を557g、3−メトキシ−5−メチル−1−ブタノー
ルを323g、ポリマ分散剤(P−1)を494gをジ
ルコニアビーズと共にミル型分散機に仕込み、3000
rpmで2時間分散し分散液を得た。該分散液300g
とポリマ分散剤(P−1)156.3gをγ−ブチロラ
クトン198.3g、3−メトキシ−3−メチル−1−
ブタノール185.3gで希釈した溶液とを混合し、緑
ペーストを得た。
【0065】ピグメントオレンジ38を191.4g、
ピグメントレッド177を138.6gおよびγ−ブチ
ロラクトン3267g、3−メトキシ−3−メチル−1
−ブタノール1266g、オリゴマ分散剤(O−1)7
3.92g、ポリマー分散剤(P−1)562.95g
をミル型分散機に充填し、4000rpmで5時間分散
した。かくして顔料濃度6%の赤色分散液を得た。該分
散液450gにポリアミド酸溶液(PAA1)156.
3gをγ−ブチロラクトン108.3gと3−メトキシ
−3−メチル−1−ブタノール 185.3gで希釈し
た溶液を添加混合し、赤色ペーストを得た。
ピグメントレッド177を138.6gおよびγ−ブチ
ロラクトン3267g、3−メトキシ−3−メチル−1
−ブタノール1266g、オリゴマ分散剤(O−1)7
3.92g、ポリマー分散剤(P−1)562.95g
をミル型分散機に充填し、4000rpmで5時間分散
した。かくして顔料濃度6%の赤色分散液を得た。該分
散液450gにポリアミド酸溶液(PAA1)156.
3gをγ−ブチロラクトン108.3gと3−メトキシ
−3−メチル−1−ブタノール 185.3gで希釈し
た溶液を添加混合し、赤色ペーストを得た。
【0066】ピグメントブルー15:6 を157.5
g、ポリマー溶液PAA2を337.5g、γ−ブチル
ラクトン637.5gおよびN−メチル−2−ピロリド
ン367.5gをミル型分散機に仕込み、3000rp
mで2時間分散した。かくして顔料濃度10.5%の青
色分散液を得た。該青色分散液624gにポリマー溶液
PAA2を702g、γ−ブチルラクトン374g、N
−メチル−2−ピロリドン836gおよび3−メトキシ
−3−メチル−ブチルアセテート415gを添加混合
し、青色ペーストを得た。
g、ポリマー溶液PAA2を337.5g、γ−ブチル
ラクトン637.5gおよびN−メチル−2−ピロリド
ン367.5gをミル型分散機に仕込み、3000rp
mで2時間分散した。かくして顔料濃度10.5%の青
色分散液を得た。該青色分散液624gにポリマー溶液
PAA2を702g、γ−ブチルラクトン374g、N
−メチル−2−ピロリドン836gおよび3−メトキシ
−3−メチル−ブチルアセテート415gを添加混合
し、青色ペーストを得た。
【0067】無アルカリガラス上にスピナーを用いて上
記ブラックペーストを塗布し、オーブン中で135℃で
20分間セミキュアした。ブラック膜上にポジ型フォト
レジストをスピナーで塗布し、90℃で10分間乾燥
し、1.5μm厚のレジスト膜を得た。フォトマスクを
介して格子パターンを露光した。テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシドの2.38%水溶液を現像液とし、フ
ォトレジストの現像とブラック膜のエッチングを同時に
おこなった。エッチング後、不要となったフォトレジス
ト層をアセトンで剥離した。次いでオーブンにて300
℃、30分間のキュアを実施し、ブラックマトリックス
を得た。該ブラックマトリックス層の厚みは0.9μm
であった。
記ブラックペーストを塗布し、オーブン中で135℃で
20分間セミキュアした。ブラック膜上にポジ型フォト
レジストをスピナーで塗布し、90℃で10分間乾燥
し、1.5μm厚のレジスト膜を得た。フォトマスクを
介して格子パターンを露光した。テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシドの2.38%水溶液を現像液とし、フ
ォトレジストの現像とブラック膜のエッチングを同時に
おこなった。エッチング後、不要となったフォトレジス
ト層をアセトンで剥離した。次いでオーブンにて300
℃、30分間のキュアを実施し、ブラックマトリックス
を得た。該ブラックマトリックス層の厚みは0.9μm
であった。
【0068】ブラックマトリックスが形成されたガラス
基板上にポリイミド転換後に厚さ1.5μmになるよう
に赤色ペーストを塗布し、120℃で20分乾燥し、こ
の上にフォトレジストを塗布し、90℃で10分乾燥し
た。ブラックマトリックスの100μmピッチで配列さ
れた格子の2つおきの開口部を埋めるようにパターニン
グされたフォトマスクを介してフォトレジストを露光し
た。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イドの2.38%の水溶液からなる現像液に浸漬し、フ
ォトレジストの現像、ポリイミド前駆体の着色塗膜のエ
ッチングを同時におこなった。エッチング後、不要とな
ったフォトレジスト層をアセトンで剥離した。さらにポ
リイミド前駆体の赤色塗膜を240℃で30分熱処理
し、ポリイミドに転換した。かくして赤画素を形成し
た。
基板上にポリイミド転換後に厚さ1.5μmになるよう
に赤色ペーストを塗布し、120℃で20分乾燥し、こ
の上にフォトレジストを塗布し、90℃で10分乾燥し
た。ブラックマトリックスの100μmピッチで配列さ
れた格子の2つおきの開口部を埋めるようにパターニン
グされたフォトマスクを介してフォトレジストを露光し
た。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イドの2.38%の水溶液からなる現像液に浸漬し、フ
ォトレジストの現像、ポリイミド前駆体の着色塗膜のエ
ッチングを同時におこなった。エッチング後、不要とな
ったフォトレジスト層をアセトンで剥離した。さらにポ
リイミド前駆体の赤色塗膜を240℃で30分熱処理
し、ポリイミドに転換した。かくして赤画素を形成し
た。
【0069】青色ペーストをブラックマトリックスが形
成されたガラス基板上にポリイミド転換後に厚さ1.5
μmになるように塗布し、120℃で20分乾燥した。
以下、赤ペーストの場合と同様にして、赤画素に隣り合
うように青画素を形成した。
成されたガラス基板上にポリイミド転換後に厚さ1.5
μmになるように塗布し、120℃で20分乾燥した。
以下、赤ペーストの場合と同様にして、赤画素に隣り合
うように青画素を形成した。
【0070】実施例1で得た緑顔料Aを用いた緑色ペー
ストをブラックマトリックスが形成されたガラス基板上
にポリイミド転換後に厚さ1.5μmになるように塗布
し、120℃で20分乾燥した。以下、赤ペーストの場
合と同様にして、赤画素に隣り合うように緑画素を形成
した。
ストをブラックマトリックスが形成されたガラス基板上
にポリイミド転換後に厚さ1.5μmになるように塗布
し、120℃で20分乾燥した。以下、赤ペーストの場
合と同様にして、赤画素に隣り合うように緑画素を形成
した。
【0071】3原色の着色層が形成された基板上にスパ
ッタリング法により厚さ0.1μmのITO薄膜を形成
し、カラーフィルターを得た。このとき基板温度は23
0℃とし、マスクを用いてITO薄膜の付着部分を表示
領域と駆動素子基板側へのリード部分とに制限した。
ッタリング法により厚さ0.1μmのITO薄膜を形成
し、カラーフィルターを得た。このとき基板温度は23
0℃とし、マスクを用いてITO薄膜の付着部分を表示
領域と駆動素子基板側へのリード部分とに制限した。
【0072】次の手順でTFTアレイを備えた駆動素子
基板を作製した。
基板を作製した。
【0073】無アルカリガラス上に厚さ0.2μmのク
ロム薄膜をスパッタ法にて形成した。該クロム薄膜上に
ポジ型フォトレジストを塗布、乾燥してフォトレジスト
被膜を形成した。続いて該フォトレジスト被膜上にフォ
トマスクを置き、露光装置を用いて紫外線を照射した。
露光後、アルカリ現像液により、フォトレジスト被膜を
現像した。次いでフェリシアン化カリウム:水酸化ナト
リウム:水=1000:350:4365の割合で混合
したクロムエッチャントでクロム薄膜をエッチングし、
ゲート電極、ゲート配線および付加容量からなるパター
ンを作製した。クロムエッチング後、不要となったフォ
トレジスト被膜を剥離液にて剥離した。クロム薄膜上に
プラズマCVD法にて厚さ0.7μmの窒化珪素薄膜と
厚さ0.08μmのアモルファスシリコン薄膜を連続し
て形成した。アモルファスシリコン薄膜上にポジ型フォ
トレジストを塗布、乾燥してフォトレジスト被膜を形成
した。続いて該フォトレジスト被膜上にフォトマスクを
置き、露光装置を用いて紫外線を照射した。露光後、ア
ルカリ現像液により、フォトレジスト被膜を現像した。
次いでリアクティブイオンエッチング法でアモルファス
シリコン薄膜と窒化珪素薄膜をエッチングしチャンネル
部分を形成した。リアクティブイオンエッチング後、不
要となったフォトレジスト被膜をアッシングおよび剥離
液にて剥離した。次にプラズマCVD法にて厚さ0.5
μmの窒化珪素薄膜を形成した。トランジスタのチャン
ネル部分に該窒化珪素薄膜が残るようにアモルファスシ
リコン薄膜と同様にしてフォトレジストとリアクティブ
イオンエッチングを用いてパターニングしてチャンネル
部分を保護するエッチングストッパとした。この上にボ
ロンをドープした厚さ0.2μmのアモルファスシリコ
ン薄膜をプラズマCVD法にて形成してから、フォトレ
ジストとリアクティブイオンエッチングを用いてパター
ニングし、チャンネル層とソース電極およびドレイン電
極とのオーミックコンタクトを確保した。さらにプラズ
マCVD法にて厚さ0.5μmの窒化珪素薄膜を形成し
てフォトレジストとリアクティブイオンエッチングを用
いてパターニングし、ソース電極およびドレイン電極接
続部分にスルーホールを形成した。厚さ0.2μmのア
ルミニウム薄膜をスパッタ法にて形成しフォトレジスト
とアルミニウムエッチャントを用いてパターニングし、
ソース電極およびデータ配線を形成した。厚さ0.1μ
mのITO薄膜をスパッタ法にて形成してから、フォト
レジストとITOエッチャントを用いてパターニングし
画素電極を得た。プラズマCVD法にて厚さ0.5μm
の窒化珪素薄膜を形成してフォトレジストとリアクティ
ブイオンエッチングを用いてパターニングし、保護層を
形成した。該保護層は画素電極上と液晶表示素子の外部
信号線との接続部分はエッチングして除いた。
ロム薄膜をスパッタ法にて形成した。該クロム薄膜上に
ポジ型フォトレジストを塗布、乾燥してフォトレジスト
被膜を形成した。続いて該フォトレジスト被膜上にフォ
トマスクを置き、露光装置を用いて紫外線を照射した。
露光後、アルカリ現像液により、フォトレジスト被膜を
現像した。次いでフェリシアン化カリウム:水酸化ナト
リウム:水=1000:350:4365の割合で混合
したクロムエッチャントでクロム薄膜をエッチングし、
ゲート電極、ゲート配線および付加容量からなるパター
ンを作製した。クロムエッチング後、不要となったフォ
トレジスト被膜を剥離液にて剥離した。クロム薄膜上に
プラズマCVD法にて厚さ0.7μmの窒化珪素薄膜と
厚さ0.08μmのアモルファスシリコン薄膜を連続し
て形成した。アモルファスシリコン薄膜上にポジ型フォ
トレジストを塗布、乾燥してフォトレジスト被膜を形成
した。続いて該フォトレジスト被膜上にフォトマスクを
置き、露光装置を用いて紫外線を照射した。露光後、ア
ルカリ現像液により、フォトレジスト被膜を現像した。
次いでリアクティブイオンエッチング法でアモルファス
シリコン薄膜と窒化珪素薄膜をエッチングしチャンネル
部分を形成した。リアクティブイオンエッチング後、不
要となったフォトレジスト被膜をアッシングおよび剥離
液にて剥離した。次にプラズマCVD法にて厚さ0.5
μmの窒化珪素薄膜を形成した。トランジスタのチャン
ネル部分に該窒化珪素薄膜が残るようにアモルファスシ
リコン薄膜と同様にしてフォトレジストとリアクティブ
イオンエッチングを用いてパターニングしてチャンネル
部分を保護するエッチングストッパとした。この上にボ
ロンをドープした厚さ0.2μmのアモルファスシリコ
ン薄膜をプラズマCVD法にて形成してから、フォトレ
ジストとリアクティブイオンエッチングを用いてパター
ニングし、チャンネル層とソース電極およびドレイン電
極とのオーミックコンタクトを確保した。さらにプラズ
マCVD法にて厚さ0.5μmの窒化珪素薄膜を形成し
てフォトレジストとリアクティブイオンエッチングを用
いてパターニングし、ソース電極およびドレイン電極接
続部分にスルーホールを形成した。厚さ0.2μmのア
ルミニウム薄膜をスパッタ法にて形成しフォトレジスト
とアルミニウムエッチャントを用いてパターニングし、
ソース電極およびデータ配線を形成した。厚さ0.1μ
mのITO薄膜をスパッタ法にて形成してから、フォト
レジストとITOエッチャントを用いてパターニングし
画素電極を得た。プラズマCVD法にて厚さ0.5μm
の窒化珪素薄膜を形成してフォトレジストとリアクティ
ブイオンエッチングを用いてパターニングし、保護層を
形成した。該保護層は画素電極上と液晶表示素子の外部
信号線との接続部分はエッチングして除いた。
【0074】かくして薄膜トランジスタからなる液晶駆
動素子を備えた基板を得た。
動素子を備えた基板を得た。
【0075】上記のカラーフィルター基板上と液晶駆動
素子を備えた基板上にポリイミドからなる配向剤を塗布
し、80℃ で10分間乾燥し180℃ で1時間キュア
して厚さ0.08μmの配向膜を得た。該配向膜をレー
ヨン布によりラビング処理した。カラーフィルター側と
液晶駆動素子側の基板を貼り合わせたときに液晶が左回
りに90°捻れるようにラビング方向を選択した。
素子を備えた基板上にポリイミドからなる配向剤を塗布
し、80℃ で10分間乾燥し180℃ で1時間キュア
して厚さ0.08μmの配向膜を得た。該配向膜をレー
ヨン布によりラビング処理した。カラーフィルター側と
液晶駆動素子側の基板を貼り合わせたときに液晶が左回
りに90°捻れるようにラビング方向を選択した。
【0076】カラーフィルター基板に直径4.2μmの
ポリスチレンからなるスペーサーを散布した。一方、液
晶駆動素子が形成された基板上には直径4.5μmのガ
ラスロッドを混入したエポキシ系のシール剤をスクリー
ン印刷した。シール剤はカラーフィルターの額縁部分に
接合されるように配置し、液晶注入口を設けた。
ポリスチレンからなるスペーサーを散布した。一方、液
晶駆動素子が形成された基板上には直径4.5μmのガ
ラスロッドを混入したエポキシ系のシール剤をスクリー
ン印刷した。シール剤はカラーフィルターの額縁部分に
接合されるように配置し、液晶注入口を設けた。
【0077】カラーフィルター基板と液晶駆動素子が形
成された基板を位置合わせし、圧力をかけつつ加熱処理
した。加熱処理は150℃ で1時間としシール剤を硬
化して基板を固定した。用いたガラス基板において液晶
表示素子に必要な部分をガラススクライブ装置で切り出
した。
成された基板を位置合わせし、圧力をかけつつ加熱処理
した。加熱処理は150℃ で1時間としシール剤を硬
化して基板を固定した。用いたガラス基板において液晶
表示素子に必要な部分をガラススクライブ装置で切り出
した。
【0078】かくして得られたセルを減圧中に置き充分
脱気する。シール剤に設けられた液晶注入口を液晶中に
浸した後、減圧雰囲気を常圧に戻し、液晶をセルの中に
導入した。液晶が注入されたセルの液晶注入口を紫外線
硬化樹脂で塞いだ。
脱気する。シール剤に設けられた液晶注入口を液晶中に
浸した後、減圧雰囲気を常圧に戻し、液晶をセルの中に
導入した。液晶が注入されたセルの液晶注入口を紫外線
硬化樹脂で塞いだ。
【0079】ラビング方向に合わせて、基板外側に偏光
フィルムを貼り付けた。かくして本発明の液晶表示素子
を得た。
フィルムを貼り付けた。かくして本発明の液晶表示素子
を得た。
【0080】該液晶表示素子10枚を室温にて一括点灯
し、中間調表示で500時間までの表示状態を観察した
が、表示ムラを生じるものはなく良好であった。
し、中間調表示で500時間までの表示状態を観察した
が、表示ムラを生じるものはなく良好であった。
【0081】
【発明の効果】本発明はフタロシアニン化合物の塩素化
および/または臭素化によって、緑顔料を製造する際に
特定の溶媒を採用し、該溶媒に適した条件を用いること
により、液晶中で解離して液晶表示素子に悪影響を与え
るイオン性不純物を低減させることができるものであ
る。また、さらに有機溶剤で洗浄することでイオン性不
純物を低減することができる。
および/または臭素化によって、緑顔料を製造する際に
特定の溶媒を採用し、該溶媒に適した条件を用いること
により、液晶中で解離して液晶表示素子に悪影響を与え
るイオン性不純物を低減させることができるものであ
る。また、さらに有機溶剤で洗浄することでイオン性不
純物を低減することができる。
Claims (6)
- 【請求項1】フタロシアニン骨格を有する化合物を塩素
化および/または臭素化する際の溶媒として、発煙硫酸
または硫酸を用いたことを特徴とするカラーフィルター
用顔料の製造方法。 - 【請求項2】該顔料を有機溶剤で洗浄することを特徴と
する請求項1記載のカラーフィルター用顔料の製造方
法。 - 【請求項3】該有機溶剤の双極子モーメントが2デバイ
以上であることを特徴とする請求項2記載のカラーフィ
ルター用顔料の製造方法。 - 【請求項4】少なくとも顔料、有機溶剤と樹脂を含有す
るカラーフィルター用カラーペーストであって、該顔料
が請求項1〜3いずれかに記載の製造方法によって得ら
れたものであることを特徴とするカラーフィルター用カ
ラーペースト。 - 【請求項5】任意の色数で各色別に所望のパターン状に
設けられた着色層からなる画素を有するカラーフィルタ
ーにおいて、該着色層が請求項4に記載のカラーペース
トによって得られた着色被膜であることを特徴とするカ
ラーフィルター。 - 【請求項6】請求項5に記載のカラーフィルターを用い
たことを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36275898A JP2000186225A (ja) | 1998-12-21 | 1998-12-21 | カラーフィルター用顔料の製造方法およびこれを用いたカラーフィルター |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36275898A JP2000186225A (ja) | 1998-12-21 | 1998-12-21 | カラーフィルター用顔料の製造方法およびこれを用いたカラーフィルター |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000186225A true JP2000186225A (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=18477667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36275898A Pending JP2000186225A (ja) | 1998-12-21 | 1998-12-21 | カラーフィルター用顔料の製造方法およびこれを用いたカラーフィルター |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000186225A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7102707B2 (en) | 2002-04-03 | 2006-09-05 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Liquid-crystal display device |
US7936428B2 (en) | 2004-02-26 | 2011-05-03 | Nec Lcd Technologies, Ltd | Liquid crystal display device with an electric-field shielding layer and method of fabricating the same |
WO2015019659A1 (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-12 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | ハロゲン化有機顔料の製造方法、その製造方法により得られるハロゲン化有機顔料およびそれを含む着色組成物 |
JP2015183070A (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-22 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | ハロゲン化有機顔料の製造方法、その製造方法により得られるハロゲン化有機顔料およびそれを含む着色組成物 |
-
1998
- 1998-12-21 JP JP36275898A patent/JP2000186225A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7102707B2 (en) | 2002-04-03 | 2006-09-05 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Liquid-crystal display device |
US7105368B2 (en) | 2002-04-03 | 2006-09-12 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Method of fabricating and evaluating liquid-crystal display |
CN100383633C (zh) * | 2002-04-03 | 2008-04-23 | Nec液晶技术株式会社 | 液晶显示装置和评估液晶显示装置的方法 |
US7936428B2 (en) | 2004-02-26 | 2011-05-03 | Nec Lcd Technologies, Ltd | Liquid crystal display device with an electric-field shielding layer and method of fabricating the same |
WO2015019659A1 (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-12 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | ハロゲン化有機顔料の製造方法、その製造方法により得られるハロゲン化有機顔料およびそれを含む着色組成物 |
CN105452389A (zh) * | 2013-08-05 | 2016-03-30 | 东洋油墨Sc控股株式会社 | 卤化有机颜料的制造方法、通过该制造方法获得的卤化有机颜料以及包含该卤化有机颜料的着色组合物 |
US10155867B2 (en) | 2013-08-05 | 2018-12-18 | Toyo Ink Sc Holdings Co., Ltd. | Method for producing halogenated organic pigment, halogenated organic pigment obtained by the production method, and colored composition comprising the same |
KR20210008161A (ko) * | 2013-08-05 | 2021-01-20 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | 할로겐화 유기안료의 제조방법, 그 제조방법에 의해 얻어지는 할로겐화 유기안료 및 이것을 포함하는 착색 조성물 |
KR102322272B1 (ko) * | 2013-08-05 | 2021-11-08 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | 할로겐화 유기안료의 제조방법, 그 제조방법에 의해 얻어지는 할로겐화 유기안료 및 이것을 포함하는 착색 조성물 |
JP2015183070A (ja) * | 2014-03-24 | 2015-10-22 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | ハロゲン化有機顔料の製造方法、その製造方法により得られるハロゲン化有機顔料およびそれを含む着色組成物 |
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