DE846753C

DE846753C - Verfahren zur Herstellung von Mosaikelektroden

Info

Publication number: DE846753C
Application number: DEC3092A
Authority: DE
Inventors: Kurt Arthur Richard Samson
Original assignee: Cinema Television Ltd
Current assignee: Cinema Television Ltd
Priority date: 1939-07-24
Filing date: 1950-10-03
Publication date: 1952-08-18
Also published as: US2285058A; GB532525A

Description

(WiGBl. S. 175)

AUSGEGEBEN AM 18. AUGUST 1952

C joyj VIII c / 2i g

ist in Anspruch genommen

Die Erfindung bezieht sich auf Verbesserungen von Herstellungsverfahren für Mosaikelektroden, und sie betrifft besonders ein verbessertes Verfahren, bei dem die Herstellung der Elektroden durch Erhitzen eines einheitlichen metallischen Belags im Vakuum erfolgt. Es zeigt sich, daß ein dünner Belag von beispielsweise Silber, Antimon oder Wismut nicht in ein Mosaik umgewandelt werden kann durch Erhitzen im Vakuum, obwohl bei Anwesenheit von anderen Substanzen, wie Sauerstoff oder Wasserdampf, die Aufteilung eines einheitlichen Körpers von solchem Metall in ein Mosaik von einzelnen Teilchen eintritt. Die Zuführung von zusätzlichen Substanzen in der Absicht, ein Mosaik zu bilden, ist jedoch aus vielen Gründen ungünstig, und es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung von Mosaikelektroden vorzuschlagen, bei dem neben anderen auch dieser Nachteil in der früheren Methode umgangen wird.

Ernndungsgemäß wird ein Verfahren zur Herstellung eitler Mosaikelektrode vorgeschlagen, das darin besteht, mehr als ein Metall auf einen Träger aufzudampfen, um eine zusammengesetzte Schicht aus verschiedenen Metallen zu bilden und die zusammengesetzte Schicht im Vakuum zu erhitzen, um die Bildung eines Mosaiks zu erreichen.

Ferner wird gemäß der Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode vorgeschlagen, das darin besteht, einen Metallbelag auf einen Träger aufzudampfen, auf diesen Belag eine

Schicht von weiterem Metall aufzudampfen und die derart gebildete zusammengesetzte Schicht im Vakuum so zu erhitzen, daß ein Mosaik entsteht.

Gemäß einem Merkmal der Erfindung ist die Beschaffenheit der Metalle, die die zusammengesetzte Schicht bilden, derart, daß eines von ihnen allein nicht durch Erhitzen eines dünnen Belags davon im Vakuum in ein Mosaik überführt werden kann.

Gemäß einem weiteren Merkmal der Erfindung ίο wird die zusammengesetzte Schicht vor der Wärmebehandlung oberflächenoxydiert.

Als Beispiel eines Verfahrens gemäß der Erfindung wird die Herstellung einer Mosaikelektrode, die aus Silber und Antimon besteht, im folgenden beschrieben. Silber wird zunächst auf einen Träger aufgedampft, z. B. auf eine Glimmerplatte, bis die Lichtdurchlässigkeit auf 30 bis 40% reduziert ist. In dieser Stufe wechselt die Farbe des niedergeschlagenen Belags von Rosa auf Purpur. Antimon wird dann auf den Silberbelag aufgedampft, bis die Lichtdurchlässigkeit auf etwa 5 bis io°/o zurückgeführt ist. Der zusammengesetzte Belag wird dann auf eine Temperatur zwischen 400 und 500⁰ erhitzt, wobei er in ein Mosaik von gegeneinander isolierten Teilchen aufbricht, die dann photoempfindlich gemacht werden.

Wenn andere Metalle als Antimon benutzt werden sollen, so wird das oben beschriebene Verfahren gemäß einem Merkmal der Erfindung abgeändert, wie in dem folgenden Beispiel beschrieben ist. Ein Wismutbelag wird zunächst auf einen Träger aufgedampft und darauffolgend ein weiterer Belag von Silber. Der Silberbelag wird durch Zuführung von Sauerstoff in den Behälter bei geringem Druck und durch Erzeugung einer Glimmentladung zwischen dem Silberbelag und einer anderen Elektrode oxydiert. Der restliche Sauerstoff wird dann durch Pumpen entfernt, und der oxydierte Belag wird wie im vorigen erhitzt, bis er in ein Mosaik aufbricht. Darnach kann das Mosaik photoempfindlich gemacht werden.

Die Erfindung ist nicht begrenzt auf eines der oben angegebenen speziellen Beispiele, da auch andere Metalle in der Art benutzt werden können, wie sie der Erfindung entspricht.

Claims

PATENTANSPRÜCHE:

i. Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bildung einer zusammengesetzten Schicht aus verschiedenen Metallen mehrere Metalle auf einen Träger aufgedampft werden und daß diese zusammengesetzte Schicht zur Erzeugung eines Mosaiks im Vakuum erhitzt wird.
2. Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Metallschicht auf einen Träger aufgedampft wird und auf diese Schicht ein weiterer Metallbelag und die zusammengesetzte Schicht zur Bildung eines Mosaiks im Vakuum erhitzt wird.
3. Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die einzelnen Metalle, aus denen die zusammengesetzte Schicht gebildet wird, derart beschaffen sind, daß durch Erhitzen eines dünnen Belags eines einzelnen Metalls im Vakuum sich noch kein Mosaik bildet.
4. Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Silberbelag auf einen isolierenden Träger aufgedampft wird und auf dieses Silber eine Antimonschicht und die zusammengesetzte Silber-Antimon-Schicht im Vakuum erhitzt wird, bis sie in ein Mosaik von gegeneinander isolierten Teilchen aufbricht.
5. Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Wismutbelag auf einen isolierenden Träger aufgedampft wird und auf diesen Wismutbelag eine Silberschicht und daß der zusammengesetzte Wismut-Silber-Belag im Vakuum erhitzt wird, bis er in ein Mosaik von gegeneinander isolierten Teilchen aufbricht.
6. Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode nach Anspruch 1, 2 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß der zusammengesetzte Belag vor der Wärmebehandlung oberflächenoxydiert wird.
7. Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Silberschicht oxydiert wird, indem Sauerstoff bei niedrigem Druck zugeführt wird und eine elektrische Entladung zwischen dem Silberbelag und einer weiteren Elektrode erzeugt wird.
8. Verfahren zur Herstellung einer Mosaikelektrode nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Mosaik nach der Herstellung photoempfindlich gemacht wird.

5298 8.