DE927249C - Verfahren zur galvanischen Herstellung von diamagnetischen Schichten - Google Patents

Description

• Bei der Herstellung von Aufzeirhnumgs- und Wiedergabeköpfen für Magnetband- oder Magnetdrahtgeräte ist es bekanntlich sehr wichtig, den durch den Eisenkern gebildeten Spalt einerseits möglichst dünn zu machen und andererseits ihn: _ mit einem diamagnetischen Material auszufüllen. Letzteres hat die Vorteile, daß außerordentlich schmäle Spalte gebildet -,verden können, ohne daß die Polflächen des Kopfkernes sich magnetisch berühren, und daß zum anderen durch das Diam:agnetikurni ein HerausdTücken der magnetischem; Kraftlinien an der Spaltstelle erfolgt, so, daß das am Spalt vorbeigezogene Magnetband von diesen Kraftlinien möglichst wirksam durchsetzt wird.
• Zur Erzielung derartiger schmaler, mit einem Diamagnetikum ausgefüllter Spalte hat sich das Galvanisieren mit Kupfer oder auch mit anderen. diamagnetischen, Stoffen gut bewährt. Es wurden dabei Spaltbreiten] in der Größenordnung von io ;u und weniger erzielt.
• Ein gewisser Nachbeil des Galvanisi:erens. besteht darin, daß die an sich nur in modekulairer Stärke aufzutragende diamagnetische Schicht infolge der Lamellierung des Magnetkernes. nicht ganz gleichmäßig ausfällt: Da beim, Galvanisieren die zu bedeckende Polschuhfläche die negative Elektrode im Galvanisierungbad bildet, Mist die elektrolyti,scJhe Stromndiahte eine andere, j e nachdem die Ionen auf ein Stück Eisenoberfläche oder auf ein: Stück des zwischen den Lamellen liegenden. Isolierstoffes. gelangen. Die Zeichnung zeigt diese Erscheinung in. stark vergrößertem. Maßstäbe, und zwar in einem Schnitt, dessen Ebene senkrecht zur Spaltebene uni=parallel zum. Feld verlaufend liegt. Dargestellt ist nur das, eine Ende des Magnetpols mit seiner zu galvanisierenden Polfläche 1. Mit 2 sind die Eisenlamellen, mit 3 die zwischen diesen liegenden. Isoiliersohichten bezeichnet. Die galvanische Schicht bildet sich nun auf den, metallischen Stellen der Oberfläche i stärker aus, als auf den Isolierstellen; was durch die (Übertrieben gezeichnete) Linie 4 dargestellt ist.
• Der genannte Nachteil wird gemäß der Erfindung dadurch vermieden, daß die galvanisch zu überziehende Poilfläche i voir der elektrolytischen Behandlung in der beim galvanischen Bearbeiten von, Isolierstoffen bekannten, Weise zunächst mit einer dünnen nichtmagnetischen Metallgrundschscht überzogen wird, und: zwar durch ein chemisches Verfahren. oder durch Aufspritzen oder Aufstäuben. einer molekular dünnen Schicht, die gerade ausreicht, um beim nachfolgenden Galvanisieren einen Strom zu erzeugen, der sich auf die gesamte Polfläche i gleichmäßig verteilt.
• Zweckmäßig wird als Stoff für die Grundschicht Silber gewählt, dessen Stärke zu i oder wenigen Mikron bemessen ist. Das bevorzugte. chemische Verfahren zur Aufbringung besteht z. B. darin,, daß die Polfläche in eine Metall-, insbesondere Silberlösung getaucht wird.

Claims (5)

1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur galvanischen Herstellung von diamagnetischen Schichten auf einen schmalem Spalt einschließenden Polflächen von magnetischen Aufzeichnungs- und Wiedergabeköpfen, die aus senkrecht zu den Spaltflächen liegenden Lamellen zusammengesetzt sind, dadurch gekennzeichnet, daß der Gadvanisier'ung eine Vorbehandlung der Polfläche in Form einer AufbTingang einer dünnen Metallschicht (Grundschicht) vorangeht.
2. 2: Verfahren, nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet,: daß die Grundschicht auf chemischem Wege durch Eintauchen der Polfläche; in eine Lösung eines Metallsalzes hergestellt wird.
3. 3. Verfahren nach Anspruch; i, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundschicht aufgespritzt oder aufgestäubt wird.
4. 4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die * Grundschicht aus Silber besteht.
5. 5. Verfahren nach Anspruch i oder folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Grundschicht i oder wenige Mikron beträgt. Angezogene Druckschriften: Galvanotechnik (früher Pfanhenser), i949, Bd. II, S. i327 und 133o.