DE68921933T2 - Vorrichtung und Verfahren für die Plasmabehandlung dünner Schläuche. - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren für die Plasmabehandlung dünner Schläuche.Info
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Description
- Die Erfindung betrifft Techniken und Instrumente zur Erleichterung des Anbringens von Zellen an einer Fläche und insbesondere eine Vorrichtung für die Plasmabehandlung der Lumenwand eines Rohres bzw. Schlauches von geringem Durchmesser in Vorbereitung der Zellablagerung.
- In den vergangenen drei Jahrzehnten fanden Gefäßtransplantate verbreitet Anwendung, um die Durchblutung in ischämischen Bereichen wiederherzustellen, sie für Hämodialysepatienten bereitzustellen und um arterielle Aneurysmen zu beheben. Im allgemeinen sind derartige Behandlungsmethoden zunächst erfolgreich, eine langfristige Prognose jedoch ist für Patienten, die Transplantate mit geringem Durchmesser empfangen, nicht ermutigend, hauptsächlich, weil Transplantate von 4mm oder weniger im Laufe der Zeit aufgrund der Thromben erzeugenden Natur des Transplantatmaterials verstopfen.
- Auf der Suche nach blutverträglichen Materialien für Gefäßtransplantate und andere biomedizinische Vorrichtungen sind ausgedehnte Untersuchungen vorgenommen worden. Synthetische Kunststoffe sind die bevorzugten Materialien, doch selbst solche Kunststoffe wie Polytetrafluorethylen und Silikongummiarten, die blutverträglicher als die meisten Kunststoffe sind, haben noch immer thromboseerzeugende Charakteristiken.
- Bei Transplantaten mit geringem Durchmesser treten die Probleme hinsichtlich Thrombenbildung und Verschluß verstärkt auf. Van Wachem et al. berichtete in Biomaterials 6, 403 (1985) über den klinischen Erfolg mit polymeren Transplantaten von mehr als 4 mm Durchmesser, daß jedoch Transplantate mit einem Durchmesser von weniger als 4 mm im allgemeinen aufgrund sofortigen Verstopfens zu enttäuschenden klinischen Ergebnissen führten. Ebenso gaben Baker et al. im American Journal of Surgery 150, 197 (1985) an, daß das langfristige Durchgängigsein bei Gefäßtransplantaten mit großem Durchmesser zwar relativ akzeptabel ist, Transplantate mit geringem Durchmesser jedoch (weniger als 5 mm) schlechte Raten für Langzeitdurchgängigkeit vorweisen.
- Lange Zeit wurde das natürlich vorkommende menschliche Endothel als ideale Blutoberflächen-Grenzfläche angesehen, und ein großer Anteil der gegenwärtigen Forschungsarbeit konzentriert sich auf Endotheliarisierungsverfahren. So beschreibt Belden et al. in Trans. Am. Soc. Artif. Intern. Organs. 28, 173 (1982) das Beimpfen von Gefäßtransplantaten aus Polyester mit einem Innendurchmesser von 4 mm mit endothelialen Zellen und die Durchgängigkeit nach der Implantation bei Hunden.
- Jarrell et al. (Annals of Surgery, 203, 671 (1986)) offenbarten einen hohen Prozentsatz des festen Anhaftens von endothelialen Zellen an mit blutplättchenreichem Plasma beschichtetem Polyester in 10 min gegenüber amnion/kollagenbeschichtetem Polyester in 30 min und gegenüber einfachem Polyester in zwei Stunden, daß jedoch nur die amnion/kollagenbeschichtete Fläche eine vollständige Propfenbedeckung bot.
- Die Modifikation polymerer Flächen durch Behandlung mit einer Auswahl von Plasmen zur Erfüllung verschiedener Zwecke ist bekannt. Im allgemeinen wird der Ausdruck "Plasma" zur Beschreibung des Zustands von ionisiertem Gas verwendet. Ein Plasma besteht aus energiereichen, positiv oder negativ geladenen Ionen, negativ geladenen Elektronen sowie neutralen Spezies. Wie auf diesem Gebiet bekannt, kann ein Plasma durch Verbrennung, Flammen, einen physikalischen Schock oder am häufigsten durch elektrische Entladung wie Glimm- oder Glühentladung erzeugt werden. Bei Hochfrequenz-(HF)-Entladung wird ein zu behandelndes Substrat in einer Vakuumkammer angeordnet und Gas mit niedrigem Druck in das System eingeleitet. Das Gas wird einer elektrischen Hochfrequenz-Entladung, entweder kapazitiv oder induktiv, unterzogen, wodurch ein elektromagnetisches Feld erzeugt wird. Die Ionisierung des Gases findet statt als Ergebnis der Absorption von Energie aus dem Feld, woraus sich hochenergetische Partikel ergeben, die die Oberfläche des Substrates modifizieren.
- Das Ausmaß der Substratoberflächenmodifikation durch Plasma hängt von der Anzahl und durchschnittlichen Energie der auf die Oberfläche auftreffenden Partikel ab. Die Energie der geladenen Partikel in einem Plasma läßt sich am besten durch das Verhältnis (E/p) der elektrischen Feldstärke E zu dem Hintergrundgasdruck p definieren. Dieses Verhältnis ist eine relative Dimension der durchschnittlichen Energie, die ein Ion oder Elektron zwischen aufeinanderfolgenden Kollisionen mit neutralen Gasmolekülen erlangen kann. Aus dem Verhältnis geht hervor, daß die Energie eines Plasmapartikels entweder durch Erhöhen der Feldstärke oder durch Verringern des Gasdrucks erhöht werden kann. Die Feldstärke kann durch Steigern der Stärke der elektrischen Entladung erhöht werden; dies geht jedoch mit zusätzlicher Wärmeentwicklung einher. Wenn andererseits der Gasdruck zu sehr verringert wird, sind nicht genug Moleküle für die Ionisierung vorhanden.
- Plasmen werden verwendet, um die Oberflächenbenetzbarkeit, die statischen Eigenschaften und die Aufnahmefähigkeit einer Oberfläche in bezug auf das Aufbringen einer Schicht aus einem anhaftenden polymeren Material zu verändern. Das Japanische Patent Nr. 122529 offenbart die Vorbereitung einer Oberfläche für die Transplantatpolymerisation, die dadurch erfolgt, daß ein Schlauch in einer isolierenden Umhüllung angeordnet wird, eine Innenfläche des Schlauches mit einem induktiv erzeugten Plasma aktiviert und die Fläche einem polymerisierbaren Monomer ausgesetzt wird.
- Van Wachem et al. (supra) offenbart, daß eine Kultur aus endothelialen Zellen auf Glas oder durch Glühentladung behandeltem Polystyrol angelegt werden kann.
- In Trans. Am. Soc. Artif. Intern. Organs, 30, 432 (1984) offenbart Garfinkel et al. die Plasmaaufbringung einer Fluorkohlenstoffpolymerbeschichtung auf der Lumenfläche von porösen Polyestertransplantaten mit einem Innendurchmesser von 4-5 mm. In diesem Bericht dringt ein außerhalb des Transplantates erzeugtes induktives Plasma zu dem Lumen vor, indem es durch die Poren des Transplantates dringt. Für die behandelten Transplantate ist eine merklich verbesserte Durchgängigkeit angegeben.
- Die Oberbegriffe der unabhängigen Ansprüche 1 und 6 betreffen eine Vorrichtung und ein Verfahren, wie sie aus EP-A-0 089 124 bekannt sind, Die bekannte Vorrichtung und das bekannte Verfahren weisen eine Kammer auf, die durch ein Isolierrohr begrenzt ist. Um die Außenfläche des Isolierrohres sind Ringelektroden angeordnet. Das Isolierrohr wird evakuiert, und man läßt ein Gas mit einer vorbestimmten Rate durch das Isolierrohr strömen. An die Elektroden wird eine Hochspannung angelegt, so daß durch das Isolier- und das Kunststoffrohr eine Entladung erfolgt. Die Elektroden werden an dem Isolierrohr entlang bewegt und die Behandlung des darin enthaltenen Kunststoffrohres wird über die gesamte Länge des Kunststoffrohres ausgeführt. Eine derartige Behandlung erfordert aufgrund des Ringspaltes zwischen dem äußeren Isolierrohr und dem zu behandelnden inneren Kunststoffrohr Hochleistung zur Erzeugung des elektrischen Feldes für die Entladung. Nur ein geringer Prozentsatz der Energie erreicht das Innenlumen des Kunststoffrohres.
- Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Aufbringen eines Plasmas auf eine Innenwand eines nicht leitfähigen Schlauches bzw. Rohres zu schaffen, wobei nur wenig Energie erforderlich ist und Wärmeentwicklung, die an den polymeren Materialien mit niedrigen Erweichungspunkten thermischen Schaden verursachen könnten, vermieden wird.
- Diese Aufgabe wird mit einer Vorrichtung nach Anspruch 1 bzw. einem Verfahren nach Anspruch 6 gelöst.
- Die Vorrichtung zur Modifikation einer Innenfläche eines Gegenstandes mittels eines Plasmas weist im Inneren eines Gehäuses einen Generator für ein elektromagnetisches Feld auf. Das Gehäuse hat eine Verbindung mit einer Vakuumquelle und einer Gaseinleitanordnung. Der Generator ist mit einer HF-Energiequelle verbunden und nach allen Richtungen von einem Dielektrikum umschlossen, mit Ausnahme in Richtung einer dem Generator benachbarten Plasmazone. Die Plasmazone nimmt den der Plasmabehandlung zu unterziehenden Gegenstand auf.
- Bei einer bevorzugten erfindungsgemäßen Vorrichtung ist das Gehäuse ein Kanister mit einer oberen und einer unteren Kammer, die durch eine Membran voneinander getrennt sind, wobei der Gaseinlaß an die obere Kammer angeschlossen ist und der Vakuumanschluß sich an der unteren Kammer befindet. Der bevorzugte Generator weist mehrere parallele Plattenelektroden auf, und das Dielektrikum ist ein Block aus Polyolefin von hohem Molekulargewicht, in dessen Innerem eine Ausnehmung vorgesehen ist, die die Elektroden aufnimmt. Eine Bohrung, die die Plasmazone aufweist, erstreckt sich durch das Dielektrikum und ermöglicht den Gasaustausch von der oberen Kammer durch die Ausnehmung und eine Öffnung in der Membran in die untere Kammer. Ein der Plasmabehandlung zu unterziehender Schlauch ist in der Bohrung angeordnet und erstreckt sich von der oberen Kammer in die untere Kammer. Eine Leitung durch die Membran sorgt für den Gasaustausch zwischen der oberen und der unteren Kammer. Die Leitung regelt den Gasstrom von der oberen Kammer zu der unteren Kammer, so daß in der unteren Kammer ein geringerer Gasdruck beibehalten werden kann. Durch den Deckel des Kanisters ragt ein Stab hindurch und greift am oberen Ende des der Plasmabehandlung zu unterziehenden Schlauches an, so daß ein langer Schlauch langsam durch die Plasmazone zwischen den Elektroden gezogen werden kann.
- Bei einem anderen bevorzugten Ausführungsbeispiel der Vorrichtung ist der Schlauch zwischen Stützschienen angeordnet, und das Dielektrikum, in dem die Elektroden angeordnet sind, wird seitlich die Schienen entlang gezogen, um das Plasma an die gesamte Lumenwand eines langen Schlauches abzugeben.
- Nach einem anderen Aspekt der Erfindung umfaßt ein Verfahren zum Aufbringen eines Plasmas auf einer Innenwand eines Gegenstandes die Schritte des Positionierens des Gegenstandes in der Plasmazone der erfindungsgemäßen Vorrichtung, des Evakuierens der Kammern, des Einleitens eines Gases in die Kammern und der Zufuhr von Energie zu den Elektroden. Es wird ein elektromagnetisches Feld gebildet, das durch die Wände des Gegenstandes hindurchgeht und das Gas im Inneren des Gegenstandes ionisiert, so daß sich ein Plasma ergibt, das die Innenwand des Gegenstands behandelt. Bei dem bevorzugten Verfahren wird die Lumenwand eines Schlauches behandelt, indem der Schlauch durch die Plasmazone gezogen wird.
- Ein alternatives erfindungsgemäßes Verfahren umfaßt die Schritte des Festhaltens des Schlauches zwischen den Stützschienen und des Bewegens des Dielektrikums, in dem die Elektroden angeordnet sind, von einem Ende des Schlauches zum anderen an den Schienen entlang.
- Erfindungsgemäß schirmt das Dielektrikum die Elektroden auf allen Seiten ab, mit Ausnahme der einander zugewandten Seiten, so daß eine kapazitiv gekoppelte Plasmaentladung nur in der Plasmazone zwischen den Elektroden gebildet wird. Diese Anordnung ermöglicht die gleichzeitige Behandlung von einem oder mehr Schläuchen, die allesamt ein bei einem relativ niedrigen Energieniveau erzeugtes intensives Plasma erhalten. Es ist nur schwache Energie erforderlich, da alle externen Entladungen, die Energie streuen, verhindert werden. Die zur Erzeugung des Plasmas erforderliche schwache Energie verhindert die Wärmeentwicklung, die an den polymeren Materialien mit niedrigen Erweichungspunkten thermischen Schaden verursachen könnte. Durch Regelung des Druckgefälles von einem Ende des Schlauches zum anderen wird das Plasma in der Plasmazone zwischen den Elektroden gleichmäßig erzeugt, so daß die Lumenflächen langer Schläuche mit einem Innendurchmesser (ID) von nur 2,5 mm oder sogar weniger gleichmäßig modifiziert werden.
- Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht einer erfindungsgemäßen bevorzugten Vorrichtung zur Plasmaerzeugung,
- Fig. 2 ein Vertikalschnitt durch die Vorrichtung von Fig. 1 entlang der Linie 2-2,
- Fig. 3 ein Horizontalschnitt durch einen Teil der Vorrichtung von Fig. 1 entlang der Linie 3-3,
- Fig. 4 zeigt vergrößert im Schnitt eine bevorzugte Gasdurchflußregelung der Vorrichtung von Fig. 2,
- Fig. 5 ist eine Explosionsdarstellung der Öffnungs- und Schließstruktur der Vorrichtung von Fig. 1,
- Fign. 6 und 7 sind vertikal geschnittene Teilansichten der Vorrichtung von Fig. 1 und zeigen eine alternative Struktur zum Öffnen der Vorrichtung,
- Fig. 8a zeigt einen horizontalen Schnitt durch die Vorrichtung von Fig. 1 entlang der Linie 8-8,
- Fig. 8b zeigt einen Fig. 8a ähnlichen horizontalen Schnitt, der jedoch einen alternative Struktur zum dichten Öffnen und Schließen der Vorrichtung,
- Fig. 9 ist eine vertikal geschnittene Teilansicht einer Modifikation der Vorrichtung von Fig. 1 entlang der Linie 2-2, wobei eine alternative Struktur zum Ziehen des zu behandelnden Schlauches durch die Plasmazone dargestellt ist,
- Fig. 10 ist eine vertikal geschnittene Teilansicht der Vorrichtung von Fig. 1 entlang der Linie 2-2, wobei ein für die Plasmabehandlung bereiter langer Schlauch dargestellt ist,
- Fig. 11 ist ein Vertikalschnitt durch eine Modifikation der Vorrichtung von Fig. 1 entlang der Linie 2-2 und zeigt eine vereinfachte Vorrichtung zur Behandlung eines stationären Schlauches,
- Fign. 12 und 13 sind vertikal geschnittene Teilansichten der Vorrichtung von Fig. 1 entlang der Linie 2-2, wobei ein zur Behandlung durch ein alternatives Ausführungsbeispiel des Generator-Dielektrikum-Teils der erfindungsgemäßen Vorrichtung bereitstehender Schlauch dargestellt ist,
- Fig. 14 ist eine perspektivische Ansicht einer bevorzugten erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem langen Schlauch, und
- Fig. 15 ist ein Vertikalschnitt durch die Vorrichtung von Fig. 14 entlang der Linie 15-15.
- Zwar läßt sich die Erfindung durch Ausführungsbeispiele in zahlreichen verschiedenen Formen durchführen, doch hier werden bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung im einzelnen beschrieben, mit der Maßgabe, daß die vorliegende Offenbarung als ein Beispiel für die Grundbegriffe der Erfindung anzusehen ist und nicht dazu gedacht ist, die Erfindung auf die dargestellten und beschriebenen Ausführungsbeispiele zu beschränken. Der Umfang der Erfindung bemißt sich durch die angefügten Ansprüche und deren Äquivalente.
- Gewöhnlich wird eine durch parallele Plattenelektroden erzeugte Plasmaentladung durch den gesamten, die Elektroden umgebenden Bereich geleitet. Die Vorrichtung der vorliegenden Erfindung verhindert jegliche wesentliche Entladung außer derjenigen, die sich innerhalb eines Schlauches in der Plasmazone zwischen den Elektroden entwickelt. Die Lumenwand eines in der Plasmazone angeordneten Schlauches ist einem intensiven Plasma ausgesetzt, da nichts von der an die Elektroden angelegten Energie als externe Plasmaentladung vergeudet wird.
- Erfindungsgemäß ist eine Glühentladung bevorzugt, da es ein im wesentlichen "kaltes" Plasma ist. Die bevorzugte Vorrichtung erzeugt kapazitiv ein Glühentladungsplasma zwischen den parallelen Plattenelektroden. Das erzeugte Plasma ist einheitlich und läßt sich leicht steuern und verleiht daher der Lumenwand eines Schlauches mit geringem Durchmesser eine gleichmäßige Modifikation. Es können mehrere Schläuche auf einmal behandelt werden, so daß die Vorrichtung für wenigstens halbautomatisierte Schlauchbehandlung verwendet werden kann.
- Wie aus den Zeichnungen hervorgeht, zeigen die Fign. 1 und 2 einen erfindungsgemäßen Plasmagenerator 10, der einen Kanister 12 mit einer oberen Kammer 14 mit einer Seitenwand 15 und mit einer unteren Kammer 16 mit einer Seitenwand 17 aufweist. Die Kammern 14 und 16 sind durch eine Membran 18, durch die eine Öffnung 19 hindurchgeht, voneinander getrennt. Die obere Kammer 14 weist eine Tür 20 auf, die Zugang zu dem Inneren der Kammer schafft und dicht verschlossen werden kann, wenn die Vorrichtung evakuiert wird, wie im folgenden beschrieben wird. Ein Deckel 21 der oberen Kammer 14 weist eine durchgehende Öffnung 22 auf. Ein Stab 23 mit einem Griff 24 zum Festhalten ragt dicht und gleitend verschiebbar durch die Öffnung 22 in die obere Kammer 14 hinein.
- Ein Gaseinlaß 26 weist ein Ventil 28 und ein Rohr 30 auf, das zum Anschluß an eine (in den Zeichnungen nicht dargestellte) Gasquelle ausgebildet ist. Die Gasquelle kann ein einzelnes Gas sein oder eine Mischung aus Gasen, die vor dem Eintritt in das Rohr 30 in einer herkömmlichen Vorrichtung vermischt werden. Ein Einlaßrohr 32 verbindet das Ventil 28 mit der oberen Kammer 14 und verläuft durch den Port 34 in dem Deckel 21. Durch die Seitenwand 15 verläuft ein Koaxialkabel 36 und ist an eine (in den Zeichnungen nicht dargestellte) HF-Energieversorgungseinheit angeschlossen. An der unteren Kammer 16 ist eine Düse 38 angeschlossen, die derart ausgebildet ist, daß sie an eine (in den Zeichnungen nicht dargestellte) Vakuumquelle angeschlossen werden kann. An die obere Kammer 14 und die untere Kammer 16 sind Druckmesser 40 bzw. 41 angeschlossen.
- Wie in Fig. 2 deutlicher zu erkennen, besteht ein auf der Membran 18 getragenes Dielektrikum 42 vorzugsweise aus zwei Blöcken 43 und 44 aus Kunststoff mit hohem Molekulargewicht, wie beispielsweise Polyethylen, die mit ihren einander zugewandten Flächen aneinandergesetzt sind. Im Inneren der Blöcke 43 und 44 sind Vertiefungen 45 und 46 angeordnet. Die Vertiefungen 45 und 46 können beispielsweise durch spanabhebende Bearbeitung in den Blöcken 43 und 44 ausgebildet sein, oder die Blöcke können so geformt sein, daß sie die Vertiefungen enthalten. Ferner begrenzen die Blöcke 43 und 44 Nuten 47 und 48 derart, daß, wenn die Blöcke 43 und 44 mit ihren einander zugewandten Flächen aneinandergesetzt sind, die Vertiefungen 45 und 46 sich verbinden, um den Hohlraum 50 zu bilden, und die Nuten 47 und 48 sich verbinden, um die Bohrung 52 zu bilden, die sich durch den Hohlraum 50 erstreckt.
- Die Bohrung 52 nimmt, gut, doch gleitend passend, einen einer Plasmabehandlung zu unterziehenden Kunststoff schlauch 54 auf. Der Schlauch 54 weist ein proximales Ende 55 und ein distales Ende 56 auf. In den Vertiefungen 45 und 46 sind in satt anliegender Druckpassung zwei Elektroden 58 angeordnet. Die Tiefe der Vertiefungen ist dergestalt, daß, wenn die Elektroden 58 in den Vertiefungen angeordnet sind, die Elektroden direkt an den Schlauch 54 angrenzen und die Plasmazone als den zwischen den Elektroden befindlichen Teil der Bohrung 52 definieren. Das Koaxialkabel 36 leitet Energie von der HF-Quelle zu den Elektroden 58.
- Der Stab 23 mit einem inneren Ende 59 erstreckt sich durch die Öffnung 22 und durch die obere Kammer 14. An dem inneren Ende 59 des Stabes 23 ist vorzugsweise ein Haken 60 befestigt, der derart ausgebildet ist, daß er mit einer Öse 61 zusammengreifen kann, die vorzugsweise am proximalen Ende 55 des Schlauches 54 angebracht ist.
- Eine Gasdurchflußbegrenzungsleitung 64 ermöglicht den Gasaustausch durch die Membran 18 zwischen der oberen Kammer 14 und der unteren Kammer 16, wie nachfolgend im einzelnen beschrieben.
- Einzelheiten der Beziehung zwischen Dielektrikum 42, Kunststoffschlauch 54 und Elektroden 58 sind in Fig. 3 dargestellt. Die Elektroden 58 sind als satt anliegend in dem Hohlraum 50 positioniert und bündig mit einem oder mehr Schläuchen 54 in einer oder mehr Bohrungen 52 dargestellt, wobei die Elektroden vollständig durch das Dielektrikum 42 abgeschirmt sind.
- Bei der erfindungsgemäßen Plasmabehandlung der Lumenwand der Schläuche 54 mit geringem Durchmesser wird bevorzugt, wenn dies auch nicht wesentlich ist, daß zwischen dem proximalen Ende 55 und dem distalen Ende 56 des Schlauches ein Druckgefälle aufrechterhalten wird. Diese Druckdifferenz ist vorzugsweise klein genug, so daß sie die Erzeugung eines einheitlichen Plasmas an beiden Enden des Schlauches zuläßt, und dennoch groß genug, um einen Strom des Betriebsgases durch den Schlauch zu erzeugen und dadurch die entgasten Komponenten aus dem Schlauch abzulassen. Im allgemeinen läßt sich bei einem beliebigen gegebenen Satz von Plasmaparametern in der Plasmazone ein einheitliches Plasma erzielen, wenn ein Druckgefälle von etwa 0 bis 30%, vorzugsweise von etwa 10%, zwischen den Schlauchenden 55 und 56 aufrechterhalten wird. Wenn also beispielsweise der Gasdruck am proximalen Ende 55 14,0 Torr beträgt, kann der bevorzugte Druck am distalen Ende 56 etwa 12,6 Torr sein.
- Dem Fachmann ist ersichtlich, daß ein Druckgefälle zwischen den proximalen und distalen Enden 55 und 56 erzeugt werden kann, indem die Rate des Gasstroms durch den Einlaß 26 und die Rate der Evakuierung durch die Düse 38, wie dies durch die Druckmesser 40 bzw. 41 in den oberen und unteren Kammern 14 und 16 überwacht wird, geregelt wird. Eine bevorzugte Struktur zur Entwicklung und Aufrechterhaltung des gewünschten Druckgefälles ist, wie in Fig. 2 gezeigt, die Gasdurchflußbegrenzungsleitung 64. Die Leitung 64 erstreckt sich von der oberen Kammer 14 zu der unteren Kammer 16 durch die Membran 18 und dient zur Begrenzung des Gasdurchflusses zwischen den Kammern.
- Für manche Anwendungsbereiche der erfindungsgemäßen Plasmaerzeugungseinrichtung kann das bevorzugte Druckgefälle zwischen den Kammern anders als 10% sein. Fig. 4 zeigt eine bevorzugte Einrichtung zum Einstellen des Verhältnisses auf einfache Weise dadurch, daß in das Innere einer Leitung 64 eine Hülse 66 eingeschoben wird. Die Hülse 66 kann eine beliebige Wandungsdicke aufweisen, wodurch das Verhältnis ohne Modifikation der Leitung 64 selbst eingestellt wird.
- Wie oben erwähnt, weist die Vorrichtung eine Struktur zum Gewähren des Zugangs zum Inneren des Kanisters auf. In den Fign. 1 und 5 ist eine geeignete Struktur als Tür 20 dargestellt. Fig. 5 zeigt die Tür 20, die auf die Öffnung 70 in der Seitenwand 15 der oberen Kammer 14 paßt. Die Tür 20 weist an den Ecken vorzugsweise Zapfen 72 auf, die in Schlitze 74 der Seitenwand 15 eintreten, wodurch die Zapfen 72 zum Positionieren der Tür 20 über der Öffnung 70 dienen. Ein O-Ring 76 in einer Nut 78 der Seitenwand 15 bildet mit der Tür 20 eine Dichtung, wenn durch die Düse 38 ein Vakuum angelegt wird.
- Die Fign. 6-8 zeigen Alternativstrukturen zu der Tür von Fig. 5 zum Öffnen des Kanisters 12. (Bei der folgenden Beschreibung der alternativen Ausführungsbeispiele der Erfindung sind die Teile, die den zuvor in bezug auf die Vorrichtung von Fig. 1 beschriebenen Teilen entsprechen, mit derselben Basiszahl bezeichnet, der ein kleingeschriebener Buchstabe folgt.)
- In Fig. 6 weist die Bodenwand 81 der unteren Kammer 16a eine Öffnung 82 und ein Gewinde 83 an der Innenfläche der Wand 81 auf. Eine Nut 84 in der Bodenwand 81 nimmt einen O-Ring 85 auf. Eine Deckplatte 86 weist ein Gewinde 87 auf, das mit dem Gewinde 83 zusammengreift, wodurch die Oberseite 88 der Deckplatte 86 abdichtend an dem O-Ring 85 angreift.
- Wie in Fig. 7 gezeigt, sind die Kammern 14b und 16b lösbar befestigt und durch ineinanderpassende Gewinde 90 bzw. 92 an den Seitenwänden 15b und 17b abgedichtet. Zum Abdichten der Gewindeverbindung kann ein beliebiges herkömmliches Mittel, wie beispielsweise Schmierfett, verwendet werden.
- Die oberen und unteren Kammern können trennbar sein. Fig. 8a zeigt die Seitenwand 17c der unteren Kammer 16c, die eine ebene Oberseite 104 aufweist. Fig. 8b zeigt einen O-Ring 100 in einer Nut 102 der ebenen Oberseite 104. Der O-Ring 100 greift abdichtend an der Unterseite der Seitenwand der oberen Kammer an, wenn durch die Düse 38 das Vakuum angelegt wird.
- Zur Befestigung des Stabes 23 an dem Schlauch 54 können andere (in den Zeichnungen nicht dargestellte) Strukturen als Haken 60 und Öse 61, die in Fig. 2 gezeigt sind, verwendet werden. Beispielsweise können das innere Ende 59 des Stabes 23 und das proximale Ende 55 des Schlauches 54 durch eine Klammer aneinander befestigt oder lediglich mit Schnur oder Draht zusammengebunden werden. Alternativ kann ein kleiner Magnet, der mit Druckpassung in das proximale Ende 55 des Schlauches 54 eingesetzt ist, an einem an dem inneren Ende 59 des Stabes 23 angebrachten Stück magnetischen Materials angreifen.
- Ein in Fig. 9 gezeigtes alternatives Ausführungsbeispiel der Erfindung verwendet ebenfalls Magnetismus, um den Schlauch durch die Plasmazone zu ziehen, und macht gleichzeitig die Gleitdichtung, an der potentiell ein Leck auftreten kann, zwischen dem Stab 23 und der Decke 21 von Fig. 2 überflüssig. In Fig. 9 ist ein vorzugsweise schlankes Glasgehäuse 110 mit einem geschlossenen Ende 111 permanent dicht in die Öffnung 22d des Deckels 21d eingesetzt. In dem Gehäuse 110 ist gleitend verschiebbar ein Stab 113, vorzugsweise aus magnetischem Material oder mit magnetischen Umreifungen versehenem Glas, angeordnet. Ein Ende 114 des Stabes 113 ist durch eine beliebige Einrichtung, wie oben beschrieben, an dem proximalen Ende 55d des Schlauches 54d befestigt. Ein Magnet 115 kann, wenn er an einer Außenwand 116 des Gehäuses 110 angeordnet ist, gleitend nach oben geschoben werden, um zu bewirken, daß der Stab 113 in dem Gehäuse 110 gleitet und den Schlauch 54d mitzieht.
- Mit der Vorrichtung und dem Verfahren gemäß der Erfindung kann eine beliebige Länge des Schlauches 54 behandelt werden. Aus Fig. 2 ist ersichtlich, daß das distale Ende 56 das Ende eines Wickels des Schlauches 54 sein kann, der in der unteren Kammer 16 angeordnet ist. Fig. 10 zeigt den Wickel 120 des Schlauches 54e mit dem distalen Ende 56e. Vorzugsweise weist der Wickel 120 mehrere Löcher 122 auf, die mit etwa 1 Meter Abstand voneinander angebracht sind, um den Durchtritt des Gases durch den Schlauch 54e zu unterstützen. Bei diesem Ausführungsbeispiel der Erfindung hat sich herausgestellt, daß die Löcher 122 vorzugsweise einen Durchmesser aufweisen, der gleich dem ID des Schlauches 54e ist. Wenn der Wickel 120 einer Plasmabehandlung unterzogen wird, ist es praktisch, das Ausführungsbeispiel des in Fig. 6 dargestellten Kanisters zu verwenden, bei dem Zugang zu der unteren Kammer zum Einführen des Wickels gegeben ist.
- Für manche Plasmabehandlungen kann eine vereinfachte Vorrichtung gemäß Fig. 11 geeignet sein. Wie man sieht, ist Fig. 11 der Vorrichtung der Fign. 1 und 2 ähnlich, außer daß ihr die Membran 18, die Leitung 64, die Messer 40 und 41 und die Struktur fehlen, mit der der Schlauch durch die Plasmazone gezogen wird. In Fig. 11 weist ein Plasmagenerator 10f einen Kanister 12f auf, in dem ein Dielektrikum 42f auf einem Umfangsrand 130 gelagert ist. Das Dielektrikum 42f besteht aus Blöcken 43f und 44f mit Vertiefungen 45f und 46f, die einen Hohlraum 50f bilden. Die Rillen 47f und 48f bilden im zusammengepaßten Zustand die Bohrung 52f, die den Schlauch 54f aufnimmt. In den Vertiefungen 45f und 46f sind Elektroden 58f positioniert, die zwischen sich in der Bohrung 52f eine Plasmazone bilden.
- Fig. 12 zeigt mehrere Ringelektroden 134 um den Schlauch 54g und innerhalb des Dielektrikums 42g. Leitungen 136 verbinden die Ringelektroden 134 mit einer (nicht dargestellten) Energiequelle. Die Elektroden 134 können in einem Abstand von 1-10, vorzugsweise von etwa 2-5 cm voneinander angeordnet sein.
- Obwohl zwischen den parallelen Plattenelektroden kapazitiv erzeugtes Plasma bevorzugt ist, kann zur Behandlung einer Lumenfläche erfindungsgemäß auch ein induktiv erzeugtes Plasma verwendet werden. Fig. 13 zeigt eine für dieses Ausführungsbeispiel der Erfindung geeignete Anordnung. Um den Schlauch 54h ist eine Wicklung 140 mit mit einer (nicht dargestellten) Energiequelle verbundenen Leitungen 142 herumgewickelt und vollständig von dem Dielektrikum 42h umgeben.
- Noch andere Anordnungen der Teile des erfindungsgemäßen Generators für die Plasmabehandlung von Schlauchlumina mit durch ein Dielektrikum abgeschirmten Elektroden sind vorstellbar. Beispielsweise kann angrenzend an eine von einem Dielektrikum umschlossene Elektrode ein stationärer Schlauch positoniert sein und die Elektroden-Dielektrikum-Einheit an dem Schlauch vorbeibewegt werden, um das Plasma in dem Tubenlumen zu erzeugen.
- Die Fign. 14 und 15 zeigen ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Plasmagenerators, mit einer sich bewegenden Elektroden-Dielektrikum-Anordnung, die für die Plasmabehandlung von Lumenwänden langer Schläuche besonders geeignet ist. Das in diesen Figuren dargestellte Ausführungsbeispiel ist vorzugsweise im wesentlichen horizontal angeordnet.
- Ein Plasmagenerator 200 weist ein Gehäuse 202 auf, welches vorzugsweise zylindrisch ist und eine proximale Endplatte 204, eine distale Endplatte 206 und eine Seitenwand 208 aufweist. Obwohl das Gehäuse 202 aus einem beliebigen geeigneten Material wie Metall, Keramik, Kunststoff oder Glas sein kann, ist es in Fig. 14 als aus dem bevorzugten Glas oder transparenten Kunststoff bestehend dargestellt, so daß die Beziehung der inneren Teile zueinander auf einfache Weise sichtbar gemacht wird.
- Das Gehäuse 202 ist von einer Membran 214 mit einem durch diese hindurchgehenden Loch 216 zur Aufnahme eines Schlauches 218 in eine proximale Kammer 210 und eine distale Kammer 212 unterteilt. Eine Gasdurchflußbegrenzungsleitung 220 und fakultative Hülsen ermöglichen den Gasaustausch durch die Membran 214, wie oben in bezug auf die Leitung 64 beschrieben.
- Die Endplatte 204 und die Membran 214 sind über beliebige geeignete Mittel, vorzugsweise durch einen (nicht dargestellten) O-Ring, abdichtend mit der Seitenwand 208 verbunden. Die Endplatte 206 kann ebenfalls abdichtend mit der Seitenwand 208 verbunden sein, ist jedoch vorzugsweise einstückig an die Seitenwand angeformt.
- Durch die distale Endplatte 206 erstrecken sich ein Gaseinlaß 222 und ein Druckmesser 223. Durch die proximale Endplatte erstrecken sich eine Vakuumdüse 224 und ein Druckmesser 225, wobei alle mit ihren jeweiligen Endplatten vakuumdichte Dichtungen bilden.
- In der distalen Kammer 212 ist eine Elektroden-Dielektrikum- Anordnung 230 abnehmbar angeordnet, welche Elektroden 231, ein Dielektrikum 232, eine obere Schlauchstützschiene 234, eine untere Schlauchstützschiene 236, eine distale Klemme 238 und eine proximale Klemme 240 aufweist. Ein Koaxialkabel 242 verläuft abdichtend durch ein Loch 244 in der distalen Endplatte 206 und liefert HF-Energie an die Elektroden. Ein Magnet 246 ist durch beliebige geeignete Mittel, wie beispielsweise Klebstoff, an dem Dielektrikum 232 befestigt.
- Wie Fig. 15 zeigt, sitzen die Elektroden 231 satt anliegend in den Hohlräumen 248 in dem Dielektrikum 232, wie oben für die Elektroden 58 beschrieben. Zwischen der oberen Schiene 234 und der unteren Schiene 236 ist in der Plasmazone direkt an die Elektroden 231 angrenzend ein Schlauch 218 angeordnet. Die Anordnung 230 ist derart ausgebildet, daß sie aus dem Gehäuse 202 entnommen werden kann, um, wie im folgenden beschrieben, den Schlauch 218 einzusetzen.
- Alle bisher beschriebenen Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Vorrichtung können mit einem herkömmlichen Hochfrequenz- HF-Generator und Impedanzabgleichnetzwerk und einem herkömmlichen Vakuumsystem verwendet werden. Eine derartige Ausrüstung ist auf dem Gebiet bekannt (wie beispielsweise in U.S.-Patent Nr. 3 847 652), und weitere Einzelheiten im Hinblick auf diese Aspekte der Erfindung sind für ein vollständiges Verständnis der Erfindung nicht erforderlich.
- Bei der Vorbereitung des Generators 10 für die Benutzung wird der Kanister 12 geöffnet und der der Plasmabehandlung zu unterziehende Schlauch 54 wird so in die Bohrung 52 eingeführt, daß er die Plasmazone zwischen den Elektroden 58 besetzt. Mit beliebigen geeigneten Mitteln wird die Öse 61 an dem proximalen Ende 55 des Schlauches angebracht. Der Haken 60 an dem inneren Ende 59 des Stabes 23 greift in die Öse 61 ein und der Kanister 10 wird dicht verschlossen.
- Das Einführen eines Schlauches in den Generator 200 kann dadurch erfolgen, daß die proximale Endplatte 204 und die Membran 214 von dem Gehäuse 202 entfernt und die Anordnung 230 vorwärtsgeschoben wird, bis sie vollständig von dem Gehäuse 202 entfernt ist. Die Klemmen 238 und 240 werden geöffnet und abgenommen und das Dielektrikum 232 wird gleitend über die oberen und unteren Schienen 234 und 236 geschoben, bis es sich von ihnen gelöst hat. Die Schienen werden dann voneinander getrennt, und ein der Plasmabehandlung zu unterziehender Schlauch 218 wird zwischen ihnen angeordnet. Der Generator wird dann wieder zusammengebaut, indem diese Schritte in umgekehrter Reihenfolge durchgeführt werden.
- Um den Schlauch der Plasmabehandlung zu unterziehen, wird der bestückte und zusammengebaute Generator 10 oder 200 durch Anbringen der Vakuumdüse an einer Vakuumpumpe evakuiert. Durch den Gaseinlaß wird Gas von einer Gasquelle in die evakuierte Vorrichtung eingeleitet, bis das gewünschte Gasdruckgefälle über die Leitung erreicht ist. Wie oben erwähnt, können in die Leitung eine oder mehr Hülsen eingesetzt werden, wenn die Reduzierung des Durchmessers der Leitung erwünscht ist. Durch Anlegen von Strom der gewünschten Frequenz von dem HF-Generator an die Elektroden wird in der Plasmazone ein HF-Elektromagnetfeld erzeugt. Die Ionisierung des Gases in dem Schlauch wird durch das Feld induziert, und das entstehende Plasma in dem Schlauch modifiziert die Lumenwand des Schlauchabschnittes in der Plasmazone.
- Wenn in Betracht gezogen wird, eine Schlauchlänge, die gleich oder geringer als die Länge der Elektroden ist, einer Plasmabehandlung zu unterziehen, kann vorzugsweise eine Vorrichtung gemäß Fig. 11 verwendet werden. Wenn die Länge des zu behandelnden Schlauches größer ist als die Länge der Elektroden, kann der gesamte Schlauch mit der Vorrichtung von Fig. 10 oder vorzugsweise mit der Vorrichtung von Fig. 14 behandelt werden. Ein (in Fig. 14 nicht dargestellter) externer Magnet wird direkt über dem Magnet 246 auf der Außenseite der Seitenwand 208 angeordnet. Dadurch greifen die beiden Magnete magnetisch aneinander an, so daß seitliches Bewegen des externen Magneten entlang der Seitenwand bewirkt, daß die Dielektrikum-Elektroden-Einheit die Schienen entlang in beide Richtungen gleiten kann, wie durch die gestrichelten Pfeile in Fig. 14 angezeigt. Die Bestimmung einer geeigneten Rate zum Ziehen des Schlauches von Fig. 10 oder der Elektroden-Dielektrikum-Einheit von Fig. 14 zur Erzielung des gewünschten Grades an Oberflächenmodifikation liegt im Ermessen des Fachmannes.
- Die Vorrichtung und das Verfahren gemäß der Erfindung können zur Behandlung einer Lumenfläche mit einem Plasma verwendet werden, das unter beliebigen geeigneten Plasmaparametern, die entsprechend der gewünschten Oberflächenbehandlung zu bestimmen sind, aus einem beliebigen Gas erzeugt wird. So kann das Gas, ohne daß dies als Einschränkung zu verstehen ist, Ammoniak, Stickstoff, Neon, Argon, Xenon, Krypton, Sauerstoff oder Mischungen aus diesen sein. Außerdem kann das Gas ein eingedampftes organisches Material sein, wie beispielsweise ein Ethylenmonomer oder ein Siloxan von geringerem Molekulargewicht, um auf der Lumenwand des Schlauches plasmapolymerisiert oder -abgelagert zu werden.
- Geeignete Plasmaparameter können Leistungspegel von etwa 10 bis 1000 Watt, eine HF-Frequenz von etwa 1 bis 100 Megahertz, Aussetzzeiten von etwa 5 Sekunden bis 12 Stunden, Gasdrücke von etwa 0,1 bis 100 Torr und eine Gasdurchflußrate von etwa 1-200 cm³/sec sein.
- Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren, bei dem eine Leitung mit geringem Durchmesser einer Plasmabehandlung unterzogen wird, um die Lumenwand als Vorbereitung für die Anbringung endothelialer Zellen zu modifizieren, wird ein bevorzugtes Plasma unter Verwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung aus Ammoniak oder Stickstoff mit einem Leistungspegel von 50-125 Watt, einer HF- Frequenz von etwa 8-30 Megahertz, einer Aussetzzeit für einen bestimmten Bereich des Schlauches von etwa 0,2 bis 2,0 min, einem Gasdruck von etwa 1-20 Torr und einer Gasdurchflußrate von etwa 5 bis 20 cm³/sec erzeugt.
- Die Dielektrika 42 und 232 können aus jedem Material bestehen, das verhindert, daß das elektromagnetische Feld in einer anderen Richtung angelegt wird als in der Plasmazone zwischen den Elektroden. Geeignete Materialien sind beispielsweise Glas, Gummi, Keramik und vorzugsweise ein Polyolefin mit hohem Molekulargewicht, wie beispielsweise Polypropylen oder Polyethylen. Es hat sich herausgestellt, daß, wenn die Elektroden von 1 bis 5, vorzugsweise von etwa 2 1/2 cm dielektrischem Material umgeben sind, eine ausreichende Abschirmung geboten wird, so daß im wesentlichen kein Plasma außerhalb der Plasmazone gebildet wird.
- Geeignete Elektroden können aus einem beliebigen leitfähigen Material sein, wobei Aluminium und rostfreier Stahl bevorzugt werden. Bevorzugte Elektroden haben eine Länge von 2 bis 10 cm, obwohl jede Länge, die mit den Abmessungen des Gehäuses verträglich ist, geeignet ist. Die Breite und die Höhe der Elektroden sind gleichermaßen bedeutungslos, obwohl bevorzugte Elektroden eine Dicke von etwa 0,1 cm und eine Breite von etwa 0,5 bis 2,0 cm aufweisen.
- Wie oben erwähnt, kann das Gehäuse 202 aus Metall, Kunststoff oder vorzugsweise Glas bestehen. Dem Fachmann ist selbstverständlich ersichtlich, daß ein Metallgehäuse ein Nichteisengehäuse sein muß, wenn zum Bewegen der Elektroden Magnete verwendet werden sollen. Die Schlauchstützschienen können gleichermaßen aus Glas oder Kunststoff sein, vorzugsweise aus einem Kunststoff mit einer Oberfläche mit geringer Reibung.
- Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist zwar in bezug auf die Plasmabehandlung eines Schlauches von geringem Durchmesser im Detail beschrieben worden, doch ist es offensichtlich, daß durch bloßes Verändern der Abmessungen des Dielektrikums und der Elektroden jeder Gegenstand mit einer Innenfläche, die mit einem Plasmagas in Berührung gebracht werden kann, behandelt werden kann. Der einer Plasmabehandlung zu unterziehende Gegenstand kann aus einem beliebigen nichtleitenden Material bestehen, wie beispielsweise Glas, Kunststoff, Keramik, Gummi und Zusammensetzungen daraus. Leitfähige Materialien wie Metalle können keine Innenflächenbehandlung durch die erfindungsgemäße Vorrichtung erfahren, da elektromagnetische Felder nicht durch Leiter dringen. Ein bevorzugtes Material für ein Gefäßtransplantat ist Polyurethan, weil sein hoher Grad an Nachgiebigkeit und Flexibilität es einem menschlichen Blutgefäß am ähnlichsten macht.
- Auf diese Weise erzeugt die erfindungsgemäße Vorrichtung ein Plasma in dem Lumen eines Schlauches von nur 2,5 mm oder sogar noch kleinerem ID. Das Plasma wird in einer Plasmazone zwischen Elektroden erzeugt, die von einem Dielektrikum abgeschirmt werden, das im wesentlichen sämtliche Plasmaerzeugung außerhalb der Plasmazone verhindert. Durch die Beschränkung der Plasmaerzeugung auf die Plasmazone wird keine Energie vergeudet, so daß das gewünschte Plasma im Inneren des Schlauches in der Plasmazone erzeugt wird, ohne daß an die Elektroden Energie im Übermaß angelegt wird. Folglich wird die Wärmeentwicklung auf ein Minimum reduziert, wodurch ermöglicht wird, die Lumenwand eines aus wärmeempfindlichem Material bestehenden Schlauches einer Plasmabehandlung zu unterziehen.
Claims (8)
1. Vorrichtung zum Aufbringen eines Plasmas auf eine Innenwand
eines nicht leitfähigen Schlauches bzw. Rohres (54;218),
mit:
a) einem eine Kammer umgebenden Gehäuse (12;202),
b) wobei die Kammer eine Plasmazone zur Aufnahme des
einer Plasmabehandlung zu unterziehenden Schlauches
(54;218) aufweist,
c) einer Erzeugungseinrichtung zum Erzeugen eines
elektromagnetischen Feldes in der Plasmazone,
d) einer Einrichtung zum Öffnen und abdichtenden
Schließen des Gehäuses (12;202),
e) einer Einrichtung (36;242) zum Zuführen von Energie zu
der Erzeugungseinrichtung,
f) einer Einrichtung zum Leiten eines Gases zu der ersten
Kammer, und
g) einer Einrichtung (38;224) zum Anschließen der Kammer
an eine Vakuumquelle,
dadurch gekennzeichnet,daß
die Erzeugungseinrichtung für ein elektromagnetisches Feld
in der Kammer positioniert und von einem Block (44;45) aus
Kunststoffdielektrikum (42;232) umgeben ist, wobei der
Block (44;45) eine durchgehende Bohrung (52) aufweist,
wobei die Bohrung (52) einen Hohlraum (50;248) aufweist,
der die Erzeugungseinrichtung derart enthält, daß die
Erzeugungseinrichtung in allen Richtungen, außer zu der
Plasmazone
hin, von dem Block aus Kunststoffdielektrikum
umgeben ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der
die Kammer eine erste und eine zweite Kammer
(14,16;212,210) aufweist, die durch eine Membran (18,216),
die eine Öffnung (19;216) zur Aufnahme des der
Plasmabehandlung zu unterziehenden Schlauches (54;218) begrenzt,
voneinander getrennt sind,
die Abschirmeinrichtung in der ersten Kammer (14;212)
positioniert ist, und
die Erzeugungseinrichtung für das elektromagnetische Feld
Elektroden (58;231) aufweist, die in dem Hohlraum (50;248)
angeordnet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, ferner mit einer
Einrichtung zum Aufrechterhalten eines Druckunterschiedes
zwischen der ersten und der zweiten Kammer (14,16;212,210).
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, ferner mit
einer Zugeinrichtung (23,24,60), die abdichtend durch eine
Decke (21) des Gehäuses (12) hindurchgeht, um den
Gegenstand (54) durch die Plasmazone zu ziehen.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, ferner mit
einer Stützschiene (234,236) für den durch die Bohrung
gehenden Schlauch (218), wobei das Dielektrikum (232) auf
der Schiene (234,236) gleitend verschiebbar montiert ist.
6. Verfahren zur Behandlung einer Lumenwand eines Schlauches
(54;218) mit einem Plasma, mit den Schritten:
a) Positionieren des Schlauches (54;218) in einer
Plasmazone, die sich in der Nähe mehrerer Elektroden
(58;231) in einem eine Kammer (14,16;212,210)
umschließenden Gehäuse befindet,
b) Evakuieren der Kammer (14,16;212,210),
c) Ausströmenlassen eines Gases in die Kammer
(14,16;212,210), wobei das Gas die Lumenwand des
Schlauches (54;218) kontaktiert, und
d) Zuführen von Hochfrequenzenergie zu den Elektroden
(58;231), wobei die Energie ein elektromagnetisches
Feld entwickelt, wobei das Feld das mit der Lumenwand
in Kontakt befindliche Gas ionisiert, wobei die
Ionisierung ein Plasma verursacht, wobei die Lumenwand
durch das Plasma behandelt wird,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Elektroden (58;231) in einem Block (50) aus
Kunststoffdielektrikum (42;232) eingeschlossen sind, der in der
Kammer (14,16;212,210) positioniert ist, wobei der Block
Vertiefungen (45,46) aufweist, die die Elektroden (58;231)
derart enthalten, daß jede Elektrode in allen Richtungen,
außer zu der Plasmazone hin, von dem Block aus
Kunststoffdielektrikum umgeben ist.
7. Verfahren nach Anspruch 6, ferner mit dem Schritt des
Ziehens des Schlauches (54) durch die Plasmazone.
8. Verfahren nach Anspruch 6, ferner mit dem Schritt des
Bewegens des Dielektrikums (232) mit den darin eingeschlossenen
Elektroden (231) an dem Schlauch (218) in der Plasmazone
vorbei.
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