DE899095C - Anordnung an einem Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop - Google Patents

Description

Bei senkrecht stehend angeordneten Elektronenmikroskopen ist es bekannt, daß der Strahlerzeuger zusammen mit der mit ihm zusammengebauten Kondensorlinse gegenüber dem übrigen, die Abbildungslinsen enthaltenden Teil der Röhre einstellbar gemacht wird. Diese Einstellmittel dienen bei den Durchstrahlungsmikroskopen dazu, den vom Strahlerzeuger kommenden Elektronenstrahl möglichst genau in die optische Achse des Abbildungslinsenteils einzustellen. Diese genaue Justierung ist für die Elektronenmikroskope von besonderer Bedeutung, weil die Elektronenlinsen nur dann besonders gute Abbildungen ergeben, wenn der abbildende Elektronenstrahlengang möglichst genau durch die optische Achse verläuft. Bei Abweichungen von dieser Lage führen die Linsenfehler dazu, daß störende Bildverzeichnungen eintreten. Um die erwähnte mechanische Justierung des Strahlerzeugers durchzuführen,- hat man bei den bekannten Mikroskopen kreuztischartige Ein-Stellvorrichtungen angewendet, die einerseits das Strahlerzeugersystem quer zur optischen Achse beliebig einzustellen gestatten und die andererseits eine Kippung des Strahlerzeugersystems um das Objekt als Mittelpunkt erlauben. Diese mechanischen Einstellmittel bestehen aus Einstellschrauben und ihnen entgegenwirkenden Federn, außerdem ist für diese Einstellung naturgemäß eine besonders sorgfältige, meist mit Kugeln ausgeführte Lagerung des Strahlerzeugers auf den darunterliegenden Teilen der Röhre erforderlich. Man hat die erwähnten Mittel zur Schwenkung des Strahlerzeugers fernerhin auch schon so ausgestaltet, daß man Rückstrahlungsbilder von Objektoberflächen durch Schrägstellen des gesamten Strahlerzeugerteils durchführen konnte. In jedem

Falle bringt die erwähnte mechanische Einstellung einen nicht unbeträchtlichen konstruktiven Aufwand und bietet insbesondere dann besondere Schwierigkeiten, wenn es sich um mit sehr hohen Spannungen betriebene Elektronenmikroskope handelt, weil hierbei der Strahlerzeuger eine nicht unbeträchtliche Baulänge und dementsprechend auch ein beachtenswertes Gewicht hat.

Die Erfindung betrifft zur Untersuchung von ίο Objekten dienende Elektronenmikroskope mit vor dem Objekt liegenden Strahlablenkmitteln und bringt eine Möglichkeit, die eingangs geschilderten Schwierigkeiten zu überwinden. Erfindungsgemäß werden zur Justierung der Elektronenstrahlen hinsichtlich der optischen Achse des Gerätes vier Ablenksysteme im Strahlengang hintereinanderliegend angewendet, von denen zwei in einer Ebene und die beiden anderen, in einer zu dieser vorzugsweise senkrecht stehenden zweiten Ebene wirken, wobei die jeweils in derselben Ebene wirkenden Systeme in an sich bekannter Weise einander entgegengesetzte Krümmungen des Strahls bewirken. Mit solchen Ablenkmitteln ist man in der Lage, dem Elektronenstrahlbündel nach Verlassen des Strahlerzeugersystems jede für die Strahljustierung gewünschte Richtung zu geben, ohne daß dabei mechanische Verstellungen des Strahlerzeugers erforderlich sind. Zwei in verschiedenen Ebenen wirkende Ablenksysteme, die voneinander unabhängig gesteuert werden können, dienen bei der Erfindung dazu, den Auftreffpunkt des Strahlenbündels in der Objektebene beliebig zu verschieben. Diese Ablenksysteme erfüllen somit denselben Zweck wie die bisher für die Strahljustierung üblichen Einrichtungen zur Querverschiebung des Strahlerzeugersystems. Die beiden. in/ einer [Ebene wirkenden Ablenksysteme sind fernerhin gemäß der weiteren Erfindung derart gemeinsam steuerbar eingerichtet, daß sie einander entgegengesetzte Krümmungen des Strahls hervorrufen. Sie werden dazu verwendet, das Strahlenbündel bei in der Objektebene festgehaltenem Auftreffpunkt nach beliebigen Richtungen zu kippen. Diese Ablenksystempaare erfüllen somit denselben Zweck wie +5 die bisher für die Strahljustierung üblichen mechanischen Einrichtungen, die den Strahl um das Objekt als Mittelpunkt zu schwenken gestatten. Man wird die Anordnung der Ablenksysteme vorteilhaft so wählen, daß abwechselnd Systeme aufeinanderfolgen, die in verschiedenen Ebenen wirken. Die Schaltung der Ablenksysteme wird mit Vorteil so gewählt, daß die jeweils in einer Ebene wirkenden Ablenksysteme wahlweise getrennt oder durch einen gemeinsamen Regler zusammen zur Wirkung gebracht werden können.

Die bisher behandelten, bei der Erfindung angewendeten vier Ablenksysteme werden dazu benutzt, bei einem Durchstrahlungsmikroskop den abbildenden Strahlengang genau in die optische Achse der Abbildungslinsen zu bringen. Man kann eine derartige Anordnung dann auch noch weiterhin dadurch verbessern, daß der Halter mit den vier Ablenksystemen auswechselbar ist gegen einen Halter mit zwei Ablenksystemen, die dazu dienen, das Strahlenbündel um einen solchen Winkel zu kippen, wie er für die Herstellung von Rückstrahlungsaufnahmen geeignet ist. Durch einen geringfügigen Umbau, nämlich durch das Austauschen der Halter mit den Ablenksystemen, kann man in diesem Falle die Anordnung zur Strahljustierung bei Durchstrahlungsaufnahmen umändern in eine Anordnung zur Strahllenkung auf die Objektoberfläche bei der Herstellung von Rückstrahlungsaufnahmen.

Für die Herstellung von Stereoaufnahmen mit einem Elektronenmikroskop ist es schon bekannt, vor dem Objekt zwei Ablenksysteme anzuwenden, die in derselben Ebene wirken und dazu dienen, den Elektronenstrahl bei feststehendem Objekt um den Stereowinkel periodisch zu kippen. Hier wird bei beiden Aufnahmen eine Schrägstellung des abbildenden Strahlenganges zur optischen Achse bewirkt, was bei hoher Vergrößerung zu astigmatischen Fehlern führt. Die Erfindung unterscheidet sich hiervon grundsätzlich, da es bei ihr gerade darauf ankommt, Schrägstellungen des abbildenden Strahlenganges hinsichtlich der optischen Achse zu vermeiden.

Bei der Erfindung werden die -Mittel zur Erregung der beiden in einer Ebene wirkenden Ablenksysteme unter Berücksichtigung der Abmessungen, der Abstände vom Objekt und der Strahlspannung vorzugsweise so miteinander abgeglichen, daß der Auftreffpunkt des Strahlenbündels auf 'dem Objekt bei gemeinsamer Wirkung beider Systeme feststeht. Für die Kippung des Strahls um das Objekt als Mittelpunkt wird man gemäß der weiteren Erfindung jeweils zwei in einer Ebene wirkenden Ablenksystemen einen gemeinsamen Regler zuordnen.

Für die Ablenksysteme kann man entweder an sich bekannte Ablenkplatten anwenden, denen die gewünschte regelbare Ablenkspannung zugeführt wird, oder man kann dafür magnetische, insbesondere elektromagnetische Ablenksysteme verwenden. Die zuletzt genannten Mittel sind insbesondere dann besonders vorteilhaft, wenn es sich darum handelt, verhältnismäßig große Ablenkwinkel zu erzielen; man kann nämlich die (Magnete mit ihren Stirnflächen eng aneinander stellen, wäh- no rend man in diesem Falle bei Ablenkplatten entsprechend großen Platzbedarf für den Durchtritt des abgelenkten Strahls hat.

Elektronenmikroskope nach der Erfindung zeichnen sich durch einen Strahlerzeuger aus, der unbeweglich an dem den Abbildungsstrahlengang umschließenden Teil der Röhre befestigt ist. Das führt dahin, daß der Gesamtaufbau des Elektronenmikroskops wesentlich starrer und damit gegen äußere Erschütterungen unempfindlicher wird.

Abgesehen von den obenerwähnten Anwendungsmöglichkeiten der für die Erfindung wesentlichen Ablenksysteme kann man diese Ablenkmittel in an sich bekannter Weise auch weiterhin gleich dazu benutzen, um die Belichtung der photographischen Schicht durch zeitweiliges Sperren und Wiederzu-

lassen des Elektronenstrahls durchzuführen. Auch als Hilfsmittel zur Scharfstellung läßt sich eines der bei der Erfindung angewendeten Ablenksysteme anwenden, indem man dieses System in an sich bekannter Weise dazu benutzt, den Elektronenstrahl um einen kleinen Winkelbetrag periodisch schwanken zu lassen, so daß das Bild periodisch abwechselnd durch den zentralen Mittelbereich der Linsen oder durch einen Bereich außerhalb dieser Mitte

ίο abgebildet wird.

Die Wirkung der beim Erfindungsgegenstand angewendeten Ablenkmittel und weitere für die Erfindung wesentlichen Merkmale werden in den folgenden Ausführungsbeispielen behandelt.

is In Fig. ι ist zunächst schematisch die Anwendung der Erfindung bei einem zur Abbildung von Objektoberflächen eingerichteten Elektronenmikroskop dargestellt. Mit ι ist die Kathode, mit 2 der Wehneltzylinder und mit 3 die Anode des Strahlerzeugers bezeichnet. Unmittelbar an den Strahlerzeuger anschließend ist eine Kondensorlinse 4 vorgesehen, die dazu dient, den Elektronenstrahl gut zu bündeln. Mit 5 ist das unter einem kleinen Winkel von 8° gegenüber der optischen Achse 6 des Abbildungslinsensystems geneigte Objekt bezeichnet. 7 ist das Objektiv und 8 das Projektiv des -Mikroskops, Auf einem Endbildleuchtschirm 9 kann das von den Linsen erzeugte Bild betrachtet werden. Um den für diese Oberflächenabbildung geeigneten Einfallwinkel einzustellen, ohne daß deswegen das Strahlerzeugersystem zusammen mit dem Kondensor mechanisch entsprechend gekippt werden müßte, sind bei der Erfindung zwei im Strahlengang hintereinanderliegende, in der Zeichnungsebene wirkende magnetische Ablenksysteme 10 und 11 vorgesehen, die so erregt sind, daß der Strahl von dem System 10 zunächst nach rechts abgebogen wird und daß er von dem System 11 dann unter dem gewünschten Winkel α nach links zurückgebogen wird. Die (Mittel zur Erregung der beiden Ablenksysteme 10 und 11 werden bei der Erfindung zweckmäßig so miteinander abgeglichen, daß der Auftreffpunkt der Strahlen auf dem Objekt bei gemeinsamer Wirkung beider Systeme im wesentlichen feststeht. Für diesen Abgleich werden die Abmessungen der Ablenksysteme, ihre gegenseitigen Abstände und ihre Abstände vom Objekt und die Strahlspannung berücksichtigt. Bei so abgeglichenen Systemen kann man dann mit einem einzigen Regler 12 die Erregung der Systeme in der gewünschten Weise steuern, so daß der Einfallwinkel α kontinuierlich vergrößert oder verkleinert wird.

In Fig. 2 ist schematisch ein Ausführungsbeispiel der Erfindung dargestellt, bei dem Ablenkmittel vor dem Objekt eines Durchstrahlungsmikroskops dazu angewendet sind, um bei unbeweglich auf der Röhre befestigtem Strahlerzeuger die erforderliche genaue Justierung des Elektronenstrahls in der optischen Achse des Abbildungslinsensystems durchzuführen. Soweit die Einzelteile dieses Ausführungsbeispiels mit denen in Fig. 1 übereinstimmen, sind die gleichen Bezugszeichen verwendet. Die Symmetrieachse der Teile 1 bis 4 des Strahlerzeugersystems fällt ebenso wie bei der in Fig. 1 dargestellten Ausführungsform zusammen mit der mechanischen Achse des Abbildungslinsensystems. Trotzdem läßt es sich aber mit Rücksicht auf die durch die Fabrikation bedingten Ungenauigkeiten nicht ohne weiteres erreichen, daß der das Strahlerzeugersystem verlassende Elektronenstrahl auch genau in die optische Achse 6 des Gerätes fällt. Um die erforderliche feine Justierung zu ermöglichen, sind in diesem Falle vier elektromagnetische Ablenksysteme 21, 22, 23, 24 vorgesehen. Die Systeme 21 und 23 wirken in der Zeichnungsebene, die Systeme 212 und 24 in einer senkrecht dazu stehenden Ebene. Mit Hilfe der Regler 25 und 26 kann man das System 21 bzw. 22 je getrennt für sich regeln. Den Systemen sind ferner noch die Regler 27 und 28 zugeordnet, die so geschaltet sind, daß mit dem Regler 27 die Systeme 21 und 23 und mit dem Regler 28 die Systeme 22 und 24 je gegensinnig geregelt werden können.

Die Wirkungsweise der Ablenksysteme soll an Hand der schematischen Fig. 3 und 4 näher erläutert werden. Die Schrägstellung des Strahlerzeugersystems ι bis 4 gegenüber der optischen Achse 6 des Abbildungslinsensystems ist in diesem Falle, um die Wirkungsweise deutlich zu machen, go erheblich übertrieben. Die optische Achse 6 des Abbildungslinsensystems ist in der Zeichnung festgelegt durch die Durchtrittsöffnung 31 der Objektträgerblendei 32 und den Mittelpunkt M des Endbildleuchtschirms 9. Es sei zunächst angenommen, daß der Elektronenstrahl vom Strahlerzeuger aus bei ausgeschalteten Ablenksystemen in Richtung des Pfeiles 3.3 verläuft, so daß er die Obje'ktebene im Punkt A trifft. Der Strahl liegt also so schräg, daß er überhaupt nicht durch die Blendenöffnung 31 hindurchtritt. Mit Hilfe des Ablenksystems 21 wird nunmehr der Strahl zunächst so abgelenkt, daß seine Fußspur in Richtung des Pfeiles α von A nach B in der Objektebene wandert, daß also der Strahl nunmehr das Ablenksystem 21 in Richtung des Pfeiles 34 verläßt. Auch bei dieser Lage treffen die Strahlen noch nicht die Durchtrittsöffnung 31. Bei dem erwähnten Ablenkvorgang ist der Regler 25 verstellt worden. Um nun den Strahl in die Richtung des Pfeiles 35 zu lenken, so daß er die Öffnung 31 trifft, wird zusätzlich zum Ablenksystem ai das System 22 mit Hilfe des Reglers 26 in Betrieb genommen, wobei die Fußspur des Elektronenstrahls in der Objektebene B in Richtung des Pfeiles b wandert, bis der Strahl die Lage 35 hat. Damit fällt der Strahl nun auch durch das Abbildung.slinsensystem hindurch. Er trifft die Endbildebene im Punkt C; man sieht aber, daß noch eine unerwünschte Abweichung der Strahllage 35 von der optischen Achse 6 des Abbildungssystems gegeben ist. Diese Abweichung wird nun bei der Erfindung in zwei Schritten dadurch korrigiert, daß nacheinander zunächst mit Hilfe der Ablenksysteme 22 und 24 eine Schwenkung des Elektronenstrahls um das Objekt als Mittelpunkt in Riehtung des Pfeiles c aus der Lage 35 in die Lage 36

erfolgt. Bei dieser Schwenkung wandert die Fußspur des Strahls in der Etidbildebene in Richtung des Pfeiles c von C nach D. Diese Schwenkbewegung des Strahls wird durchgeführt durch Betätigen des den beiden Systemen 22 und 24 zugeordneten gemeinsamen Reglers 28. Anschließend daran wird nunmehr durch Betätigen des Reglers 27 das Ablenksystem 21 zusammen mit dem System 23 in dem Sinne in Betrieb genommen, daß der Ele'ktronenstrahl aus seiner Lage 36 heraus in Richtung des Pfeiles d in die Lage 37 verstellt wird, in welcher er mit der optischen Achse 6 des Systems übereinstimmt. Die Fußspur des Strahls ist dabei in der Endbildebene vom Punkt D in Richtung des Pfeiles d zum Mittelpunkt M gewandert.

Die gemeinsame Wirkung der beiden Ablenksysteme 21 und 23 bzw. 22 und 24 ist in der Fig. 3 im Bereich der Ablenksysteme nicht im Strahlengang dargestellt. Um das Verständnis für diese gemeinsame Wirkung zu erleichtern, ist in Fig. 4 für ein solches Ablenkplattenpaar 21, 23 der Strahlverlauf für eine in der Zeichnungsebene erfolgende Ablenkung dargestellt. Durch die Platten 21 wird der Strahl 36 nach links abgebogen, während das Plattenpaar -23 den Strahl in der entgegengesetzten Richtung zurückkrümmt bis er' in die Lage 38 kommt, in welcher er für die Wirkungsebene dieser Systeme mit der optischen Achse 6 zusammenfällt. Die Fig. S bis 7 zeigen ein praktisches Ausführungsbeispiel der Erfindung, und zwar ist in Fig. 5 ein Längsschnitt durch den Kondensor eines Elektronenmikroskops dargestellt, an dem ein Halter für Strahlablenkmittel angebaut ist. Fig. 6 zeigt den zugehörigen Grundriß und Fig. 7 einen zweiten Halter für Strahlablenksysteme, der wahlweise an Stelle des in Fig. 5 dargestellten Halters angewendet werden kann. Mit 41 und 42 ist die zweiteilige Erregerwicklung des Doppelkondensors bezeichnet, dessen Oberteil in der Figur nicht mehr dargestellt ist. Der untere Linsenspalt dieses Kondensors wird gebildet durch einen Polschuhehrsatzkörper, der aus dem oberen Polschuh 43, einem unmagnetischen Zwischenring 44 und dem unteren Polschuh 45 besteht. 97 ist eine in den unteren Polschuh eingeschraubte Zentrierblende. Mit dem unteren Polschuh ist direkt ein Halter 46 verschraubt, der zwei elektromagnetische Ablenksystempaare 47 und 48 trägt. Diese beiden Ablenksystempaare liegen im Strahlengang hintereinander und wirken in der senkrecht zur Zeichnungsebene stehenden Ablenkebene. Die beiden Systeme sind so bemessen, daß man mit ihnen verhältnismäßig große Winkelablenkungen des vom Kondensor herkommenden Elektronenstrahlbündels erzielen kann. Der Halter 46 wird zusammen mit dem an ihm festgeschraubten Polschuhsystem 43, 44, 45 nach Öffnung der Röhre mit Hilfe eines Bajonettverschlusses, also leicht lösbar, in die dargestellte Betriebslage eingeführt. Der Halter wird dabei zunächst mit dem Polschuhsystem durch eine Axialbewegung in die Paßfläche des Kondensors eingeführt und dann bis zu einem Anschlag gedreht, wobei der in der Figur nicht dargestellte Verschluß fest angezogen und gleichzeitig der Kontakt ziwschen den Strombügeln 49 (Fig. 6) und den jeweils zugeordneten Stromzuführungsstiften 50 hergestellt wird. Die am Halter befindlichen Anschluß leitungen lösen sich also zwangsläufig beim Ausbau des Halters von den zugeordneten, im Vakuumraum befindlichen Gegenkontakten. Die Kontaktstifte 50 sind in eine Halteplatte 51 mit Buchsen 52 eingesetzt. Durch eine Gummizwischenlage 53, die mit der Druckplatte 54 von außen fest gegen das Widerlager gedrückt wird, erfolgt die vakuumdichte Abdichtung der für alle Ablenksysteme gemeinsamen Stromdurchführungsplatte. Mit 55 ist ein äußerer Druckring bezeichnet, der zur Befestigung des Kontaktapparates am Gehäuse 56 verschraubt wird. Der den Halter des Ablenksystems aufnehmende Raum wird gebildet durch die Vakuumwand 57, die mit der Kapselung 58 des Kondensors zusammengebaut ist. Im Strahlengang unmittelbar hinter dem Ablenksystem befindet sich die Objektpatrone 59, die in Fig. 5 in der Betriebslage, d. h. in einen Objekttisch 60 eingesetzt, dargestellt ist. Mit 61 ist der Oberteil des elektromagnetischen Objektivs bezeichnet. Bei der dargestellten Anordnung ist für das Einbringen des Objektes in das Mikroskop keine besondere Schleuse angewendet. Die Patrone 59 wird vielmehr mit Hilfe eines Halters 62 unmittelbar durch eine Einführungsöffnung 63 von außen eingebracht und in den Sitz des Objekttisches geschoben. Besondere Führungsbleche 64 und 65 sorgen dafür, daß bei dieser Einführungsbewegung eine Berührung des Ablenksystemhalters 46 vermieden wird.

Während das bei Fig. 5 eingesetzte Ablenksystem nur mit zwei im Strahlengang hintereinanderliegenden Spulenpaaren ausgerüstet ist und dazu, dient, das Mikroskop für Rückstrahlungszwecke einzurichten, kann man bei Anwendung des in Fig. 7 im Längsschnitt dargestellten Halters 66 an Stelle des Halters- 46 das Mikroskop für Durchetrahlungszwecke einrichten, wobei nunmehr die vier im Halter 66 vorgesehenen Ablenkspulenpaare 67 bis 70 wirksam gemacht werden können. Diese Systeme sind in der aus der Figur ersichtlichen Weise so angeordnet, daß abwechselnd Spulenpaare aufeinanderfolgen, die in verschiedenen, aufeinander senkrecht stehenden Ebenen wirken. Mit den in Fig. 7 dargestellten Systemen läßt sich eine genaue justierung des Elektronenstrahlbündels in die optische Achse erreichen.

Wie schon eingangs erwähnt wurde, kann man als Ablenksysteme auch in der beispielsweise bei Kathodenstrahloszillographen üblichen Weise Ablenkplattenpaare anwenden. Ein Schaltbild für die \^rerwendung solcher Ablenkplattenpaare mit vier im Strahlengang hintereinanderliegenden Systemen ist als weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung in Fig. 8 dargestellt. Mit 71 bis 74 sind die vier Systeme bezeichnet. Die Plattenpaare 71 und J 2 wirken in der Zeichnungsebene, die Paare 73 und in der senkrecht dazu stehenden Ebene. Die Betriebsspannung wird über einen Transformator und die beiden Gleichrichter j6, JJ, an die eine

Siebschaltung 78 angeschlossen ist, geliefert. Für die Regelung der Spannung sind Spannungsteiler 79 bis 84 vorgesehen. Mit Hilfe der Abgriffe 85 und 86 kann man die Spannung an den Plattenpaaren 71 und 73 je für sich regeln, wodurch die Einstellung des Elektronenstrahls aus der beliebigen Lage 33 auf die Öffnung 31 der Blende 32 (vgl. Fig. 3) erfolgt. Für das Kippen des Elektronenstrahls um die Blendenöffnung 3-1 als Mittelpunkt dienen die Abgriffe 87, 88 bzw. 89, 90, die paarweise mit Hilfe einer gemeinsamen Verstelleinrichtung 91 bzw. 92 auf den zugeordneten Spannungsteilern verstellt werden können. Bei Betätigung der Verstelleinrichtung 91 erfolgen gegensinnige Spannungsänderungen an den Plattenpaaren 71 und 72 und durch die Verstellung der Einrichtung 92 gegensinnige Spannungsänderungen an den Plattenpaaren 73 und 74. Mit 93 bis 916 sind den Spannungsteilern 80 und 83 zugeordnete Justierwiderstände bezeichnet, die dazu dienen, die richtigen Spannungsverhältnisse an den Plattenp.aaren einzustellen, soweit sie nicht schon durch die sonstige Dimensionierung in der gewünschten Größe erzielt sind.

Abweichend von den in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispielen kann man bei Anwendung der Erfindung auch bewußt eine Parallelverschiebung oder Neigung der unbeweglich angeordneten Strahlerzeugerachse zu dem Teil der Röhre in Betracht ziehen, der die optische Achse des abbildenden Systems bildet. Die Ablenkmittel dienen auch dann dazu, dem Strahl jeweils die erwünschte Richtung zu geben. Eine solche parallel verschobene oder geneigte Stellung des Strahlerzeugers kann man z. B. anwenden, um zu vermeiden, daß von der Kathode ausgehende Strahlen direkt auf den Endbildleuchtschirm bzw. die Fotoschicht fallen.

Claims (13)

1. Patentansprüche:

   i. Anordnung

   an einem Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop mit vor dem Objekt liegenden Strahlablenkmitteln, dadurch gekennzeichnet, daß zur Justierung des Elektronenstrahlenbündels im Strahlengang hintereinander und parallel zur optischen Achse des Mikroskops vier Ablenksysteme liegen, von denen zwei in einer Ebene und die beiden anderen in einer zu dieser vorzugsweise senkrecht stehenden zweiten Ebene wirken, und daß die jeweils in derselben Ebene wirkenden Systeme in an sich bekannter Weise einander entgegengesetzte Krümmungen des Strahls bewirken.
2. 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwei in verschiedenen Ebenen wirkende Ablenksysteme, die voneinander unabhängig gesteuert werden, dazu dienen, den Auftreffpunkt des Strahlenbündels in der Objektebene beliebig zu verschieben.
3. 3. Anordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils die beiden in einer Ebene wirkenden Ablenksysteme derart gemeinsam steuerbar eingerichtet sind, daß sie einander entgegengesetzte Krümmungen des Strahls hervorrufen und daß sie dazu dienen, das Strahlenbündel bei in der Objektebene festgehaltenem Auftreffpunkt nach beliebigen Richtungen zu kippen.
4. 4. Anordnung nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß abwechselnd Ablenksysteme aufeinanderfolgen, die in verschiedenen Ebenen wirken.
5. 5. Anordnung nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß die jeweils in einer Ebene wirkenden Ablenksysteme wahlweise getrennt oder durch einen gemeinsamen Regler zusammen zur Wirkung gebracht werden können.
6. 6. Anordnung nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Ablenksysteme in einen gemeinsamen Halter eingebaut sind, der in das Elektronenmikroskop leicht lösbar eingesetzt ist.
7. 7. Anordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die am Halter befindlichen elektrischen Anschlußleitungen sich beim Ausbau des Halters zwangsläufig von zugeordneten, im Vakuumraum befindlichen Gegenkontakten lösen.
8. 8. Anordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Halter an der Kondensorlinse, und zwar vorzugsweise am Polschuhsystem dieser Linse befestigt ist.
9. 9. Anordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Halter als Träger eines Kondensorpolschuhsystems dient.
10. jo. Anordnung nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß der Halter mit den vier Ablenksystemen auswechselbar ist gegen einen Halter mit zwei Ablenksystemen, die dazu dienen, das Strahlenbündel um einen solchen Winkel zu kippen, wie er für die Herstellung von Rückstrahlungsaufnahmen geeignet ist.
11. 11. Anordnung nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, gekennzeichnet durch die Anwendung von magnetischen Ablenksystemen.
12. 12. Anordnung nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, gekennzeichnet durch einen Strahlerzeuger, der unbeweglich an dem die Abbildungslinsen enthaltenden Teil der Röhre befestigt ist.
13. 13. Anordnung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlerzeugerachse geneigt oder parallel verschoben zu der optischen Achse des Abbildungslinsensystems liegt.

    Angezogene Druckschriften:
    Deutsche Patentschrift Nr. 734 736.

    Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

    5637 11.53