JP2000043216A

JP2000043216A - 磁気記録媒体用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルム

Info

Publication number: JP2000043216A
Application number: JP21548498A
Authority: JP
Inventors: Mitsumine Tojo; 光峰東條; Shunichi Uchida; 俊一内田; Toshifumi Osawa; 利文大澤
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1998-07-30
Filing date: 1998-07-30
Publication date: 2000-02-15

Abstract

(57)【要約】【課題】従来のポリエチレン―２，６―ナフタレート
フイルムの持つ問題点を解決し、高い弾性率を保持しつ
つ、耐デラミネーション性の改善された磁気記録媒体用
ポリエチレン―２，６―ナフタレートを提供する。【解決手段】２，６―ナフタレンジカルボン酸を主た
るジカルボン酸成分とし、エチレングリコールを主たる
グリコール成分とし、共重合成分としてイソフタル酸成
分を０．１〜１０モル％（全ジカルボン成分の総量に対
し）有し、かつジエチレングリコール成分の含有量が３
モル％（全グリコール成分の総量に対し）以下である共
重合ポリエチレン―２，６―ナフタレートからなる二軸
配向フイルムの少なくとも片面に皮膜層が形成されてお
り、該皮膜層は平均粒径が５〜１００ｎｍの不活性粒子
を含む水溶性樹脂又は水分散性樹脂からなる塗膜であ
り、該不活性粒子に起因して表面１×１０⁶〜１×１０
⁹個／ｍｍ²の突起を有し、かつ該皮膜表面の中心線平
均粗さが０．１〜２ｎｍであることを特徴とする磁気記
録媒体用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレート
フイルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用二軸
配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルムに関
する。さらに詳しくは弾性率および耐デラミ性に優れ、
且つ磁気記録媒体としたときに電磁変換特性、走行耐久
性に優れた磁気記録媒体用二軸配向ポリエチレン―２，
６―ナフタレートフイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリエチレンテレフタレートに代表され
るポリエステルはその優れた物理的、化学的特性の故
に、今日、繊維、フィルムあるいは樹脂成形品などの用
途で広く使用されている。特に近年めざましい発展をと
げているオーディオテープ、ビデオテープ、コンピュー
ターテープあるいはフロッピーディスクなどの磁気記録
分野ではポリエチレンテレフタレートの二軸配向フイル
ムがベースフイルムとして好適に使用されている。

【０００３】しかしながら、最近の電気および電子機器
の小型化、軽量化、高性能化が進むなかでベースフイル
ムに要求される特性はますます厳しくなってきている。
例えば磁気記録分野においては、長時間記録、小型化、
軽量化を実現するためにベースフィルムを薄くする必要
があるが、同時に、より高弾性率にしてフイルムのステ
ィフネスを維持することが重要である。このため、ベー
スフイルムの厚みが非常に薄い場合、従来のポリエチレ
ンテレフタレートを用いたベースフイルムでは弾性率が
不十分な場合が生じてきている。

【０００４】ポリエチレンテレフタレートフイルムに対
してポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルムは優
れた機械的特性、耐熱性、化学的特性、高いＴｇを有し
ており上記用途で好ましく用いられる。しかしながら、
ポリエチレン―２，６―ナフタレートフィルムは通常の
ポリエチレンテレフタレートフイルムに比べて引裂き強
度が低い（耐デラミネーション性が悪い）という欠点を
もつ。特に二軸配向フイルムのように延伸処理を伴う場
合には、成形過程の中間製品あるいは最終製品の引裂き
強度が低くなってしまう場合が多い。このため、例えば
ポリエチレン―２，６―ナフタレートの逐次二軸延伸フ
イルムの製膜工程においてはフイルム破れが多発して製
品が得られなかったり、製品が得られた場合でも特定方
向の引裂きに対し弱いフイルムとなってしまうという問
題があった。

【０００５】また特に磁気記録の高密度化を達成しよう
とする平滑な表面のフイルムの場合には、フイルムをロ
ールの状態に巻いた場合において、ブロッキングが起こ
りやすい。ブロッキングしたロール状フイルムは耐デラ
ミネーション性が悪いと、巻き出し時に破断したり、例
え破断しなくとも局所的なブロッキングによってポリエ
チレン―２，６―ナフタレートフイルムが接する面に物
質転写し、テープにしたときにドロップ・アウトが生じ
る問題もある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
した従来のポリエチレン―２，６―ナフタレートフイル
ムの持つ問題点を解決し、高い弾性率を保持しつつ、耐
デラミネーション性の改善された磁気記録媒体用ポリエ
チレン―２，６―ナフタレートを提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、２，６―ナフタレンジカルボン酸を主たるジ
カルボン酸成分とし、エチレングリコールを主たるグリ
コール成分とし、共重合成分としてイソフタル酸成分を
０．１〜１０モル％（全ジカルボン酸成分の総量に対
し）有し、かつジエチレングリコール成分の含有量が３
モル％（全グリコール成分の総量に対し）以下である共
重合ポリエチレン―２，６―ナフタレートからなる二軸
配向フイルムの少なくとも片面に皮膜層が形成されてお
り、該皮膜層は平均粒径が５〜１００ｎｍの不活性粒子
を含む水溶性樹脂又は水分散性樹脂からなる塗膜であ
り、該不活性粒子に起因して表面に１×１０⁶〜１×１
０⁹個／ｍｍ²の突起を有し、且つ該皮膜表面の中心線
平均粗さが０．１〜２ｎｍであることを特徴とする磁気
記録媒体用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレー
トフイルムによって達成される。以下、本発明について
説明する。

【０００８】［共重合ポリエチレン―２，６―ナフタレ
ート］本発明においてポリエチレン―２，６―ナフタレ
ート共重合体を構成する主たるジカルボン酸成分はナフ
タレンジカルボン酸であり、主たるグリコール成分はエ
チレングリコールである。

【０００９】ここで、主たるジカルボン酸成分とは全ジ
カルボン酸成分の総量に対して８０モル％以上、好まし
くは９０モル％以上をいい、主たるグリコール成分とは
全グリコール成分の総量に対して８０モル％以上、好ま
しくは９０モル％以上をいう。

【００１０】本発明においてポリエチレン―２，６―ナ
フタレート共重合体は、共重合成分としてイソフタル酸
成分を、全ジカルボン酸成分の総量に対し０．ｌ〜１０
モル％を占めるように共重合されている。

【００１１】このイソフタル酸成分は、共重合体の製造
反応において下記一般式で現される化合物を用いること
で共重合させることが好ましい。

【００１２】

【化１】

【００１３】（式中、Ｒは水素または低級アルキル基を
表す。）上記一般式中、Ｒは水素、またはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基などの低級アルキル基である。

【００１４】このイソフタル酸成分の共重合量が、全ジ
カルボン酸成分の総量に対し０．ｌモル％より少ない場
合、フイルムの耐デラミネーション性が向上せず、逆に
１０モル％を超える場合、フイルムとした場合の結晶性
が損なわれて機械的強度に劣るフイルムとなってしま
う。イソフタル酸成分の共重合量は好ましくは０．５〜
８モル％であり、更に好ましくは１〜７モル％である。

【００１５】上記一般式で表される化合物としては、イ
ソフタル酸、イソフタル酸ジメチルを好ましい例として
挙げることができる。

【００１６】本発明においては、共重合ポリエチレン―
２，６―ナフタレートはジエチレングリコール成分の共
重合量が３モル％以下（全グリコール成分に対して）で
ある必要がある。

【００１７】このジエチレングリコール成分は、共重合
体製造時、共重合成分としてジエチレングリコールまた
はそのエステル形成性誘導体の形で添加されたものでは
なく、製造反応の過程で副生して共重合されたものであ
る。

【００１８】ジエチレングリコール成分の全共重合量が
３モル％を超えると、フィルムとしたときの耐デラミネ
ーション性の改良効果は大きくなるが、結晶性が損なわ
れるため機械的強度が大幅に低下するようになる。ジエ
チレングリコール成分の全共重合割合は好ましくは２．
５モル％以下であり、更に好ましくは２モル％以下であ
る。製造反応中でジエチレングリコールの副生を押さえ
るために、添加するエチレングリコールのモル量とジカ
ルボン酸のモル量の比を２．０〜３．０にすることが好
ましい。また、エステル交換反応に要する時間は短いほ
どよい。

【００１９】この共重合ポリエチレン―２，６―ナフタ
レートはイソフタル酸成分、ジエチレングリコール成分
の共重合成分のほか、不純物として他の共重合成分を含
んでも良いが、これらの成分は耐デラミネーションには
効果があるが、ヤング率を大きく低下させるため多量に
入ってはならない。量としてはジエチレングリコールと
の合計量が３モル％以下、好ましくは１モル％以下、さ
らに好ましくは０．１モル％以下であることが好まし
い。

【００２０】不純物としての共重合成分の例としては、
２個のエステル形成性官能基を有する化合物、例えばシ
ュウ酸、アジピン酸、フタル酸、セバシン酸、ドデカン
ジカルボン酸、コハク酸、イソフタル酸、５―ナトリウ
ムスルホイソフタル酸、テレフタル酸、２―カリウムス
ルホテレフタル酸、２，７―ナフタレンジカルボン酸、
１，４―シクロヘキサンジカルボン酸、４，４′―ジフ
ェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、
ジフェニルエーテルジカルボン酸；ｐ―オキシエトキシ
安息香酸等の如きオキシカルボン酸；プロピレングリコ
ール、１，２―プロパンジオール、１，３―ブタンジオ
ール、１，４―ブタンジオール、１，５―ペンタンジオ
ール、１，６―ヘキサンジオール、ｌ，２―シクロヘキ
サンジメタノール、ｌ，３―シクロヘキサンジメタノー
ル、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ｐ―キシリ
レングリコール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイ
ド付加物、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイ
ド付加物、トリエチレングリコール、ポリエチレンオキ
シドグリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコー
ル、ネオペンチルグリコール等を挙げることができる。
これらは共重合体の製造反応においてエステル形成性誘
導体としても用いることができる。

【００２１】また、共重合ポリエチレン―２，６―ナフ
タレートは例えば安息香酸、メトキシポリアルキレング
リコール等の１官能性化合物によって、末端の水酸基お
よび／またはカルボキシル基の一部または全部を封鎖し
たものであってもよく、あるいは例えば極少量のグリセ
リン、ペンタエリスリトールなどの如き３官能以上のエ
ステル形成性化合物で実質的に線状のポリマーが得られ
る範囲内で変性されたものであってもよい。

【００２２】［添加剤］本発明の共重合ポリエチレン―
２，６―ナフタレートには添加剤、例えば染料、顔料、
安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、および難燃剤などを所望
により含有させることができる。

【００２３】本発明の共重合ポリエチレン―２，６―ナ
フタレートからなる二軸配向フイルムは単層でも共押出
による２層以上の多層構成でもよく、どちらの場合でも
皮膜層を塗設する側の表層中に含まれる不活性粒子は、
平均粒径が２００ｎｍ以下、好ましくは１３０ｎｍ以下
であり、その含有量は０〜０．１重量％、好ましくは０
〜０．０６重量％である。平均粒径が２００ｎｍより大
きい場合、あるいは含有量が０．１重量％より多い場合
は、高密度磁気記録媒体としての電磁変換特性に支障を
きたす。かかる不活性粒子としては、例えば球状シリ
カ、多孔質シリカ、炭酸カルシウム、シリカアルミナ、
アルミナ、二酸化チタン、カオリンクレー、硫酸バリウ
ム、ゼオライトのごとき無機粒子、あるいはシリコン樹
脂粒子、架橋ポリスチレン粒子のごとき有機粒子をあげ
ることができる。無機粒子は粒径が均一であることなど
の理由で天然品よりも、合成品であることが好ましく、
あらゆる結晶形態、硬度、比重、色の無機粒子を使用す
ることができる。

【００２４】フイルムに添加する不活性粒子は上記に例
示した中から選ばれた単一成分でもよく、二成分あるい
は三成分以上を含む多成分でもよい。

【００２５】不活性粒子の添加時期は、共重合ポリエチ
レン―２，６―ナフタレートを製膜するまでの段階であ
れば特に制限はなく、例えば重合段階で添加してもよ
く、また製膜の際に添加してもよい。

【００２６】［皮膜層］共重合ポリエチレン―２，６―
ナフタレートからなる二軸配向フイルムは少なくとも片
面に皮膜層を有するが、該皮膜を構成する水溶性樹脂又
は水分散性樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル
樹脂、アクリル―エステル樹脂、アルキッド樹脂、フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン
樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合
体等を例示することができる。芯層のポリエステル樹脂
に対する密着性、突起保持性、易滑性などの点から、ア
クリル樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル―ポリエステ
ル樹脂が好ましい。これらは単一重合体でも共重合体で
もよく、また混合物でも差支えない。これらの中水分散
性樹脂が好ましい。

【００２７】前記水溶性又は水分散性のアクリル樹脂
は、例えばアクリル酸エステル（アルコール残基として
は、メチル基、エチル基、ｎ―プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ―ブチル基、イソブチル基、ｔ―ブチル基、２
―エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、
ベンジル基、フェニルエチル基等を例示できる）；メタ
クリル酸エステル（アルコール残基は上記と同じ）；２
―ヒドロキシエチルアクリレート、２―ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、２―ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、２―ヒドロキシプロピルメタクリレート等の如きヒ
ドロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メタクリルア
ミド、Ｎ―メチルメタクリルアミド、Ｎ―メチルアクリ
ルアミド、Ｎ―メチロールアクリルアミド、Ｎ―メチロ
ールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ―ジメチロールアクリル
アミド、Ｎ―メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ―メト
キシメチルメタクリルアミド、Ｎ―フェニルアクリルア
ミド等の如きアミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ―ジエチル
アミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエ
チルメタクリレート等の如きアミノ基含有モノマー；グ
リシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、ア
リルグリシジルエーテル等の如きエポキシ基含有モノマ
ーの１種以上を主成分とし、例えばスチレンスルホン
酸、ビニルスルホン酸及びこれらの塩（例えばナトリウ
ム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如きスルホ
ン酸基又はその塩を含有するモノマー；クロトン酸、イ
タコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール酸及びそ
れらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニ
ウム塩等）等の如きカルボキシル基又はその塩を含有す
るモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の無水
物を含有するモノマー；その他ビニルインシアネート、
アリルイソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテ
ル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシ
ラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマ
ール酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリ
デン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量体の１種以上を
副成分とする組合せからつくられたものが好ましいが、
さらにアクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体の如き
（メタ）アクリル単量体の成分が５０モル％以上含まれ
ているものが好ましく、特にメタクリル酸メチルやメタ
リル酸エチルの成分を含有しているものが好ましい。

【００２８】水溶性又は水分散性のアクリル樹脂は分子
内の官能基で自己架橋することができるし、メラミン樹
脂やエポキシ化合物等の架橋剤を用いて架橋することも
できる。

【００２９】前記水溶性又は水分散性のポリエステル樹
脂を構成する酸成分としては、例えばテレフタル酸、イ
ソフタル酸、フタル酸、１，４―シクロヘキサンジカル
ボン酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―
ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ド
デカンジカルボン酸、コハク酸、５―ナトリウムスルホ
イソフタル酸、２―カリウムスルホテレフタル酸、トリ
メリット酸、トリメシン酸、無水トリメリツト酸、無水
フタル酸、ｐ―ヒドロキシ安息香酸、トリメリツト酸モ
ノカリウム塩等の多価カルボン酸を例示することができ
る。また、ヒドロキシ化合物成分としては、例えばエチ
レングリコール、プロピレングリコール、１，３―プロ
パンジオール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘキ
サンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４―シク
ロヘキサンジメタノール、ｐ―キシリレングリコール、
ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
オキシドグリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリ
コール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリ
メチロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナ
トリウム、ジメチロールプロパン酸カリウム等の多価ヒ
ドロキシ化合物を例示することができる。これらの化合
物から常法によってポリエステル樹脂をつくることがで
きる。水性塗科をつくる点からは、５―ナトリウムスル
ホイソフタル酸成分又はカルボン酸塩基を含有する水性
ポリエステル樹脂を用いるのが好ましい。かかるポリエ
ステル樹脂は分子内に官能基を有する自己架橋型とする
ことができるし、メラミン樹脂、エポキシ樹脂のような
硬化剤を用いて架橋することもできる。

【００３０】本発明では、水溶性又は水分散性のアクリ
ル―ポリエステル樹脂はアクリル変成ポリエステル樹脂
とポリエステル変性アクリル樹脂とを含有する意味で用
いており、アクリル樹脂成分とポリエステル樹脂成分と
が互いに結合したものであって、例えばグラフトタイ
プ、ブロックタイプ等を包含する。アクリル―ポリエス
テル樹脂は、例えばポリエステル樹脂の両端にラジカル
開始剤を付加してアクリル単量体の重合を行わせたり、
ポリエステル樹脂の側鎖にラジカル開始剤を付加してア
クリル単量体の重合を行わせたり、あるいはアクリル樹
脂の側鎖に水酸基を付け、末端にイソシアネート基やカ
ルボキシル基を有するポリエステルと反応させて櫛形ポ
リマーとする等によって製造することができる。

【００３１】皮膜層に配合される不活性粒子の材料とし
ては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼ
ン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート
共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、
ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き
有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、
タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化
モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き
無機質のいずれを用いてもよい。

【００３２】また内外部のそれぞれの性質が異なる物質
で構成される多層構造のコアシェル型粒子を用いてもよ
い。

【００３３】不活性粒子の平均粒径は５〜１００ｎｍ、
好ましくは１０〜５０ｎｍである。更に粒度分布が均一
であるものが好ましい。平均粒径が５ｎｍを下まわると
滑り性が悪化する。一方、平均粒径が１００ｎｍを超え
ると、粒子の脱落が発生し、耐削れ性が悪化する。ま
た、磁気ヘッドとのスペーシングが大きくなり高密度記
録型の磁気記録媒体として供することが困難となる。

【００３４】不活性粒子は、皮膜層の表面突起頻度が１
×１０⁶〜１×１０⁹個／ｍｍ²となる量を呈するよう
に皮膜層中に含有される。この表面突起頻度が１×１０
⁶個／ｍｍ²未満では磁気記録媒体としたときの走行耐
久性が不足する。他方１×１０⁹個／ｍｍ²を超えると
電磁変換特性に悪影響を及ぼす。好ましい表面突起頻度
は１×１０⁶〜１×１０⁸個／ｍｍ²、さらに好ましく
は２×１０⁶〜５×１０⁷個／ｍｍ²、特に好ましくは
３×１０⁶〜３×１０⁷個／ｍｍ²である。

【００３５】かかる皮膜層は、前記した共重合ポリエチ
レン―２，６―ナフタレートからなるフイルムの少なく
とも片面に、不活性粒子および水溶性もしくは水分散性
の樹脂を含む塗液を塗布し、乾燥することで形成するこ
とができる。その際、前記フイルムは二軸配向フイルム
であっても良く、また一軸配向フイルムや未延伸フイル
ムであっても良い。後者の場合は、塗液の塗布後二軸配
向フイルムとする延伸処理を行う。

【００３６】この塗液の固形分濃度は０．２〜１０重量
％、さらには０．５〜５重量％、特に０．７〜３重量％
であることが好ましい。そしてこの塗液には本発明の効
果を損なわない範囲であれば所望により他の成分、例え
ば界面活性剤、安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等
を添加することができる。

【００３７】皮膜層を形成した面の中心線平均粗さＲａ
は０．１〜２ｎｍ、更に好ましくは０．５〜１．５ｎｍ
である。Ｒａが２ｎｍを超える場合には、特に金属薄膜
型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性が悪化する。
一方Ｒａが０．１ｎｍ未満の場合は、滑り性が極度に悪
化して走行耐久性が不足したり、磁気ヘッドに貼り付い
てテープ鳴きを生じたりして実用に供することができな
くなり易い。

【００３８】本発明の共重合ポリエチレン―２，６―ナ
フタレートフイルムの前述の皮膜層を形成した面の反対
面には、皮膜層を有しても有さなくてもよい。有する場
合には（皮膜層Ｂ）前述の皮膜層と同じ皮膜層でも違う
皮膜層でもかまわない。

【００３９】［フイルムの製造］本発明の磁気記録媒体
用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイル
ムは、従来から知られている方法に準じて製造すること
ができる。

【００４０】例えば、共重合ポリエチレン―２，６―ナ
フタレートフイルムが単層の場合、まず前記共重合ポリ
エチレン―２，６―ナフタレートを口金よりポリマー融
点（Ｔｍ：℃）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフイルム状
に押出した後、１０〜９０℃で急冷固化し未延伸フイル
ムを得る。しかる後に、該未延伸フイルムを常法に従っ
て一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）〜
（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリマーのガラ
ス転移温度）において２．５〜８．０倍の倍率、好まし
くは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで皮膜層を
形成する塗液をフイルムに塗布し、その後に前記方向と
は直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度において
２．５〜８．０倍の倍率、好ましくは３．０〜７．５倍
の倍率で延伸する。更に必要に応じて縦方向及び／又は
横方向に再度延伸してもよい。即ち、２段、３段、４
段、或いは多段の延伸を行うとよい。全延伸倍率は、面
積延伸倍率として通常９倍以上、好ましくは１２〜３５
倍、更に好ましくは１５〜３２倍である。更に引き続い
て、二軸配向フイルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１
０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結晶化
することによって優れた寸法安定性が付与される。な
お、熱固定時間は１〜６０秒間が好ましい。

【００４１】［フイルムのヤング率］本発明の磁気記録
媒体用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフ
イルムは出力特性の点から、横方向のヤング率が６．９
ＧＰａ以上、且つ縦、横方向のヤング率の和が１２．７
ＧＰａ以上てあることが好ましい。

【００４２】［磁気記録媒体］本発明の磁気記録媒体用
二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルム
は、皮膜層の表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロ
ム又はこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成
る強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、
用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬ
Ｃ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設
け、更に皮膜層Ｂの表面に公知のバックコート層を設け
ることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ
等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレー
トの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすること
が出来る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信号記
録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカ
セットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV
用テープ媒体として極めて有用である。

【００４３】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。尚、本発明において用いた測定法は次の通りで
ある。また「部」は重量部を意味する。

【００４４】（１）粒子の平均粒径（平均粒径：０．０
６μｍ以上）島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグルパーテ
ィクルサイズアナライザー（Centrifugal Particle
Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降
曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球
直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（「粒
度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２４２
〜２４７参照）。

【００４５】（２）超微細粒子の平均粒径（平均粒径：
０．０６μｍ未満）小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。即ち、ニコム・インスツル
メンツ・インコーポレイテッド（ＮｉｃｏｍｐＩｎｓｔ
ｒｕｍｅｎｔｓＩｎｃ．）社製のＮＩＣＯＭＰＭＯ
ＤＥＬ２７０ＳＵＢＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣＬ
ＥＳＩＺＥＲにより求められる全粒子の５０重量％
の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００４６】（３）フイルムの表面粗さ（中心線平均粗
さ：Ｒａ）中心線平均粗さ（Ｒａ）はＪＩＳ―Ｂ６０１に準じて測
定する。本発明では（株）小坂研究所の触針式表面粗さ
計（SURFCORDER SE,30C ）を用い、次の条件で測定して
求める。（ａ）触針先端半径：２μｍ（ｂ）測定圧力：３０ｍｇ（ｃ）カットオフ：０．０８ｍｍ（ｄ）測定長：８．０ｍｍ（ｅ）データのまとめ方：同一試料について６回繰り返
し測定し、最も大きい値を１つ除き、残り５つのデータ
を用いて平均値として中心線平均粗さ（Ｒａ）を求め
る。

【００４７】（４）粒子突起の個数ＳＥＭ（走査電子顕微鏡、日本電子製Ｔ―３００型）を
使用して、積層フイルムの表面を倍率３万倍、角度０°
で２０枚写真撮影して、粒状突起の数をカウントし、そ
の平均値を面積換算により個／ｍｍ²当たりの突起個数
として算出する。

【００４８】（５）転写異物張力：１．７×１０⁶ｋｇ／ｍ²、接圧１．５×１０⁷
ｋｇ／ｍ²の条件で幅３００ｍｍ×５０００ｍのサイズ
のスリットを行ったフイルムロールを１０^-5ｔｏｒｒ×
３時間条件の真空下において、フイルム間の空気をぬい
てフイルムを密着させた後、ロールを切り開いて、巻芯
部のポリエステルフイルムをサンプリングし、ポリエス
テルフイルムの皮膜層の表面に真空蒸着法により傾斜角
４５°の角度から０．２μｍの厚みになるようにアルミ
ニウム薄膜を形成し、透過顕微鏡にて倍率４０００倍で
１ｃｍ²を走査観察し、突起の影による非蒸着部の最大
長さ（突起高さに相当）が０．２ｍｍ以上の透過光の個
数をカウントする。（即ち、高さが０．２ｍｍ／４００
＝０．５μｍ以上の粗大な転写異物頻度をカウント。）

【００４９】尚、評価は下記基準で実施する。 ○：２０個／ｃｍ²未満 Δ：２０個／ｃｍ²以上、５０個／ｃｍ²未満 ×：５０個以上／ｃｍ²

【００５０】（６）ジエチレングリコール（ＤＥＧ）の
含有量抱水ヒドラジンを用いてポリマーを分解し、ガスクロマ
トグラフィーにより定量した。ガスクロマトグラフィー
には日立製作所製２６３―７０型を用いた。

【００５１】（７）ヤング率フイルムを試料巾１０ｍｍ、長さ１５ｃｍに切り、チャ
ック間１００ｍｍにして引張速度１０ｍｍ／分、チャー
ト速度５００ｍｍ／分にインストロンタイプの万能引張
試験装置にて引張る。得られた荷重―伸び曲線の立上り
部の接線よりヤング率を計算する。

【００５２】（８）折り目デラミ白化幅４０ｍｍ×４０ｍｍの大きさにフイルムを切り出し、手
で軽く２つに折ながら平坦な一対の金属板ではさんだ
後、プレス機により所定の圧力１０（ｋｇｆ／ｃｍ²）
で２０秒間プレスする。プレス後２つ折のフイルムを手
でもとの状態に戻し、圧力４（ｋｇｆ／ｃｍ²）で２０
秒間プレスする。その後サンプルを取り出し、折り目に
現れた白化部分の幅（μｍ）を測定し最大値と最小値の
平均値を折り目デラミ白化幅とする。

【００５３】この値をフイルムのデラミネーション（層
間剥離）の起こり易さを示す指標として使用する。この
値が小さいほどデラミネーションの起こりにくいことを
示す。

【００５４】尚評価は下記基準で実施する。 ○；デラミ白化幅３０μｍ未満 △；デラミ白化幅３０μｍ以上、３５μｍ未満 ×；デラミ白化幅３５μｍ以上

【００５５】（９）磁気テープの製造及び特性評価皮膜層の表面に、真空蒸着法により、コバルト１００％
の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みになるように２層
（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表面にダイアモン
ドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含フッ素カルボン
酸系潤滑層を順次設け、更に皮膜層Ｂの表面に下記組成
のバックコート層を塗布し、乾燥して設ける。

【００５６】乾燥後のバックコート層の厚みは０．８μ
ｍとする。バックコート層組成：カーボンブラック１００部熱可塑性ポリウレタン６０部イソシアネート化合物１８部（日本ポリウレタン工業社製コロネートＬ）シリコーンオイル０．５部メチルエチルケトン２５０部

【００５７】その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８
ｍｍビデオカセットにローディングする。次いで、以下
の市販の機器を用いてテープの特性を測定する。使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ
―６０００Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター

【００５８】Ｃ／Ｎ測定記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。 ○ ：０ｄＢ以上 △ ：−３以上、０ｄＢ未満 × ：−３ｄＢ未満

【００５９】ドロップアウト（Ｄ／Ｏ）測定ドロップアウトカウンターを用いて、１５μｓ／１８ｄ
Ｂにて１分間当たりの個数を測定する。 ○ ：２０個／分未満 △ ：２０〜５０個／分、２０個／分以上、５０個／分
未満 × ：５０個以上／分

【００６０】走行耐久性４０℃、８０％ＲＨで、テープ、走行速度８５ｃｍ／分
で記録再生を５００回繰り返した後のＣ／Ｎを測定し、
初期値からのずれを次の基準で判定する。 ◎ ：初期値に対して＋０．０ｄＢ以上 ○ ：初期値に対して−１．０ｄＢ以上、＋０．０ｄＢ
未満 × ：初期値に対して−１．０ｄＢ未満

【００６１】［実施例１］ナフタレン―２，６―ジカル
ボン酸ジメチル９９部、イソフタル酸ジメチル０．８部
（全ジカルボン酸成分の総量に対して１モル％）および
エチレングリコール６０部を、エステル交換触媒として
酢酸マンガン４水塩０．０３部を使用し、常法に従って
エステル交換反応させた後、トリメチルフォスフェート
０．２３部を添加し実質的にエステル交換反応を終了さ
せた。

【００６２】ついで三酸化アンチモン０．０２４部を添
加し、引き続き高温、高真空化で常法にて重合反応を行
い、固有粘度０．６１ｄｌ／ｇ、ＤＥＧ共重合量１．１
モル％のポリエチレン―２，６―ナフタレート共重合体
を得た。

【００６３】このポリエチレン―２，６―ナフタレート
共重合体のペレットを１７０℃で６時間乾燥後、押出し
機ホッパーに供給し、溶融温度３１０℃で溶融し、１ｍ
ｍのスリット状ダイを通して表面温度６０℃の回転冷却
ドラム上に押出し、未延伸フイルムを得た。このように
して得られた未延伸フイルムを１２０℃にて予熱し、さ
らに低速、高速のロール間で１５ｍｍ上方より９００℃
のＩＲヒーターにて加熱して縦方向に４．７５倍に延伸
し、続いて下記に示す組成の水溶性塗液をそれぞれフイ
ルムに塗布し、続いてステンターに供給し、１４０℃に
て横方向に４．８倍に延伸した。得られた二軸配向フイ
ルムを２００℃の温度で５秒間熱固定し、１９０℃の温
度で幅方向に０．５％弛緩させ、厚み７．５μｍの二軸
配向フイルムを得た。この結果を表１に示す。

【００６４】塗布層（磁性層形成面）・樹脂；共重合ポリエステル（テレフタル酸／イソフタ
ル酸／５―ナトリウムスルホイソフタル酸／／エチレン
グリコール／ビスフェノールＡ・プロピオンオキサイド
２モル付加体＝９７／１／２／／６０／４０）８０部・不活性粒子；アクリル粒子（平均粒径４０ｎｍ）５部・界面活性剤；日本油脂製イニオンＮＳ―２４０１５
部・厚み（乾燥後）；１０ｎｍ塗布層Ｂ（もう一方の面）・樹脂；高松油脂製アクリル変性ポリエステルＳＨ５
５１Ａ７０部・不活性粒子；シリカ粒子（平均粒径６０ｎｍ）２０部・界面活性剤；日本油脂製ノニオンＮＳ―２０８．５
１０部・厚み（乾燥後）；３０ｎｍ

【００６５】［実施例２］イソフタル酸ジメチルの共重
合量と、ポリエチレン―２，６―ナフタレート共重合体
の含有粒子と、皮膜層の含有粒子を表１のように変更す
る以外は実施例１と同様に行い二軸配向フイルムを得
た。この結果を表１に示す。

【００６６】［実施例３］イソフタル酸ジメチルの共重
合量と、縦、横方向の延伸倍率と、皮膜層の樹脂、含有
粒子を表１のように変更する以外はすべて実施例１と同
様に行い二軸配向フイルムを得た。この結果を表１示
す。

【００６７】［実施例４］表１に示す２種類のポリエチ
レン―２，６―ナフタレート共重合体をそれぞれ１７０
℃で６時間乾燥後、２台の押出機を用いて温度３１０℃
で溶融し、１ｍｍのスリット状のマルチマニホールド型
共押出ダイを用いて、ポリマーＡ；ポリマーＢ＝５：１
になるように積層し、皮膜層の樹脂を表１のように変更
する以外は実施例１と同様に行い二軸配向フイルムを得
た。この結果を表１に示す。

【００６８】［比較例１］イソフタル酸ジメチルを共重
合しない以外はすべて実施例１と同様に行い二軸配向フ
イルムを得た。この結果を表１に示す。

【００６９】［比較例２］イソフタル酸ジメチルのかわ
りにジメチルテレフタレートを１ｍｏｌ％共重合する以
外はすべて実施例１と同様に行い二軸配向フイルムを得
た。この結果を表１に示す。

【００７０】［比較例３］ジエチレングリコール（ＤＥ
Ｇ）を２．５部添加する以外はすべて実施例１と同様に
行い二軸配向フイルムを得た。この結果を表１に示す。

【００７１】［比較例４］皮膜層の突起頻度を表１のよ
うに変更する以外はすべて実施例１と同様に行い二軸配
向フイルムを得た。この結果を表１に示す。

【００７２】［比較例５］ポリエチレン―２，６―ナフ
タレート共重合体の含有粒子を表１のように変更する以
外は実施例１と同様に行い二軸配向フイルムを得た。こ
の結果を表１に示す。

【００７３】

【表１】

【００７４】

【発明の効果】本発明によれば、従来のポリエチレン―
２，６―ナフタレートフイルムの持つ問題点を解決し、
高い弾性率を保持しつつ、耐デラミネーション性の改善
された磁気記録媒体用ポリエチレン―２，６―ナフタレ
ートを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 9:00 (72)発明者大澤利文神奈川県相模原市小山３丁目37番19号帝人株式会社相模原研究センター内Ｆターム(参考） 4F100 AA20C AA20H AK01B AK25B AK25H AK41A AK41B AK41C AK41D AK41J AL06C AR00E BA03 BA04 BA05 BA06 BA07 BA10A BA10B BA10C BA10E BA13 CC01B DD07 DE01B DE01C DE01H EH20 EJ38A EJ38D GB41 JB09B JG06E JK07 JK15 JM01B YY00 YY00B YY00H 4F210 AA26E AB11 AB17 AB19 AG01 AG03 AH38 QC06 QD08 QG01 QW07 4J029 AA03 AB04 AB07 AC02 AE03 AE11 AE12 AE18 BA02 BA03 BA04 BA05 BA08 BA10 BB06A BD07A BF09 BF18 BF25 BF26 BH02 CA02 CA04 CA06 CB04A CB05A CB06A CB10A CC06A CD03 CH07 EB05A FC03 FC05 FC16 FC35 FC36 HA01 HB01 HB03A HB06 JA093 JA123 JA203 JA293 JE053 JE182 JE223 JF143 JF163 JF223 JF323 KH01 KH08 5D006 CB01 CB05 CB07 CB08 FA00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】２，６―ナフタレンジカルボン酸を主た
るジカルボン酸成分とし、エチレングリコールを主たる
グリコール成分とし、共重合成分としてイソフタル酸成
分を０．１〜１０モル％（全ジカルボン成分の総量に対
し）有し、かつジエチレングリコール成分の含有量が３
モル％（全グリコール成分の総量に対し）以下である共
重合ポリエチレン―２，６―ナフタレートからなる二軸
配向フイルムの少なくとも片面に皮膜層が形成されてお
り、該皮膜層は平均粒径が５〜１００ｎｍの不活性粒子
を含む水溶性樹脂又は水分散性樹脂からなる塗膜であ
り、該不活性粒子に起因して表面１×１０⁶〜１×１０
⁹個／ｍｍ²の突起を有し、かつ該皮膜表面の中心線平
均粗さが０．１〜２ｎｍであることを特徴とする磁気記
録媒体用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレート
フイルム。
【請求項２】皮膜層を形成する水溶性樹脂又は水分散
性樹脂がアクリル樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリル
―ポリエステル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも
一種の樹脂からなる請求項１記載の磁気記録媒体用二軸
配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルム。
【請求項３】二軸配向フイルム中に含まれる不活性粒
子が、平均粒径が２００ｎｍ以下で、その含有量が０〜
０．１重量％である請求項１記載の磁気記録媒体用二軸
配向ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルム。
【請求項４】二軸配向フイルムがＡ層及びＢ層の少な
くとも２層以上の共押出層から構成されるフイルムであ
って、該Ａ層が他の層に接しない側に皮膜層を有する請
求項１記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエチレン―
２，６―ナフタレートフイルム。
【請求項５】Ｂ層が２，６―ナフタレンジカルボン酸
を主たるジカルボン酸成分とし、エチレングリコールを
主たるグリコール成分とし、共重合成分としてイソフタ
ル酸成分を０．１〜１０モル％（全ジカルボン酸成分の
総量に対し）有し、かつジエチレングリコール成分の含
有量が３モル％（全グリコール成分の総量に対し）以下
である共重合ポリエチレン―２，６―ナフタレートから
なる請求項４記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエチレ
ン―２，６―ナフタレートフイルム。
【請求項６】フイルムの横方向のヤング率が６．９Ｇ
ｐａ以上、且つ縦、横方向のヤング率の和が１２．７Ｇ
Ｐａ以上である請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁
気記録媒体用二軸配向ポリエチレン―２，６―ナフタレ
ートフイルム。
【請求項７】請求項１記載の磁気記録媒体用二軸配向
ポリエチレン―２，６―ナフタレートフイルムの皮膜層
の上に磁気記録層を設けてなる磁気記録媒体。