[go: up one dir, main page]

FI122616B - Förstärkt konstruktionsmodul och förfarande för tillverkning därav - Google Patents

Förstärkt konstruktionsmodul och förfarande för tillverkning därav Download PDF

Info

Publication number
FI122616B
FI122616B FI20105096A FI20105096A FI122616B FI 122616 B FI122616 B FI 122616B FI 20105096 A FI20105096 A FI 20105096A FI 20105096 A FI20105096 A FI 20105096A FI 122616 B FI122616 B FI 122616B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
module
substrate
coating
space
glass substrate
Prior art date
Application number
FI20105096A
Other languages
English (en)
Finnish (fi)
Other versions
FI20105096A0 (sv
FI20105096L (sv
Inventor
Arto Pakkala
Matti Putkonen
Olli Jylhae
Original Assignee
Beneq Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beneq Oy filed Critical Beneq Oy
Publication of FI20105096A0 publication Critical patent/FI20105096A0/sv
Priority to FI20105096A priority Critical patent/FI122616B/sv
Priority to TW100102412A priority patent/TW201213984A/zh
Priority to EA201290729A priority patent/EA201290729A1/ru
Priority to EP11739440.3A priority patent/EP2531885A4/en
Priority to US13/576,590 priority patent/US8780314B2/en
Priority to CN201180007993.XA priority patent/CN102770801B/zh
Priority to PCT/FI2011/050073 priority patent/WO2011095681A1/en
Priority to KR1020127022924A priority patent/KR20120115566A/ko
Publication of FI20105096L publication Critical patent/FI20105096L/sv
Application granted granted Critical
Publication of FI122616B publication Critical patent/FI122616B/sv

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45555—Atomic layer deposition [ALD] applied in non-semiconductor technology
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
    • C03C27/10—Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of adhesive specially adapted for that purpose
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133308—Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133308—Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
    • G02F1/133311—Environmental protection, e.g. against dust or humidity
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10H—INORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00—Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/80—Constructional details
    • H10H20/85—Packages
    • H10H20/852—Encapsulations
    • H10H20/853—Encapsulations characterised by their shape
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/214—Al2O3
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements
    • G02F2201/503—Arrangements improving the resistance to shock

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Ecology (AREA)
  • Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Claims (25)

1. Förstärkt konstruktionsmodul (2), inne-fattande ett väsentligt plant glassubstrat (1), ett väsentligt plant andra substrat (3) och ätminstone ett 5 mellanläggselement (5) mellan glassubstratet (1) och det andra substratet (3) i beröring med glassubstra-tets (1) plana yta och med det andra substratets (3) plana yta, vilket ätminstone ena mellanläggselement (5) halier glassubstratet (1) och det andra substratet 10 (3) skilt frän varandra vid dessa tvä substrats kanter och avgränsar ett utrymme (7) mellan dessa tvä substrat innanför modulen (2), kännetecknad av att modulen (2) innefattar en ytbeläggning (9), som omger modulen (2) omkring modulens (2) utsida, vilken 15 ytbeläggning (9) är anordnad längs ytan pä glassubstratet (1), det andra substratet (3) och det ät minstone ena mellanläggselementet (5) , pä ytorna rik-tade mot modulens (2) utsida, för att öka modulens (2) styrka. 20
2 . Modul (2) enligt patentkrav 1, kän netecknad av att utrymmet (7) mellan de tvä substraten är ett slutet utrymme.
3. Modul (2) enligt nägot av patentkraven 1-2, kännetecknad av att ytbeläggningen (9) är 25 en enhetlig tunnfilm.
^ 4. Modul (2) enligt nägot av patentkraven 1 o -3, kännetecknad av att det andra substra- c\j ^ tet (3) bestär av glas. o co
5. Modul (2) enligt nägot av patentkraven 1 o x 30 - 4, kännetecknad av att modulen (2) är en cc modul (2) i en flat panelskärm. co
6. Modul (2) enligt nägot av patentkraven 1 io ° -5, kännetecknad av att utrymmet (7) mellan ^ tvä substrat innefattar flytkristaller, som lämpar sig 35 för en flytkristallskärm.
7. Modul (2) enligt nägot av patentkraven 1 - 6, kännetecknad av att ätminstone ett mel-lanläggselement (5) sluter ett utrymme (7) för att förhindra ett gasflöde frän modulens (2) utsida tili 5 modulens (2) insida.
8. Modul (2) enligt nägot av patentkraven 1 - 7, kännetecknad av att mellanläggselementets (5) material valts i gruppen bestäende av epoxyhart-ser, elastomerer och glassmältor.
9. Modul (2) enligt nägot av patentkraven 1 - 8, kännetecknad av att det väsentligt plana glassubstratet (1) är i genomsnitt tunnare an 1,5 millimeter .
10. Modul (2) enligt nägot av patentkraven 1 15 -9, kännetecknad av att ytbeläggningens (9) tjocklek är under 50 nanometer.
11. Förfarande för att tillverka en förstärkt konstruktionsmodul (2), vilken modul innefattar ett väsentligt plant glassubstrat (1), ett väsentligt 20 plant andra substrat (3) och ätminstone ett mellan-läggselement (5) , vilket förfarande innefattar anord-nandet av det ätminstone ena mellanläggselementet (5) mellan det väsentligt plana glassubstratet (1) och det väsentligt plana andra substratet (3) i beröring med 25 glassubstratets (1) plana yta och det andra substra-tets (3) plana yta, vilket ätminstone ena mellanlägg-o selement (5) häller glassubstratet (1) och det andra CVJ ^ substratet skilt frän varandra vid dessa tvä substrats o ^ kanter och avgränsar ett utrymme (7) mellan dessa tva ° 30 substrat innanför modulen (2) , kännetecknat X £ av att förfarandet innefattar - utformning av en ytbeläggning (9), som om-o g ger modulen (2) omkring modulens (2) utsida, δ längs ytan pä glassubstratet (1) , det andra CM 35 substratet (3) och det ätminstone ena mellan- läggselementet (5), pä ytorna riktade mot mo-dulens utsida, för att öka modulens styrka.
12. Förfarande enligt patentkrav 11, k ä n -netecknat av att utrymmet (7) mellan de tvä 5 substraten är ett slutet utryirane.
13. Förfarande enligt nägot av patentkraven 11 - 12, kännetecknad av att ytbeläggningen (9) är en enhetlig tunnfilm.
14. Förfarande enligt nägot av patentkraven 10 11 - 13, kännetecknat av att utformningen av ytbeläggningen (9) innefattar att deponera en enhetlig film längs ytan pä ytorna riktade mot modulens utsida.
15. Förfarande enligt nägot av patentkraven 15 11 - 14, kännetecknat av att utformningen av ytbeläggningen (9) innefattar - att föra en första prekursor tili ett re- aktionsrum, sä att ätminstone en del av den första prekursorn adsorberas i ytorna riktade mot modulens 20 utsida, och att därefter rengöra reaktionsrummet, och - att föra en andra prekursor tili ett reakt-ionsrum, sä att ätminstone en del av den andra prekursorn reagerar med den adsorberade delen av den första prekursorn, och att därefter rengöra reakt- 25 ionsrummet. OJ o
16· Förfarande enligt nägot av patentkraven CVJ 11 - 15, kännetecknat av att utformningen av ytbeläggningen innefattar att deponera en ytbe-oo ° läggning (9) med en process av typ atomskiktsbelägg- ί 30 ning (Atomic Layer Deposition, ALD).
^ 17. Förfarande enligt nägot av patentkraven S 11 - 16, kännetecknat av att det andra sub- O o stratet (3) bestär av glas. CM
18. Förfarande enligt nägot av patentkraven 11 - 17, kännetecknat av att modulen (2) är en modul i en flat panelskärm.
19. Förfarande enligt nägot av patentkraven 5 11 - 18, kännetecknat av att utrymmet (7) mellan tvä substrat innefattar flytkristaller, som lämpar sig för en flytkristallskärm.
20. Förfarande enligt nägot av patentkraven 11 - 19, kännetecknat av att det ätminstone 10 ena mellanläggselementet (5) sluter ett utrymme (7) för att förhindra ett glasflöde frän modulens (2) ut-sida tili modulens (2) insida.
21. Förfarande enligt nägot av patentkraven 11 - 20, kännetecknat av att mellan- 15 läggselementets (5) material valts i gruppen bestä-ende av epoxyhartser, elastomerer och glassmältor.
22. Förfarande enligt nägot av patentkraven 11 - 21, kännetecknat av att det väsentligt plana glassubstratet (1) är i genomsnitt tunnare än 20 1,5 millimeter.
23. Förfarande enligt nägot av patentkraven 11 - 22, kännetecknat av att ytbeläggning-ens (9) tjocklek är under 50 nanometer.
24. Förfarande enligt patentkraven 11, 25 kännetecknat av att förfarandet används för cvj 1- att trllverka en modul (2) för en bildskärm. o (M ,1
25. Användning av en modul (2) enligt patent ee 1 krav 1 l en bildskräm. co o X en CL CD O) o m o δ (M
FI20105096A 2010-02-02 2010-02-02 Förstärkt konstruktionsmodul och förfarande för tillverkning därav FI122616B (sv)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20105096A FI122616B (sv) 2010-02-02 2010-02-02 Förstärkt konstruktionsmodul och förfarande för tillverkning därav
TW100102412A TW201213984A (en) 2010-02-02 2011-01-24 Strengthened structural module and method of fabrication
US13/576,590 US8780314B2 (en) 2010-02-02 2011-01-31 Strengthened structural module and method of fabrication
EP11739440.3A EP2531885A4 (en) 2010-02-02 2011-01-31 REINFORCED STRUCTURE MODULE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
EA201290729A EA201290729A1 (ru) 2010-02-02 2011-01-31 Упрочненный конструкционный модуль и способ его изготовления
CN201180007993.XA CN102770801B (zh) 2010-02-02 2011-01-31 强化结构模件和制造方法
PCT/FI2011/050073 WO2011095681A1 (en) 2010-02-02 2011-01-31 Strengthened structural module and method of fabrication
KR1020127022924A KR20120115566A (ko) 2010-02-02 2011-01-31 보강 구조 모듈 및 제조방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20105096A FI122616B (sv) 2010-02-02 2010-02-02 Förstärkt konstruktionsmodul och förfarande för tillverkning därav
FI20105096 2010-02-02

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI20105096A0 FI20105096A0 (sv) 2010-02-02
FI20105096L FI20105096L (sv) 2011-08-03
FI122616B true FI122616B (sv) 2012-04-30

Family

ID=41727645

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20105096A FI122616B (sv) 2010-02-02 2010-02-02 Förstärkt konstruktionsmodul och förfarande för tillverkning därav

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8780314B2 (sv)
EP (1) EP2531885A4 (sv)
KR (1) KR20120115566A (sv)
CN (1) CN102770801B (sv)
EA (1) EA201290729A1 (sv)
FI (1) FI122616B (sv)
TW (1) TW201213984A (sv)
WO (1) WO2011095681A1 (sv)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102468307A (zh) * 2010-11-15 2012-05-23 联建(中国)科技有限公司 基板模组、显示面板以及触控面板
JP6361327B2 (ja) 2014-07-02 2018-07-25 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置、及び電子機器
US20160376705A1 (en) * 2015-06-25 2016-12-29 The Regents Of The University Of California Method for optical coating of large scale substrates

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI57975C (fi) 1979-02-28 1980-11-10 Lohja Ab Oy Foerfarande och anordning vid uppbyggande av tunna foereningshinnor
US4389973A (en) 1980-03-18 1983-06-28 Oy Lohja Ab Apparatus for performing growth of compound thin films
US6174377B1 (en) 1997-03-03 2001-01-16 Genus, Inc. Processing chamber for atomic layer deposition processes
US6689626B2 (en) 1998-07-20 2004-02-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. Flexible substrate
FI118014B (sv) 2000-10-23 2007-05-31 Asm Int Förfarande för framställning av aluminiumoxidtunnfilmer vid låga temperaturer
US6926572B2 (en) * 2002-01-25 2005-08-09 Electronics And Telecommunications Research Institute Flat panel display device and method of forming passivation film in the flat panel display device
US6887521B2 (en) * 2002-08-15 2005-05-03 Micron Technology, Inc. Gas delivery system for pulsed-type deposition processes used in the manufacturing of micro-devices
KR100641793B1 (ko) * 2002-12-26 2006-11-02 샤프 가부시키가이샤 표시패널 및 그 제조방법
US20110043742A1 (en) * 2003-02-21 2011-02-24 Cavanaugh Shanti A Contamination prevention in liquid crystal cells
WO2004105149A1 (en) 2003-05-16 2004-12-02 E.I. Dupont De Nemours And Company Barrier films for plastic substrates fabricated by atomic layer deposition
US20060284556A1 (en) 2003-11-12 2006-12-21 Tremel James D Electronic devices and a method for encapsulating electronic devices
KR100700000B1 (ko) * 2004-10-19 2007-03-26 삼성에스디아이 주식회사 표시장치와 그 제조방법
US20080259268A1 (en) * 2007-04-12 2008-10-23 Fujifilm Corporation Process of producing substrate for liquid crystal display device
US7990060B2 (en) * 2007-05-31 2011-08-02 Lg Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and method of manufacturing the same
US20090079328A1 (en) 2007-09-26 2009-03-26 Fedorovskaya Elena A Thin film encapsulation containing zinc oxide
FI120832B (sv) * 2007-12-03 2010-03-31 Beneq Oy Förfarande för att förbättra hållfastheten hos en tunn glas
JP2010055918A (ja) * 2008-08-28 2010-03-11 Seiko Epson Corp 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器
WO2011112587A1 (en) * 2010-03-09 2011-09-15 First Solar, Inc. Deposition chamber cleaning system and method

Also Published As

Publication number Publication date
TW201213984A (en) 2012-04-01
CN102770801B (zh) 2015-11-25
EP2531885A1 (en) 2012-12-12
US20120307193A1 (en) 2012-12-06
FI20105096A0 (sv) 2010-02-02
WO2011095681A1 (en) 2011-08-11
CN102770801A (zh) 2012-11-07
US8780314B2 (en) 2014-07-15
FI20105096L (sv) 2011-08-03
KR20120115566A (ko) 2012-10-18
EA201290729A1 (ru) 2013-03-29
EP2531885A4 (en) 2014-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2502834C2 (ru) Способ и устройство для реакторов осаждения
EA022723B1 (ru) Многослойное покрытие, способ изготовления многослойного покрытия
US20140141218A1 (en) Laminate body, gas barrier film, method of manufacturing laminate body, and laminate body manufacturing apparatus
CN103025915B (zh) 低温合成二氧化硅
FI122616B (sv) Förstärkt konstruktionsmodul och förfarande för tillverkning därav
KR20150135341A (ko) 적층체 및 가스 배리어 필름
US10961622B2 (en) Gas barrier film and method of manufacturing the same
US20140335267A1 (en) Atomic layer deposition reactor for processing a batch of substrates and method thereof
EP3114248A1 (en) Atomic layer deposition of germanium or germanium oxide
CN106661727B (zh) 层叠体及其制造方法、以及阻气膜及其制造方法
CN104451600B (zh) 一种氧化铋薄膜材料的制备方法
TWI544098B (zh) 處理多層薄膜之方法
Chen et al. Spatial atomic layer deposition of ZnO/TiO2 nanolaminates
EP3237651B1 (en) Ald method and apparatus including a photon source
Li et al. Grain boundary engineering of polycrystalline metal–organic framework membranes for gas separation
CN110085764A (zh) 一种可拉伸有机光电器件的薄膜封装方法
Knez et al. Atomic layer deposition on biological macromolecules
JP6790445B2 (ja) ガスバリア性フィルム
Hegemann et al. Vertically Nanostructured Plasma Polymer Films Controlling Surface and Subsurface Functionality
JPS6054911A (ja) 紫外線カツト膜
JP2010126793A (ja) 成膜方法及び装置

Legal Events

Date Code Title Description
FG Patent granted

Ref document number: 122616

Country of ref document: FI

Kind code of ref document: B

MM Patent lapsed