JP2000129176A - コーティング用組成物 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 51
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract description 49
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title description 49
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 90
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims abstract description 43
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 19
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 17
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 84
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 32
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 15
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 14
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 abstract description 7
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 abstract description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 abstract description 2
- -1 alkyl silicate Chemical compound 0.000 description 47
- 239000010408 film Substances 0.000 description 33
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 24
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 23
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 21
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 19
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 14
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Chemical group 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AMUZLNGQQFNPTQ-UHFFFAOYSA-J 3-oxohexanoate zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O AMUZLNGQQFNPTQ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,5-dimethylphenyl)-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C=2N=C(N)SC=2)=C1 MGWGWNFMUOTEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000010757 Reduction Activity Effects 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- MQPPCKJJFDNPHJ-UHFFFAOYSA-K aluminum;3-oxohexanoate Chemical compound [Al+3].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O MQPPCKJJFDNPHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 3
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- SVSKNXCGFBCVOM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethylsilane Chemical class [SiH3]CC1CO1 SVSKNXCGFBCVOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 3
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- ACECBHHKGNTVPB-UHFFFAOYSA-N silylformic acid Chemical class OC([SiH3])=O ACECBHHKGNTVPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGHFDTDSFZTYBW-UHFFFAOYSA-N O-silylhydroxylamine Chemical class NO[SiH3] YGHFDTDSFZTYBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)OC VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093858 ethyl acetoacetate Drugs 0.000 description 2
- ITAHRPSKCCPKOK-UHFFFAOYSA-N ethyl trimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OC ITAHRPSKCCPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 2
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000077 insect repellent Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- PIJPYDMVFNTHIP-UHFFFAOYSA-L lead sulfate Chemical compound [PbH4+2].[O-]S([O-])(=O)=O PIJPYDMVFNTHIP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHGFMVMDBNLMKT-UHFFFAOYSA-N propyl 3-oxobutanoate Chemical compound CCCOC(=O)CC(C)=O DHGFMVMDBNLMKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYBKVVRRGQSGDC-UHFFFAOYSA-N triethyl methyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OCC)OCC QYBKVVRRGQSGDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- AJOJTMNIQSTBAP-UHFFFAOYSA-N (1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CN1C(C)(C)CCC(OC(=O)C=C)C1(C)C AJOJTMNIQSTBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSSNZUFKXJJCBG-OWOJBTEDSA-N (e)-but-2-enediamide Chemical compound NC(=O)\C=C\C(N)=O BSSNZUFKXJJCBG-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- BSSNZUFKXJJCBG-UPHRSURJSA-N (z)-but-2-enediamide Chemical compound NC(=O)\C=C/C(N)=O BSSNZUFKXJJCBG-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- PCTZLSCYMRXUGW-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2-pentafluorobutane Chemical group [CH2]CC(F)(F)C(F)(F)F PCTZLSCYMRXUGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPNBNXLBDFELL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trimethoxyethane Chemical compound COC(C)(OC)OC HDPNBNXLBDFELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)F NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQUROMIGLUXXNW-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilylpropan-2-ol Chemical compound CCO[Si](CC(C)O)(OCC)OCC ZQUROMIGLUXXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFAZQMFMBKQIDW-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylpropan-2-ol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)O AFAZQMFMBKQIDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- KFBXUKHERGLHLG-UHFFFAOYSA-N 2,4-Nonanedione Chemical compound CCCCCC(=O)CC(C)=O KFBXUKHERGLHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLLMHEDYJQACRM-UHFFFAOYSA-N 2-(carboxymethyldisulfanyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CSSCC(O)=O DLLMHEDYJQACRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-cyano-2-methylpropyl)diazenyl]-3-methylbutanenitrile Chemical compound CC(C)C(C#N)N=NC(C#N)C(C)C MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRBZSCWNFQRJOU-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 3-oxobutanoate;zirconium Chemical compound [Zr].CCCCOCCOC(=O)CC(C)=O KRBZSCWNFQRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEYHHQSTMVVZQP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanamine Chemical compound NCCOC=C CEYHHQSTMVVZQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVTWJXMFYOXOKK-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroacetamide Chemical group NC(=O)CF FVTWJXMFYOXOKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LPNSCOVIJFIXTJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanamide Chemical compound CCC(=C)C(N)=O LPNSCOVIJFIXTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGBOVFKUKBGAJQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanediamide Chemical compound NC(=O)CC(=C)C(N)=O JGBOVFKUKBGAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- ZHTLMPWATZQGAP-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanol Chemical compound CCO[Si](CCO)(OCC)OCC ZHTLMPWATZQGAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCJXRLHGBZEQIB-UHFFFAOYSA-J 3,5-dioxohexanoate zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(=O)CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC(=O)CC([O-])=O CCJXRLHGBZEQIB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethylcyclohexyl)propanoic acid 3-(3-ethylcyclopentyl)propanoic acid Chemical compound CCC1CCC(CCC(O)=O)C1.CCC1CCC(CCC(O)=O)CC1 HNNQYHFROJDYHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSMIYGMDJCDHNU-UHFFFAOYSA-L 3-oxobutanoate;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].CC(=O)CC([O-])=O.CC(=O)CC([O-])=O JSMIYGMDJCDHNU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NMUBRRLYMADSGF-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropan-1-ol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCO NMUBRRLYMADSGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YATIYDNBFHEOFA-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-ol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCO YATIYDNBFHEOFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHZGUWAFFHXZLC-UHFFFAOYSA-N 5-methylhexane-2,4-dione Chemical compound CC(C)C(=O)CC(C)=O KHZGUWAFFHXZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N Acetoacetic acid Natural products CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REIYHFWZISXFKU-UHFFFAOYSA-N Butyl acetoacetate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(C)=O REIYHFWZISXFKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVBZGUEZKFNIH-UHFFFAOYSA-N C(C)O[SiH3].C(C1CO1)OCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound C(C)O[SiH3].C(C1CO1)OCCC[Si](OC)(OC)OC UGVBZGUEZKFNIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091005944 Cerulean Proteins 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKTMIJODWOEBKO-UHFFFAOYSA-M Guinee green B Chemical compound [Na+].C=1C=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[N+](CC)CC=2C=C(C=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 XKTMIJODWOEBKO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQDSFKPWDURPAQ-UHFFFAOYSA-N O-[aminooxy(methyl)silyl]hydroxylamine Chemical compound C[SiH](ON)ON QQDSFKPWDURPAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017784 Sb In Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017838 Sb—In Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018956 Sn—In Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- DOVLHZIEMGDZIW-UHFFFAOYSA-N [Cu+3].[O-]B([O-])[O-] Chemical compound [Cu+3].[O-]B([O-])[O-] DOVLHZIEMGDZIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCOPSVHEGTJRH-UHFFFAOYSA-J [Ti+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O Chemical compound [Ti+4].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O GSCOPSVHEGTJRH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZFBKHCHWCYNSO-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[SiH](OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 MZFBKHCHWCYNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004842 bisphenol F epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSTNBMLCULGCQE-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl 3-oxobutanoate Chemical compound CCC(C)OC(=O)CC(C)=O QSTNBMLCULGCQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1CCCCC1 ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJJCABYOVIHNPZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1CCCCC1 SJJCABYOVIHNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTYZQVDVGVAXSW-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethyl(diethoxy)silane Chemical compound CCO[SiH](OCC)CC1CCCCC1 RTYZQVDVGVAXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- AONDIGWFVXEZGD-UHFFFAOYSA-N diacetyloxy(methyl)silicon Chemical compound CC(=O)O[Si](C)OC(C)=O AONDIGWFVXEZGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOWBFOBYOAGEEA-UHFFFAOYSA-N diafenthiuron Chemical compound CC(C)C1=C(NC(=S)NC(C)(C)C)C(C(C)C)=CC(OC=2C=CC=CC=2)=C1 WOWBFOBYOAGEEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- DGPFXVBYDAVXLX-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)CCCC DGPFXVBYDAVXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)CCCC YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGYGEZLIGMBRKL-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl(diethoxy)silane Chemical compound C1CCCCC1[Si](OCC)(OCC)C1CCCCC1 CGYGEZLIGMBRKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVMRWPHIZSSUKP-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl(dimethoxy)silane Chemical compound C1CCCCC1[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 ZVMRWPHIZSSUKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRMUHDACMQEQMT-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diheptyl)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCCC NRMUHDACMQEQMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDFQIGODCFRNJY-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dihexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCC UDFQIGODCFRNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YETKAVVSNLUTEQ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCC YETKAVVSNLUTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDXFKFNGIDWIQQ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dipentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCC VDXFKFNGIDWIQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDMSWKOWFWHYQF-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-pentylsilane Chemical compound CCCCC[Si](C)(OCC)OCC PDMSWKOWFWHYQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZBCKWWFOPPOCW-UHFFFAOYSA-N diheptyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCCC DZBCKWWFOPPOCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYICXDQJFWXGTC-UHFFFAOYSA-N dihexyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCC CYICXDQJFWXGTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYXIAHKLJMLPIP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCCCC TYXIAHKLJMLPIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXAPXYULCIKKNK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dipentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OC)(OC)CCCCC LXAPXYULCIKKNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVUVKQDVTIIMOD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dipropyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)CCC JVUVKQDVTIIMOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIQDYIQMZXESRD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[SiH](OC)C1=CC=CC=C1 CIQDYIQMZXESRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDUWLPONQBXSZ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-pentylsilane Chemical compound CCCCC[Si](C)(OC)OC UNDUWLPONQBXSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRMWCMBQRGFNIZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-oxobutanoate;zirconium Chemical compound [Zr].CCOC(=O)CC(C)=O YRMWCMBQRGFNIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011381 foam concrete Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 230000002070 germicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 1
- ILPNRWUGFSPGAA-UHFFFAOYSA-N heptane-2,4-dione Chemical compound CCCC(=O)CC(C)=O ILPNRWUGFSPGAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGCTVLNZTFDPDJ-UHFFFAOYSA-N heptane-3,5-dione Chemical compound CCC(=O)CC(=O)CC DGCTVLNZTFDPDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCC(N)N SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDOGLIPWGGRQCO-UHFFFAOYSA-N hexane-2,4-dione Chemical compound CCC(=O)CC(C)=O NDOGLIPWGGRQCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 235000014413 iron hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L iron(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Fe+2] NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- JQJCSZOEVBFDKO-UHFFFAOYSA-N lead zinc Chemical compound [Zn].[Pb] JQJCSZOEVBFDKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJOMWQQKPKLUBO-UHFFFAOYSA-L lead(2+);phthalate Chemical compound [Pb+2].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O YJOMWQQKPKLUBO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N lead(II) oxide Inorganic materials [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N methyl(triphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- GJYXGIIWJFZCLN-UHFFFAOYSA-N octane-2,4-dione Chemical compound CCCCC(=O)CC(C)=O GJYXGIIWJFZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VASIZKWUTCETSD-UHFFFAOYSA-N oxomanganese Chemical compound [Mn]=O VASIZKWUTCETSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);titanium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O DCKVFVYPWDKYDN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- GYUPBLLGIHQRGT-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dione;titanium Chemical compound [Ti].CC(=O)CC(C)=O GYUPBLLGIHQRGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical group CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N silyl acetate Chemical compound CC(=O)O[SiH3] UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- NVKTUNLPFJHLCG-UHFFFAOYSA-N strontium chromate Chemical compound [Sr+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NVKTUNLPFJHLCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000005309 thioalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000348 titanium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHVAUDREWWXPRW-UHFFFAOYSA-N triethoxy(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FHVAUDREWWXPRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OC)(OC)OC HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 235000013799 ultramarine blue Nutrition 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 235000013311 vegetables Nutrition 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Zn+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 配合される光触媒成分としての二酸化チタン
の還元活性を高め、空気中の窒素酸化物が硝酸として除
去される比率を低減でき、しかも保存安定性に優れ、か
つ塗膜外観、耐候性、耐熱性等を含めた一般の塗膜性能
に優れたコーティング用組成物を提供する。 【解決手段】 組成物は、(A)メトルトリメトキシシ
ラン等に代表される加水分解性オルガノシラン、該オル
ガノシランの加水分解物および該オルガノシランの部分
縮合物から選ばれる少なくとも1種の成分、並びに
(B)結晶子径10nm以下の二酸化チタン超微粒子が
二酸化チタン以外の金属酸化物中に分散した複合酸化物
からなる微粒子を含有するか、あるいは前記(A)成分
と(B)成分、並びに(C)加水分解性基および/また
は水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合
体分子鎖の末端および/または側鎖に有する重合体を含
有する。
の還元活性を高め、空気中の窒素酸化物が硝酸として除
去される比率を低減でき、しかも保存安定性に優れ、か
つ塗膜外観、耐候性、耐熱性等を含めた一般の塗膜性能
に優れたコーティング用組成物を提供する。 【解決手段】 組成物は、(A)メトルトリメトキシシ
ラン等に代表される加水分解性オルガノシラン、該オル
ガノシランの加水分解物および該オルガノシランの部分
縮合物から選ばれる少なくとも1種の成分、並びに
(B)結晶子径10nm以下の二酸化チタン超微粒子が
二酸化チタン以外の金属酸化物中に分散した複合酸化物
からなる微粒子を含有するか、あるいは前記(A)成分
と(B)成分、並びに(C)加水分解性基および/また
は水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合
体分子鎖の末端および/または側鎖に有する重合体を含
有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、コーティング用組成物
に関し、さらに詳細には、光触媒能を有する酸化チタン
超微粒子が他の金属酸化物中に分散した複合酸化物から
なる微粒子を含有するオルガノシラン系コーティング用
組成物に関する。
に関し、さらに詳細には、光触媒能を有する酸化チタン
超微粒子が他の金属酸化物中に分散した複合酸化物から
なる微粒子を含有するオルガノシラン系コーティング用
組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】オルガノシラン系コーティング材は、耐
候(光)性、耐汚染性等に優れたメンテナンスフリーの
コーティング材として技術開発が進められているが、こ
のようなオルガノシラン系コーティング材に対する要求
性能はますます厳しくなっており、最近では塗膜外観、
耐候性、耐熱性、耐汚染性等に優れたコーティング材が
求められている。また近年、光触媒成分の防菌・防かび
性や防汚染性、さらには空気中の窒素酸化物の除去作用
などに着目した技術が種々提案されており、例えば、二
酸化チタン微粒子を含む塗料(特開平7−331120
号公報)、二酸化チタン、加水分解性珪素化合物(アル
キルシリケートまたはハロゲン化珪素)の加水分解物、
および溶媒(水またはアルコール)からなる光触媒用酸
化チタン塗膜形成性組成物(特開平8−164334公
報)や、二酸化チタン微粒子をフッ素樹脂などのバイン
ダーに混合してシート状やパネル状に形成した汚染物質
の浄化材(特開平6−315614号公報)が知られて
おり、特に大都市などの交通量の激しい道路周辺では自
動車の排気ガスなどのため窒素酸化物(NOx)の濃度が
高く、深刻な問題となっている折から、光触媒成分の空
気中の窒素酸化物の除去作用が注目されるようになって
きた。しかし、これらの従来の技術は、二酸化チタン等
の光触媒成分を混合物の形で用いる場合もあるとして
も、基本的には単純な微粒子状で使用するものである。
ところで、代表的な光触媒成分である二酸化チタンに
は、次のような性質がある。即ち、半導体である二酸化
チタンの粒子表面に紫外線を照射すると、価電子帯にあ
る電子が励起されて伝導帯に移動して、価電子帯に正孔
が生じる。そして、伝導帯に移動した電子が周囲に存在
する酸素を還元して、スーパーオキサイドアニオン(−
O2 - ) を生成し、このスーパーオキサイドアニオンが
過酸化水素(H2 O2)等を経ることにより酸化力を発揮
する。また、価電子帯に生じた正孔は、周囲の水(H2
O)を酸化して、酸化力の強いヒドロキシラジカル(・
OH)を生成する。したがって、紫外線が照射された二
酸化チタンと窒素酸化物を含む大気とが接触すると、窒
素酸化物がヒドロキシラジカルなどにより酸化されて硝
酸となり、この硝酸は雨水などによって酸化チタン粒子
表面から洗い流されて、二酸化チタンの光触媒活性が再
生されることになる。しかし、このように窒素酸化物の
酸化により生成した硝酸が雨水などにより洗い流される
と、酸性度の高い水溶液が周辺に流出することとなり、
環境を汚染するという別の問題を来たし、その対策とし
てアルカリで中和する処理が必要となり、この問題は、
前述した従来の光触媒成分を配合した塗料や浄化材でも
避けられないものであった。
候(光)性、耐汚染性等に優れたメンテナンスフリーの
コーティング材として技術開発が進められているが、こ
のようなオルガノシラン系コーティング材に対する要求
性能はますます厳しくなっており、最近では塗膜外観、
耐候性、耐熱性、耐汚染性等に優れたコーティング材が
求められている。また近年、光触媒成分の防菌・防かび
性や防汚染性、さらには空気中の窒素酸化物の除去作用
などに着目した技術が種々提案されており、例えば、二
酸化チタン微粒子を含む塗料(特開平7−331120
号公報)、二酸化チタン、加水分解性珪素化合物(アル
キルシリケートまたはハロゲン化珪素)の加水分解物、
および溶媒(水またはアルコール)からなる光触媒用酸
化チタン塗膜形成性組成物(特開平8−164334公
報)や、二酸化チタン微粒子をフッ素樹脂などのバイン
ダーに混合してシート状やパネル状に形成した汚染物質
の浄化材(特開平6−315614号公報)が知られて
おり、特に大都市などの交通量の激しい道路周辺では自
動車の排気ガスなどのため窒素酸化物(NOx)の濃度が
高く、深刻な問題となっている折から、光触媒成分の空
気中の窒素酸化物の除去作用が注目されるようになって
きた。しかし、これらの従来の技術は、二酸化チタン等
の光触媒成分を混合物の形で用いる場合もあるとして
も、基本的には単純な微粒子状で使用するものである。
ところで、代表的な光触媒成分である二酸化チタンに
は、次のような性質がある。即ち、半導体である二酸化
チタンの粒子表面に紫外線を照射すると、価電子帯にあ
る電子が励起されて伝導帯に移動して、価電子帯に正孔
が生じる。そして、伝導帯に移動した電子が周囲に存在
する酸素を還元して、スーパーオキサイドアニオン(−
O2 - ) を生成し、このスーパーオキサイドアニオンが
過酸化水素(H2 O2)等を経ることにより酸化力を発揮
する。また、価電子帯に生じた正孔は、周囲の水(H2
O)を酸化して、酸化力の強いヒドロキシラジカル(・
OH)を生成する。したがって、紫外線が照射された二
酸化チタンと窒素酸化物を含む大気とが接触すると、窒
素酸化物がヒドロキシラジカルなどにより酸化されて硝
酸となり、この硝酸は雨水などによって酸化チタン粒子
表面から洗い流されて、二酸化チタンの光触媒活性が再
生されることになる。しかし、このように窒素酸化物の
酸化により生成した硝酸が雨水などにより洗い流される
と、酸性度の高い水溶液が周辺に流出することとなり、
環境を汚染するという別の問題を来たし、その対策とし
てアルカリで中和する処理が必要となり、この問題は、
前述した従来の光触媒成分を配合した塗料や浄化材でも
避けられないものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術に
おける前記問題点を背景になされたものであり、その課
題は、光触媒成分として、二酸化チタン超微粒子が他の
金属酸化物中に分散した複合酸化物からなる微粒子を使
用することにより、光触媒成分の還元活性、即ち窒素酸
化物を窒素分子(N2)と酸素分子(O2)に分解する性能
を高めて、硝酸として除去される比率を低減しうるもの
とし、この光触媒成分を特定のオルガノシラン成分と組
み合わせることにより、窒素酸化物が硝酸として除去さ
れる比率を低減でき、しかも保存安定性に優れ、かつ塗
膜外観、耐候性、耐熱性等を含めた一般の塗膜性能に優
れたコーティング用組成物を提供することにある。
おける前記問題点を背景になされたものであり、その課
題は、光触媒成分として、二酸化チタン超微粒子が他の
金属酸化物中に分散した複合酸化物からなる微粒子を使
用することにより、光触媒成分の還元活性、即ち窒素酸
化物を窒素分子(N2)と酸素分子(O2)に分解する性能
を高めて、硝酸として除去される比率を低減しうるもの
とし、この光触媒成分を特定のオルガノシラン成分と組
み合わせることにより、窒素酸化物が硝酸として除去さ
れる比率を低減でき、しかも保存安定性に優れ、かつ塗
膜外観、耐候性、耐熱性等を含めた一般の塗膜性能に優
れたコーティング用組成物を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、第一に、
(A)下記一般式(1)
(A)下記一般式(1)
【0005】
【化3】
【0006】(式中、R1 は水素原子または炭素数1〜
8の1価の有機基を示し、R2 は炭素数1〜5のアルキ
ル基、炭素数1〜6のアシル基またはフェニル基を示
し、nは0〜2の整数である。)で表されるオルガノシ
ラン、該オルガノシランの加水分解物および該オルガノ
シランの部分縮合物から選ばれる少なくとも1種の成分
並びに(B)二酸化チタンと二酸化チタン以外の金属酸
化物との複合酸化物からなる微粒子であって、結晶子径
10nm以下の二酸化チタン超微粒子が二酸化チタン以
外の金属酸化物中に分散した複合酸化物からなる微粒子
を含有することを特徴とするコ−ティング用組成物(以
下、「第1発明」という。)、からなる。
8の1価の有機基を示し、R2 は炭素数1〜5のアルキ
ル基、炭素数1〜6のアシル基またはフェニル基を示
し、nは0〜2の整数である。)で表されるオルガノシ
ラン、該オルガノシランの加水分解物および該オルガノ
シランの部分縮合物から選ばれる少なくとも1種の成分
並びに(B)二酸化チタンと二酸化チタン以外の金属酸
化物との複合酸化物からなる微粒子であって、結晶子径
10nm以下の二酸化チタン超微粒子が二酸化チタン以
外の金属酸化物中に分散した複合酸化物からなる微粒子
を含有することを特徴とするコ−ティング用組成物(以
下、「第1発明」という。)、からなる。
【0007】本発明は、第二に、(A)下記一般式
(1)
(1)
【0008】
【化4】
【0009】(式中、R1 は水素原子または炭素数1〜
8の1価の有機基を示し、R2 は炭素数1〜5のアルキ
ル基、炭素数1〜6のアシル基またはフェニル基を示
し、nは0〜2の整数である。)で表されるオルガノシ
ラン、該オルガノシランの加水分解物および該オルガノ
シランの部分縮合物から選ばれる少なくとも1種の成
分、(B)二酸化チタンと二酸化チタン以外の金属酸化
物との複合酸化物からなる微粒子であって、結晶子径1
0nm以下の二酸化チタン超微粒子が二酸化チタン以外
の金属酸化物中に分散した複合酸化物からなる微粒子並
びに(C)加水分解性基および/または水酸基と結合し
たケイ素原子を有するシリル基を重合体分子鎖の末端お
よび/または側鎖に有する重合体を含有することを特徴
とするコーティング用組成物(以下、「第2発明」とい
う。)、からなる。
8の1価の有機基を示し、R2 は炭素数1〜5のアルキ
ル基、炭素数1〜6のアシル基またはフェニル基を示
し、nは0〜2の整数である。)で表されるオルガノシ
ラン、該オルガノシランの加水分解物および該オルガノ
シランの部分縮合物から選ばれる少なくとも1種の成
分、(B)二酸化チタンと二酸化チタン以外の金属酸化
物との複合酸化物からなる微粒子であって、結晶子径1
0nm以下の二酸化チタン超微粒子が二酸化チタン以外
の金属酸化物中に分散した複合酸化物からなる微粒子並
びに(C)加水分解性基および/または水酸基と結合し
たケイ素原子を有するシリル基を重合体分子鎖の末端お
よび/または側鎖に有する重合体を含有することを特徴
とするコーティング用組成物(以下、「第2発明」とい
う。)、からなる。
【0010】以下、第1発明および第2発明について、
詳細に説明する。(A)成分 第1発明および第2発明における(A)成分は、前記一
般式(1)で表されるオルガノシラン(以下、「オルガ
ノシラン(1)」という。)、オルガノシラン(1)の
加水分解物およびオルガノシラン(1)の部分縮合物か
ら選ばれる少なくとも1種の成分からなり、コーティン
グ用組成物中において主たる結合剤として作用するもの
である。第1発明および第2発明において、オルガノシ
ラン(1)の加水分解物は、オルガノシラン(1)に含
まれる2〜4個のOR2 基が全て加水分解されている必
要はなく、例えば、1個だけが加水分解された成分、2
個以上が加水分解された成分、あるいはこれらの混合物
の何れでもよい。また、オルガノシラン(1)の部分縮
合物とは、オルガノシラン(1)に含まれる2〜4個の
OR2 基の少なくとも一部が加水分解して生成したシラ
ノール基が縮合してSi−O−Si結合を形成している
が、実質上完全に硬化するまでに至ってない成分を意味
し、シラノール基の一部だけが縮合した成分、シラノー
ル基の縮合度の異なる成分の混合物等をも包含する概念
である。
詳細に説明する。(A)成分 第1発明および第2発明における(A)成分は、前記一
般式(1)で表されるオルガノシラン(以下、「オルガ
ノシラン(1)」という。)、オルガノシラン(1)の
加水分解物およびオルガノシラン(1)の部分縮合物か
ら選ばれる少なくとも1種の成分からなり、コーティン
グ用組成物中において主たる結合剤として作用するもの
である。第1発明および第2発明において、オルガノシ
ラン(1)の加水分解物は、オルガノシラン(1)に含
まれる2〜4個のOR2 基が全て加水分解されている必
要はなく、例えば、1個だけが加水分解された成分、2
個以上が加水分解された成分、あるいはこれらの混合物
の何れでもよい。また、オルガノシラン(1)の部分縮
合物とは、オルガノシラン(1)に含まれる2〜4個の
OR2 基の少なくとも一部が加水分解して生成したシラ
ノール基が縮合してSi−O−Si結合を形成している
が、実質上完全に硬化するまでに至ってない成分を意味
し、シラノール基の一部だけが縮合した成分、シラノー
ル基の縮合度の異なる成分の混合物等をも包含する概念
である。
【0011】一般式(1)において、R1 の炭素数1〜
8の1価の有機基としては、例えば、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、
i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−
ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オ
クチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等
のアルキル基や、ビニル基、アリル基、アシル基、フェ
ニル基、グリシジル基、グリシドキシ基、3,4−エポ
キシシクロヘキシル基、(メタ)アクリルオキシ基、ウ
レイド基、アミド基、フルオロアセトアミド基、イソシ
アナート基等のほか、これらの基の置換誘導体を挙げる
ことができる。R1 の置換誘導体における置換基として
は、例えば、ハロゲン原子、置換もしくは非置換のアミ
ノ基、水酸基、メルカプト基、イソシアナ−ト基、ウレ
イド基、アンモニウム塩基等を挙げることができる。但
し、これらの置換誘導体からなるR1 の炭素数は、置換
基中の炭素原子を含めて8以下である。一般式(1)中
にR1 が複数存在するときは、相互に同一でも異なって
もよい。
8の1価の有機基としては、例えば、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、
i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−
ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オ
クチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等
のアルキル基や、ビニル基、アリル基、アシル基、フェ
ニル基、グリシジル基、グリシドキシ基、3,4−エポ
キシシクロヘキシル基、(メタ)アクリルオキシ基、ウ
レイド基、アミド基、フルオロアセトアミド基、イソシ
アナート基等のほか、これらの基の置換誘導体を挙げる
ことができる。R1 の置換誘導体における置換基として
は、例えば、ハロゲン原子、置換もしくは非置換のアミ
ノ基、水酸基、メルカプト基、イソシアナ−ト基、ウレ
イド基、アンモニウム塩基等を挙げることができる。但
し、これらの置換誘導体からなるR1 の炭素数は、置換
基中の炭素原子を含めて8以下である。一般式(1)中
にR1 が複数存在するときは、相互に同一でも異なって
もよい。
【0012】また、R2 の炭素数1〜5のアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s
ec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等を挙
げることができ、炭素数1〜6のアシル基としては、例
えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレ
リル基、カプロイル基等を挙げることができる。一般式
(1)中にR2 が複数存在するときは、相互に同一でも
異なってもよい。一般式(1)におけるR2 としては、
アルキル基、アシル基が好ましく、さらに好ましくはア
ルキル基であり、それにより一段と優れたコーティング
用組成物を得ることができる。
しては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s
ec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基等を挙
げることができ、炭素数1〜6のアシル基としては、例
えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレ
リル基、カプロイル基等を挙げることができる。一般式
(1)中にR2 が複数存在するときは、相互に同一でも
異なってもよい。一般式(1)におけるR2 としては、
アルキル基、アシル基が好ましく、さらに好ましくはア
ルキル基であり、それにより一段と優れたコーティング
用組成物を得ることができる。
【0013】オルガノシラン(1)のうち、一般式
(1)のnが0である化合物の具体例としては、テトラ
メトキシシラン、トリメトキシエトキシシラン、ジメト
キシジエトキシシラン、メトキシトリエトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラ
ン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブト
キシシラン等のテトラアルコキシシラン類のほか、テト
ラアセチルオキシシラン、テトラフェノキシシラン等を
挙げることができる。これらの化合物のうち、テトラア
ルコキシシラン類としては、特に、テトラメトキシシラ
ン、トリメトキシエトキシシラン、ジメトキシジエトキ
シシラン、メトキシトリエトキシシラン、テトラエトキ
シシラン等が好ましい。前記一般式(1)のnが0であ
る化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。
(1)のnが0である化合物の具体例としては、テトラ
メトキシシラン、トリメトキシエトキシシラン、ジメト
キシジエトキシシラン、メトキシトリエトキシシラン、
テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラ
ン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブト
キシシラン等のテトラアルコキシシラン類のほか、テト
ラアセチルオキシシラン、テトラフェノキシシラン等を
挙げることができる。これらの化合物のうち、テトラア
ルコキシシラン類としては、特に、テトラメトキシシラ
ン、トリメトキシエトキシシラン、ジメトキシジエトキ
シシラン、メトキシトリエトキシシラン、テトラエトキ
シシラン等が好ましい。前記一般式(1)のnが0であ
る化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。
【0014】また、一般式(1)のnが1である化合物
の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラ
ン、n−プロピルトリエトキシシラン、i−プロピルト
リメトキシシラン、i−プロピルトリエトキシシラン、
n−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキ
シシラン、n−ペンチルトリメトキシシラン、n−ペン
チルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシ
シラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、N
−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメト
キシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエ
トキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−
(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、アリルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキ
シシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3
−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−トリフロロ
プロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフロロ
プロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、2−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、2−ヒ
ドロキシエチルトリエトキシシラン、2−ヒドロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシプロピルト
リエトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリメトキ
シシラン、3−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラ
ン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−イソシア
ナートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナー
トプロピルトリエトキシシラン、3−ウレイドプロピル
トリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキ
シシラン等のトリアルコキシシラン類のほか、メチルト
リアセチルオキシシラン、メチルトリフェノキシシラン
等を挙げることができる。これらの化合物のうち、トリ
アルコキシシラン類としては、特に、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン等が好ましい。
前記一般式(1)のnが1である化合物は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラ
ン、n−プロピルトリエトキシシラン、i−プロピルト
リメトキシシラン、i−プロピルトリエトキシシラン、
n−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキ
シシラン、n−ペンチルトリメトキシシラン、n−ペン
チルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシ
シラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、N
−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメト
キシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエ
トキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−
(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、アリルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキ
シシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3
−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−トリフロロ
プロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフロロ
プロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、2−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、2−ヒ
ドロキシエチルトリエトキシシラン、2−ヒドロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、2−ヒドロキシプロピルト
リエトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリメトキ
シシラン、3−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラ
ン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−イソシア
ナートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナー
トプロピルトリエトキシシラン、3−ウレイドプロピル
トリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキ
シシラン等のトリアルコキシシラン類のほか、メチルト
リアセチルオキシシラン、メチルトリフェノキシシラン
等を挙げることができる。これらの化合物のうち、トリ
アルコキシシラン類としては、特に、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン等が好ましい。
前記一般式(1)のnが1である化合物は、単独でまた
は2種以上を混合して使用することができる。
【0015】また、一般式(1)のnが2である化合物
の具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエ
チルジエトキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシ
ラン、ジ−n−プロピルジエトキシシラン、ジ−i−プ
ロピルジメトキシシラン、ジ−i−プロピルジエトキシ
シラン、ジ−n−ブチルジメトキシシラン、ジ−n−ブ
チルジエトキシシラン、n−ペンチル・メチルジメトキ
シシラン、n−ペンチル・メチルジエトキシシラン、シ
クロヘキシル・メチルジメトキシシラン、シクロヘキシ
ル・メチルジエトキシシラン、フェニル・メチルジメト
キシシラン、フェニル・メチルジエトキシシラン、ジ−
n−ペンチルジメトキシシラン、ジ−n−ペンチルジエ
トキシシラン、ジ−n−ヘキシルジメトキシシラン、ジ
−n−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−n−ヘプチルジ
メトキシシラン、ジ−n−ヘプチルジエトキシシラン、
ジ−n−オクチルジメトキシシラン、ジ−n−オクチル
ジエトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラ
ン、ジシクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のジア
ルコキシシラン類のほか、ジメチルジアセチルオキシシ
ラン、ジメチルジフェノキシシラン等を挙げることがで
きる。これらの化合物のうち、ジアルコキシシラン類と
しては、特に、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチル
ジエトキシシラン等が好ましい。前記一般式(1)のn
が2である化合物は、単独でまたは2種以上を混合して
使用することができる。
の具体例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエ
チルジエトキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシ
ラン、ジ−n−プロピルジエトキシシラン、ジ−i−プ
ロピルジメトキシシラン、ジ−i−プロピルジエトキシ
シラン、ジ−n−ブチルジメトキシシラン、ジ−n−ブ
チルジエトキシシラン、n−ペンチル・メチルジメトキ
シシラン、n−ペンチル・メチルジエトキシシラン、シ
クロヘキシル・メチルジメトキシシラン、シクロヘキシ
ル・メチルジエトキシシラン、フェニル・メチルジメト
キシシラン、フェニル・メチルジエトキシシラン、ジ−
n−ペンチルジメトキシシラン、ジ−n−ペンチルジエ
トキシシラン、ジ−n−ヘキシルジメトキシシラン、ジ
−n−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−n−ヘプチルジ
メトキシシラン、ジ−n−ヘプチルジエトキシシラン、
ジ−n−オクチルジメトキシシラン、ジ−n−オクチル
ジエトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラ
ン、ジシクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジ
メトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等のジア
ルコキシシラン類のほか、ジメチルジアセチルオキシシ
ラン、ジメチルジフェノキシシラン等を挙げることがで
きる。これらの化合物のうち、ジアルコキシシラン類と
しては、特に、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチル
ジエトキシシラン等が好ましい。前記一般式(1)のn
が2である化合物は、単独でまたは2種以上を混合して
使用することができる。
【0016】本発明において、オルガノシラン(1)
は、一般式(1)のnが0である化合物、一般式(1)
のnが1である化合物および一般式(1)のnが2であ
る化合物のうちの1種のみを使用しても、またこれらの
3種の化合物の何れか2種以上を混合して使用してもよ
い。第1発明および第2発明において、オルガノシラン
(1)の加水分解物あるいは部分縮合物を使用する場合
は、オルガノシラン(1)を予め加水分解あるいは部分
縮合させて使用することもできるが、オルガノシラン
(1)を残りの成分と混合して組成物を調製する際に、
適量の水を添加することにより、オルガノシラン(1)
を加水分解あるいは部分縮合させることが好ましい。第
1発明および第2発明において使用されるオルガノシラ
ン(1)の部分縮合物のポリスチレン換算重量平均分子
量(以下、「Mw」という。)は、通常、8,000〜
10,000、好ましくは1,000〜50,000の
範囲にある。第1発明および第2発明における(A)成
分の市販品には、三菱化学(株)製のMKCシリケー
ト、多摩化学(株)製のシリケート、東レ・ダウコーニ
ング社製のシリコンレジン、東芝シリコーン(株)製の
シリコンレジン、日本ユニカ(株)製のシリコンオリゴ
マー等があり、これらを使用してもよい。第1発明およ
び第2発明において、(A)成分は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
は、一般式(1)のnが0である化合物、一般式(1)
のnが1である化合物および一般式(1)のnが2であ
る化合物のうちの1種のみを使用しても、またこれらの
3種の化合物の何れか2種以上を混合して使用してもよ
い。第1発明および第2発明において、オルガノシラン
(1)の加水分解物あるいは部分縮合物を使用する場合
は、オルガノシラン(1)を予め加水分解あるいは部分
縮合させて使用することもできるが、オルガノシラン
(1)を残りの成分と混合して組成物を調製する際に、
適量の水を添加することにより、オルガノシラン(1)
を加水分解あるいは部分縮合させることが好ましい。第
1発明および第2発明において使用されるオルガノシラ
ン(1)の部分縮合物のポリスチレン換算重量平均分子
量(以下、「Mw」という。)は、通常、8,000〜
10,000、好ましくは1,000〜50,000の
範囲にある。第1発明および第2発明における(A)成
分の市販品には、三菱化学(株)製のMKCシリケー
ト、多摩化学(株)製のシリケート、東レ・ダウコーニ
ング社製のシリコンレジン、東芝シリコーン(株)製の
シリコンレジン、日本ユニカ(株)製のシリコンオリゴ
マー等があり、これらを使用してもよい。第1発明およ
び第2発明において、(A)成分は、単独でまたは2種
以上を混合して使用することができる。
【0017】(B)成分 第1発明および第2発明における(B)成分は、二酸化
チタンと二酸化チタン以外の金属酸化物(以下、「他の
金属酸化物」という。)との複合酸化物からなる微粒子
であって、結晶子径10nm以下、好ましくは結晶子径
8nm以下の二酸化チタン超微粒子が他の金属酸化物中
に分散した複合酸化物からなる微粒子である。ここで、
「結晶子径」とは、X線回析データよりSheller
の式を用いて算出される結晶の基本粒子径を意味する。
また、結晶子径10nm以下の二酸化チタン超微粒子に
おける結晶子径の下限は、二酸化チタンが基本的に粒子
の形態をとりうる限り特に限定されるものない。
チタンと二酸化チタン以外の金属酸化物(以下、「他の
金属酸化物」という。)との複合酸化物からなる微粒子
であって、結晶子径10nm以下、好ましくは結晶子径
8nm以下の二酸化チタン超微粒子が他の金属酸化物中
に分散した複合酸化物からなる微粒子である。ここで、
「結晶子径」とは、X線回析データよりSheller
の式を用いて算出される結晶の基本粒子径を意味する。
また、結晶子径10nm以下の二酸化チタン超微粒子に
おける結晶子径の下限は、二酸化チタンが基本的に粒子
の形態をとりうる限り特に限定されるものない。
【0018】他の金属酸化物としては、Al2 O3 、S
iO2 や、これらの金属の複合酸化物等が好ましい。前
記他の金属酸化物は、単独でまたは2種以上を混合して
使用することができる。
iO2 や、これらの金属の複合酸化物等が好ましい。前
記他の金属酸化物は、単独でまたは2種以上を混合して
使用することができる。
【0019】二酸化チタン超微粒子の結晶型は、アナタ
ーゼ型、ルチル型、ブルッカイト型の何れでもよいが、
好ましくはアナターゼ型である。特に好ましい二酸化チ
タン超微粒子は、結晶子径8nm以下のアナターゼ型超
微粒子である。また、(B)成分中の二酸化チタンの含
有率は、好ましくは1〜80重量%である。(B)成分
をなす複合酸化物からなる微粒子の平均粒子径は、光触
媒活性の観点では小さい方が好ましく、通常、1μm以
下、好ましくは0.5μm以下、さらに好ましくは0.
1μm以下である。
ーゼ型、ルチル型、ブルッカイト型の何れでもよいが、
好ましくはアナターゼ型である。特に好ましい二酸化チ
タン超微粒子は、結晶子径8nm以下のアナターゼ型超
微粒子である。また、(B)成分中の二酸化チタンの含
有率は、好ましくは1〜80重量%である。(B)成分
をなす複合酸化物からなる微粒子の平均粒子径は、光触
媒活性の観点では小さい方が好ましく、通常、1μm以
下、好ましくは0.5μm以下、さらに好ましくは0.
1μm以下である。
【0020】次に、(B)成分の好ましい製造方法につ
いて説明する。Ti源としては、例えば、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、硫酸チタニル、硫酸チタン等を挙げ
ることができ、これらは単独でまたは2種以上を混合し
て使用することができる。また、Al源としては、例え
ば、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、アルミン酸
ソーダ、アルミナゾル等を挙げることができ、これらは
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。また、Si源としては、例えば、有機けい素化合
物、けい酸ソーダ、けい酸リチウム、シリカゾル等を挙
げることができ、これらは単独でまたは2種以上を混合
して使用することができる。(B)成分の好ましい製造
方法は、具体的には、Al源およびSi源から選ばれる
少なくとも1種とTi源とを含む溶液を加水分解して、
複合酸化物を沈殿させ、得られた複合酸化物のスラリー
のpHを、通常、3〜10に調整したのち、洗浄し、ろ
過する。その後、得られた複合酸化物を、通常、100
〜600℃の温度で焼成したのち、必要に応じて粉砕す
ることからなる。Al源、Si源およびTi源を含む溶
液に使用される溶媒としては、例えば、水、水と親水性
溶媒(例えば、低級アルコール類)との混合溶媒等を使
用することができる。また、Al源、Si源およびTi
源を含む溶液を調製する際には、予め各成分を溶液とし
たのち混合しても、1種ないし2種の成分の溶液に残り
の成分を添加して溶解させてもよい。加水分解の温度
は、20〜120℃の範囲で適宜選択できるが、60〜
105℃の範囲が、加水分解の効率が高く、より均一な
複合酸化物の微粒子が得られる点で好ましい。加水分解
後のpH調節に使用されるアルカリ類および酸類は、適
宜に選定することができる。このような方法で(B)成
分を製造することにより、光触媒能に優れかつ窒素酸化
物の還元活性が極めて高い結晶子径10nm以下の二酸
化チタン超微粒子を、安定的に形成させることができる
とともに、当該超微粒子を他の金属酸化物中に均一に分
散させることが可能となる。
いて説明する。Ti源としては、例えば、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、硫酸チタニル、硫酸チタン等を挙げ
ることができ、これらは単独でまたは2種以上を混合し
て使用することができる。また、Al源としては、例え
ば、塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、アルミン酸
ソーダ、アルミナゾル等を挙げることができ、これらは
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。また、Si源としては、例えば、有機けい素化合
物、けい酸ソーダ、けい酸リチウム、シリカゾル等を挙
げることができ、これらは単独でまたは2種以上を混合
して使用することができる。(B)成分の好ましい製造
方法は、具体的には、Al源およびSi源から選ばれる
少なくとも1種とTi源とを含む溶液を加水分解して、
複合酸化物を沈殿させ、得られた複合酸化物のスラリー
のpHを、通常、3〜10に調整したのち、洗浄し、ろ
過する。その後、得られた複合酸化物を、通常、100
〜600℃の温度で焼成したのち、必要に応じて粉砕す
ることからなる。Al源、Si源およびTi源を含む溶
液に使用される溶媒としては、例えば、水、水と親水性
溶媒(例えば、低級アルコール類)との混合溶媒等を使
用することができる。また、Al源、Si源およびTi
源を含む溶液を調製する際には、予め各成分を溶液とし
たのち混合しても、1種ないし2種の成分の溶液に残り
の成分を添加して溶解させてもよい。加水分解の温度
は、20〜120℃の範囲で適宜選択できるが、60〜
105℃の範囲が、加水分解の効率が高く、より均一な
複合酸化物の微粒子が得られる点で好ましい。加水分解
後のpH調節に使用されるアルカリ類および酸類は、適
宜に選定することができる。このような方法で(B)成
分を製造することにより、光触媒能に優れかつ窒素酸化
物の還元活性が極めて高い結晶子径10nm以下の二酸
化チタン超微粒子を、安定的に形成させることができる
とともに、当該超微粒子を他の金属酸化物中に均一に分
散させることが可能となる。
【0021】第1発明および第2発明において、(B)
成分は、単独でまたは2種以上を混合して使用すること
ができる。第1発明および第2発明における(B)成分
の使用量は、オルガノシラン(1)100重量部に対し
て、通常、1〜500重量部、好ましくは5〜400重
量部である。
成分は、単独でまたは2種以上を混合して使用すること
ができる。第1発明および第2発明における(B)成分
の使用量は、オルガノシラン(1)100重量部に対し
て、通常、1〜500重量部、好ましくは5〜400重
量部である。
【0022】第1発明および第2発明における(B)成
分は、光触媒成分である二酸化チタンの還元活性が著し
く増強されており、窒素酸化物を窒素分子(N2)と酸素
分子(O2)に有効に分解でき、硝酸として除去される比
率を低減しうる特性を有する。また、第1発明および第
2発明のコーティング用組成物から得られる塗膜中で
は、(B)成分が前記(A)成分等と共縮合しており、
塗膜の光触媒能、親水性、耐汚染性、防菌・防かび性等
が長期にわたり持続される。
分は、光触媒成分である二酸化チタンの還元活性が著し
く増強されており、窒素酸化物を窒素分子(N2)と酸素
分子(O2)に有効に分解でき、硝酸として除去される比
率を低減しうる特性を有する。また、第1発明および第
2発明のコーティング用組成物から得られる塗膜中で
は、(B)成分が前記(A)成分等と共縮合しており、
塗膜の光触媒能、親水性、耐汚染性、防菌・防かび性等
が長期にわたり持続される。
【0023】(C)成分 第2発明における(C)成分は、加水分解性基および/
または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基
(以下、「特定シリル基」という。)を重合体分子鎖の
末端および/または側鎖に有する重合体からなる。この
ような(C)成分は、第2発明のコーティング用組成物
から得られる塗膜を硬化させる際に、そのシリル基中の
加水分解性基および/または水酸基が前記(A)成分お
よび(B)成分と共縮合することにより、優れた塗膜性
能をもたらす成分である。(C)成分における特定シリ
ル基の含有量は、ケイ素原子の量に換算して、特定シリ
ル基の導入前の重合体に対して、通常、0.001〜2
0重量%、好ましくは0.01〜15重量%である。好
ましい特定シリル基は、下記一般式(2)で表される基
である。
または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基
(以下、「特定シリル基」という。)を重合体分子鎖の
末端および/または側鎖に有する重合体からなる。この
ような(C)成分は、第2発明のコーティング用組成物
から得られる塗膜を硬化させる際に、そのシリル基中の
加水分解性基および/または水酸基が前記(A)成分お
よび(B)成分と共縮合することにより、優れた塗膜性
能をもたらす成分である。(C)成分における特定シリ
ル基の含有量は、ケイ素原子の量に換算して、特定シリ
ル基の導入前の重合体に対して、通常、0.001〜2
0重量%、好ましくは0.01〜15重量%である。好
ましい特定シリル基は、下記一般式(2)で表される基
である。
【0024】
【化5】
【0025】(式中、Xはハロゲン原子、アルコキシル
基、アシロキシ基、アミノキシ基、フェノキシ基、チオ
アルコキシル基、アミノ基等の加水分解性基または水酸
基を示し、R3 は水素原子、炭素数1〜10のアルキル
基または炭素数1〜10のアラルキル基を示し、iは1
〜3の整数である。)
基、アシロキシ基、アミノキシ基、フェノキシ基、チオ
アルコキシル基、アミノ基等の加水分解性基または水酸
基を示し、R3 は水素原子、炭素数1〜10のアルキル
基または炭素数1〜10のアラルキル基を示し、iは1
〜3の整数である。)
【0026】(C)成分は、例えば、(イ)前記一般式
(2)に対応するヒドロシラン化合物(以下、「ヒドロ
シラン化合物(イ)」という。)を、炭素−炭素二重結
合を有するビニル系重合体(以下、「不飽和ビニル系重
合体」という。)中の該炭素−炭素二重結合に付加反応
させる方法、(ロ)下記一般式(3)
(2)に対応するヒドロシラン化合物(以下、「ヒドロ
シラン化合物(イ)」という。)を、炭素−炭素二重結
合を有するビニル系重合体(以下、「不飽和ビニル系重
合体」という。)中の該炭素−炭素二重結合に付加反応
させる方法、(ロ)下記一般式(3)
【0027】
【化6】
【0028】(式中、X、R3 、iは一般式(2)にお
けるそれぞれX、R3 、iと同義であり、R4 は重合性
二重結合を有する有機基を示す。)で表されるシラン化
合物(以下、「不飽和シラン化合物(ロ)」という。)
と、他のビニル系単量体とを共重合する方法等により製
造することができる。
けるそれぞれX、R3 、iと同義であり、R4 は重合性
二重結合を有する有機基を示す。)で表されるシラン化
合物(以下、「不飽和シラン化合物(ロ)」という。)
と、他のビニル系単量体とを共重合する方法等により製
造することができる。
【0029】前記(イ)の方法に使用されるヒドロシラ
ン化合物(イ)としては、例えば、メチルジクロルシラ
ン、トリクロルシラン、フェニルジクロルシラン等のハ
ロゲン化シラン類;メチルジメトキシシラン、メチルジ
エトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、トリメト
キシシラン、トリエトキシシラン等のアルコキシシラン
類;メチルジアセトキシシラン、フェニルジアセトキシ
シラン、トリアセトキシシラン等のアシロキシシラン
類;メチルジアミノキシシラン、トリアミノキシシラ
ン、ジメチル・アミノキシシラン等のアミノキシシラン
類等を挙げることができる。これらのヒドロシラン化合
物(イ)は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。
ン化合物(イ)としては、例えば、メチルジクロルシラ
ン、トリクロルシラン、フェニルジクロルシラン等のハ
ロゲン化シラン類;メチルジメトキシシラン、メチルジ
エトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、トリメト
キシシラン、トリエトキシシラン等のアルコキシシラン
類;メチルジアセトキシシラン、フェニルジアセトキシ
シラン、トリアセトキシシラン等のアシロキシシラン
類;メチルジアミノキシシラン、トリアミノキシシラ
ン、ジメチル・アミノキシシラン等のアミノキシシラン
類等を挙げることができる。これらのヒドロシラン化合
物(イ)は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。
【0030】また、前記(イ)の方法に使用される不飽
和ビニル系重合体は、水酸基を有する重合体以外であれ
ば特に限定されず、例えば、下記(イ−1)や(イ−
2)の方法あるいはこれらの組み合わせ等によって製造
することができる。即ち、(イ−1)官能基(以下、
「官能基(α)」という。)を有するビニル系単量体を
(共)重合したのち、該(共)重合体中の官能基(α)
に、該官能基(α)と反応しうる官能基(以下、「官能
基(β)」という。)と炭素・炭素二重結合とを有する
不飽和化合物を反応させることにより、重合体分子鎖の
側鎖に炭素−炭素二重結合を有する不飽和ビニル系重合
体を製造する方法。(イ−2)官能基(α)を有するラ
ジカル重合開始剤(例えば4,4−アゾビス−4−シア
ノ吉草酸等)を使用し、あるいはラジカル重合開始剤と
連鎖移動剤の双方に官能基(α)を有する化合物(例え
ば4,4−アゾビス−4−シアノ吉草酸とジチオグリコ
ール酸等)を使用して、ビニル系単量体を(共)重合し
て、重合体分子鎖の片末端あるいは両末端にラジカル重
合開始剤や連鎖移動剤に由来する官能基(α)を有する
(共)重合体を合成したのち、該(共)重合体中の官能
基(α)に、官能基(β)と炭素・炭素二重結合とを有
する不飽和化合物を反応させることにより、重合体分子
鎖の片末端あるいは両末端に炭素−炭素二重結合を有す
る不飽和ビニル系重合体を製造する方法。(イ−1)お
よび(イ−2)の方法における官能基(α)と官能基
(β)との反応の例としては、カルボキシル基と水酸基
とのエステル化反応、カルボン酸無水物基と水酸基との
開環エステル化反応、カルボキシル基とエポキシ基との
開環エステル化反応、カルボキシル基とアミノ基とのア
ミド化反応、カルボン酸無水物基とアミノ基との開環ア
ミド化反応、エポキシ基とアミノ基との開環付加反応、
水酸基とイソシアネート基とのウレタン化反応や、これ
らの反応の組み合わせ等を挙げることができる。
和ビニル系重合体は、水酸基を有する重合体以外であれ
ば特に限定されず、例えば、下記(イ−1)や(イ−
2)の方法あるいはこれらの組み合わせ等によって製造
することができる。即ち、(イ−1)官能基(以下、
「官能基(α)」という。)を有するビニル系単量体を
(共)重合したのち、該(共)重合体中の官能基(α)
に、該官能基(α)と反応しうる官能基(以下、「官能
基(β)」という。)と炭素・炭素二重結合とを有する
不飽和化合物を反応させることにより、重合体分子鎖の
側鎖に炭素−炭素二重結合を有する不飽和ビニル系重合
体を製造する方法。(イ−2)官能基(α)を有するラ
ジカル重合開始剤(例えば4,4−アゾビス−4−シア
ノ吉草酸等)を使用し、あるいはラジカル重合開始剤と
連鎖移動剤の双方に官能基(α)を有する化合物(例え
ば4,4−アゾビス−4−シアノ吉草酸とジチオグリコ
ール酸等)を使用して、ビニル系単量体を(共)重合し
て、重合体分子鎖の片末端あるいは両末端にラジカル重
合開始剤や連鎖移動剤に由来する官能基(α)を有する
(共)重合体を合成したのち、該(共)重合体中の官能
基(α)に、官能基(β)と炭素・炭素二重結合とを有
する不飽和化合物を反応させることにより、重合体分子
鎖の片末端あるいは両末端に炭素−炭素二重結合を有す
る不飽和ビニル系重合体を製造する方法。(イ−1)お
よび(イ−2)の方法における官能基(α)と官能基
(β)との反応の例としては、カルボキシル基と水酸基
とのエステル化反応、カルボン酸無水物基と水酸基との
開環エステル化反応、カルボキシル基とエポキシ基との
開環エステル化反応、カルボキシル基とアミノ基とのア
ミド化反応、カルボン酸無水物基とアミノ基との開環ア
ミド化反応、エポキシ基とアミノ基との開環付加反応、
水酸基とイソシアネート基とのウレタン化反応や、これ
らの反応の組み合わせ等を挙げることができる。
【0031】官能基(α)を有するビニル系単量体とし
ては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸;
無水マレイン酸、無水イタコン酸等の不飽和カルボン酸
無水物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−メチロー
ル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチルビニ
ルエーテル等の水酸基含有ビニル系単量体;2−アミノ
エチル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピル(メ
タ)アクリレート、3−アミノプロピル(メタ)アクリ
レート、2−アミノエチルビニルエーテル等のアミノ基
含有ビニル系単量体;1,1,1−トリメチルアミン
(メタ)アクリルイミド、1−メチル−1−エチルアミ
ン(メタ)アクリルイミド、1,1−ジメチル−1−
(2−ヒドロキシプロピル)アミン(メタ)アクリルイ
ミド、1,1−ジメチル−1−(2’−フェニル−2’
−ヒドロキシエチル)アミン(メタ)アクリルイミド、
1,1−ジメチル−1−(2’−ヒドロキシ−2’−フ
ェノキシプロピル)アミン(メタ)アクリルイミド等の
アミンイミド基含有ビニル系単量体;グリシジル(メ
タ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポ
キシ基含有ビニル系単量体等を挙げることができる。こ
れらの官能基(α)を有するビニル系単量体は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。
ては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸;
無水マレイン酸、無水イタコン酸等の不飽和カルボン酸
無水物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−メチロー
ル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチルビニ
ルエーテル等の水酸基含有ビニル系単量体;2−アミノ
エチル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピル(メ
タ)アクリレート、3−アミノプロピル(メタ)アクリ
レート、2−アミノエチルビニルエーテル等のアミノ基
含有ビニル系単量体;1,1,1−トリメチルアミン
(メタ)アクリルイミド、1−メチル−1−エチルアミ
ン(メタ)アクリルイミド、1,1−ジメチル−1−
(2−ヒドロキシプロピル)アミン(メタ)アクリルイ
ミド、1,1−ジメチル−1−(2’−フェニル−2’
−ヒドロキシエチル)アミン(メタ)アクリルイミド、
1,1−ジメチル−1−(2’−ヒドロキシ−2’−フ
ェノキシプロピル)アミン(メタ)アクリルイミド等の
アミンイミド基含有ビニル系単量体;グリシジル(メ
タ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポ
キシ基含有ビニル系単量体等を挙げることができる。こ
れらの官能基(α)を有するビニル系単量体は、単独で
または2種以上を混合して使用することができる。
【0032】官能基(α)を有するビニル系単量体と共
重合させる他のビニル系単量体としては、例えば、(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸
i−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メ
タ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エ
チルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、
(メタ)アクリル酸トリフルオロメチル、(メタ)アク
リル酸2,2,2−トリフルオロエチル、(メタ)アク
リル酸ペンタフルオロエチル、(メタ)アクリル酸3,
3,3−トリフルオロプロピル、(メタ)アクリル酸
2,2,3,3,3,−ペンタフルオロプロピル、(メ
タ)アクリル酸ヘプタフルオロプロピル、(メタ)アク
リル酸4,4,4−トリフルオロブチル、(メタ)アク
リル酸3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル、
(メタ)アクリル酸2,2,3,3,4,4,4−ヘプ
タフルオロブチル、(メタ)アクリル酸ノナフルオロブ
チル、(メタ)アクリル酸1H,1H,5H−オクタフ
ルオロペンチル、4−(メタ)アクリロイルオキシ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、(メ
タ)アクリルアミド、クロトンアミド、マレイン酸ジア
ミド、フマル酸ジアミド、イタコン酸ジアミド、α−エ
チルアクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アク
リルアミド、(メタ)アクリロニトリル、スチレン、α
−メチルスチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ふっ
化ビニル、ふっ化ビニリデン、トリフルオロクロロエチ
レン、ヘキサフルオロプロピレン、酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、エチルビニルエーテル等を挙げることが
できる。これらの他のビニル系単量体は、単独でまたは
2種以上を混合して使用することができる。官能基
(β)と炭素・炭素二重結合とを有する不飽和化合物と
しては、例えば、官能基(α)を有するビニル系単量体
と同様のビニル系単量体や、前記水酸基含有ビニル系単
量体とジイソシアネート化合物とを等モルで反応させる
ことにより得られるイソシアネート基含有不飽和化合物
等を挙げることができる。
重合させる他のビニル系単量体としては、例えば、(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸
i−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メ
タ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸2−エ
チルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、
(メタ)アクリル酸トリフルオロメチル、(メタ)アク
リル酸2,2,2−トリフルオロエチル、(メタ)アク
リル酸ペンタフルオロエチル、(メタ)アクリル酸3,
3,3−トリフルオロプロピル、(メタ)アクリル酸
2,2,3,3,3,−ペンタフルオロプロピル、(メ
タ)アクリル酸ヘプタフルオロプロピル、(メタ)アク
リル酸4,4,4−トリフルオロブチル、(メタ)アク
リル酸3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル、
(メタ)アクリル酸2,2,3,3,4,4,4−ヘプ
タフルオロブチル、(メタ)アクリル酸ノナフルオロブ
チル、(メタ)アクリル酸1H,1H,5H−オクタフ
ルオロペンチル、4−(メタ)アクリロイルオキシ−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン、(メ
タ)アクリルアミド、クロトンアミド、マレイン酸ジア
ミド、フマル酸ジアミド、イタコン酸ジアミド、α−エ
チルアクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アク
リルアミド、(メタ)アクリロニトリル、スチレン、α
−メチルスチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ふっ
化ビニル、ふっ化ビニリデン、トリフルオロクロロエチ
レン、ヘキサフルオロプロピレン、酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、エチルビニルエーテル等を挙げることが
できる。これらの他のビニル系単量体は、単独でまたは
2種以上を混合して使用することができる。官能基
(β)と炭素・炭素二重結合とを有する不飽和化合物と
しては、例えば、官能基(α)を有するビニル系単量体
と同様のビニル系単量体や、前記水酸基含有ビニル系単
量体とジイソシアネート化合物とを等モルで反応させる
ことにより得られるイソシアネート基含有不飽和化合物
等を挙げることができる。
【0033】また、前記(ロ)の方法に使用される不飽
和シラン化合物(ロ)の具体例としては、CH2 =CH
Si(CH3)(OCH3)2 、CH2 =CHSi(OCH
3)3 、CH2 =CHSi(CH3)Cl2 、CH2 =CH
SiCl3 、CH2 =CHCOO(CH2)2 Si(CH
3)(OCH3)2 、CH2 =CHCOO(CH2)2 Si
(OCH3)3 、CH2 =CHCOO(CH2)3 Si(C
H3)(OCH3)2 、CH2 =CHCOO(CH2)3 Si
(OCH3)3 、CH2 =CHCOO(CH2)2 Si(C
H3)Cl2 、CH2 =CHCOO(CH2)2 SiCl
3 、CH2 =CHCOO(CH2)3 Si(CH3)Cl
2 、CH2 =CHCOO(CH2)3 SiCl3 、CH2
=C(CH3)COO(CH2)2 Si(CH3)(OCH3)
2 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)2 Si(OCH
3)3 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)3 Si(CH
3)(OCH3)2 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)3
Si(OCH3)3 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)
2 Si(CH3)Cl2 、CH2 =C(CH3)COO(C
H2)2 SiCl3 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)
3 Si(CH3)Cl2 、CH2 =C(CH3)COO(C
H2)3 SiCl3 、
和シラン化合物(ロ)の具体例としては、CH2 =CH
Si(CH3)(OCH3)2 、CH2 =CHSi(OCH
3)3 、CH2 =CHSi(CH3)Cl2 、CH2 =CH
SiCl3 、CH2 =CHCOO(CH2)2 Si(CH
3)(OCH3)2 、CH2 =CHCOO(CH2)2 Si
(OCH3)3 、CH2 =CHCOO(CH2)3 Si(C
H3)(OCH3)2 、CH2 =CHCOO(CH2)3 Si
(OCH3)3 、CH2 =CHCOO(CH2)2 Si(C
H3)Cl2 、CH2 =CHCOO(CH2)2 SiCl
3 、CH2 =CHCOO(CH2)3 Si(CH3)Cl
2 、CH2 =CHCOO(CH2)3 SiCl3 、CH2
=C(CH3)COO(CH2)2 Si(CH3)(OCH3)
2 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)2 Si(OCH
3)3 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)3 Si(CH
3)(OCH3)2 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)3
Si(OCH3)3 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)
2 Si(CH3)Cl2 、CH2 =C(CH3)COO(C
H2)2 SiCl3 、CH2 =C(CH3)COO(CH2)
3 Si(CH3)Cl2 、CH2 =C(CH3)COO(C
H2)3 SiCl3 、
【0034】
【化7】
【0035】
【化8】
【0036】
【化9】
【0037】
【化10】
【0038】等を挙げることができる。これらの不飽和
シラン化合物(ロ)は、単独でまたは2種以上を混合し
て使用することができる。また、不飽和シラン化合物
(ロ)と共重合させる他のビニル系単量体としては、例
えば、前記(イ−1)の方法について例示した官能基
(α)を有するビニル系単量体や他のビニル系単量体等
の1種以上を挙げることができる。
シラン化合物(ロ)は、単独でまたは2種以上を混合し
て使用することができる。また、不飽和シラン化合物
(ロ)と共重合させる他のビニル系単量体としては、例
えば、前記(イ−1)の方法について例示した官能基
(α)を有するビニル系単量体や他のビニル系単量体等
の1種以上を挙げることができる。
【0039】また、(C)成分の他の例としては、特定
シリル基含有エポキシ樹脂、特定シリル基含有ポリエス
テル樹脂、特定シリル基含有フッ素樹脂等を挙げること
ができる。前記特定シリル基含有エポキシ樹脂は、例え
ば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、脂肪族ポリグリシジルエーテル、脂肪族ポリグリシ
ジルエステル等のエポキシ樹脂中のエポキシ基に、特定
シリル基を有するアミノシラン類、ビニルシラン類、カ
ルボキシシラン類、、グリシジルシラン類等を反応させ
ることにより製造することができる。また、前記特定シ
リル基含有ポリエステル樹脂は、例えば、ポリエステル
樹脂中に含有されるカルボキシル基や水酸基に、特定シ
リル基を有するアミノシラン類、カルボキシシラン類、
グリシジルシラン類等を反応させることにより製造する
ことができる。また、前記特定シリル基含有フッ素樹脂
は、例えば、フッ化エチレン等の(共)重合体中に含有
されるカルボキシル基や水酸基に、特定シリル基を有す
るアミノシラン類、カルボキシシラン類、グリシジルシ
ラン類等を反応させることにより製造することができ
る。
シリル基含有エポキシ樹脂、特定シリル基含有ポリエス
テル樹脂、特定シリル基含有フッ素樹脂等を挙げること
ができる。前記特定シリル基含有エポキシ樹脂は、例え
ば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、脂肪族ポリグリシジルエーテル、脂肪族ポリグリシ
ジルエステル等のエポキシ樹脂中のエポキシ基に、特定
シリル基を有するアミノシラン類、ビニルシラン類、カ
ルボキシシラン類、、グリシジルシラン類等を反応させ
ることにより製造することができる。また、前記特定シ
リル基含有ポリエステル樹脂は、例えば、ポリエステル
樹脂中に含有されるカルボキシル基や水酸基に、特定シ
リル基を有するアミノシラン類、カルボキシシラン類、
グリシジルシラン類等を反応させることにより製造する
ことができる。また、前記特定シリル基含有フッ素樹脂
は、例えば、フッ化エチレン等の(共)重合体中に含有
されるカルボキシル基や水酸基に、特定シリル基を有す
るアミノシラン類、カルボキシシラン類、グリシジルシ
ラン類等を反応させることにより製造することができ
る。
【0040】(C)成分のポリスチレン換算数平均分子
量(以下、「Mn」という。)は、好ましくは2,00
0〜100,000、さらに好ましくは4,000〜5
0,000である。第2発明において、(C)成分は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。第2発明における(C)成分の使用量は、オルガノ
シラン(I)100重量部に対して、通常、2〜900
重量部、好ましくは10〜400重量部、さらに好まし
くは20〜200重量部である。この場合、(C)成分
の使用量が2重量部未満では、得られる塗膜の耐アルカ
リ性の改善効果が低下する傾向があり、一方900重量
部を超えると、塗膜の耐候性が低下する傾向がある。
量(以下、「Mn」という。)は、好ましくは2,00
0〜100,000、さらに好ましくは4,000〜5
0,000である。第2発明において、(C)成分は、
単独でまたは2種以上を混合して使用することができ
る。第2発明における(C)成分の使用量は、オルガノ
シラン(I)100重量部に対して、通常、2〜900
重量部、好ましくは10〜400重量部、さらに好まし
くは20〜200重量部である。この場合、(C)成分
の使用量が2重量部未満では、得られる塗膜の耐アルカ
リ性の改善効果が低下する傾向があり、一方900重量
部を超えると、塗膜の耐候性が低下する傾向がある。
【0041】さらに、第1発明および第2発明のコーテ
ィング用組成物には、下記(D)〜(G)成分を配合す
ることができる。(D)成分 (D)成分は、前記(A)成分等の加水分解・縮合反応
を促進する触媒からなる。このような(D)成分を使用
することにより、得られる塗膜の硬化速度を高めるとと
もに、塗膜としたとき(A)成分から生成されるポリシ
ロキサン樹脂のMnが大きくなり、強度、長期耐久性等
に優れた塗膜を得ることができ、かつ塗膜の厚膜化や塗
装作業も容易となる。(D)成分としては、酸性化合
物、アルカリ性化合物、有機金属化合物および/または
その部分加水分解物(以下、有機金属化合物および/ま
たはその部分加水分解物をまとめて「有機金属化合物
等」という。)が好ましい。(D)成分のうち、酸性化
合物としては、例えば、酢酸、塩酸、硫酸、リン酸、ア
ルキルチタン酸、p−トルエンスルホン酸、フタル酸等
を挙げることができ、好ましくは酢酸である。また、ア
ルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等を挙げることができ、好ましくは水酸
化ナトリウムである。また、有機金属化合物等として
は、例えば、下記一般式
ィング用組成物には、下記(D)〜(G)成分を配合す
ることができる。(D)成分 (D)成分は、前記(A)成分等の加水分解・縮合反応
を促進する触媒からなる。このような(D)成分を使用
することにより、得られる塗膜の硬化速度を高めるとと
もに、塗膜としたとき(A)成分から生成されるポリシ
ロキサン樹脂のMnが大きくなり、強度、長期耐久性等
に優れた塗膜を得ることができ、かつ塗膜の厚膜化や塗
装作業も容易となる。(D)成分としては、酸性化合
物、アルカリ性化合物、有機金属化合物および/または
その部分加水分解物(以下、有機金属化合物および/ま
たはその部分加水分解物をまとめて「有機金属化合物
等」という。)が好ましい。(D)成分のうち、酸性化
合物としては、例えば、酢酸、塩酸、硫酸、リン酸、ア
ルキルチタン酸、p−トルエンスルホン酸、フタル酸等
を挙げることができ、好ましくは酢酸である。また、ア
ルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等を挙げることができ、好ましくは水酸
化ナトリウムである。また、有機金属化合物等として
は、例えば、下記一般式
【0042】
【化11】
【0043】(式中、Mはジルコニウム、チタンまたは
アルミニウムを示し、R5 およびR6は、それぞれ独立
にエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブ
チル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチ
ル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基
等の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示し、R7 は、
R5 およびR6 と同様の炭素数1〜6の1価の炭化水素
基(但し、R7 の炭化水素基とR5 あるいはR6 の炭化
水素基とは同一でも異なってもよい。)のほか、メトキ
シ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ
基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキ
シ基、ラウリルオキシ基、ステアリルオキシ基等の炭素
数1〜16のアルコキシル基を示し、pおよびqは0〜
4の整数で、(p+q)=(Mの原子価)である。)で
表される化合物、あるいはこれらの化合物の部分加水分
解物を挙げることができる。
アルミニウムを示し、R5 およびR6は、それぞれ独立
にエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブ
チル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチ
ル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基
等の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を示し、R7 は、
R5 およびR6 と同様の炭素数1〜6の1価の炭化水素
基(但し、R7 の炭化水素基とR5 あるいはR6 の炭化
水素基とは同一でも異なってもよい。)のほか、メトキ
シ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ
基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキ
シ基、ラウリルオキシ基、ステアリルオキシ基等の炭素
数1〜16のアルコキシル基を示し、pおよびqは0〜
4の整数で、(p+q)=(Mの原子価)である。)で
表される化合物、あるいはこれらの化合物の部分加水分
解物を挙げることができる。
【0044】有機金属化合物等の具体例としては、テト
ラ−n−ブトキシジルコニウム、トリ−n−ブトキシ・
エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキ
シ・ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n
−ブトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)ジルコ
ニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)
ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテー
ト)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテー
ト)ジルコニウム等の有機ジルコニウム化合物;テトラ
−i−プロポキシチタニウム、ジ−i−プロポキシ・ビ
ス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジ−i−プ
ロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジ
−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウ
ム等の有機チタン化合物;トリ−i−プロポキシアルミ
ニウム、ジ−i−プロポキシ・エチルアセトアセテート
アルミニウム、ジ−i−プロポキシ・アセチルアセトナ
ートアルミニウム、i−プロポキシ・ビス(エチルアセ
トアセテート)アルミニウム、i−プロポキシ・ビス
(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチ
ルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチル
アセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナー
ト・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム等の
有機アルミニウム化合物や、これらの化合物の部分加水
分解物等を挙げることができる。これらのうち、トリ−
n−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニウム、
ジ−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チ
タニウム、ジ−i−プロポキシ・エチルアセトアセテー
トアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)ア
ルミニウム、あるいはこれらの化合物の部分加水分解物
が好ましい。
ラ−n−ブトキシジルコニウム、トリ−n−ブトキシ・
エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキ
シ・ビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n
−ブトキシ・トリス(エチルアセトアセテート)ジルコ
ニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)
ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテー
ト)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテー
ト)ジルコニウム等の有機ジルコニウム化合物;テトラ
−i−プロポキシチタニウム、ジ−i−プロポキシ・ビ
ス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジ−i−プ
ロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジ
−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウ
ム等の有機チタン化合物;トリ−i−プロポキシアルミ
ニウム、ジ−i−プロポキシ・エチルアセトアセテート
アルミニウム、ジ−i−プロポキシ・アセチルアセトナ
ートアルミニウム、i−プロポキシ・ビス(エチルアセ
トアセテート)アルミニウム、i−プロポキシ・ビス
(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチ
ルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチル
アセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナー
ト・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム等の
有機アルミニウム化合物や、これらの化合物の部分加水
分解物等を挙げることができる。これらのうち、トリ−
n−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニウム、
ジ−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チ
タニウム、ジ−i−プロポキシ・エチルアセトアセテー
トアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)ア
ルミニウム、あるいはこれらの化合物の部分加水分解物
が好ましい。
【0045】前記(D)成分は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。第1発明および第2
発明における(D)成分の使用量は、有機金属化合物等
以外の場合、オルガノシラン(1)100重量部に対し
て、通常、0〜100重量部、好ましくは0.01〜8
0重量部、さらに好ましくは0.1〜50重量部であ
り、有機金属化合物等の場合、オルガノシラン(1)1
00重量部に対して、通常、0〜100重量部、好まし
くは0.1〜80重量部、さらに好ましくは0.5〜5
0重量部である。この場合、(D)成分の使用量が10
0重量部を超えると、組成物の保存安定性が低下した
り、塗膜にクラックが発生しやすくなる傾向がある。
を混合して使用することができる。第1発明および第2
発明における(D)成分の使用量は、有機金属化合物等
以外の場合、オルガノシラン(1)100重量部に対し
て、通常、0〜100重量部、好ましくは0.01〜8
0重量部、さらに好ましくは0.1〜50重量部であ
り、有機金属化合物等の場合、オルガノシラン(1)1
00重量部に対して、通常、0〜100重量部、好まし
くは0.1〜80重量部、さらに好ましくは0.5〜5
0重量部である。この場合、(D)成分の使用量が10
0重量部を超えると、組成物の保存安定性が低下した
り、塗膜にクラックが発生しやすくなる傾向がある。
【0046】(E)成分 (E)成分は、下記一般式
【0047】
【化12】
【0048】(式中、R8 およびR9 は、前記金属キレ
ート化合物における各一般式のそれぞれR6 およびR7
と同義である。)で表されるβ−ジケトン類および/ま
たはβ−ケトエステル類からなる。このような(E)成
分は、前記(D)成分のうち有機金属化合物等を使用す
る場合に併用することが好ましい。(E)成分は、組成
物の安定性向上剤として作用するものである。即ち、
(E)成分が有機金属化合物等の金属原子に配位するこ
とにより、(D)成分による前記(A)成分と(B)成
分との共縮合反応を促進する作用を適度にコントロール
することにより、得られる組成物の保存安定性をさらに
向上させる作用をなすものと考えられる。(E)成分の
具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチ
ル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、ア
セト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、ア
セト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−t−ブチル、
ヘキサン−2,4−ジオン、ヘプタン−2,4−ジオ
ン、ヘプタン−3,5−ジオン、オクタン−2,4−ジ
オン、ノナン−2,4−ジオン、5−メチルヘキサン−
2,4−ジオン等を挙げることができる。これらのう
ち、アセチルアセトン、アセト酢酸エチルが好ましい。
前記(E)成分は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することができる。第1発明および第2発明における
(E)成分の使用量は、前記有機金属化合物等における
有機金属化合物1モルに対して、通常、2モル以上、好
ましくは3〜20モルである。この場合、(E)成分の
使用量が2モル未満では、得られる組成物の保存安定性
の改善効果が不十分となる傾向がある。
ート化合物における各一般式のそれぞれR6 およびR7
と同義である。)で表されるβ−ジケトン類および/ま
たはβ−ケトエステル類からなる。このような(E)成
分は、前記(D)成分のうち有機金属化合物等を使用す
る場合に併用することが好ましい。(E)成分は、組成
物の安定性向上剤として作用するものである。即ち、
(E)成分が有機金属化合物等の金属原子に配位するこ
とにより、(D)成分による前記(A)成分と(B)成
分との共縮合反応を促進する作用を適度にコントロール
することにより、得られる組成物の保存安定性をさらに
向上させる作用をなすものと考えられる。(E)成分の
具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチ
ル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、ア
セト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、ア
セト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−t−ブチル、
ヘキサン−2,4−ジオン、ヘプタン−2,4−ジオ
ン、ヘプタン−3,5−ジオン、オクタン−2,4−ジ
オン、ノナン−2,4−ジオン、5−メチルヘキサン−
2,4−ジオン等を挙げることができる。これらのう
ち、アセチルアセトン、アセト酢酸エチルが好ましい。
前記(E)成分は、単独でまたは2種以上を混合して使
用することができる。第1発明および第2発明における
(E)成分の使用量は、前記有機金属化合物等における
有機金属化合物1モルに対して、通常、2モル以上、好
ましくは3〜20モルである。この場合、(E)成分の
使用量が2モル未満では、得られる組成物の保存安定性
の改善効果が不十分となる傾向がある。
【0049】(F)成分 (F)成分は、前記(B)成分以外の無機化合物の微粒
子および/またはゾルもしくはコロイドからなり、塗膜
の所望の特性に応じて配合される。(F)成分をなす化
合物の具体例としては、Al(OH)3 、Sb2 O5 、
Si3 N4 、Sn−In2 O3 、Sb−In2 O3 、M
gF、CeF3 、ZnO、CeO2 、SiO2 、Al2
O3 、3Al2 O3 ・2SiO2 、BeO、SiC、A
lN、Fe4 N、Baフェライト、SmCO5 、YCO
5 、CeCO5 、PrCO5 、Sm2 CO17、Nd2 F
e14B、ZrO2 、Al4 O3 、AlN、SiC、Be
O等を挙げることができる。(F)成分の存在形態に
は、微粒子からなる粉体、微粒子が水中に分散した水系
のゾルもしくはコロイド、微粒子がイソプロピルアルコ
−ル等の極性溶媒やトルエン等の非極性溶媒中に分散し
た溶媒系のゾルもしくはコロイドがある。溶媒系のゾル
もしくはコロイドの場合、半導体微粒子の分散性によっ
てはさらに水や溶媒にて希釈して用いてもよい。(F)
成分が水系のゾルもしくはコロイドおよび溶媒系のゾル
もしくはコロイドである場合の固形分濃度は、40重量
%以下が好ましい。前記(F)成分は、単独でまたは2
種以上を混合して使用することができる。第1発明およ
び第2発明における(F)成分の使用量は、オルガノシ
ラン(1)100重量部に対して、固形分で、通常、0
〜500重量部、好ましくは0.1〜400重量部であ
る。
子および/またはゾルもしくはコロイドからなり、塗膜
の所望の特性に応じて配合される。(F)成分をなす化
合物の具体例としては、Al(OH)3 、Sb2 O5 、
Si3 N4 、Sn−In2 O3 、Sb−In2 O3 、M
gF、CeF3 、ZnO、CeO2 、SiO2 、Al2
O3 、3Al2 O3 ・2SiO2 、BeO、SiC、A
lN、Fe4 N、Baフェライト、SmCO5 、YCO
5 、CeCO5 、PrCO5 、Sm2 CO17、Nd2 F
e14B、ZrO2 、Al4 O3 、AlN、SiC、Be
O等を挙げることができる。(F)成分の存在形態に
は、微粒子からなる粉体、微粒子が水中に分散した水系
のゾルもしくはコロイド、微粒子がイソプロピルアルコ
−ル等の極性溶媒やトルエン等の非極性溶媒中に分散し
た溶媒系のゾルもしくはコロイドがある。溶媒系のゾル
もしくはコロイドの場合、半導体微粒子の分散性によっ
てはさらに水や溶媒にて希釈して用いてもよい。(F)
成分が水系のゾルもしくはコロイドおよび溶媒系のゾル
もしくはコロイドである場合の固形分濃度は、40重量
%以下が好ましい。前記(F)成分は、単独でまたは2
種以上を混合して使用することができる。第1発明およ
び第2発明における(F)成分の使用量は、オルガノシ
ラン(1)100重量部に対して、固形分で、通常、0
〜500重量部、好ましくは0.1〜400重量部であ
る。
【0050】(G)成分 (G)成分は、前記(D)成分以外の硬化促進剤からな
る。このような(G)成分を使用することにより、第1
発明および第2発明のコーティング用組成物から形成さ
れた塗膜の硬化速度を高めることができ、比較的低い温
度で硬化させるためには、(G)をさらに添加する方が
効果的である。(G)成分としては、例えば、ナフテン
酸、オクチル酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸等
のアルカリ金属塩;エチレンジアミン、ヘキサンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
テトラエチレンペンタミン、ピペリジン、ピペラジン、
メタフェニレンジアミン、エタノールアミン、トリエチ
ルアミン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3
−(2−アミノエチル)−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、3−(2−アミノエチル)−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、3−アニリノプロピルトリメト
キシシランや、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる
各種変性アミン等のアミン系化合物; (C4 H9)2 Sn(OCOC11H23)2、 (C4 H9)2 Sn(OCOCH=CHCOOCH3)2 、 (C4 H9)2 Sn(OCOCH=CHCOO(C4 H9)
2 、 (C8 H17)2Sn(OCOC11H23)2、 (C8 H17)2Sn(OCOCH=CHCOOCH3)2 、 (C8 H17)2Sn(OCOCH=CHCOO(C4 H9)
2 、 (C8 H17)2Sn(OCOCH=CHCOOC8
H17)2、 Sn(OCOCC8 H17)2等のカルボン酸型有機錫化合
物; (C4 H9)2 Sn(SCH2 COOC8 H17)2、 (C4 H9)2 Sn(SCH2 CH2 COOC8 H17)2、 (C8 H17)2Sn(SCH2 COOC8 H17)2、 (C8 H17)2Sn(SCH2 CH2 COOC8 H17)2、 (C8 H17)2Sn(SCH2 COOC12H25)2、 (C8 H17)2Sn(SCH2 CH2 COOC12H25)2、
る。このような(G)成分を使用することにより、第1
発明および第2発明のコーティング用組成物から形成さ
れた塗膜の硬化速度を高めることができ、比較的低い温
度で硬化させるためには、(G)をさらに添加する方が
効果的である。(G)成分としては、例えば、ナフテン
酸、オクチル酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸等
のアルカリ金属塩;エチレンジアミン、ヘキサンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
テトラエチレンペンタミン、ピペリジン、ピペラジン、
メタフェニレンジアミン、エタノールアミン、トリエチ
ルアミン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3
−(2−アミノエチル)−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、3−(2−アミノエチル)−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、3−アニリノプロピルトリメト
キシシランや、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる
各種変性アミン等のアミン系化合物; (C4 H9)2 Sn(OCOC11H23)2、 (C4 H9)2 Sn(OCOCH=CHCOOCH3)2 、 (C4 H9)2 Sn(OCOCH=CHCOO(C4 H9)
2 、 (C8 H17)2Sn(OCOC11H23)2、 (C8 H17)2Sn(OCOCH=CHCOOCH3)2 、 (C8 H17)2Sn(OCOCH=CHCOO(C4 H9)
2 、 (C8 H17)2Sn(OCOCH=CHCOOC8
H17)2、 Sn(OCOCC8 H17)2等のカルボン酸型有機錫化合
物; (C4 H9)2 Sn(SCH2 COOC8 H17)2、 (C4 H9)2 Sn(SCH2 CH2 COOC8 H17)2、 (C8 H17)2Sn(SCH2 COOC8 H17)2、 (C8 H17)2Sn(SCH2 CH2 COOC8 H17)2、 (C8 H17)2Sn(SCH2 COOC12H25)2、 (C8 H17)2Sn(SCH2 CH2 COOC12H25)2、
【0051】
【化13】
【0052】等のメルカプチド型有機錫化合物; (C4 H9)2 Sn=S、(C8 H17)2Sn=S、
【0053】
【化14】
【0054】等のスルフィド型有機錫化合物;(C4 H
9)2 SnO、(C8 H17)2SnO等の有機錫オキサイド
や、これらの有機錫オキサイドとエチルシリケート、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フタル酸ジオ
クチル等のエステル化合物との反応生成物等を挙げるこ
とができる。前記(G)成分は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。第1発明および第2
発明における(G)成分の使用量は、オルガノシラン
(I)100重量部に対して、通常、0〜100重量
部、好ましくは0.1〜80重量部、さらに好ましくは
0.5〜50重量部である。
9)2 SnO、(C8 H17)2SnO等の有機錫オキサイド
や、これらの有機錫オキサイドとエチルシリケート、マ
レイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フタル酸ジオ
クチル等のエステル化合物との反応生成物等を挙げるこ
とができる。前記(G)成分は、単独でまたは2種以上
を混合して使用することができる。第1発明および第2
発明における(G)成分の使用量は、オルガノシラン
(I)100重量部に対して、通常、0〜100重量
部、好ましくは0.1〜80重量部、さらに好ましくは
0.5〜50重量部である。
【0055】他の配合成分 また、本発明のコーティング用組成物には、得られる塗
膜の着色、厚膜化等のために、別途充填材を配合するこ
ともできる。このような充填材としては、例えば、非水
溶性の有機顔料や無機顔料、顔料以外の、粒子状、繊維
状もしくは鱗片状のセラミックス、金属あるいは合金、
並びにこれらの金属の酸化物、水酸化物、炭化物、窒化
物、硫化物等を挙げることができる。充填材の具体例と
しては、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、銀、亜鉛、
フェライト、カーボンブラック、ステンレス鋼、二酸化
ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、
酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コバル
ト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水酸化鉄、炭
化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、ケイソウ
土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、ベントナイ
ト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト緑、ビリジア
ン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェーレ緑、緑土、
マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、紺青、ピグメ
ントグリーン、岩群青、コバルト青、セルリアンブル
ー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバルト紫、マ
ルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレット、亜酸化
鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化鉛、クロム
黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム黄、チタン
黄、リサージ、ピグメントエロー、亜酸化銅、カドミウ
ム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベンガラ、亜鉛
白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン白、リトポ
ン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン白、鉛亜鉛
華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン白、硫酸鉛、
黒鉛、ボーン黒、ダイヤモンドブラック、サーマトミッ
ク黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィスカー、二硫化
モリブデン等を挙げることができる。第1発明および第
2発明における充填材の使用量は、組成物の全固形分1
00重量部に対して、通常、300重量部以下である。
さらに、第1発明および第2発明のコーティング用組成
物には、所望により、オルトギ酸メチル、オルト酢酸メ
チル、テトラエトキシシラン等の公知の脱水剤や、界面
活性剤、シランカップリング剤、チタンカップリング
剤、染料、分散剤、増粘剤、レベリング剤等の他の添加
剤を配合することもできる。
膜の着色、厚膜化等のために、別途充填材を配合するこ
ともできる。このような充填材としては、例えば、非水
溶性の有機顔料や無機顔料、顔料以外の、粒子状、繊維
状もしくは鱗片状のセラミックス、金属あるいは合金、
並びにこれらの金属の酸化物、水酸化物、炭化物、窒化
物、硫化物等を挙げることができる。充填材の具体例と
しては、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、銀、亜鉛、
フェライト、カーボンブラック、ステンレス鋼、二酸化
ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、
酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コバル
ト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水酸化鉄、炭
化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、ケイソウ
土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウム、炭酸カルシ
ウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、ベントナイ
ト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト緑、ビリジア
ン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェーレ緑、緑土、
マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、紺青、ピグメ
ントグリーン、岩群青、コバルト青、セルリアンブル
ー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバルト紫、マ
ルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレット、亜酸化
鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化鉛、クロム
黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム黄、チタン
黄、リサージ、ピグメントエロー、亜酸化銅、カドミウ
ム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベンガラ、亜鉛
白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン白、リトポ
ン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン白、鉛亜鉛
華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン白、硫酸鉛、
黒鉛、ボーン黒、ダイヤモンドブラック、サーマトミッ
ク黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィスカー、二硫化
モリブデン等を挙げることができる。第1発明および第
2発明における充填材の使用量は、組成物の全固形分1
00重量部に対して、通常、300重量部以下である。
さらに、第1発明および第2発明のコーティング用組成
物には、所望により、オルトギ酸メチル、オルト酢酸メ
チル、テトラエトキシシラン等の公知の脱水剤や、界面
活性剤、シランカップリング剤、チタンカップリング
剤、染料、分散剤、増粘剤、レベリング剤等の他の添加
剤を配合することもできる。
【0056】さらに、第1発明および第2発明のコーテ
ィング用組成物には、下記するように、水および有機溶
剤を添加することが好ましい。水 水は、コーティング用組成物を調製する際に、オルガノ
シラン(1)を加水分解させ、あるいはオルガノシラン
(1)の加水分解物を部分縮合反応させ、また粒子状成
分を良好に分散させる作用を示す。第1発明および第2
発明における水の使用量は、オルガノシラン(1)1モ
ルに対して、通常、0.5〜3モル、好ましくは0.7
〜2モル程度である。
ィング用組成物には、下記するように、水および有機溶
剤を添加することが好ましい。水 水は、コーティング用組成物を調製する際に、オルガノ
シラン(1)を加水分解させ、あるいはオルガノシラン
(1)の加水分解物を部分縮合反応させ、また粒子状成
分を良好に分散させる作用を示す。第1発明および第2
発明における水の使用量は、オルガノシラン(1)1モ
ルに対して、通常、0.5〜3モル、好ましくは0.7
〜2モル程度である。
【0057】有機溶剤 有機溶剤は、主として前記(A)〜(G)成分を均一に
混合させ、組成物の全固形分濃度を調整すると同時に、
種々の塗装方法に適用できるようにし、かつ組成物の分
散安定性および保存安定性をさらに向上させる作用を示
す。このような有機溶剤としては、前記各成分を均一に
混合できるものであれば特に限定されないが、例えば、
アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン
類、エステル類等の1種類以上を挙げることができる。
これらの有機溶剤のうち、アルコール類の具体例として
は、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコー
ル、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、
sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n
−ヘキシルアルコール、n−オクチルアルコール、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を
挙げることができる。また、芳香族炭化水素類の具体例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等を、エーテ
ル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等を、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチル
ケトン等を、エステル類の具体例としては、酢酸エチ
ル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、炭酸プロピレ
ン等を挙げることができる。
混合させ、組成物の全固形分濃度を調整すると同時に、
種々の塗装方法に適用できるようにし、かつ組成物の分
散安定性および保存安定性をさらに向上させる作用を示
す。このような有機溶剤としては、前記各成分を均一に
混合できるものであれば特に限定されないが、例えば、
アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン
類、エステル類等の1種類以上を挙げることができる。
これらの有機溶剤のうち、アルコール類の具体例として
は、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコー
ル、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、
sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n
−ヘキシルアルコール、n−オクチルアルコール、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を
挙げることができる。また、芳香族炭化水素類の具体例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等を、エーテ
ル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等を、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチル
ケトン等を、エステル類の具体例としては、酢酸エチ
ル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、炭酸プロピレ
ン等を挙げることができる。
【0058】コーティング用組成物の調製方法 第1発明のコーティング用組成物を調製するに際して
は、(D)成分における有機金属化合物等と(E)成分
とを使用しない場合は、各成分の混合方法は特に限定さ
れないが、有機金属化合物等と(E)成分とを使用する
場合は、好ましくは、(A)〜(E)成分のうち(E)
成分を除いた混合物を得たのち、これに(E)成分を添
加する方法、具体的には下記〜の方法が採用され
る。 オルガノシラン(1)、(B)成分、(D)成分、
水および有機溶剤を混合して加水分解反応あるいは部分
縮合反応を行ったのち、(E)成分を後添加する方法。 オルガノシラン(1)、(B)成分、水および有機
溶剤を混合して加水分解反応あるいは部分縮合反応を行
い、次いで(D)成分を加えて混合して、さらに部分縮
合反応を行ったのち、(E)成分を後添加する方法。 あるいはの方法で(B)成分を除いた各成分を
用いて加水分解反応あるいは部分縮合反応を行ったの
ち、(B)成分および(E)成分を後添加する方法。な
お、第1発明においては、(A)〜(E)成分以外の配
合成分は、組成物を調製する適宜の段階で添加すること
ができる。
は、(D)成分における有機金属化合物等と(E)成分
とを使用しない場合は、各成分の混合方法は特に限定さ
れないが、有機金属化合物等と(E)成分とを使用する
場合は、好ましくは、(A)〜(E)成分のうち(E)
成分を除いた混合物を得たのち、これに(E)成分を添
加する方法、具体的には下記〜の方法が採用され
る。 オルガノシラン(1)、(B)成分、(D)成分、
水および有機溶剤を混合して加水分解反応あるいは部分
縮合反応を行ったのち、(E)成分を後添加する方法。 オルガノシラン(1)、(B)成分、水および有機
溶剤を混合して加水分解反応あるいは部分縮合反応を行
い、次いで(D)成分を加えて混合して、さらに部分縮
合反応を行ったのち、(E)成分を後添加する方法。 あるいはの方法で(B)成分を除いた各成分を
用いて加水分解反応あるいは部分縮合反応を行ったの
ち、(B)成分および(E)成分を後添加する方法。な
お、第1発明においては、(A)〜(E)成分以外の配
合成分は、組成物を調製する適宜の段階で添加すること
ができる。
【0059】また、第2発明のコーティング用組成物を
調製するに際しては、(D)成分における有機金属化合
物等と(E)成分とを使用しない場合は、各成分の混合
方法は特に限定されないが、有機金属化合物等と(E)
成分とを使用する場合は、好ましくは、(A)〜(E)
成分のうち(E)成分を除いた混合物を得たのち、これ
に(E)成分を添加する方法、具体的には下記〜の
方法が採用される。 オルガノシラン(1)、(B)成分、(C)成分、
(D)成分、水および有機溶剤を混合して加水分解反応
あるいは部分縮合反応を行ったのち、(E)成分を後添
加する方法。 オルガノシラン(1)、(B)成分、水および有機
溶剤を混合して加水分解反応あるいは部分縮合反応を行
い、次いで(C)成分および(D)成分を添加して、さ
らに部分縮合反応を行ったのち、(E)成分を後添加す
る方法。 オルガノシラン(1)、(B)成分、(D)成分、
水および有機溶剤を混合して加水分解反応あるいは部分
縮合反応を行い、次いで(C)成分を加えて混合して、
さらに部分縮合反応を行ったのち、(E)成分を後添加
する方法。 〜の方法で(B)成分を除いた各成分を用いて
加水分解反応あるいは部分縮合反応を行ったのち、
(B)成分および(E)成分を後添加する方法。なお、
第2発明においては、(A)〜(E)成分以外の成分
は、組成物を調製する適宜の段階で添加することができ
る。
調製するに際しては、(D)成分における有機金属化合
物等と(E)成分とを使用しない場合は、各成分の混合
方法は特に限定されないが、有機金属化合物等と(E)
成分とを使用する場合は、好ましくは、(A)〜(E)
成分のうち(E)成分を除いた混合物を得たのち、これ
に(E)成分を添加する方法、具体的には下記〜の
方法が採用される。 オルガノシラン(1)、(B)成分、(C)成分、
(D)成分、水および有機溶剤を混合して加水分解反応
あるいは部分縮合反応を行ったのち、(E)成分を後添
加する方法。 オルガノシラン(1)、(B)成分、水および有機
溶剤を混合して加水分解反応あるいは部分縮合反応を行
い、次いで(C)成分および(D)成分を添加して、さ
らに部分縮合反応を行ったのち、(E)成分を後添加す
る方法。 オルガノシラン(1)、(B)成分、(D)成分、
水および有機溶剤を混合して加水分解反応あるいは部分
縮合反応を行い、次いで(C)成分を加えて混合して、
さらに部分縮合反応を行ったのち、(E)成分を後添加
する方法。 〜の方法で(B)成分を除いた各成分を用いて
加水分解反応あるいは部分縮合反応を行ったのち、
(B)成分および(E)成分を後添加する方法。なお、
第2発明においては、(A)〜(E)成分以外の成分
は、組成物を調製する適宜の段階で添加することができ
る。
【0060】第1発明および第2発明のコーティング用
組成物の全固形分濃度は、好ましくは50重量%以下で
あり、使用目的に応じて適宜調整される。例えば、薄膜
形成基材への含浸を目的とするときには、通常、5〜3
0重量%であり、また厚膜形成を目的で使用するときに
は、通常、20〜50重量%、好ましくは30〜45重
量%である。この場合、組成物の全固形分濃度が50重
量%を超えると、保存安定性が低下する傾向がある。
組成物の全固形分濃度は、好ましくは50重量%以下で
あり、使用目的に応じて適宜調整される。例えば、薄膜
形成基材への含浸を目的とするときには、通常、5〜3
0重量%であり、また厚膜形成を目的で使用するときに
は、通常、20〜50重量%、好ましくは30〜45重
量%である。この場合、組成物の全固形分濃度が50重
量%を超えると、保存安定性が低下する傾向がある。
【0061】第1発明および第2発明のコーティング用
組成物を基材に塗布する際には、刷毛、ロ−ルコ−タ
−、フロ−コ−タ−、遠心コ−タ−、超音波コ−タ−等
を用いたり、浸漬、流し塗り、スプレ−、スクリ−ンプ
ロセス、電着、蒸着等の塗布方法により、1回塗りで厚
さ1〜40μm程度、2〜3回塗りでは厚さ2〜80μ
m程度の塗膜を形成することができる。その後、常温で
乾燥するか、あるいは30〜200℃程度の温度で10
〜60分程度加熱して乾燥することにより、各種の基材
に塗膜を形成することができる。第1発明および第2発
明のコーティング用組成物を適用しうる基材としては、
例えば、鉄、アルミニウム、ステンレス等の金属;セメ
ント、コンクリ−ト、ALC、フレキシブルボ−ド、モ
ルタル、スレ−ト、石膏、セラミックス、レンガ等の無
機窯業系材料;フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル、ポリカ−ボネ−ト、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ABS樹脂(アクリロニトリル−ブタジエン−ス
チレン樹脂)等のプラスチック成型品;ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリビニルアルコ−ル、ポリカ−ボネ
−ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリウレタン、ポ
リイミド等のプラスチックフィルムや、木材、紙、ガラ
ス等を挙げることができる。また、第1発明および第2
発明のコーティング用組成物は、劣化塗膜の再塗装にも
有用である。これらの基材には、下地調整、密着性向
上、多孔質基材の目止め、平滑化、模様付け等を目的と
して、予め表面処理を施すこともできる。例えば、金属
系基材に対する表面処理としては、例えば、研磨、脱
脂、メッキ処理、クロメ−ト処理、火炎処理、カップリ
ング処理等を挙げることができ、プラスチック系基材に
対する表面処理としては、例えば、ブラスト処理、薬品
処理、脱脂、火炎処理、酸化処理、蒸気処理、コロナ放
電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、イオン処理等
を挙げることができ、無機窯業系基材に対する表面処理
としては、例えば、研磨、目止め、模様付け等を挙げる
ことができ、木質基材に対する表面処理としては、例え
ば、研磨、目止め、防虫処理等を挙げることができ、紙
質基材に対する表面処理としては、例えば、目止め、防
虫処理等を挙げることができ、さらに劣化塗膜に対する
表面処理としては、例えば、ケレン等を挙げることがで
きる。
組成物を基材に塗布する際には、刷毛、ロ−ルコ−タ
−、フロ−コ−タ−、遠心コ−タ−、超音波コ−タ−等
を用いたり、浸漬、流し塗り、スプレ−、スクリ−ンプ
ロセス、電着、蒸着等の塗布方法により、1回塗りで厚
さ1〜40μm程度、2〜3回塗りでは厚さ2〜80μ
m程度の塗膜を形成することができる。その後、常温で
乾燥するか、あるいは30〜200℃程度の温度で10
〜60分程度加熱して乾燥することにより、各種の基材
に塗膜を形成することができる。第1発明および第2発
明のコーティング用組成物を適用しうる基材としては、
例えば、鉄、アルミニウム、ステンレス等の金属;セメ
ント、コンクリ−ト、ALC、フレキシブルボ−ド、モ
ルタル、スレ−ト、石膏、セラミックス、レンガ等の無
機窯業系材料;フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエ
ステル、ポリカ−ボネ−ト、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ABS樹脂(アクリロニトリル−ブタジエン−ス
チレン樹脂)等のプラスチック成型品;ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリビニルアルコ−ル、ポリカ−ボネ
−ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリウレタン、ポ
リイミド等のプラスチックフィルムや、木材、紙、ガラ
ス等を挙げることができる。また、第1発明および第2
発明のコーティング用組成物は、劣化塗膜の再塗装にも
有用である。これらの基材には、下地調整、密着性向
上、多孔質基材の目止め、平滑化、模様付け等を目的と
して、予め表面処理を施すこともできる。例えば、金属
系基材に対する表面処理としては、例えば、研磨、脱
脂、メッキ処理、クロメ−ト処理、火炎処理、カップリ
ング処理等を挙げることができ、プラスチック系基材に
対する表面処理としては、例えば、ブラスト処理、薬品
処理、脱脂、火炎処理、酸化処理、蒸気処理、コロナ放
電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、イオン処理等
を挙げることができ、無機窯業系基材に対する表面処理
としては、例えば、研磨、目止め、模様付け等を挙げる
ことができ、木質基材に対する表面処理としては、例え
ば、研磨、目止め、防虫処理等を挙げることができ、紙
質基材に対する表面処理としては、例えば、目止め、防
虫処理等を挙げることができ、さらに劣化塗膜に対する
表面処理としては、例えば、ケレン等を挙げることがで
きる。
【0062】第1発明および第2発明のコーティング用
組成物による塗布操作は、基材の種類や状態、塗布方法
によって異なる。例えば、金属系基材の場合、防錆の必
要があればプライマ−を用い、無機窯業系基材の場合、
基材の特性(表面荒さ、含浸性、アルカリ性等)により
塗膜の隠蔽性が異なるため、通常はプライマ−を用い
る。また、劣化塗膜の再塗装の場合、旧塗膜の劣化が著
しいときはプライマ−を用いる。それ以外の基材、例え
ば、プラスチック、木材、紙、ガラス等の場合は、用途
に応じてプライマ−を用いても用いなくてもよい。第2
発明のコーティング用組成物では、プライマ−を用いな
い場合、(C)成分がカルボキシル基、酸無水物基、水
酸基、カルボニル基あるいはグリシジル基の何れか1種
以上を0.5重量%以上含有することが好ましく、さら
には基板に対して前記表面処理を行うことが好ましい。
前記プライマ−の種類は特に限定されず、基材とコ−テ
ィング用組成物との密着性を向上させる作用を有するも
のであればよく、基材の種類、使用目的に応じて適宜選
択される。プライマ−は、単独でまたは2種以上を混合
して使用することができ、また顔料等の着色成分を含む
エナメルでも、該着色成分を含まいクリヤーでもよい。
プライマ−の種類としては、例えば、アルキド樹脂、ア
ミノアルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、アク
リル樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、アクリルシリコ
ン樹脂、アクリルエマルジョン、エポキシエマルジョ
ン、ポリウレタンエマルジョン、ポリエステルエマルジ
ョン等を挙げることができる。また、これらのプライマ
ーには、厳しい条件での基材と塗膜との密着性が必要な
場合、各種の官能基を付与することもできる。このよう
な官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、
カルボニル基、アミド基、アミン基、グリシジル基、ア
ルコキシシリル基、エ−テル結合、エステル結合等を挙
げることができる。また、第1発明および第2発明のコ
ーティング用組成物から形成した塗膜の表面には、塗膜
の耐摩耗性や光沢をさらに高めることを目的として、例
えば、米国特許第3,986,997号明細書、米国特
許第4,027,073号明細書等に記載されたコロイ
ダルシリカとシロキサン樹脂との安定な分散液のような
シロキサン樹脂系塗料等からなるクリア層を形成するこ
ともできる。
組成物による塗布操作は、基材の種類や状態、塗布方法
によって異なる。例えば、金属系基材の場合、防錆の必
要があればプライマ−を用い、無機窯業系基材の場合、
基材の特性(表面荒さ、含浸性、アルカリ性等)により
塗膜の隠蔽性が異なるため、通常はプライマ−を用い
る。また、劣化塗膜の再塗装の場合、旧塗膜の劣化が著
しいときはプライマ−を用いる。それ以外の基材、例え
ば、プラスチック、木材、紙、ガラス等の場合は、用途
に応じてプライマ−を用いても用いなくてもよい。第2
発明のコーティング用組成物では、プライマ−を用いな
い場合、(C)成分がカルボキシル基、酸無水物基、水
酸基、カルボニル基あるいはグリシジル基の何れか1種
以上を0.5重量%以上含有することが好ましく、さら
には基板に対して前記表面処理を行うことが好ましい。
前記プライマ−の種類は特に限定されず、基材とコ−テ
ィング用組成物との密着性を向上させる作用を有するも
のであればよく、基材の種類、使用目的に応じて適宜選
択される。プライマ−は、単独でまたは2種以上を混合
して使用することができ、また顔料等の着色成分を含む
エナメルでも、該着色成分を含まいクリヤーでもよい。
プライマ−の種類としては、例えば、アルキド樹脂、ア
ミノアルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、アク
リル樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、アクリルシリコ
ン樹脂、アクリルエマルジョン、エポキシエマルジョ
ン、ポリウレタンエマルジョン、ポリエステルエマルジ
ョン等を挙げることができる。また、これらのプライマ
ーには、厳しい条件での基材と塗膜との密着性が必要な
場合、各種の官能基を付与することもできる。このよう
な官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、
カルボニル基、アミド基、アミン基、グリシジル基、ア
ルコキシシリル基、エ−テル結合、エステル結合等を挙
げることができる。また、第1発明および第2発明のコ
ーティング用組成物から形成した塗膜の表面には、塗膜
の耐摩耗性や光沢をさらに高めることを目的として、例
えば、米国特許第3,986,997号明細書、米国特
許第4,027,073号明細書等に記載されたコロイ
ダルシリカとシロキサン樹脂との安定な分散液のような
シロキサン樹脂系塗料等からなるクリア層を形成するこ
ともできる。
【0063】第1発明および第2発明のコーティング用
組成物を基材に適用した形態には、次のようなものがあ
る。 (a)基材/コーティング用組成物(クリア−、エナメ
ル) (b)基材/コーティング用組成物(エナメル)/コー
ティング用組成物(クリア−) (c)基材/コーティング用組成物(クリア−、エナメ
ル)/他の有機塗料/コーティング用組成物(クリア
−) (注) クリア−は着色成分を含まない組成物、エナメ
ルは着色成分を含む組成物である。 なお、前記(a)〜(c)の場合、必要に応じて予め基
材にプライマー層を設けてもよいのは前述したとおりで
ある。
組成物を基材に適用した形態には、次のようなものがあ
る。 (a)基材/コーティング用組成物(クリア−、エナメ
ル) (b)基材/コーティング用組成物(エナメル)/コー
ティング用組成物(クリア−) (c)基材/コーティング用組成物(クリア−、エナメ
ル)/他の有機塗料/コーティング用組成物(クリア
−) (注) クリア−は着色成分を含まない組成物、エナメ
ルは着色成分を含む組成物である。 なお、前記(a)〜(c)の場合、必要に応じて予め基
材にプライマー層を設けてもよいのは前述したとおりで
ある。
【0064】
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて、本発明の
実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は
これらの実施例に何ら制約されるものでない。実施例お
よび比較例中の部および%は、特記しない限り重量基準
である。実施例および比較例における各種の測定・評価
は、下記の方法により行った。 Mn 下記条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー(GPC)法により測定した。 試料 : テトラヒドロフランを溶媒として使用し、オルガノシラ ンの部分縮合物1gまたはシリル基含有ビニル系樹脂0. 1gを、それぞれ100ccのテトラヒドロフランに溶解 して調製した。 標準ポリスチレン: 米国プレッシャーケミカル社製の標準ポリスチレンを使 用した。 装置 ; 米国ウオーターズ社製の高温高速ゲル浸透クロマトグラ ム(モデル150−C ALC/GPC) カラム : 昭和電工(株)製のSHODEX A−80M(長さ5 0cm) 測定温度 : 40℃ 流速 : 1cc/分保存安定性 硬化促進剤を添加しない組成物を、ポリエチレン製ビン
内に、常温で3ヶ月密栓保存して、ゲル化の有無を目視
により判定した。ゲル化を生じていないものについて
は、東京計器(株)製のBM型粘度計による粘度測定を
行い、変化率が20%以内のものを、“変化なし”とし
た。耐候性 試験片に、JIS K5400により、サンシャインウ
エザーメーターで3,000時間照射試験を実施して、
塗膜外観(割れ、はがれ等の有無)を目視により観察し
た。耐熱性 試験片を、電気炉内で300℃×240時間保持したの
ち、自然放冷したときの、塗膜の状態を目視により観察
した。耐アルカリ性 塗膜上に、濃度を1〜40%の範囲で次第に変えた水酸
化ナトリウム水溶液を1cc滴下し、蓋付シャーレ内に
6時間静置して、水洗したのち、塗膜の状態を目視にて
観察して、塗膜に異常を生じない水酸化ナトリウム水溶
液の最大濃度により評価した。最大濃度が高いほど、耐
アルカリ性が良好であることを示す。
実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は
これらの実施例に何ら制約されるものでない。実施例お
よび比較例中の部および%は、特記しない限り重量基準
である。実施例および比較例における各種の測定・評価
は、下記の方法により行った。 Mn 下記条件によるゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー(GPC)法により測定した。 試料 : テトラヒドロフランを溶媒として使用し、オルガノシラ ンの部分縮合物1gまたはシリル基含有ビニル系樹脂0. 1gを、それぞれ100ccのテトラヒドロフランに溶解 して調製した。 標準ポリスチレン: 米国プレッシャーケミカル社製の標準ポリスチレンを使 用した。 装置 ; 米国ウオーターズ社製の高温高速ゲル浸透クロマトグラ ム(モデル150−C ALC/GPC) カラム : 昭和電工(株)製のSHODEX A−80M(長さ5 0cm) 測定温度 : 40℃ 流速 : 1cc/分保存安定性 硬化促進剤を添加しない組成物を、ポリエチレン製ビン
内に、常温で3ヶ月密栓保存して、ゲル化の有無を目視
により判定した。ゲル化を生じていないものについて
は、東京計器(株)製のBM型粘度計による粘度測定を
行い、変化率が20%以内のものを、“変化なし”とし
た。耐候性 試験片に、JIS K5400により、サンシャインウ
エザーメーターで3,000時間照射試験を実施して、
塗膜外観(割れ、はがれ等の有無)を目視により観察し
た。耐熱性 試験片を、電気炉内で300℃×240時間保持したの
ち、自然放冷したときの、塗膜の状態を目視により観察
した。耐アルカリ性 塗膜上に、濃度を1〜40%の範囲で次第に変えた水酸
化ナトリウム水溶液を1cc滴下し、蓋付シャーレ内に
6時間静置して、水洗したのち、塗膜の状態を目視にて
観察して、塗膜に異常を生じない水酸化ナトリウム水溶
液の最大濃度により評価した。最大濃度が高いほど、耐
アルカリ性が良好であることを示す。
【0065】窒素酸化物総除去量(Rt) 組成物を市販の軽量発泡コンクリートパネル(平面寸法
300mm×500mm)に塗布し、乾燥して、試験片
を作製し、ガス入口とガス出口を備え、上部壁を透明石
英ガラス板製とした密閉反応セル内に、該試験片を塗膜
面が上になるように設置し、常温常圧下で、次のように
して測定した。 調湿された空気と一酸化窒素の標準ガスを混合し
て、相対湿度50%、一酸化窒素濃度1.0ppmとな
るように調節した試験ガスを、毎分4リットルの速度で
連続的に反応セルに供給し、反応を経た試験ガスを同速
度で反応セルから排出させた。これと同時に、ブラック
ライト蛍光ランプを用い、反応セルの透明石英ガラス板
の上面より塗膜表面での紫外線照射強度が1mW/cm
2 となるように、塗膜に紫外線を照射して、塗膜に含ま
れる二酸化チタン超微粒子の光触媒作用による一酸化窒
素の酸化・還元反応を行った。 反応セルに供給される試験ガス中の一酸化窒素の濃
度および反応セルから排出された試験ガス中の一酸化窒
素と二酸化窒素との合計濃度を4時間にわたり測定し、
窒素酸化物総除去量(Rt)(単位NO2 −mg/m2
/4hr)を、二酸化窒素に量に換算して算出した。こ
の窒素酸化物総除去量(Rt)は、酸化反応により生成
された硝酸(HNO3)と還元反応により生成された窒素
(N2)との合計量に相当する。窒素酸化物分解除去率(Rd) 窒素酸化物分解除去率(Rd)は、次のようにして測定
した。 前記測定を終えた試験片を反応セルより取り出し、
光を遮断したメスシリンダーに入れたイオン交換水1リ
ットル中に15時間浸漬して、一酸化窒素の酸化反応に
より生成した硝酸を溶出させて、その量をイオンクロマ
トグラフ装置により定量し、硝酸除去量(単位NO2 −
mg/m2 /4hr)を、二酸化窒素の量に換算して算
出した。 窒素酸化物総除去量(Rt)から硝酸除去量を引い
た値を、窒素酸化物分解除去量(単位NO2 −mg/m
2 /4hr)とし、この窒素酸化物分解除去量を窒素酸
化物総除去量で除して、窒素酸化物分解除去率(Rd)
(%)を算出した。
300mm×500mm)に塗布し、乾燥して、試験片
を作製し、ガス入口とガス出口を備え、上部壁を透明石
英ガラス板製とした密閉反応セル内に、該試験片を塗膜
面が上になるように設置し、常温常圧下で、次のように
して測定した。 調湿された空気と一酸化窒素の標準ガスを混合し
て、相対湿度50%、一酸化窒素濃度1.0ppmとな
るように調節した試験ガスを、毎分4リットルの速度で
連続的に反応セルに供給し、反応を経た試験ガスを同速
度で反応セルから排出させた。これと同時に、ブラック
ライト蛍光ランプを用い、反応セルの透明石英ガラス板
の上面より塗膜表面での紫外線照射強度が1mW/cm
2 となるように、塗膜に紫外線を照射して、塗膜に含ま
れる二酸化チタン超微粒子の光触媒作用による一酸化窒
素の酸化・還元反応を行った。 反応セルに供給される試験ガス中の一酸化窒素の濃
度および反応セルから排出された試験ガス中の一酸化窒
素と二酸化窒素との合計濃度を4時間にわたり測定し、
窒素酸化物総除去量(Rt)(単位NO2 −mg/m2
/4hr)を、二酸化窒素に量に換算して算出した。こ
の窒素酸化物総除去量(Rt)は、酸化反応により生成
された硝酸(HNO3)と還元反応により生成された窒素
(N2)との合計量に相当する。窒素酸化物分解除去率(Rd) 窒素酸化物分解除去率(Rd)は、次のようにして測定
した。 前記測定を終えた試験片を反応セルより取り出し、
光を遮断したメスシリンダーに入れたイオン交換水1リ
ットル中に15時間浸漬して、一酸化窒素の酸化反応に
より生成した硝酸を溶出させて、その量をイオンクロマ
トグラフ装置により定量し、硝酸除去量(単位NO2 −
mg/m2 /4hr)を、二酸化窒素の量に換算して算
出した。 窒素酸化物総除去量(Rt)から硝酸除去量を引い
た値を、窒素酸化物分解除去量(単位NO2 −mg/m
2 /4hr)とし、この窒素酸化物分解除去量を窒素酸
化物総除去量で除して、窒素酸化物分解除去率(Rd)
(%)を算出した。
【0066】
【実施例】製造例1(複合酸化物の微粒子の製造) 市販のシリカゾル(SiO2 =20重量%、pH=3;
商品名シリカドール20A、日本化学工業(株)製))
3000gを、水3200gで希釈したのち、硫酸を加
えてpHを1に調整した。次いで、85℃で攪拌しつ
つ、TiO2 換算濃度が168g/リットルの四塩化チ
タン水溶液14.3リットルを添加したのち、アンモニ
ア水を徐々に加え、pHを7に調整して、沈殿物を得
た。次いで、この沈殿物を洗浄し、ろ過して、105℃
で乾燥したのち、450℃で焼成し、粉砕して、本発明
における複合酸化物の微粒子を得た。この微粒子は、結
晶子径7nmの二酸化チタン超微粒子が二酸化けい素中
に均一に分散したものであった。この微粒子を、(B−
1)とする。
商品名シリカドール20A、日本化学工業(株)製))
3000gを、水3200gで希釈したのち、硫酸を加
えてpHを1に調整した。次いで、85℃で攪拌しつ
つ、TiO2 換算濃度が168g/リットルの四塩化チ
タン水溶液14.3リットルを添加したのち、アンモニ
ア水を徐々に加え、pHを7に調整して、沈殿物を得
た。次いで、この沈殿物を洗浄し、ろ過して、105℃
で乾燥したのち、450℃で焼成し、粉砕して、本発明
における複合酸化物の微粒子を得た。この微粒子は、結
晶子径7nmの二酸化チタン超微粒子が二酸化けい素中
に均一に分散したものであった。この微粒子を、(B−
1)とする。
【0067】実施例1 還流冷却器、撹拌機を備えた反応器に、メチルトリメト
キシシラン100部、多官能性ジメチルポリシロキサン
(日本ユニカ(株)製)20部、ジ−i−プロポキシ・
エチルアセトアセテートアルミニウム10部、イオン交
換水40部、i−プロピルアルコール200部を加えて
混合し、攪拌下、60℃で4時間反応させたのち、室温
まで冷却した。次いで、製造例1で得た(B−1)10
0部、アセチルアセトン6部、ジ−n−ブチル錫ジラウ
レート20部、i−ブチルアルコール310部を後添加
して、固形分濃度20%の組成物(I−a)を調製し
た。次いで、組成物(I−a)をソーダガラス板に、浸
漬法(ガラス板の引上げ速度=40mm/秒)により塗
布し、150℃20分間加熱乾燥する塗布操作を2回繰
り返して、試験片を得た。組成物(I−a)の保存安定
性の評価結果および試験片の各種評価結果を、表1に示
す。
キシシラン100部、多官能性ジメチルポリシロキサン
(日本ユニカ(株)製)20部、ジ−i−プロポキシ・
エチルアセトアセテートアルミニウム10部、イオン交
換水40部、i−プロピルアルコール200部を加えて
混合し、攪拌下、60℃で4時間反応させたのち、室温
まで冷却した。次いで、製造例1で得た(B−1)10
0部、アセチルアセトン6部、ジ−n−ブチル錫ジラウ
レート20部、i−ブチルアルコール310部を後添加
して、固形分濃度20%の組成物(I−a)を調製し
た。次いで、組成物(I−a)をソーダガラス板に、浸
漬法(ガラス板の引上げ速度=40mm/秒)により塗
布し、150℃20分間加熱乾燥する塗布操作を2回繰
り返して、試験片を得た。組成物(I−a)の保存安定
性の評価結果および試験片の各種評価結果を、表1に示
す。
【0068】実施例2〜4 配合処方を表1に示すとおりとした以外は実施例1と同
様にして、固形分濃度20%の組成物(I−b)〜(I
−d)の調製および各試験片の作製を行った。各組成物
の保存安定性の評価結果および各試験片の各種評価結果
を、表1に示す。
様にして、固形分濃度20%の組成物(I−b)〜(I
−d)の調製および各試験片の作製を行った。各組成物
の保存安定性の評価結果および各試験片の各種評価結果
を、表1に示す。
【0069】比較例1〜8 配合処方を表2に示すとおりとした以外は実施例1と同
様にして、固形分濃度20%の組成物(i−a)〜(i
−h)の調製および各試験片の作製を行った。各組成物
の保存安定性の評価結果および各試験片の各種評価結果
を、表2に示す。
様にして、固形分濃度20%の組成物(i−a)〜(i
−h)の調製および各試験片の作製を行った。各組成物
の保存安定性の評価結果および各試験片の各種評価結果
を、表2に示す。
【0070】
【表1】 (*1) 東芝シリコーン(株)製 (*2) 日本ユニカ(株)製
【0071】
【表2】 (*1) 東芝シリコーン(株)製 (*2) 日本ユニカ(株)製 (*3) 古川機械金属(株)製
【0072】製造例2((C)成分の製造) 還流冷却器、撹拌機を備えた反応器に、メタクリル酸メ
チル90部、アクリル酸n−ブチル40部、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン20部、キシレン
130部を加えて混合したのち、攪拌下で80℃に加温
し、この混合物に、アゾビスイソバレロニトリル4部を
キシレン10部に溶解した溶液を30分間かけて滴下
し、さらに80℃で5時間反応させて、固形分濃度50
%の(C)成分の溶液を得た。得られた(C)成分のM
nは12,000であり、ポリマー1分子当たり平均6
個のシリル基を含有していた。この(C)成分を、(C
−1)とする。
チル90部、アクリル酸n−ブチル40部、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン20部、キシレン
130部を加えて混合したのち、攪拌下で80℃に加温
し、この混合物に、アゾビスイソバレロニトリル4部を
キシレン10部に溶解した溶液を30分間かけて滴下
し、さらに80℃で5時間反応させて、固形分濃度50
%の(C)成分の溶液を得た。得られた(C)成分のM
nは12,000であり、ポリマー1分子当たり平均6
個のシリル基を含有していた。この(C)成分を、(C
−1)とする。
【0073】製造例3〜5((C)成分の製造) 反応成分を表3に示すとおりとした以外は実施例1と同
様にして、表3に示す各(C)成分の溶液を得た。これ
らの(C)成分を、順次(C−2)、(C−3)、(C
−4)とする。
様にして、表3に示す各(C)成分の溶液を得た。これ
らの(C)成分を、順次(C−2)、(C−3)、(C
−4)とする。
【0074】実施例5 攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルトリメト
キシシラン73部、ジメチルジメトキシシラン39部、
製造例2で得た(C−1)64部、ジ−i−プロポキシ
・エチルアセトアセテートアルミニウム10部、イオン
交換水40部、i−プロピルアルコール200部を加え
て混合し、攪拌下、60℃で4時間反応させたのち、室
温まで冷却した。次いで、製造例1で得た(B−1)1
50部、アセチルアセトン6部、ジ−n−ブチル錫ジラ
ウレート20部、i−ブチルアルコール600部を後添
加して、固形分濃度20%の組成物(II−a)を調製し
た。次いで、組成物(II−a)を、アルカリ脱脂したア
ルミニウム板(JIS H4000,A1050P)
に、乾燥膜厚20μmになるようにスプレー法により塗
布し、150℃で10分間加熱乾燥して、試験片を作製
した。組成物(II−a)の保存安定性の評価結果および
試験片の各種評価結果を、それぞれ表4に示す。
キシシラン73部、ジメチルジメトキシシラン39部、
製造例2で得た(C−1)64部、ジ−i−プロポキシ
・エチルアセトアセテートアルミニウム10部、イオン
交換水40部、i−プロピルアルコール200部を加え
て混合し、攪拌下、60℃で4時間反応させたのち、室
温まで冷却した。次いで、製造例1で得た(B−1)1
50部、アセチルアセトン6部、ジ−n−ブチル錫ジラ
ウレート20部、i−ブチルアルコール600部を後添
加して、固形分濃度20%の組成物(II−a)を調製し
た。次いで、組成物(II−a)を、アルカリ脱脂したア
ルミニウム板(JIS H4000,A1050P)
に、乾燥膜厚20μmになるようにスプレー法により塗
布し、150℃で10分間加熱乾燥して、試験片を作製
した。組成物(II−a)の保存安定性の評価結果および
試験片の各種評価結果を、それぞれ表4に示す。
【0075】実施例6〜8 配合処方を表4に示すとおりとした以外は実施例5と同
様にして、固形分濃度20%の組成物(II−b)〜(II
−d)の調製および各試験片の作製を行った。各組成物
の保存安定性の評価結果および各試験片の各種評価結果
を、表4に示す。
様にして、固形分濃度20%の組成物(II−b)〜(II
−d)の調製および各試験片の作製を行った。各組成物
の保存安定性の評価結果および各試験片の各種評価結果
を、表4に示す。
【0076】比較例9〜16 配合処方を表5に示すとおりとした以外は実施例5と同
様にして、固形分濃度20%の組成物(ii−a)〜(ii
−h)の調製および各試験片の作製を行った。各組成物
の保存安定性の評価結果および各試験片の各種評価結果
を、表5に示す。
様にして、固形分濃度20%の組成物(ii−a)〜(ii
−h)の調製および各試験片の作製を行った。各組成物
の保存安定性の評価結果および各試験片の各種評価結果
を、表5に示す。
【0077】
【表3】
【0078】
【表4】
【0079】
【表5】 (*3) 古川機械金属(株)製
【0080】
【発明の効果】本発明のコーティング用組成物は、その
光触媒成分の還元活性、即ち窒素酸化物を窒素分子(N
2)と酸素分子(O2)に分解する性能が著しく高く、空気
中の窒素酸化物が硝酸として除去される比率を低減で
き、周辺環境の汚染を抑制できるとともに、保存安定性
に優れ、かつ塗膜外観、耐候性、耐熱性等を含めた一般
の塗膜性能に優れている。
光触媒成分の還元活性、即ち窒素酸化物を窒素分子(N
2)と酸素分子(O2)に分解する性能が著しく高く、空気
中の窒素酸化物が硝酸として除去される比率を低減で
き、周辺環境の汚染を抑制できるとともに、保存安定性
に優れ、かつ塗膜外観、耐候性、耐熱性等を含めた一般
の塗膜性能に優れている。
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜8の1価の有
機基を示し、R2 は炭素数1〜5のアルキル基、炭素数
1〜6のアシル基またはフェニル基を示し、nは0〜2
の整数である。)で表されるオルガノシラン、該オルガ
ノシランの加水分解物および該オルガノシランの部分縮
合物から選ばれる少なくとも1種の成分並びに(B)二
酸化チタンと二酸化チタン以外の金属酸化物との複合酸
化物からなる微粒子であって、結晶子径10nm以下の
二酸化チタン超微粒子が二酸化チタン以外の金属酸化物
中に分散した複合酸化物からなる微粒子を含有すること
を特徴とするコ−ティング用組成物。 - 【請求項2】 (A)下記一般式(1) 【化2】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜8の1価の有
機基を示し、R2 は炭素数1〜5のアルキル基、炭素数
1〜6のアシル基またはフェニル基を示し、nは0〜2
の整数である。)で表されるオルガノシラン、該オルガ
ノシランの加水分解物および該オルガノシランの部分縮
合物から選ばれる少なくとも1種の成分、(B)二酸化
チタンと二酸化チタン以外の金属酸化物との複合酸化物
からなる微粒子であって、結晶子径10nm以下の二酸
化チタン超微粒子が二酸化チタン以外の金属酸化物中に
分散した複合酸化物からなる微粒子並びに(C)加水分
解性基および/または水酸基と結合したケイ素原子を有
するシリル基を重合体分子鎖の末端および/または側鎖
に有する重合体を含有することを特徴とするコーティン
グ用組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10307968A JP2000129176A (ja) | 1998-10-29 | 1998-10-29 | コーティング用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10307968A JP2000129176A (ja) | 1998-10-29 | 1998-10-29 | コーティング用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000129176A true JP2000129176A (ja) | 2000-05-09 |
Family
ID=17975340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10307968A Pending JP2000129176A (ja) | 1998-10-29 | 1998-10-29 | コーティング用組成物 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000129176A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100403275B1 (ko) * | 2001-03-30 | 2003-10-30 | 주식회사 매그린 | 광촉매 코팅 조성물, 그 제조방법 및 이를 사용하여제조된 코팅체 |
JP2006299251A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-11-02 | Jsr Corp | 高屈折材料形成用組成物およびその硬化体、ならびに高屈折材料形成用組成物の製造方法 |
JP2006316264A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-24 | Jsr Corp | 高屈折材料形成用組成物およびその硬化体、ならびに高屈折材料形成用組成物の製造方法 |
JP2007522923A (ja) * | 2004-01-30 | 2007-08-16 | ミレニアム ケミカルズ ユーケー ホールディングス リミテッド | NOx除去性半透明コーティングに使用される組成物 |
JP2007277072A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-10-25 | Jsr Corp | 酸化物微粒子分散体およびその製造方法 |
JP2007277073A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-10-25 | Jsr Corp | 酸化物微粒子分散体およびその製造方法 |
JP2007277505A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-10-25 | Jsr Corp | 酸化物微粒子分散体およびその製造方法 |
WO2009051271A1 (ja) * | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Ube Nitto Kasei Co., Ltd. | 光触媒膜、光触媒膜の製造方法、物品および親水化方法 |
US7959980B2 (en) * | 2004-05-28 | 2011-06-14 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Hydrophilic compositions, methods for their production, and substrates coated with such compositions |
CN111253781A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-06-09 | 广东工业大学 | 一种复合改性钛白粉及其制备方法和应用 |
-
1998
- 1998-10-29 JP JP10307968A patent/JP2000129176A/ja active Pending
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100403275B1 (ko) * | 2001-03-30 | 2003-10-30 | 주식회사 매그린 | 광촉매 코팅 조성물, 그 제조방법 및 이를 사용하여제조된 코팅체 |
JP4633742B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2011-02-16 | ミレニアム ケミカルズ ユーケー ホールディングス リミテッド | NOx除去性半透明コーティングに使用される組成物 |
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JP2009208062A (ja) * | 2007-10-16 | 2009-09-17 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | 光触媒膜、光触媒膜の製造方法、物品および親水化方法 |
CN111253781A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-06-09 | 广东工业大学 | 一种复合改性钛白粉及其制备方法和应用 |
CN111253781B (zh) * | 2020-03-13 | 2021-08-24 | 广东工业大学 | 一种复合改性钛白粉及其制备方法和应用 |
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