DK160758B - Fremgangsmaade til fremstilling af en belaegning med lav emissionsevne paa et transparent substrat - Google Patents
Fremgangsmaade til fremstilling af en belaegning med lav emissionsevne paa et transparent substrat Download PDFInfo
- Publication number
- DK160758B DK160758B DK431483A DK431483A DK160758B DK 160758 B DK160758 B DK 160758B DK 431483 A DK431483 A DK 431483A DK 431483 A DK431483 A DK 431483A DK 160758 B DK160758 B DK 160758B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- layer
- cathode
- silver
- thickness
- oxide
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 19
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 100
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 100
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 99
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 65
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 64
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 43
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 42
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 41
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 36
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 34
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 claims description 24
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 24
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 23
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 22
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 6
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 silver metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 120
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 29
- 239000000047 product Substances 0.000 description 23
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 20
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 18
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- HFEFMUSTGZNOPY-UHFFFAOYSA-N OOOOOOOOOOOOOOOO Chemical compound OOOOOOOOOOOOOOOO HFEFMUSTGZNOPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 101150090724 3 gene Proteins 0.000 description 1
- SHXWCVYOXRDMCX-UHFFFAOYSA-N 3,4-methylenedioxymethamphetamine Chemical compound CNC(C)CC1=CC=C2OCOC2=C1 SHXWCVYOXRDMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000864 Auger spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100065885 Caenorhabditis elegans sec-15 gene Proteins 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000110847 Kochia Species 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEIHULKJZQTQKJ-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Ag] Chemical compound [Cu].[Ag] NEIHULKJZQTQKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000032900 absorption of visible light Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009628 steelmaking Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3615—Coatings of the type glass/metal/other inorganic layers, at least one layer being non-metallic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
- G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
DK 160758 B
i !
Den foreliggende opfindelse angår en fremgangsmåde til fremstilling af j . i en belægning med lav emissionsevne på et transparent substrat af glas-eller plastmateriale ved katodeforstøvning omfattende trinnene, at man eventuelt katodeforstøver et eller flere indre anti-reflekterende lag 5 på substratet, at der katodeforstøves et lag af sølv med en tykkelse på fra 5 til 30nm på substratet eller på det eller de eventuelle indre anti-reflekterende lag, og at man over sølvet ved katodeforstøvning påfører et eller flere ydre anti-reflekterende metaloxidlag.
10 Sølvbelægninger med lav emissionsevne er kendte og er blevet beskrevet for eksempel i UK patentskrift nr. 1.307.642. I dette patentskrift beskrives elektrisk ledende glasgenstande, der har et glassubstrat og en elektroledende belægning, og der specificeres anvendelse af mellemliggende lag, der ikke har mindre end 50% sølvindhold og som er 20-30 15 x 10"6mm tykke for således at tilvejebringe en specifik elektrisk modstand, der ikke er mere end 3D/kvadrat, og som er anbragt mellem et par ikke-absorberende dielektriske materialelag, der er tilvejebragt som anti-reflektionslag, der hvert er 7-55 x 10‘6mm tykke for således at forøge lystransmissionen gennem det belægningsbærende glas. Ifølge 20 dette patentskrift er det foreslået at anvende op til 10% chrom, nikkel, aluminium eller titanium eller op til 50% kobber i sølvlaget.
Anvendelse af kobber anføres at tilvejebringe en grå transmissionsfarve, hvilket ifølge patentskriftet ikke er let at opnå med en film, der i alt væsentligt er sammensat af sølv. Det anføres, at aflejringen af 25 sølv eller metaloxid kan udføres ved katodeforstøvning. For at danne et sølvlag, der indeholder et yderligere metal, vil der enten blive fordampet en sølvlegering eller metal elementerne fordampes samtidig under vakuum.
30 I US patentskrift nr. 4.166.876 er der beskrevet en belægning, der har et metallag som for eksempel sølv, guld, kobber, platin eller tin anbragt mellem to lag titaniumoxid på et plastsubstrat. I dette patentskrift angives det, at hvis det nedre titaniumoxidlag stammer fra en organisk titanforbindelse og indeholder organiske bestandele, så vil 35 bindingen til resinsubstratet blive forbedret mærkbart med en forbedring i den laminerede konstruktions gennemsigtighed. Ifølge beskrivelsen kan sølvlaget indeholde 1-30% kobber, hvilket reducerer belægningens tendens til at nedbrydes og gradvis miste sin lysreflekterende egenskab ved langvarig lyspåvirkning. Det kobberindeholdende sølvlag
DK 160758B
2 kan være aflejret ved en vakuumaflejring af en sølv-kobber legering.
I Europæisk patentskrift nr. 0 035 905 beskrives en belægning bestående af et sølvlag, der er anbragt mellem to lag metaloxid. Metaloxidla-5 gene kan være aflejret ved katodeforstøvning, ionplettering, vakuumaflejring eller fra opløsninger. I dette patentskrift angives, at et tyndt lag materiale, der valgt fra gruppen bestående af titanium, zirconium, silicium, indium, carbon, cobolt og nikkel, skal aflejres mellem sølvet og det overliggende metaloxidlag for således at forbedre 10 belægningens langtidsholdbarhed. I patentbeskrivelsen angives at materialet skal aflejres under betingelser, således at det såvidt muligt ikke omdannes til en oxid; og hvor et overliggende metallag er aflej-ret ved katodeforstøvning, udføres katodeforstøvningen ved anvendelse af en oxidkilde i en argonatmosfære, for derved så vidt muligt at for-15 hindre en oxidering af materialet.
Sølvbelægninger af den ovenfor beskrevne slags, det vil sige bestående af sølvlag, der er anbragt mellem anti-reflekterende metaloxidlag, har ikke alene en stor ledningsevne men udviser også· en lav emissionsevne, 20 det vil sige, de reflekterer en stor del infrarød stråling, som falder ind på dem, medens de tillader kortbølget infrarød stråling og synlig stråling at passere gennem. Anvendelse af sådanne belægninger på vinduesglas (eller plast anvendt i stedet for glas) medfører en reduktion i varmetab gennem vinduerne og med forøgede energiomkostninger bliver 25 det stadigt mere ønskeligt at reducere opvarmningomkostningerne. Når der er gjort forsøg på at fremstille en belægning bestående af et metal oxidlag ovenpå et sølvlag ved en reaktiv katodeforstøvningsproces under tilstedeværelse af oxygen, har det uheldigvis vist sig, at sølvlågets lave emissionsevneegenskaber blev tabt, og produktets lystrans-30 mission var væsentligt mindre end forventet.
Denne vanskelighed kan, ifølge den foreliggende opfindelse, overvindes ved at katodeforstøve en lille andel af et metal, der ikke er sølv, før metaloxidlaget, således at det yderligere metal hovedsagelig lig-35 ger over eller i den øverste del af sølvlaget.
Ifølge den foreliggende opfindelse er der tilvejebragt en fremgangsmåde af den i indledningen angivne art til fremstilling åf en belægning med lav emissionsevne på et transparent substrat af glas- eller plast- DK 160758 B ! 3 i materiale ved katodeforstøvning, hvilken fremgangsmåde er kendetegnet t ved, at mån på sølvet ved katodeforstøvning først aflejrer et eller flere andre metaller, der ikke er sølv, i en mængde, som svarer til et lag med en tykkelse på fra 0,5 til lOnm, og at man derefter udfører ; 5 aflejringen af det eller de nævnte ydre anti-reflekterende metaloxidlag ved reaktiv katodeforstøvning af et metal under tilstedeværelse af .
oxygen eller en oxiderende gas, hvorved metallet bliver oxideret til ; at danne det eller de nævnte ydre anti-reflekterende metaloxidlag. ' 10 Anvendelse af et yderligere metal ifølge den foreliggende opfindelse gør det muligt at katodeforstøve et eller flere anti-reflekterende i metaloxidlag reaktivt over et sølvlag under betingelser som, uden det ; yderligere metal, ville medføre væsentlige tab af produktets egenska- j ber til lav emissionsevne og høj lystransmission. Fremgangsmåden i føl- ; 15 ge den foreliggende opfindelse muliggør, på en effektiv og billig måde, i fremstillingen af belægninger med en emissionsevne på 0,2 eller mindre og en lystransmission på 70% eller mere. Substratet er almindeligvis vinduesgi as, og de foretrukne produkter har en emissionsevne på 0,1 ; eller mindre samt en lystransmission på mindst 75% og fortrinsvis 20 mindst 80%. ;
Det har vist sig, at katodeforstøvningen af en lille mængde af et el- ; ler flere andre metaller efter sølvet i alt væsentligt forhindrer den > kritiske forøgelse af emissionsevnen og reduktionen af lystransmissio- j 25 nen, som ellers ville optræde ved en efterfølgende aflejring af et j anti-reflekterende metaloxidlag ved en reaktiv katodeforstøvning. Når tilstrækkeligt yderligere metal er blevet aflejret, for at forhindre forøgelsen af emissionsevnen og medfølgende væsentlige tab af lystransmissionen, vil aflejring af yderligere metal desuden medføre en reduk-30 tion af belægningens lystransmission. Det er almindeligvis ønskeligt at bibeholde belægningens lystransmission så stor som mulig, og det foretrækkes derfor at anvende yderligere metal eller metaller, som netop er nødvendigt for at opretholde belægningens emissionsevne ved en værdi, der er <0,2, medens der opnås en belægning med den maksimalt 35 mulige lystransmission. Det antages, at den præcise mængde yderligere metal, der kræves for at give den ønskede optimale kombination af emissionsevne og lystransmission vil varierer med aflejringsbetingelserne, men at det er tilstrækkeligt at tilvejebringe et metallag fra 0,5-10nm tykkelse og fortrinsvis l-5nm tykkelse, idet det antages, at der ikke
DK 160758B
4 foregår nogen indbyrdes diffusion mellem det yderligere metal og det underliggende sølvlag eller det overliggende oxidlag. I hvert specielle tilfælde kan den optimale mængde yderligere metal, der skal anvendes, blive bestemt ved enkle forsøg, ved at følge angivelserne i denne 5 beskrivelse.
Det yderligere metal må selvfølgelig være et. metal, der er egnet til katodisk forstøvning. Det skal have et smeltepunkt over 50°C, være stabil i luft og være elektrisk ledende. De foretrukne metaller er 10 almindeligvis overgangsmetaller og metaller fra grupperne 3a til 5a i den periodiske tabel (således som de er fremstillet på side B-3 i Handbook of Chemistry and Physics, 50th edition, udgivet af The Chemical Rubber Co., Cleveland, Ohio) selv om andre metaller, som er stabile i luft, og som smelter over 50°C, og som er elektrisk ledende, 15 kan anvendes, hvis det ønskes.
Specielt gode resultater er blevet opnået ved, som yderligere metal, at anvende metaller, som i sig selv kan oxideres til at danne metaloxider, fortrinsvis farveløse oxider (det vil sige metaloxider, som ikke 20 absorberer lys i den synlige del af spektret), under den reaktive katodeforstøvning af det overliggende anti-reflekterende metaloxidlag, for eksempel aluminium, titanium og zirconium. Når der anvendes metaller, som bliver oxiderede til farveløse metaloxider vil en forøgelse af mængden af anvendt metal have en mindre effekt på produktets lys-25 transmission, end ved anvendelse af farvede metaller for eksempel kobber og guld, som ikke så let bliver oxideret. Et metals tendens til at danne en oxid afhænger af den frie energi ved dannelsen af metaloxidet. Bortset fra de overraskende gode resultater, der er opnået med kobber, som ikke oxideres let, er de bedst resultater blevet opnået ved anven-30 del se af metaller, hvis oxider har en standard fri energi ved dannelse, som er mere negativ end -100. OOOcal/ gram mol oxygen ved 0°C (for værdier af standardfri energi for oxiddannelse se f.eks. fig. 3.3 i "Thermochemistry for Steelmaking", Volume 1, 1960 af John F. Elliott and Molly Gieiser, udgivet af Addison-Wesley Publishing Company Inc).
35 Selv med metaller, som for eksempel titanium, der bliver oxideret til farveløse metaloxider, er det imidlertid almindeligvis foretrukket at anvende en metalmængde, som er tilstrækkelig til at tilvejebringe et metallag, der er mindre end 5nm tyk (idet det antages, at der ikke foregår oxidation og ingen indbyrdes diffussi on mellem metallet og s ι
DK 160758 B S
5 \ sølvlaget og det overliggende anti-reflekterende metaloxidlag) for således at maksimere produktets lystransmission. j
Andre eksempler på foretrukne metaller omfatter bismuth, indium, bly, i 5 mangan, jern, chrom, nikkel, cobolt, molybden, wolfram, platin, guld, ; vanadium og tantal samt legeringer af disse metaller for eksempel ; rustfrit stål (Fe/Cr/Ni) og messing (Cu/Zn).
Der er aflejret tilstrækkeligt sølv til at tilvejebringe et lag fra 10 5-30nm tykkelse. Almindeligvis gælder, at et tykkere sølvlag vil give ; lavere emissionsevne, men også lavere total lystransmission. Tykkelser t større end 20nm er almindeligvis kun nødvendige for elektrisk ledende i anvendelser, og for belægninger med lav emissionsevne anvendes almin- i deligvis et sølvlag, der er mindre end 20nm tykt fortrinsvis fra 8-15nm 15 tykt.
i
Det anti-reflekterende metaloxidlag over sølvlaget er fortrinsvis af et metaloxid med lav absorption af synligt lys, og kan for eksempel være tinoxid, titaniumoxid, zinkoxid, indiumoxid (valgfrit behandlet | 20 med tinoxid) bismuthoxid eller zirconiumoxid. Tinoxid, titaniumoxid og indiumoxid (valgfrit behandlet med tinoxid) bismuthoxid og zirconium- , oxid er fortrukket, da de, udover de anti-reflekterende egenskaber de ' tilvejebringer, også har en god holdbarhed og vil forsyne sølvlaget med nogen beskyttelse mod mekanisk skade. Tykkelsen af de anvendte j 25 anti-reflekterende lag vil afhænge af det specielle anvendte metaloxid j og farven at det ønskede produkt, men vil sædvanligvis i større!sesor- j denen 10-80nm fortrinsvis 20-60nm. Hvis det ønskes, kan der istedet for at anvende et enkelt metaloxidlag, anvendes en række af to eller flere lag af forskellige metaloxider med tilsvarende totaltykkel se, 30 det vil sige sædvanligvis 10-80nm og specielt 20-60nm.
Hvis det ønskes, kan et anti-reflektionslag katodeforstøves på glasset før sølvlaget, for således at forøge produktets lystransmission. Når et anti-reflekterende lag er aflejret under sølvlaget kan det hensigts-35 mæssigt være et metaloxidlag for eksempel et hvilket som helst af de ovenfor beskrevne metaloxider til brug som anti-reflekterende lag over sølvlaget. Dette underlag kan ikke alene tjene som et anti-reflekterende lag men også som et grunderlag for således at forbedre sølvlågets adhæsion til glasset. Det vil sædvanligvis have en tykkelse i større!-
DK 160758B
6 sesordenen 10-80nm navnlig 20-60nm, selv om den anvendte tykkelse i praktiske tilfælde vil afhænge af det valgte metaloxid og farve samt andre ønskede egenskaber ved produktet. Hvis det ønskes, kan der under sølvlaget anvendes en række af to eller flere anti-reflekterende lag 5 med en tilsvarende total tykkel se, det vil sædvanligvis sige 10-60nm og specielt 2Q-60nm.
Ifølge en foretrukken udførelsesform består opfindelsen i en fremgangsmåde til fremstilling af en belægning med lav emissionsevne på et 10 transparent glassubstrat ved katodeforstøvning omfattende trinnene, (a) hvor et anti-reflekterende lag af Sn02 med en tykkelse på 30 til 50nm aflejres på glassubstratet ved reaktiv katodeforstøvning af tin under tilstedeværelse af oxygen eller en oxiderende gas, (b) hvor et sølvlag med en tykkelse på 8-12nm katodeforstøves på det 15 anti-reflekterende lag, (c) hvor kobber i en mængde svarende til et kobberlag med en tykkelse på l-5nm katodeforstøves på sølvlaget, og (d) hvor der på den således dannede belægning, aflejres et anti-reflekterende lag af Sn02 med en tykkelse på 30-50nm ved reaktiv 20 katodeforstøvning af tin under tilstedeværelse af oxygen eller en oxiderende gas.
Den måde, hvorpå det yderligere metal, der er aflejret efter sølvlaget,, medvirker til at forhindre nedbrydning af belægningens egenskaber er 25 ikke klarlagt; en mulighed er, at det har en effekt ved at forhindre oxidation af sølvet ved en reaktiv katodeforstøvning af et overliggende anti-reflekterende metaloxidlag; alternativt kan det være, at sølvet, under oxideringstilstanden, der er anvendt til aflejring af metaloxidlaget, vil have en tendens til at agglomere, således at sølvla-30 get bliver diskontinueret, og at tilstedeværelsen af yderligere metal ved sølvlågets overflade forhindrer denne tendens. Imidlertid er det tilsyneladende ikke nødvendigt at foretage nogen tilsvarende trin til at forhindre oxygens angreb på sølvet i eventuelt underliggende anti-reflekterende metaloxidlag.
35
For store gennemgangsmængder kan fremgangsmåder til katodeforstøvning fremmes magnetisk og fremgangsmåden ifølge den foreliggende opfindelse er specielt anvendelig i fremgangsmåder, hvori metallet og metaloxidlagene aflejres ved magnetisk forstærket katodeforstøvning. Ved en 7
DK 160758 B
sådan magnetisk fremmet katodeforstøvning er betingelserne almindeligvis strengere og vil med større sandsynlighed medføre nedbrydning af sølvlaget end det er tilfældet i ikke-fremmede katodeforstøvningsprocesser.
5
En gennemgang af belægningerne, der er fremstillet ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, ved hjælp af Auger elektronspektroskopi har vist, at det yderligere metal snarere end at være aflejret oven på sølvlaget som et separat lag, kan være dispergeret gennem sølvlaget, selv om det 10 er koncentreret i den øverste del af sølvlaget, og kan strække sig over dets øvre flade. I visse tilfælde kan det være forbundet med yderligere oxygen, det vil sige, det, i det mindste delvis, kan være tilvejebragt, som et metaloxid.
15 I den foreliggende sammenhæng gælder de for lystransmission anførte værdier for lystransmission fra en C.I.E. C-belysningskilde. Værdierne for de anførte emissionsevneegenskaber er disse, som er opnået ved anvendelse af formlen,
20 re,B(X,T)dX
Emissionsevne, E * -
J>X,T)dX
hvor βλ - spektral emittans og Β(λ,Τ) = spektral energifordeling for et sort ^ legeme ved 300°K.
Opfindelsen bliver herefter illustreret af følgende eksempler: j
Eksempel 1 !
30 I
{ i
En 4mm tyk rude af flydeglas blev ved vaskning og tørring forberedt for belægning og blev anbragt på et række-DC-plant-magnetron-katode-forstøvningsapparat.
35
Tinoxid (SnO«) blev reaktivt katodeforstøvet på glasfladen fra en tin-
^ 3 I
katode under tilstedeværelse af en oxygenatmosfære ved 2,5 x 10" torr for således at give et tinoxidlag med en tykkelse på 40nm. Et sølvlag [
med en tykkelse på lOnm blev derefter fra en sølvkatode, katodeforstø- I
8
DK 160758 B
vet på tinoxidet under tilstedeværelse af en argonatmosfære ved 3 x _ 3 10 torr. Et yderligere lag tinoxid med en tykkelse på 40nm blev, fra en tinkatode, reaktivt katodeforstøvet på sølvlaget under tilstedevæ- _ 3 relse af en oxygenatmosfære ved 2,5 x 10 torr. Produktet viste sig 5 at have en lystransmission på 55% og en emissionsevne på 0,9.
Den ovenfor beskrevne fremgangsmåde blev gentaget med undtagelse af, at der, i overensstemmelse med opfindelsen, umiddelbart efter katodeforstøvningen af sølvlaget, fra en kobberkatode, blev katodeforstø- _ 3 10 vet kobber på sølvet under tilstedeværelse af argon ved 3 x 10 torr i en mængde, som svarer til et kobberlag med en tykkelse på l,6nm. Derefter blev det andet tinoxidlag, fra en tinkatode, reaktivt katodeforstøvet umiddelbart efter kobberet under tilstedeværelse af en oxy- _ 3 genatmosfære ved 2,5 x 10 torr i samme tidsrum og under samme betin-15 gelser som i det ovenfor beskrevne eksperiment. I dette tilfælde viste produktets lystransmission sig at være 79%. Det belægningsbærende produkts emissionsevne viste sig at være 0.06. Således er kobberets effekt, ved tilvejebringelse af et produkt med lav emissionsevne og med en stor lystransmission, tydelig.
20
Produktet, hvori kobberet var inkorporeret, blev analyseret ved Auger elektronspektroskopi, og resultatet er vist i fig. 1. Ved en Auger analyse rettes en elektronstråle (den primære stråde) mod overfladen, der skal analyseres, og elementerne, som er tilstede i overfladen, 25 bliver kendetegnede og kvantificerede ved at gennemgå energispektret for sekundære elektroner, der er emitteret fra overfladen. Overfladen atomlag fjernes derefter ved argonionætsning for at blotlægge underoverfladens atomer, som derefter karakteriseres og kvantificeres, som beskrevet ovenfor. Ætsning- og analysetrinene gentages for at opbygge 30 en profil af overfladelagenes sammensætning til den ønskede dybde (i dette tilfælde belægningens tykkelse). Katodeforstøvnings- eller ionætsningstiden, som er angivet langs den i fig. 1 viste x-akse, er et tilnærmelsesvis mål for dybden fra belægningens overflade, men da forskellige materialer fjernes ved forskellige hastigheder, er den ikke 35 liniært afhængigt med belægningens dybde. Koncentrationen af det fjernede materiale i atom% er angivet på y-aksen.
Det ses, at belægningens sammensætning ved belægningens overflade (det vil sige når fjernelse ved ætsning begynder) i alt væsentligt svarer 9
DK 160758 B
til SnO«. Spektret viser i midterområdet en betragtelig spidsværdi, *
^ I
som repræsenterer sølvlaget roed en meget lavere spidsværdi (indenfor ! sølvets spidsværdi) som repræsenterer kobberet, der er dispergeret i sølvlaget. Det bemærkes også, at den maksimale kobberkoncentration på 5 tilnærmelsesvis 20 atom% optræder efter et tidsforløb på 80sek og befinder sig indenfor den øvre halvdel af sølvlaget. Desuden ligger en mindre andel kobber tilsyneladende over sølvlaget, det vil sige kobberet er detekteret efter et tidsrum på 55sek, medens sølvet ikke er detekteret, før der er forløbet et tidsrum på 65sek. Det antages, at 10 tilstedeværelsen af en lille mængde kobber over sølvlaget er ønskeligt og medfører forbedrede egenskaber. Efter ca 95sek er materialet, som fjernes, overvejende Sn02· Efter ca 150 sek detekteres noget silicium, der antagelig stammer fra glasoverfladen.
15 Det bemærkes, at der er et signifikant overlap mellem de forskellige materialer, der er anvendt i processen. Det antages, at dette skyldes diffusion af ioner i belægningen, men da prøven blev forberedt på et række-katodeforstøvningsapparat med nærliggende katoder, som virkede samtidig, kan der have optrådt nogen overlapning ved aflejringen.
20
Eksempel 2
Fremgangsmåden, der er beskrevet ovenfor, inklusiv aflejringen af kobber, blev gentaget ved anvendelse af det samme katodeforstøvningstids-25 rura og -betingelser som ovenfor, men den aflejrede kobbermængde blev varieret. Når kobber blev katodeforstøvet i en mængde, som svarede til ‘ et kobberlag med en tykkelse på 3,2nm, havde slutproduktet en lystrans-mission på 75% og en emissionsevne på 0,16.
} 30 Når kobberet blev katodeforstøvet i en mængde svarende til et kobber- ' lag med en tykkelse på en l,0nm, viste produktet sig at have en lystransmission på 79% og en emissionsevne på 0,12.
Eksempel 3 35
En 4mm tyk rude af flydegi as blev ved vaskning og tørring forberedt for belægning og blev anbragt på et række-DC-plant-magnetron-katode-forstøvningsapparat.
10
DK 160758 B
Tinoxid blev reaktivt katodeforstøvet på glasfladen fra en tinkatode -3 under tilstedeværelse af en oxygenatmosfære ved 2,5 x 10 torr, for at give et tinoxidlag med en tykkelse på 30nm. Zinkoxid blev derefter reaktivt katodeforstøvet på tinoxidet under tilstedeværelse af en oxy- _3 5 genatmosfære ved 2,5 x 10 torr, for at give et tinoxidlag med en tykkelse på 15nm. Et sølvlag med en tykkelse på lOnm blev derefter fra en sølvkatode, katodeforstøvet på zinkoxidet under tilstedeværelse af _3 en argonatmosfære ved 3 x 10 torr, og kobber blev katodeforstøvet på sølvet fra en kobberkatode under tilstedeværelse af argon ved 2,5 x _ 3 10 10 torr og i en mængde svarende til et kobberlag med en tykkelse på 3,2nm. Endeligt blev lag af zinkoxid og tinoxid henholdsvis med en tykkelse på 15nm og 30nm fra metal katoder reaktivt katodeforstøvet, i denne rækkefølge, over kobberet under tilstedeværelse af oxygenatmos- _3 fære ved 2,5 x 10 torr. Det resulterende belægningsbærende produkt 15 viste sig at have en emissionsevne på 0,08 og en lystransmission på 80%.
Eksempel 4 20 En 4mm tyk rude af flydeglas blev ved vaskning og tørring forberedt for belægning og blev anbragt på et række-DC-plant-magnetron katodeforstøvningsapparat.
Tin og indium blev fra en katode omfattende 90vægt% indium og 10vægt% 25 tin reaktivt katodeforstøvet på glaspladen under tilstedeværelse af en _ 3 oxygenatmosfære ved 2,5 x 10 torr for at give et tinbehandlet indium-oxidlag med en tykkelse på 30nm. Et sølvlag med en tykkelse på lOnm blev derefter, fra en sølvkatode, katodeforstøvet på tinoxidet under _ 3 tilstedeværelse af en argonatmosfære ved 3 x 10 torr, og kobber blev, 30 fra en kobberkatode, katodeforstøvet på sølvet under tilstedeværelse _3 af argon ved 3,0 x 10 torr og i en mængde svarende til et kobberlag med en tykkelse på 3,2nm. Endeligt blev et andet anti-reflekterende lag af tinbehandlet indiumoxid med en tykkelse på 30nm, svarende til det første lag, reaktivt katodeforstøvet over kobberet. Det resulte-35 rende belægningsbærende produkt viste sig at have en emissionsevne på 0,1 og en lystransmission på 74%.
Eksempel 5 11
DK 160758 B
s
En 4mm tyk rude af fl ydegi as blev ved vaskn i ng og tørring forberedt for belægning og blev anbragt på et række-DC-plant-magnetron-katode-forstøvningsapparat.
5 Tinoxid blev, fra en tinkatode, reaktivt katodeforstøvet på glasfladen -3 under tilstedeværelse af en oxygen atmosfære ved 2,5 x 10 torr, for at give et tinoxidlag med en tykkelse på 40nm. Derefter blev titanium-oxid reaktivt katodeforstøvet på tinoxidet under tilstedeværelsen af 1 oxygenatomosfære ved 2,5 x 10" torr, for at give et titaniumoxidlag 10 med en tykkelse på lOnm. Et sølvlag med en tykkelse på lOnm blev derefter, fra en sølvkatode, katodeforstøvet på titaniumoxidet under til- _ 3 stedeværelse af en argonatmosfære ved 3 x 10 torr, og kobber blev katodeforstøvet på sølvet fra en kobberkatode under tilstedeværelse af 3 argon ved 3 x 10 torr og i en mængde svarende til et kobberlag med 15 en tykkelse på 3,2nm. Endeligt blev et lag af titaniumoxid og tinoxid med en tykkelse på henholdsvis lOnm og 40nm, fra metal katoder, reaktivt katodeforstøvet i denne rækkefølge over kobberet under tilstede- _ 3 værelse af oxygenatmosfærer ved 2,5 x 10 torr. Det resulterende belægningsbærende produkt viste sig at have en emissionsevne på 0,15 og 20 en lystransmission på 80%.
Eksempel 6
En 4mm tyk rude af flydegi as blev ved vaskning og tørring forberedt 25 for belægning og blev anbragt på et række-DC-plant-magnetron-katode-forstøvningsapparat.
Titaniumoxid blev, fra en titaniumkatode, reaktivt katodeforstøvet på _ 3 glasfladen under tilstedeværelse af en oxygenatmosfære ved 2,5 x 10 30 torr for at give et titaniumoxidlag med en tykkelse på 15nm. Derefter blev tinoxid reaktivt katodeforstøvet på titaniumoxidet under tilste- .3 i deværelse af en oxygenatmosfære ved 2,5 x 10 torr for at give et i tinoxidlag med en tykkelse på 40nm. Et sølvlag med en tykkelse på lOnm blev derefter, fra en sølvkatode, katodeforstøvet på tinoxidet under _ 3 35 tilstedeværelse af argonatmosfære ved 3 x 10 torr, og tin blev, fra en tinkatode, katodeforstøvet på sølvet under tilstedeværelse af argon _ 3 ved 3 x 10 torr og i en mængde svarende til et tinlag med en tykkelse på 3,5nm. Endelig blev lag af tinoxid og titaniumoxid med en tykkelse på henholdsvis 40nm og 15nm, fra metal katoder, reaktivt katode- 12
DK 160758 B
forstøvet i denne rækkefølge over tinnet under tilstedeværelse af oxy- _ 3 genatmosfærer ved 2,5 x 10 torr. Det resulterende belægningsbærende produkt viste sig at have en emissionsevne på 0,16 og en lystransmission 76%.
5
Eksempel 7-22
En 4mm tyk rude af flydeglas blev ved vaskning og tørring forberedt for belægning og blev anbragt på et række-DC-plant-magnetron-katode-10 forstøvningsapparat.
Tinoxid blev, fra en tinkatode, reaktivt katodeforstøvet på glasfladen under tilstedeværelse af en atmosfære med 20% argon og 80% oxygen ved _3 et tryk pa 6 x 10 torr, for at give et tinoxidlag med en tykkelse på 15 40nm. Et sølvlag med en tykkelse på lOnm blev derefter, fra en sølvka tode, katodeforstøvet på tinoxidet under tilstedeværelse af en argon- _ 3 atmosfære ved 6 x 10 torr, og rustfrit stål i en mængde svarende til et lag med en tykkelse på 3,5nm blev, fra en katode af rustfrit stål 316 (en legering af chrom, nikkel og jern), katodeforstøvet på sølvet -3 20 i en argon atmosfære ved 6 x 10 torr. Endeligt blev et lag af tinoxid, fra en tinkatode, reaktivt katodeforstøvet på glasfladen under tilstedeværelse af en atmosfære med 20% argon og 80% oxygen ved et _3 tryk på 6 x 10 torr, for at give et tinoxidlag med en tykkelse på 40nm. Det resulterende belægningsbærende produkt viste sig at have en 25 emissionsevne på 0,15 og en lystransmission på 80%.
Fremgangsmåden blev gentaget ved anvendelse af samme betingelser med forskellige metal katoder i stedet for katoden af rustfrit stål.
30 i hvert tilfælde viste det sig, at anvendelse af det yderligere metal medførte, at produktet bibeholdte sin lave emissionsevne og store lystransmission. Resultaterne er således som angivet i efterfølgende tabel .
35
DK 160758 B
13 i i
tO
C c os o i- *4— +J 10
««o &SsSsSS«&S6SSSSS6SSSSSaSaS&3»SSS SS
>>·Ρ- O N rt N 1-l4-OU)CMC0l"r<J)4-.-400t0 rH
—I E MtOWCOCOCOOOSlOODlONCOSSS lo 00
I CO) ΐΛΐΤ)ΙΤ)Γ-<ΟΟΟΓ^τ-ί^·ΓΟ^*Ι^.ΓΟΪ^^σ> CO
O C l“H «-Η »H pH o pH pH 0*J iH <Jh *-H r—H pH pH rH CQ
P" ·Ρ“" ^ »'»'Ρ'Ρ'ΛΛΛΛΛΛΙΝίνΛΛΛΡ* f« UJ 00 Q) oooooooooooooooo o -a I »i— 0 Si
4-> O
jx *- Εεεεεεεεεεεεεεεε ε Φ ni cccccccccccceccc c i— 4-ί
4- Cl) OOOOOtONWWNNNMNNN CM
1 Φ
•r- Ό CMCMCMCMCMCMCMCMCMCMCMCMCMCMCMCM CM
+JC OOOOOOOOOOOOOOOO o C Φ cececccccecEcccc c i ω cd εεεεεεεεεεεεεεεε c Φ T3 t- r— CCCCCECCCCCCCCCE <r- CO >5 CD rd i 4-3 it— cr> +-> iniiJLninwociNiOHScosO'tai 0) Cf— *(— φ Νζ -J^rtfr—ε COCOCOCOrOCO^i-OOOCMt-lcocMCOlOl^ o !—f •Γ- * *
Z O) CD · E
Φ C C SO 3 I &> I— J. ·γ— ·γ— r— 3 ·γ- ·ι— ·ι— >— ·ι— C ·ι— S- 0-0 3 -r-
S- Φ nj ΟΙ— M < U I- h 1— H- to C/) Z M Z O- < i "O
Φ CD +> \ CO (0 c -σ *r- Φ Φ ω Φ C T- >- I— E Ll. E E t-i
SS
o O' i σ æ r- εεεεεεεεεεεεεεεε ε «ο > ececcccccecceecc c >i ® s ooooomooocooooocMo o h“ to to I—H 1—4 t—4 4——4 rH f—4 1—4 rH l—H r—4 1—( 1—4 1—1 I—I 1—4 1—1 o εεεεεεεεεεεεεεεε ε I ·«“ eCCCCCCCCCCCCCCC Π Φ X .
+> O OOOOOVOCOCOCOI^t^.COOOCOCOVO CO ύί X i— 4-4-4-4-4-104-4-44-4-4-4-4-44- 4· c Φ Φ r— +J κι u- cu " 9 ε ^
0) S- lO
+j I tu m tO-ι-ΊΟ cmcmcmcmcmcmcmcmcmcmcmcmcmcmcmcm cm S- 4-> C oooooooooooooooo o Ό. C aj CCCCECCCCCCECCCC C S- LL. (0 S. W(/ll/)t/)MWWWWWMWl/)Wt/)W {/) 0)
.Q
-Q
to o CD .
ECO.
Φ E &S
* g C Φ U)
to ε CD to CO
•X O r—4 CM CO 4- CO CO r^r CO CD O i—t CM 4TJ -i- .X
laJ N CO CD 1—4 1—4 r—4 i—4 H r—4 1—4 r—4 t—4 r—4 CM CM CM C/) p— CJ 4C
14
DK 160758 B
Fig. 2 og 3 viser Auger spektre opnået ved analyse af produkter fra henholdsvis eksempel 8 og 10. De blev opnået på en måde, som svarer til det spektrum, der er vist i fig. 1 men ved anvendelse af langsommere ætsninger til at fjerne belægningerne.
5
Idet der først refereres til fig. 2 ses det, at sammensætning ved belægningens overflade stort set svarer til Sn02. Spektret viser i midterområdet en væsentlig sølvspidsværdi med en meget lavere spidsværdi, der repræsenterer titanium til venstre for sølvets spidsværdi. Imid-10 lertid bemærkes det, at titanium og sølv begge er detekteret efter samme ætsnings- eller katodeforstøvningtid på 200sek, hvilket, selv om titaniumskurven stiger hurtigere end sølvkurven, tyder på en blanding bestående af sølv, titanium og tin, som fra begyndelsen er mere rig på titanium end sølv, men som efter en ætsningstid på lidt over 250 sek 15 bliver mere rig på sølv end titanium. Titaniumet er således disperge-res ikke-ensartet i sølvet med den maksimale titaniumskoncentration i sølvet i sølvlågets øvre del. Det bemærkes også, at oxygenkoncentrationen aldrig falder under ca 30%, hvilket tyder på at titaniumet er tilstede som titaniumoxid (sandsynligvis titaniumdioxid). Efter ca.
20 320sek er næsten alt titaniumet blevet fjernet og belægningens sammensætning er overvejende tinoxid selv om der forbliver en væsentlig andel sølv (ca 20 atom%) Efterhånden som ætsningen fortsætte falder sølvkoncentrationen til 0 ved ca 380sek; den resterende del af belægningen svarer stort set til Sn02 indtil elementer fra giasoverflanden 25 detekteres efter en ætsningstid på tilnærmelsesvis 500sek.
Fig. 3 svarer til fig. 2, men i dette tilfælde er der detekteret yderligere metal (alumuminium) ved en ætsningstid på 120sek før sølvmetallet, Sølv detekteres først efter en ætsningstid på 150sek umiddelbart 30 før spidsværdien for aluminiumkoncentrationen er nået. Både sølv og aluminium er detekteret op til ætsningstid på 270sek, selv om belægningen efter ca 230sek overvejende består af tinoxid. Oxygenkoncentrationen viser en lille spidsværdi svarende til spidsværdien for aluminiumskoncentrationen og falder til et minimum på ca 15% i sølvlågets 35 midterområdet; dette tyder på, at aluminium er tilstede, i det mindste delvis, som aluminiumoxid.
Auger spektret, der er opnået ved analysen af produktet fra eksempel 7, svarede til de ovenfor beskrevne, idet det viste en oxygenspidsvær- DK 160758 B j 15 di svarende til spidsværdien for koncentrationen af yderligere metal.
Dette indikerer at, der var foregået en væsentlig oxidering af det rustfrie stål (spidsværdien for jernkoncentrationen blev observeret ved en ætsningstid på 170sek; ved spidsværdien for jernkoncentrationen 5 blev belægningens koncentration bestemt som 15 atom% jern, 7 atom% tin, 3 atom% sølv, 2 atom% nikkel og 73 atom% nikkel).
Eksemplerne 12 til 15 viser effekten af at forøge mængden af titanium anvendt som det yderligere metal. Det bemærkes, at når mængden af an-10 vendt titanium er større end den mængde, som svarer til et titaniums-1 ag med en tykkelse på 5nm, vil produktets lystransmission falde under 80%. På tilsvarende måde har andre anvendte metaller almindeligvis givet de bedste resultater, når de blev anvendt i mængder svarende til metallag med en tykkelse, som er mindre end 5nm. Bly og guld var und-15 tageiser og viste sig mest effektive, når de blev anvendt i mængder svarende til et metallag med en tykkelse på ca 6-8nm.
I den foreliggende beskrivelse og krav er mængden af det anvendte yderligere metal angivet udtrykt ved ækvivalent lagtykkelse, det vil 20 sige tykkelsen af det yderligere lag, som ville være dannet ved katodeforstøvning af samme mængde yderligere metal, idet det antages, at det yderligere metal ikke var oxideret, og der ikke optrådte nogen indbyrdes diffusion mellem det yderligere metal og det nærliggende ! sølv samt de anti-reflekterende metaloxidlag.
i 25 i i i
30 I
? j 35 i 4
•I
i i 3 4 l i
Claims (11)
1. Fremgangsmåde til fremstilling af en belægning med lav emissionsevne på et transparent substrat af glas- eller plastmateriale ved ka- 5 todeforstøvning omfattende trinnene, at man eventuelt katodeforstøver et eller flere indre anti-reflekterende lag på substratet, at der katodef orstøves et lag af sølv med en tykkelse på fra 5 til 30nm på substratet eller på det eller de eventuelle indre anti-reflekterende lag, og at man over sølvet ved katodeforstøvning påfører et eller flere 10 ydre anti-reflekterende metaloxidlag, kendetegnet ved, at man på sølvet ved katodeforstøvning først aflejrer et eller flere andre metaller, der ikke er sølv, i en mængde, som svarer til et lag med en tykkelse på fra 0,5 til lOnm, og at man derefter udfører aflejringen af det eller de nævnte ydre anti-reflekterende metaloxidlag ved reaktiv 15 katodeforstøvning af et metal under tilstedeværelse af oxygen eller en oxiderende gas, hvorved metallet bliver oxideret til at danne det eller de nævnte ydre anti-reflekterende metaloxidlag.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det el-20 ler de yderligere metaller er et metal, som danner et farveløst metaloxid ved den efterfølgende reaktive katodeforstøvning for aflejring af det eller de anti-reflekterende metaloxidlag.
3. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det 25 yderligere metal er aluminium eller kobber.
4. Fremgangsmåde ifølge krav 1-3, k e n d e t e g n e t ved, at det yderligere metal katodeforstøves på sølvet i en total mængde, der svarer til et lag med en tykkelse på fra 0,5 til lOnm, fortrinsvis på fra 30. til 5nm.
5. Fremgangsmåde ifølge krav 1-4, kendetegnet ved, at det katodeforstøvede sølvlag har en tykkelse på 8-15nm.
6. Fremgangsmåde ifølge krav 1-5, kendetegnet ved, at det eller de anti-reflekterende metaloxidlag er lag af tinoxid, titanium-oxid, indiumoxid (valgfrit behandlet med tinoxid), bismuthoxid eller zirconiumoxid. DK 160758 B j {
7. Fremgangsmåde ifølge krav 1-6, kendetegnet ved, at den totale tykkelse af det eller de anti-reflekterende metaloxidlag, der j ligger over sølvlaget, er fra 20-60nm. j i j
8. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at et eller flere eventuelle indre anti-reflekterende metaloxidlag, der katodefor- J støves på substratet før katodeforstøvningen af sølvlaget, er lag af tinoxid, titaniumoxid, indiumoxid (valgfrit behandlet med tinoxid), bismuthoxid eller zirconiumoxid. ! 10
9. Fremgangsmåde ifølge krav 1-8, k e n d e t e g n e t ved, at den ; i totale tykkelse af det eller de anti-reflekterende metallag, der er katodeforstøvet før sølvlaget, er fra 20-60nm.
10. Fremgangsmåde ifølge krav 1 til fremstilling af en belægning med lav emissionsevne på et transparent glassubstrat ved katodeforstøvning, k e n d e t e g n e t ved, at den omfatter trinnene, (a) at et anti-reflekterende lag af Sn02 med en tykkelse på 30 til 20 50nm aflejres på glassubstratet ved reaktiv katodeforstøvning af tin under tilstedeværelse af oxygen eller en oxiderende gas, (b) at et sølvlag med en tykkelse på 8-12nm katodeforstøves på det anti-reflekterende lag, (c) at kobber i en mængde svarende til et kobberlag med en tykkelse 25 på l-5nm katodeforstøves på sølvlaget, og (d) at der på den således dannede belægning aflejres et anti-reflekterende lag af Sn02 med en tykkelse på 30-50nm ved reaktiv katodeforstøvning af tin under tilstedeværelse af oxygen eller en oxiderende gas. 30
11. Fremgangsmåde ifølge krav 1-10, kendetegnet ved, at katodeforstøvningsprocesserne gennemføres under indvirkning af et magnetfelt. 35
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8226833 | 1982-09-21 | ||
GB8226833 | 1982-09-21 | ||
GB838320881A GB8320881D0 (en) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | Low emissivity coatings on transparent substrates |
GB8320881 | 1983-08-03 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DK431483D0 DK431483D0 (da) | 1983-09-21 |
DK431483A DK431483A (da) | 1984-03-22 |
DK160758B true DK160758B (da) | 1991-04-15 |
DK160758C DK160758C (da) | 1991-09-30 |
Family
ID=26283893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DK431483A DK160758C (da) | 1982-09-21 | 1983-09-21 | Fremgangsmaade til fremstilling af en belaegning med lav emissionsevne paa et transparent substrat |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4462883A (da) |
EP (1) | EP0104870B1 (da) |
AU (1) | AU554729B2 (da) |
CA (1) | CA1203197A (da) |
DE (2) | DE3375010D1 (da) |
DK (1) | DK160758C (da) |
FI (1) | FI77440B (da) |
GB (1) | GB2129831B (da) |
MX (1) | MX172033B (da) |
NO (1) | NO157212C (da) |
Families Citing this family (174)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3307661A1 (de) * | 1983-03-04 | 1984-09-06 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum herstellen von scheiben mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit hohem reflexionsverhalten fuer waermestrahlung |
DE3316548C2 (de) * | 1983-03-25 | 1985-01-17 | Flachglas AG, 8510 Fürth | Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates |
US4948677A (en) * | 1984-01-31 | 1990-08-14 | Ppg Industries, Inc. | High transmittance, low emissivity article and method of preparation |
US4622120A (en) * | 1984-01-31 | 1986-11-11 | Ppg Industries, Inc. | Sputtered indium oxide films |
DE3413587A1 (de) * | 1984-04-11 | 1985-10-17 | Flachglas AG, 8510 Fürth | Verfahren zum herstellen der zinndioxid-interferenzschicht (en) insbesondere von waermereflektierend beschichteten glasscheiben durch reaktive magnetron-zerstaeubung, zinntarget zu seiner durchfuehrung sowie mit einer danach hergestellten zinndioxidschicht versehene waermereflektierende glasscheibe |
US5009761A (en) * | 1984-09-24 | 1991-04-23 | Spafax Holdings Plc., | Method of producing an optical component, and components formed thereby |
US4610771A (en) * | 1984-10-29 | 1986-09-09 | Ppg Industries, Inc. | Sputtered films of metal alloy oxides and method of preparation thereof |
AU561315B2 (en) * | 1984-10-29 | 1987-05-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Sputtering films of metal alloy oxide |
US4964963A (en) * | 1984-12-17 | 1990-10-23 | Ppg Industries, Inc. | Method of making architectural coating with interference colors |
US4902581A (en) * | 1984-12-17 | 1990-02-20 | Ppg Industries, Inc. | Architectural coating with interference colors |
US4891113A (en) * | 1984-12-17 | 1990-01-02 | Ppg Industries, Inc. | Method of making architectural coating with interference colors |
US4716086A (en) * | 1984-12-19 | 1987-12-29 | Ppg Industries, Inc. | Protective overcoat for low emissivity coated article |
DE3503105A1 (de) * | 1985-01-30 | 1986-07-31 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum beschichten von maschinenteilen und werkzeugen mit hartstoffmaterial und durch das verfahren hergestellte maschinenteile und werkzeuge |
US4828346A (en) * | 1985-10-08 | 1989-05-09 | The Boc Group, Inc. | Transparent article having high visible transmittance |
DE3543178A1 (de) * | 1985-12-06 | 1987-06-11 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Verfahren zum herstellen von scheiben mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit hohem reflexionsverhalten fuer waermestrahlung sowie durch das verfahren hergestellte scheiben |
DE3543694A1 (de) * | 1985-12-11 | 1987-06-19 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Verfahren zum herstellen von kontaktbahnen auf substraten, insbesondere auf scheiben, und durch das verfahren hergestellte scheiben |
FR2591587A1 (fr) * | 1985-12-17 | 1987-06-19 | Saint Gobain Vitrage | Film organo-mineral depose sur un substrat en verre eventuellement revetu d'une ou plusieurs couches metalliques minces. |
GB2186001B (en) * | 1986-01-29 | 1990-04-04 | Pilkington Brothers Plc | Bendable and/or toughenable silver coatings on glass |
DE3704880A1 (de) * | 1986-07-11 | 1988-01-21 | Nukem Gmbh | Transparentes, leitfaehiges schichtsystem |
US4786784A (en) * | 1987-02-17 | 1988-11-22 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for producing an electrically heated window assembly and resulting article |
US4718932A (en) * | 1986-11-24 | 1988-01-12 | Ford Motor Company | Method for making an electrically heatable windshield |
JPS63134232A (ja) * | 1986-11-27 | 1988-06-06 | 旭硝子株式会社 | 高透過率を有する赤外反射物品 |
JPS63160352A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-04 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置の実装方法 |
US4898790A (en) * | 1986-12-29 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for high temperature processing |
US5059295A (en) * | 1986-12-29 | 1991-10-22 | Ppg Industries, Inc. | Method of making low emissivity window |
CA1331867C (en) * | 1986-12-29 | 1994-09-06 | James Joseph Finley | Low emissivity film for high temperature processing |
US5028759A (en) * | 1988-04-01 | 1991-07-02 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for a heated windshield |
US4806220A (en) * | 1986-12-29 | 1989-02-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of making low emissivity film for high temperature processing |
US5270517A (en) * | 1986-12-29 | 1993-12-14 | Ppg Industries, Inc. | Method for fabricating an electrically heatable coated transparency |
EP0275171B1 (en) * | 1987-01-13 | 1995-03-22 | RAYCHEM CORPORATION (a California corporation) | A gasket for E.M.I. shielding and for sealing |
US4769291A (en) * | 1987-02-02 | 1988-09-06 | The Boc Group, Inc. | Transparent coatings by reactive sputtering |
GB8719258D0 (en) * | 1987-08-14 | 1987-09-23 | Pilkington Glass Ltd | Glazine units |
US5139850A (en) * | 1987-02-03 | 1992-08-18 | Pilkington Plc | Electromagnetic shielding panel |
GB2202571B (en) * | 1987-02-03 | 1991-03-27 | Pilkington Plc | Glazing units. |
GB8702357D0 (en) * | 1987-02-03 | 1987-03-11 | Pilkington Brothers Plc | Coated glass |
DE3716860A1 (de) * | 1987-03-13 | 1988-09-22 | Flachglas Ag | Verfahren zum herstellen einer vorgespannten und/oder gebogenen glasscheibe mit silberschicht, danach hergestellte glasscheibe sowie deren verwendung |
CA1333270C (en) * | 1987-03-26 | 1994-11-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Sputtered titanium oxynitride films |
US5178966A (en) * | 1987-03-26 | 1993-01-12 | Ppg Industries, Inc. | Composite with sputtered films of bismuth/tin oxide |
US4938857A (en) * | 1987-03-26 | 1990-07-03 | Ppg Industries, Inc. | Method for making colored metal alloy/oxynitride coatings |
US4806221A (en) * | 1987-03-26 | 1989-02-21 | Ppg Industries, Inc. | Sputtered films of bismuth/tin oxide |
US4902081A (en) * | 1987-05-22 | 1990-02-20 | Viracon, Inc. | Low emissivity, low shading coefficient low reflectance window |
GB8713437D0 (en) * | 1987-06-09 | 1987-07-15 | Pilkington Brothers Plc | Shielding panel |
EP0299687B1 (en) * | 1987-07-17 | 1993-06-23 | LUCAS INDUSTRIES public limited company | Transparencies |
US5201926A (en) * | 1987-08-08 | 1993-04-13 | Leybold Aktiengesellschaft | Method for the production of coated glass with a high transmissivity in the visible spectral range and with a high reflectivity for thermal radiation |
AU631777B2 (en) * | 1987-08-18 | 1992-12-10 | Boc Technologies Limited | Metal oxide films having barrier properties |
US5318685A (en) * | 1987-08-18 | 1994-06-07 | Cardinal Ig Company | Method of making metal oxide films having barrier properties |
DE3728478A1 (de) * | 1987-08-26 | 1989-03-09 | Leybold Ag | Verfahren zum herstellen von scheiben mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit hohem reflexionsverhalten fuer waermestrahlung sowie durch das verfahren hergestellte scheiben |
US4970376A (en) * | 1987-12-22 | 1990-11-13 | Gte Products Corporation | Glass transparent heater |
DE3806124A1 (de) * | 1988-02-26 | 1989-09-07 | Leybold Ag | Verfahren zum herstellen von scheiben aus mineralglas mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit niedriger sonnenenergietransmission sowie durch das verfahren hergestellte scheiben |
US4902580A (en) * | 1988-04-01 | 1990-02-20 | Ppg Industries, Inc. | Neutral reflecting coated articles with sputtered multilayer films of metal oxides |
US4834857A (en) * | 1988-04-01 | 1989-05-30 | Ppg Industries, Inc. | Neutral sputtered films of metal alloy oxides |
US5902505A (en) * | 1988-04-04 | 1999-05-11 | Ppg Industries, Inc. | Heat load reduction windshield |
US4898789A (en) * | 1988-04-04 | 1990-02-06 | Ppg Industries, Inc. | Low emissivity film for automotive heat load reduction |
JPH02124748A (ja) * | 1988-07-27 | 1990-05-14 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線反射性合せ板 |
GB8900165D0 (en) * | 1989-01-05 | 1989-03-01 | Glaverbel | Glass coating |
GB8900166D0 (en) * | 1989-01-05 | 1989-03-01 | Glaverbel | Glass coating |
US5153062A (en) * | 1989-02-13 | 1992-10-06 | Hoechst Aktiengesellschaft | Process and device for producing laminated safety glass and laminated safety glass produced thereby |
DE3906453A1 (de) * | 1989-03-01 | 1990-09-06 | Leybold Ag | Verfahren zum beschichten von substraten aus durchscheinendem werkstoff, beispielsweise aus floatglas |
US5242560A (en) * | 1989-03-09 | 1993-09-07 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable sputter-coated glass |
JPH04504388A (ja) * | 1989-04-11 | 1992-08-06 | アンダス・コーポレイション | 透過性導電性被膜 |
CA2059525A1 (en) * | 1989-08-07 | 1991-02-08 | Steven J. Nadel | Method of depositing optical oxide coatings at enhanced rates |
DE3940748A1 (de) * | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Ver Glaswerke Gmbh | Elektrisch beheizbare autoglasscheibe aus verbundglas |
US5506037A (en) * | 1989-12-09 | 1996-04-09 | Saint Gobain Vitrage International | Heat-reflecting and/or electrically heatable laminated glass pane |
FR2657343B1 (fr) * | 1990-01-19 | 1993-01-29 | Saint Gobain Vitrage Int | Couche mince pour vitrage de protection solaire. |
CA2081912A1 (en) * | 1990-05-01 | 1991-11-02 | Chong T. Wan | Vacuum deposited dark coating on a substrate |
US5377045A (en) * | 1990-05-10 | 1994-12-27 | The Boc Group, Inc. | Durable low-emissivity solar control thin film coating |
AU655173B2 (en) * | 1990-05-10 | 1994-12-08 | Boc Group, Inc., The | Durable low-emissivity thin film interference filter |
DE4018399A1 (de) * | 1990-06-08 | 1991-12-19 | Leybold Ag | Verfahren zur beschichtung eines substrats, insbesondere einer glasscheibe, um eine opakwirkung zu erzielen und durch das verfahren beschichtete substrate |
DE69128729T2 (de) * | 1990-07-05 | 1998-04-30 | Asahi Glass Co Ltd | Beschichtung mit niedriger Emission |
US5532062A (en) * | 1990-07-05 | 1996-07-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
US5419969A (en) * | 1990-07-05 | 1995-05-30 | Asahi Glass Company Ltd. | Low emissivity film |
US5229205A (en) * | 1990-12-20 | 1993-07-20 | Ford Motor Company | Laminated glazing unit having improved interfacial adhesion |
US5069968A (en) * | 1990-12-20 | 1991-12-03 | Ford Motor Company | Laminated glazing unit having improved interfacial adhesion |
DE4109708C1 (da) * | 1991-03-23 | 1992-11-12 | Vegla Vereinigte Glaswerke Gmbh, 5100 Aachen, De | |
US5724177A (en) * | 1991-09-04 | 1998-03-03 | Sun Active Glass Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices and methods |
US5321544A (en) * | 1991-09-04 | 1994-06-14 | Sun Active Glass Electrochromics, Inc. | Electrochromic structures and methods |
US5229194A (en) * | 1991-12-09 | 1993-07-20 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable sputter-coated glass systems |
US5302449A (en) | 1992-03-27 | 1994-04-12 | Cardinal Ig Company | High transmittance, low emissivity coatings for substrates |
US5296302A (en) * | 1992-03-27 | 1994-03-22 | Cardinal Ig Company | Abrasion-resistant overcoat for coated substrates |
US5229881A (en) * | 1992-06-10 | 1993-07-20 | Tempglass Eastern, Inc. | Low transmission low emissivity glass window and method of manufacture |
DE4239355A1 (de) * | 1992-11-24 | 1994-05-26 | Leybold Ag | Transparentes Substrat mit einem transparenten Schichtsystem und Verfahren zur Herstellung eines solchen Schichtsystems |
WO1994021838A1 (en) * | 1993-03-23 | 1994-09-29 | Southwall Technologies Inc. | Gold-clad-silver-layer-containing films |
CA2120875C (en) * | 1993-04-28 | 1999-07-06 | The Boc Group, Inc. | Durable low-emissivity solar control thin film coating |
GB9313416D0 (en) * | 1993-06-29 | 1993-08-11 | Glaverbel | Transaparent solar control glazing panels |
US5688585A (en) | 1993-08-05 | 1997-11-18 | Guardian Industries Corp. | Matchable, heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same |
US5376455A (en) * | 1993-10-05 | 1994-12-27 | Guardian Industries Corp. | Heat-treatment convertible coated glass and method of converting same |
DE4407502A1 (de) * | 1994-03-07 | 1995-09-14 | Leybold Ag | Mehrlagige Beschichtung |
FR2719037B1 (fr) * | 1994-04-26 | 1996-05-15 | Thomson Tubes Electroniques | Procédé de dépôt d'un revêtement conducteur sur un substrat de verre. |
WO1995029883A1 (en) † | 1994-05-03 | 1995-11-09 | Cardinal Ig Company | Transparent article having protective silicon nitride film |
AU680786B2 (en) * | 1995-06-07 | 1997-08-07 | Guardian Industries Corporation | Heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same |
AUPN364195A0 (en) * | 1995-06-19 | 1995-07-13 | University Of Sydney, The | Solar selective surface coating |
MX9605168A (es) * | 1995-11-02 | 1997-08-30 | Guardian Industries | Sistema de recubrimiento con vidrio de baja emisividad, durable, de alto funcionamiento, neutro, unidades de vidrio aislante elaboradas a partir del mismo, y metodos para la fabricacion de los mismos. |
US5770321A (en) * | 1995-11-02 | 1998-06-23 | Guardian Industries Corp. | Neutral, high visible, durable low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom |
DE19548430C1 (de) * | 1995-12-22 | 1996-12-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung wärmereflektierender Schichtsysteme auf transparenten Substraten |
US5902634A (en) * | 1996-01-17 | 1999-05-11 | Courtaulds Performance Films | Permeable solar control film |
DE19604699C1 (de) * | 1996-02-09 | 1997-11-20 | Ver Glaswerke Gmbh | Wärmedämmendes Schichtsystem für transparente Substrate |
CA2202430C (en) | 1996-04-12 | 2007-07-03 | Junichi Ebisawa | Oxide film, laminate and methods for their production |
US5698262A (en) * | 1996-05-06 | 1997-12-16 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for forming tin oxide coating on glass |
US6231999B1 (en) * | 1996-06-21 | 2001-05-15 | Cardinal Ig Company | Heat temperable transparent coated glass article |
DE19719542C1 (de) * | 1997-05-09 | 1998-11-19 | Ver Glaswerke Gmbh | Low-E-Schichtsystem für transparente Substrate |
WO1998059335A1 (en) | 1997-06-25 | 1998-12-30 | Viratec Thin Films, Inc. | Display panel filter and method of making the same |
DE19726966C1 (de) * | 1997-06-25 | 1999-01-28 | Flachglas Ag | Verfahren zur Herstellung einer transparenten Silberschicht mit hoher spezifischer elektrischer Leitfähigkeit , Glasscheibe mit einem Dünnschichtsystem mit einer solchen Silberschicht und deren Verwendung |
US6132881A (en) * | 1997-09-16 | 2000-10-17 | Guardian Industries Corp. | High light transmission, low-E sputter coated layer systems and insulated glass units made therefrom |
AUPO995097A0 (en) * | 1997-10-21 | 1997-11-13 | Sola International Holdings Ltd | Surface coating composition |
US6007901A (en) * | 1997-12-04 | 1999-12-28 | Cpfilms, Inc. | Heat reflecting fenestration products with color corrective and corrosion protective layers |
US6040939A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-21 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates |
GB9816922D0 (en) | 1998-08-04 | 1998-09-30 | Pilkington Plc | Improvements in coating glass |
GB9826293D0 (en) | 1998-12-01 | 1999-01-20 | Pilkington Plc | Inprovements in coating glass |
JP4310872B2 (ja) | 1998-12-18 | 2009-08-12 | 旭硝子株式会社 | ガラス積層体、機能性透明物品およびその製造方法 |
WO2000037379A1 (en) | 1998-12-18 | 2000-06-29 | Glaverbel | Glazing panel |
ATE296787T1 (de) | 1998-12-18 | 2005-06-15 | Glaverbel | Verglasungsscheibe |
ATE276211T1 (de) | 1998-12-18 | 2004-10-15 | Glaverbel | Verglasungsscheibe |
US6699585B2 (en) | 1998-12-18 | 2004-03-02 | Asahi Glass Company, Limited | Glazing panel |
US6353501B1 (en) | 1999-01-21 | 2002-03-05 | Viratec Thin Films, Inc. | Display panel filter connection to a display panel |
US6640680B2 (en) * | 1999-01-27 | 2003-11-04 | Eagle Automation, Inc. | Apparatus and methods for sculpting carpet |
GB9903056D0 (en) * | 1999-02-12 | 1999-03-31 | Pilkington Plc | Improvements in coating glass |
US6365284B1 (en) | 1999-06-04 | 2002-04-02 | Crown Operations International, Ltd. | Flexible solar-control laminates |
FR2795745B1 (fr) | 1999-06-30 | 2001-08-03 | Saint Gobain Vitrage | Procede de depot d'une couche a base de tungstene et/ou de molybdene sur un substrat verrier, ceramique ou vitroceramique, et substrat ainsi revetu |
US6190776B1 (en) * | 1999-07-07 | 2001-02-20 | Turkiye Sise Cam | Heat treatable coated glass |
FR2798738B1 (fr) * | 1999-09-16 | 2001-10-26 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'un empilement de couches reflechissant la chaleur |
US6514620B1 (en) | 1999-12-06 | 2003-02-04 | Guardian Industries Corp. | Matchable low-E I G units and laminates and methods of making same |
US6475626B1 (en) | 1999-12-06 | 2002-11-05 | Guardian Industries Corp. | Low-E matchable coated articles and methods of making same |
US6495263B2 (en) | 1999-12-06 | 2002-12-17 | Guardian Industries Corp. | Low-E matchable coated articles and methods of making same |
DE10042413C2 (de) * | 2000-08-30 | 2002-11-07 | Airbus Gmbh | Kabinenfensteranordnung für ein Flugzeug |
DE10051509B4 (de) * | 2000-10-18 | 2007-08-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung eines Dünnschichtsystems und Anwendung des Verfahrens |
US20030228476A1 (en) * | 2001-10-22 | 2003-12-11 | Harry Buhay | Methods of changing the visible light transmittance of coated articles and coated articles made thereby |
US6869644B2 (en) * | 2000-10-24 | 2005-03-22 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
US7311961B2 (en) * | 2000-10-24 | 2007-12-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of making coated articles and coated articles made thereby |
US6596399B2 (en) | 2000-12-04 | 2003-07-22 | Guardian Industries Corp. | UV absorbing/reflecting silver oxide layer, and method of making same |
US20030049464A1 (en) * | 2001-09-04 | 2003-03-13 | Afg Industries, Inc. | Double silver low-emissivity and solar control coatings |
US7232615B2 (en) * | 2001-10-22 | 2007-06-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating stack comprising a layer of barrier coating |
ATE383322T1 (de) * | 2002-03-01 | 2008-01-15 | Cardinal Cg Co | Dünnfilmbeschichtung mit einer transparenten grundierungsschicht |
US6919133B2 (en) | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
US7067195B2 (en) | 2002-04-29 | 2006-06-27 | Cardinal Cg Company | Coatings having low emissivity and low solar reflectance |
US7122252B2 (en) * | 2002-05-16 | 2006-10-17 | Cardinal Cg Company | High shading performance coatings |
US6884459B2 (en) * | 2002-06-27 | 2005-04-26 | Orion Industries, Ltd. | Method of manufacturing perfluoroalkoxy copolymer coated glass |
US7488511B2 (en) * | 2002-06-27 | 2009-02-10 | Orion Industries, Ltd. | Method of manufacturing tetrafluorethylene perfluoromethyl vinyl ether copolymer coated glass |
US20070042155A1 (en) * | 2002-07-08 | 2007-02-22 | Academy Corporation | Reflective or semi-reflective metal alloy coatings |
US7138182B2 (en) * | 2002-07-31 | 2006-11-21 | Cardinal Cg Compay | Temperable high shading performance coatings |
US7147924B2 (en) * | 2003-04-03 | 2006-12-12 | Guardian Industries Corp. | Coated article with dual-layer protective overcoat of nitride and zirconium or chromium oxide |
US6890659B2 (en) * | 2003-04-25 | 2005-05-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium zirconium inclusive IR reflecting layer and method of making same |
US6908679B2 (en) * | 2003-04-25 | 2005-06-21 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium zirconium inclusive IR reflecting layer and method of making same |
US7241506B2 (en) * | 2003-06-10 | 2007-07-10 | Cardinal Cg Company | Corrosion-resistant low-emissivity coatings |
US20040258928A1 (en) * | 2003-06-17 | 2004-12-23 | Mehran Arbab | Solar control coating with metal alloy film |
US7081301B2 (en) * | 2003-10-14 | 2006-07-25 | Guardian Industries Corp. | Coated article with and oxide of silicon zirconium or zirconium yttrium oxide in overcoat, and/or niobium nitrude in ir reflecting layer |
US8500965B2 (en) * | 2004-05-06 | 2013-08-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | MSVD coating process |
JP2006098856A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Ulvac Japan Ltd | Ag系反射膜およびその作製方法 |
US7313909B2 (en) * | 2004-10-25 | 2008-01-01 | General Electric Company | High-emissivity infrared coating applications for use in HIRSS applications |
US7342716B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-03-11 | Cardinal Cg Company | Multiple cavity low-emissivity coatings |
US7572511B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-08-11 | Cardinal Cg Company | High infrared reflection coatings |
US7339728B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-03-04 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient |
US8017217B1 (en) | 2008-05-09 | 2011-09-13 | Hrl Laboratories, Llc | Variable emissivity material |
US9782949B2 (en) | 2008-05-30 | 2017-10-10 | Corning Incorporated | Glass laminated articles and layered articles |
TWI408183B (zh) | 2010-12-07 | 2013-09-11 | Ind Tech Res Inst | 隔熱材料及其製造方法 |
US8747959B2 (en) | 2011-06-30 | 2014-06-10 | Guardian Industries Corp. | Planar patterned transparent contact, devices with planar patterned transparent contacts, and/or methods of making the same |
US20130005135A1 (en) * | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Guardian Industries Corp. | Planar patterned transparent contact, devices with planar patterned transparent contacts, and/or methods of making the same |
US8747626B2 (en) * | 2011-11-30 | 2014-06-10 | Intermolecular, Inc. | Method of generating high purity bismuth oxide |
DE102012207561A1 (de) * | 2012-05-07 | 2013-11-07 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | IR-reflektierendes, transparentes Schichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung |
CN102941712B (zh) * | 2012-10-23 | 2015-07-22 | 江南大学 | 一种高分子材料-金属氧化物薄膜复合材料及其制备方法 |
US8900729B2 (en) | 2012-11-19 | 2014-12-02 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including zinc oxide inclusive layer(s) with additional metal(s) |
WO2014164989A1 (en) * | 2013-03-12 | 2014-10-09 | Intermolecular, Inc | Production coatings of low-emissivity glass systems |
US9499899B2 (en) | 2013-03-13 | 2016-11-22 | Intermolecular, Inc. | Systems, methods, and apparatus for production coatings of low-emissivity glass including a ternary alloy |
US9405046B2 (en) * | 2013-03-13 | 2016-08-02 | Intermolecular, Inc. | High solar gain low-e panel and method for forming the same |
CN105849597A (zh) * | 2013-12-31 | 2016-08-10 | 美国圣戈班性能塑料公司 | 具有优良的光学和太阳能性能的复合膜 |
US9783901B2 (en) * | 2014-03-11 | 2017-10-10 | Macdermid Acumen, Inc. | Electroplating of metals on conductive oxide substrates |
DE102015102496B4 (de) | 2014-10-27 | 2024-06-20 | Almeco Gmbh | Temperatur- und korrosionsstabiler Oberflächenreflektor |
FR3042492B1 (fr) * | 2015-10-16 | 2018-01-19 | Saint-Gobain Glass France | Procede de recuit rapide d'un empilement de couches minces contenant une surcouche a base d'indium |
US10233531B2 (en) | 2017-03-01 | 2019-03-19 | Guardian Glass, LLC | Coated article with low-E coating having protective doped silver layer for protecting silver based IR reflecting layer(s), and method of making same |
US11148228B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-10-19 | Guardian Glass, LLC | Method of making insulated glass window units |
US10987902B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-04-27 | Guardian Glass, LLC | Techniques for laser ablation/scribing of coatings in pre- and post-laminated assemblies, and/or associated methods |
CN111511860B (zh) * | 2017-12-28 | 2022-08-12 | 日东电工株式会社 | 玻璃单元的制造方法、压敏粘合片以及腐蚀抑制剂的用途 |
FR3080618B1 (fr) * | 2018-04-26 | 2020-04-24 | Saint-Gobain Glass France | Miroir colore |
US20210286109A1 (en) * | 2020-03-16 | 2021-09-16 | Corning Incorporated | Liquid lenses and articles with contact pads for corrosion protection |
US11959272B1 (en) | 2020-11-25 | 2024-04-16 | Herbert L. deNourie | Building construction |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2135033B1 (da) * | 1971-05-03 | 1973-12-28 | Saint Gobain Pont A Mousson | |
FR2181578A2 (en) * | 1972-04-28 | 1973-12-07 | Saint Gobain Pont A Mousson | Anti-heat glass - having two metallic coatings |
US3979271A (en) * | 1973-07-23 | 1976-09-07 | Westinghouse Electric Corporation | Deposition of solid semiconductor compositions and novel semiconductor materials |
US4337990A (en) * | 1974-08-16 | 1982-07-06 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
JPS54152076A (en) * | 1978-05-22 | 1979-11-29 | Mitsubishi Motors Corp | Production of plastic molded products with metal thin layer |
US4322276A (en) * | 1979-06-20 | 1982-03-30 | Deposition Technology, Inc. | Method for producing an inhomogeneous film for selective reflection/transmission of solar radiation |
DE3160998D1 (en) * | 1980-03-10 | 1983-11-03 | Teijin Ltd | Selectively light-transmitting laminated structure |
US4379040A (en) * | 1981-01-29 | 1983-04-05 | Ppg Industries, Inc. | Method of and apparatus for control of reactive sputtering deposition |
US4336119A (en) * | 1981-01-29 | 1982-06-22 | Ppg Industries, Inc. | Method of and apparatus for control of reactive sputtering deposition |
DE3316548C2 (de) * | 1983-03-25 | 1985-01-17 | Flachglas AG, 8510 Fürth | Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates |
-
1983
- 1983-09-16 NO NO833335A patent/NO157212C/no unknown
- 1983-09-19 US US06/533,796 patent/US4462883A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-09-20 AU AU19285/83A patent/AU554729B2/en not_active Ceased
- 1983-09-20 DE DE8383305528T patent/DE3375010D1/de not_active Expired
- 1983-09-20 GB GB08325063A patent/GB2129831B/en not_active Expired
- 1983-09-20 DE DE198383305528T patent/DE104870T1/de active Pending
- 1983-09-20 EP EP83305528A patent/EP0104870B1/en not_active Expired
- 1983-09-21 CA CA000437223A patent/CA1203197A/en not_active Expired
- 1983-09-21 DK DK431483A patent/DK160758C/da not_active IP Right Cessation
- 1983-09-21 MX MX026439A patent/MX172033B/es unknown
- 1983-09-21 FI FI833385A patent/FI77440B/fi not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MX172033B (es) | 1993-11-29 |
FI833385L (fi) | 1984-03-22 |
DE104870T1 (de) | 1984-07-05 |
NO833335L (no) | 1984-03-22 |
EP0104870B1 (en) | 1987-12-23 |
GB2129831B (en) | 1986-01-22 |
FI833385A0 (fi) | 1983-09-21 |
NO157212B (no) | 1987-11-02 |
AU554729B2 (en) | 1986-08-28 |
EP0104870A3 (en) | 1984-12-27 |
GB8325063D0 (en) | 1983-10-19 |
DE3375010D1 (en) | 1988-02-04 |
FI77440B (fi) | 1988-11-30 |
NO157212C (no) | 1988-02-10 |
US4462883A (en) | 1984-07-31 |
AU1928583A (en) | 1985-12-12 |
GB2129831A (en) | 1984-05-23 |
EP0104870A2 (en) | 1984-04-04 |
DK160758C (da) | 1991-09-30 |
CA1203197A (en) | 1986-04-15 |
DK431483A (da) | 1984-03-22 |
DK431483D0 (da) | 1983-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DK160758B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af en belaegning med lav emissionsevne paa et transparent substrat | |
US4312915A (en) | Cermet film selective black absorber | |
FI90050B (fi) | Produkt med hoeg genomslaepplighet och liten emissionsfoermaoga och foerfarande foer dess framstaellning | |
RU2561419C2 (ru) | Низкоэмиссионное стекло и способ его получения | |
DE68915042T2 (de) | Film mit geringerer Emission für Hochtemperaturbehandlung. | |
KR101763057B1 (ko) | 광흡수 층과 이 층을 포함하는 층 시스템, 층 시스템의 제조 방법 및 이에 적합한 스퍼터 타겟 | |
JP5806653B2 (ja) | 反射電極用Ag合金膜、反射電極、およびAg合金スパッタリングターゲット | |
JP2651203B2 (ja) | 透明体およびその製造方法 | |
CN105814149B (zh) | 低辐射涂敷膜、其的制备方法及包含其的窗户用功能性建材 | |
CN110709237B (zh) | 多层结构体及多层结构体的制造方法 | |
CN109305763A (zh) | 一种高透型单银低辐射镀膜玻璃 | |
CN106024978A (zh) | 一种抗紫外线功能的金属合金夹层结构透明导电薄膜 | |
JP3053668B2 (ja) | 熱線遮断膜 | |
US5800925A (en) | Nonlinear optical materials and process for producing the same | |
Zhang | High efficiency Al-N cermet solar coatings with double cermet layer film structures | |
JP2005019205A (ja) | 透明導電膜及びその製造方法 | |
CN102092960A (zh) | 一种低辐射玻璃 | |
CN106116177A (zh) | 绿色可热处理双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法 | |
KR101968813B1 (ko) | 반사성 코팅 기판 | |
TW415922B (en) | Light absorptive anti-reflector and method for manufacturing the same | |
CN114540762B (zh) | 一种复合薄膜材料及其制备方法与应用 | |
JP2017214607A (ja) | 光反射鏡の製造方法及び蒸着装置 | |
Niu et al. | Spreadability of Ag layer on oxides and high performance of AZO/Ag/AZO sandwiched transparent conductive film | |
JPH0841698A (ja) | アルミニウムホイルのエッチング方法 | |
JP4208981B2 (ja) | 光吸収性反射防止体とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PBP | Patent lapsed |