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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur
Herstellung einer Vorform einer optischen Faser mit einem
Schritt zur Außenabscheidung von gegebenenfalls mit wenigstens
einer Dotierverbindung dotiertem Siliciumdioxid durch
Injektion mithilfe wenigstens eines, vorzugsweise eines
Injektionsmittels wenigstens einer Verbindung, welche
Siliciumdioxid oder ein Vorläufer von Siliciumdioxid ist, nahe
einer durch ein Heizmittel geschaffenen Heizzone, wobei der
Schritt wenigstens einen Durchlauf in der Längsachse der
Vorform des Injektionsmittels und des Heizmittels aufweist.
Sie betrifft gleichermaßen die durch dieses Verfahren
gewonnene Vorform und die durch Faserziehen aus dieser Vorform
hergestellte optische Faser.
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Die Herstellung der Vorform, welche zur Fertigung einer
optischen Faser durch Faserziehen bestimmt ist, aus einer
weiteren sogenannten primären Vorform, welche den optisch
führenden Teil der von der genannten Faser abstammenden
optischen Faser umfasst, durch eine Technik zur lateralen
Außenabscheidung, wie beispielsweise die Plasmanachfüll-
Technik, ist bekannt, und beispielsweise in der
Patentanmeldung EP A1 0 450 465 beschrieben.
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Die opto-geometrischen Eigenschaften einer optischen Faser
bestimmen deren Übertragungseigenschaften. Sie umfassen die
Geometrie der Faser, insbesondere die Oberflächen der
verschiedenen konzentrischen Abschnitte der quergeschnittenen
Faser und die optischen Eigenschaften dieser unterschiedlichen
Abschnitte. Die opto-geometrischen Eigenschaften ergeben sich
aus jenen der Vorform, aus welcher die optische Faser
hergestellt worden ist.
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Die Patentanmeldung EP-A1-0 719 738 beschreibt ein Verfahren
zum Fertigen einer Vorform einer optischen Faser, welche das
Plasmanachfüllen einsetzt, d. h. ein Verfahren mit
Außenabscheidung, welches als Heizmittel einen Plasmabrenner
verwendet, wobei in den Plasmabrenner gegebenenfalls dotiertes
Siliciumdioxid, welches im allgemeinen in Form von
Siliciumdioxidkörnchen vorliegt, injiziert wird, wodurch sich eine
Vorform mit verbesserten opto-geometrischen Eigenschaften
ergibt, und wobei wenigstens ein Plasmanachfülldurchlauf für
eine Verbesserung der opto-geometrischen Eigenschaften der
Vorform moduliert wird. Der modulierte Nachfülldurchlauf ist
einer der letzten Nachfülldurchläufe; während der
nichtmodulierten Durchläufe ist die Dicke der abgeschiedenen
Nachfüllschicht entlang des verwendbaren Teils der Vorform im
wesentlichen konstant. Die Vorgehensweise beim modulierten
Nachfüllen besteht hauptsächlich in einer kontrollierten
axialen Modifizierung von wenigstens einem Parameter der
Plasmanachfüllung, insbesondere und vorzugsweise der Durchsatz
an Nachfüllkörnern. Die genannte axiale Modifizierung umfasst
eine Auswertung der axialen Abweichungen des Durchmessers der
Vorform und eine axiale Modifizierung des Parameters in dem
Sinn, dass der modulierte Durchlauf zum Nachfüllen die
genannten axialen Abweichungen des Durchmessers vermindert.
Mit anderen Worten, der Nachfülldurchlauf wird als Funktion
der zuvor bestimmten axialen Abweichungen des Durchmessers
moduliert, und der Durchmesser der Vorform in der Weise
vergrößert - oder vermindert -, dass die genannten
Abweichungen nach dem Nachfülldurchlauf geringer - oder sogar
ausgeglichen - werden.
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Jedoch ist in der Patentanmeldung EP-A1-0 719 738 die Ausbeute
der Außenabscheidung nicht optimiert: tatsächlich ist das
Injektionsmittel, Körner in diesem Fall, in Bezug auf den
Plasmabrenner über die gesamte Dauer der Außenabscheidung in
einer bestimmten Weise positioniert. Nun ist es aber so, dass
das Heizmittel, nämlich der Plasmabrenner, hauptsächlich wegen
einer Wirbelströmung der Plasmagase im Innern und am Ausgang
des Brenners nicht in symmetrischer Weise in Bezug auf dessen
Achse auf die aus dem Injektionsmittel austretenden Partikel
oder reaktiven Gase wirkt. Deshalb ist im Falle eines
Außenabscheidungsverfahrens mit in zwei Richtungen sich
ändernden Abscheidungsdurchläufen gemäß dem Stand der Stand
der Technik die Position des Injektionsmittels typischerweise
ein Kompromiss. Man platziert es in einer Zwischenposition
zwischen der optimierten Position einer Translationsrichtung
der Vorform und der optimierten Position der anderen
Translationsrichtung der Vorform. Infolgedessen ist die
Außenabscheidung nicht optimiert, insbesondere auf Höhe des
Ausstoßes der Abscheidung; tatsächlich werden die aus dem
Injektionsmittel austretenden Körner oder reaktiven Gase, die
nicht in der Heizzone des Heizmittels reagiert haben, einfach
beseitigt ohne, dass diese vorher hätten reagieren können.
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Andererseits ist es schwierig, bei einem solchen Verfahren die
Abscheidung von Dotiermittel(n), wie Fluor, mit bestimmten
Einbringungsgraden in der Vorform zu bewirken. Tatsächlich
kann es vorkommen, dass die Position des Injektionsmittels
nicht ermöglicht, eine richtige Kinetik der
Abscheidungsreaktionen der dotierten Reagenzien zu erhalten,
und zwar hauptsächlich wegen der Temperatur und des für die
aus dem Injektionsmittel austretenden Reagenzien
zurückzulegenden Abstands, wenn die genannten Reagenzien
gasförmig sind. Beispielsweise ist Fluor zu reaktiv, wobei
sich, anstelle der Abscheidung von Siliciumdioxid und der
Fluorverbindung auf der Vorform, eine unerwünschte Verbindung
aus SiF&sub4; bildet, welche nicht in die Vorform eingebracht wird.
Schlimmstenfalls wird das Dotiermittel Fluor nicht nur nicht
in die Vorform eingebracht, sondern stört und verhindert sogar
die Abscheidung von Siliciumdioxid auf die Vorform.
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Im Rahmen der Technologie des OVD-Abscheidens (Akronym für
"Outside Vapor Deposit"), bei welcher eine Außenabscheidung
von gegebenenfalls dotiertem Siliziumdioxid in einer Folge von
Durchläufen der Außenabscheidung von Ruß in Gegenwart des
Heizmittels erfolgt, welches im allgemeinen ein
Knallgasgebläse ist, stellt sich bei der Verglasung, die nach
einer solchen Abscheidung im allgemeinen mittels eines Ofens
stattfindet, auch das Problem der Optimierung der
Außenabscheidung und das Problem der Abscheidung bestimmter
Dotiermittel bei bestimmten Bedingungen. Man kann auch in
Betracht ziehen eine OVD-Abscheidung zu realisieren, indem als
Heizmittel ein Plasmabrenner anstelle des Knallgasgebläses
verwendet wird.
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Das erfindungsgemäße Verfahren zielt hauptsächlich darauf ab,
die Abscheiderate des Verfahrens mit Außenabscheidung zu
erhöhen, indem die Position des (oder der) Injektionsmittel(s)
in Bezug auf das Heizmittel optimiert wird. Sie zielt auch
darauf ab, die Abscheidung des(r) Dotiermittel(s) gleichzeitig
mit der Abscheidung Von Siliziumdioxid bei guten Bedingungen
zu ermöglichen.
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Zu diesem Zweck ist das erfindungsgemäße Verfahren dadurch
gekennzeichnet, dass während wenigstens einer Abscheidung,
vorzugsweise während praktisch der gesamten Abscheidung, die
relativen Positionen des (oder der) Injektionsmittel(s) und
des Heizmittels derart eingestellt werden, dass das
gegebenenfalls dotierte Siliciumdioxid auf Höhe der Heizzone
abgeschieden wird, unabhängig davon, welche Position das
Heizmittel einnimmt.
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In dem Fall einer direkten Verglasung, bei dem eine
Abscheidung von gegebenenfalls dotiertem Siliziumdioxidruß und
gleichzeitig eine Verglasung des Rußes erfolgt, ist es sehr
wichtig eine gute Qualität der Vorform zu haben, und
insbesondere keine Blasen in die Vorform einzubringen. Bei
einer merklichen Verbesserung der Abscheiderate von
Siliciumdioxid von im allgemeinen 20 bis 30% in Bezug auf eine
Kompromissposition für die Lokalisierung des
Injektionsmittels, weist das erfindungsgemäße Verfahren den
Vorteil auf, eine Abscheidung zu erhalten, welche im
wesentlichen frei von Blasen ist.
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Das erfindungsgemäße Verfahren weist auch den Vorteil auf,
dass, hauptsächlich bei der Injektion von gasförmigen
Reagenzien, bestimmte Gehalte an Dotiermitteln in dem durch
Nachfüllen abgeschiedenen Siliziumdioxid erzielt werden
können, was bei einer gewöhnlichen Positionierung des
Injektionsmittels nur schlecht oder überhaupt nicht möglich
ist.
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Vorteilhaft erfolgt die Einstellung bei jedem Wechsel des
Durchlaufs.
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Somit weist das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil auf,
dass in Bezug auf das Verfahren, bei dem das Injektionsmittel
während der gesamten Dauer des Nachfüllens in einer
vorbestimmten Position fixiert ist, hauptsächlich bei der
Abscheidung von Körnern, in den beiden Richtungen des
Nachfülldurchgangs, bei einer konstanten Abscheidequalität,
eine Erhöhung der Abscheidegeschwindigkeit der Partikel,
welche auf der Vorform in einer lateralen Nachfüllschicht
abgeschieden werden, ermöglicht ist.
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Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung, bei welcher die
Hauptachse des Heizmittels in einer Ebene liegt, die im
wesentlichen senkrecht zur Längsachse der Vorform ist, nimmt
die Hauptachse des Injektionsmittels einen gegebenen und
festen Winkel zur Achse des Heizmittels ein, und befindet sich
in einer Ebene, die im wesentlichen senkrecht zur Längsachse
der Vorform ist, wobei die relative Versetzung des
Injektionsmittels und des Heizmittels zueinander in einer
Richtung erfolgt, die parallel zur Längsachse der Vorform ist.
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Bei dieser Konfiguration sind, hauptsächlich für den Fall des
Plasmanachfüllens, die Orientierungen der Hauptachsen des
Injektionsmittels und des Heizmittels typisch für die
Außenabscheidung von gegebenenfalls dotiertem Siliziumdioxid,
und das erfindungsgemäße Verfahren kann leicht auf bestehende
Vorrichtungen angepasst werden. Die relative Versetzung des
Injektionsmittels und des Heizmittels erfolgt unter
Beibehaltung der Achsen der genannten Mittel in einer Ebene
senkrecht zur Längsachse der Vorform, und mit einem konstanten
Winkel zwischen den genannten Achsen. Somit ist es leicht, die
Automatisierung der relativen Position des Injektionsmittels
und des Heizmittels bestehenden Vorrichtungen hinzuzufügen.
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Das erfindungsgemäße Heizmittel ist, hauptsächlich in dem Fall
der Plasmatechnologie, jedoch auch in dem Fall der sogenannten
OVD-Technologie, im allgemeinen ein Plasmabrenner.
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Wenn wenigstens zwei Injektionsmitteln vorliegen, ist das
Vorstehende auf jedes der Injektionsmittel anzuwenden. In
einem solchen Fall befinden sich die Injektionsmittel im
allgemeinen in derselben Ebene senkrecht zur Längsachse der
Vorform.
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In dem Fall einer Abscheidung von nichtdotiertem
Siliciumdioxid, beispielsweise durch Injektion von Körnern
oder durch Injektion von reaktiven Gasen, wird die
Positionierung des Injektionsmittels, welche in einem solchen
Fall hauptsächlich eine Funktion der Verschiebungsrichtung der
Vorform in Bezug auf das Heizmittel ist, im allgemeinen
entsprechend der Fertigung der Vorform kontinuierlich
eingestellt. Dies kann durch eine kontinuierliche Messung des
Durchmessers erfolgen, wobei eine solche Messung in der
Patentanmeldung EP-A1-0 719 738 für den Fall beschrieben ist,
bei dem das Heizmittel ein Plasmabrenner ist. Die Auswertung
der Position des Injektionsmittels gemäß der Erfindung kann
auch durch eine Eichung mithilfe von als Versuchsvorformen
dienenden Vorformen eingestellt werden.
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In dem Fall eines Abscheidens von dotiertem Siliciumdioxid,
was zumeist durch Injektion von reaktivem Gas erfolgt, findet
die Positionierung des Injektionsmittels im allgemeinen durch
eine Eichung mithilfe von als Versuchsvorformen dienenden
Vorformen statt. Tatsächlich ist eine solche Positionierung in
einem solchen Fall hauptsächlich eine Funktion der
Verschiebungsrichtung der Vorform in Bezug auf das Heizmittel,
sowie der zu erhaltenden Dotierung bei gegebenem Durchmesser
der Vorform entsprechend dem gewünschten Brechungsindexprofil.
Für eine Eichung muss man also anhand von einer oder zwei
Versuchsvorformen verschiedene Positionen des
Injektionsmittels in Bezug auf das Heizmittel als Funktion der
Geschwindigkeit der Verschiebung bei gegebenem
Brechungsindexprofil auswerten.
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Durch das Lesen der folgenden Beschreibung, die nicht
beschränkend ist, wird die Erfindung besser verstanden und es
ergeben sich weitere Merkmale und Vorteile, wobei Bezug auf
die Fig. 1 bis 5 genommen wird.
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Die Fig. 1 stellt in sehr schematischer Weise eine
Vorrichtung zum Plasmanachfüllen dar, durch welche das
Verfahren der Erfindung ausgeführt werden kann.
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Die Fig. 2 stellt eine schematische Ansicht, gemäß der Linie
I-I (siehe Fig. 1), der Position verschiedener Elemente der
Vorrichtung von Fig. 1 in einer Kompromissposition
entsprechend dem Stand der Technik dar, und zwar für den Fall
einer Linksverschiebung der Vorform 3 in Bezug auf die Düse 5
und den Brenner 4.
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Die Fig. 3 stellt eine schematische Ansicht, gemäß der Linie
I-I (siehe Fig. 1), der Position verschiedener Elemente der
Vorrichtung von Fig. 1 in einer Kompromissposition
entsprechend dem Stand der Technik dar, und zwar für den Fall
einer Rechtsverschiebung der Vorform 3 in Bezug auf die Düse 5
und den Brenner 4. Der Unterschied zur Fig. 2 liegt in der
Richtung der genannten Verschiebung.
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Die Fig. 4 stellt eine schematische Ansicht, gemäß der Linie
I-I (siehe Fig. 1), der Position verschiedener Elemente der
Vorrichtung von Fig. 1 in einer erfindungsgemäß optimierten
Position dar, und zwar für den Fall einer Linksverschiebung
der Vorform 3 in Bezug auf die Düse 5 und den Brenner 4.
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Die Fig. 5 stellt eine schematische Ansicht, gemäß der Linie
I-I (siehe Fig. 1), der Position verschiedener Elemente der
Vorrichtung von Fig. 1 in einer erfindungsgemäß optimierten
Position dar, und zwar für den Fall einer Rechtsverschiebung
der Vorform 3 in Bezug auf die Düse 5 und den Brenner 4. Der
Unterschied zur Fig. 4 liegt in der Richtung der genannten
Verschiebung.
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Die Fig. 1 stellt in sehr schematischer Weise eine
Vorrichtung zum Plasmanachfüllen mit einem Raum 1 dar, welcher
ein durchsichtiges Fenster 2, eine vom Ende her gesehene
Vorform 3, auf welche ein Plasmabrenner 4, welcher das
erfindungsgemäße Heizmittel darstellt, und eine
Versorgungsdüse für Nachfüllkörner 5, mit der Mündung 5a,
welche das erfindungsgemäße Injektionsmittel darstellt,
gerichtet sind, umfasst. Außerhalb des Raums 1 ist eine hinter
dem Fenster 2 angeordnete CCD-Kamera 6 auf die Vorform 3 mit
der Längsachse X gerichtet. Sie liefert eine Messung des
Durchmessers der Vorform an der Stelle, auf welche sie
gerichtet ist, in Form eines über die Leitung 7 an eine
Steuervorrichtung 8 für den Nachfüllprozess übertragenen
Werts. Die Vorrichtung 8 empfängt über eine Mehrfachleitung 9
weitere Kenngrößen in Bezug auf den Zustand des
Nachfüllprozesses. Unter dem Einfluss eines internen
Steuerprogramms für den Nachfüllprozess mit konstantem
Körnerdurchsatz, gibt die Vorrichtung 8 an eine
Ausgangsleitung 10, welche zur Steuervorrichtung 11 führt,
einen Steuerwert für die Positionierung der Düse 5 in Bezug
auf den Brenner 4 und der Vorform 3 aus, wobei in der Folge
durch Versetzen der Düse 5 entlang einer Achse, die parallel
zur Längsachse X der Vorform 3 ist, die Düse 5 positioniert
wird. Als Referenzwert wird derjenige genommen, bei dem sich
die Düse 5 und der Brenner 4 in derselben Ebene befinden,
welche im wesentlichen senkrecht zur Achse der Vorform ist.
Die Vorrichtung 8 gibt über eine Mehrfach-Ausgangsleitung 12
noch weitere Steuerdaten aus, welche weitere Merkmale des
Steuerprozesses bestimmen.
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Alle Elemente der in Fig. 1 gezeigten Vorrichtung sind dem
Fachmann bekannt. Weitere Elemente, die nicht dargestellt
sind, sind gleichermaßen bekannt. So sind die Stützmittel der
Vorform 3 mit Rotations- und Translationsbewegung, ein
Stützschlitten des Plasmabrenners 4 und der Düse mit
Translationsbewegung parallel zur Längsachse der Vorform 3,
Mittel zum Auswerten der Winkelposition der Vorform 3 und der
Längsposition des Schlittens beispielsweise in der
europäischen Patentanmeldung EP-A1-0 440 130 beschrieben.
Erfindungsgemäß umfasst der Stützschlitten der Düse 5 und der
Brenner 4 auch ein internes Mittel zum Stützen der Düse 5 mit
einer Translationsbewegung, um die Düse 5 in Bezug auf den
Brenner 4 zu positionieren. Alle diese Mittel erlauben in
bekannter Weise die Vorform 3 vom Brenner 4 entsprechend dem
Wachstum der Vorform 3 zu entfernen. Mittel, die es
ermöglichen die Kamera 6 auf aufeinanderfolgende Stellen der
Vorform 3 innerhalb eines Messdurchlaufs zu richten, welche in
Form eines zweiten Schlittens für eine mit der Versetzung des
ersten Schlittens gekoppelten Versetzung vorliegen können,
gehören ebenso zum Stand der Technik.
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Das Plasmanachfüllen erfolgt mit Durchläufen von rechts nach
links, und anschließend von links nach rechts, in deren
Verlauf der Plasmabrenner 4 und die Düse 5 die Länge der
Vorform 3 überstreichen. Vorzugsweise erfolgt erfindungsgemäß
die Änderung der Position der Düse 5 in Bezug auf den Brenner
4 bei jeder Änderung der Translationsrichtung des Brenners 4
in Bezug auf die Vorform 3 am Ende eines Durchgangs.
Typischerweise ist in Fig. 2 und 3, die im weiteren
beschrieben werden, entsprechend dem Stand der Technik die
Positionierung der Düse 5 in Bezug auf den Brenner 4 fest und
folglich identisch, was auch immer die Translationsrichtung
der Vorform 3 in Bezug auf den Brenner 4 bei jedem Durchlauf
ist. In den Fig. 4 und 5, die nachfolgend beschrieben
werden, ist erfindungsgemäß die Positionierung der Düse 5 für
jede Translationsrichtung der Vorform 3 in Bezug auf den
Brenner 4 verschieden, wobei diese Positionierung bei jeder
Richtungsänderung am Ende eines Durchgangs modifiziert wird.
Vorzugsweise ist diese Positionierung für eine gegebene
Translationsrichtung gleich, jedoch kann diese Positionierung
auch im Verlauf des Prozesses variieren, indem sie mit dem
Durchmesser der Vorform gekoppelt ist.
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Alle Steuervorgänge sind optimiert, um eine große Ausbeute der
abgeschiedenen Menge von Siliziumdioxid, bei einer gegebenen
Translationsgeschwindigkeit und bei einem gegebenen
Brechungsindexprofil der Nachfüllung, zu erhalten.
Gleichzeitig macht die Kamera 6 einen Messdurchlauf, bei
welchem aufeinanderfolgende Werte des Durchmessers der Vorform
3 über die gesamte Länge geliefert werden.
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Die Fig. 2 stellt eine schematische Ansicht der Position von
verschiedenen Elementen der Vorrichtung von Fig. 1 in einer
Kompromissposition entsprechend dem Stand der Technik dar, und
zwar für den Fall einer Linksverschiebung (Pfeil F) der
Vorform 3 in Bezug auf die Düse 5 und den Brenner 4. Die
Translationsrichtung der Vorform 3 ist durch den Pfeil F
angegeben. Die Düse 5 ist in schematischer Weise einfach durch
ihre Mündung 5a dargestellt. Man sieht einen Abscheidungskegel
14 der Partikel oder der reaktiven Gase, welche aus der Düse 5
austreten, sowie ein von dem Plasmabrenner 4 kommendes Plasma
15. Durch die Zone ABCD ist eine warme Zone der Vorform 3
angegeben. Man sieht auch, dass der Kegel 14 über die warme.
Zone ABCD hinausgeht, und dass es eine kalte Zone BCE, in der
Fig. 2 gestrichelt dargestellt, des Kegels 14 gibt. Wie zuvor
erklärt wurde, weist ein solches Abscheiden auf eine kalte
Zone den Nachteil auf, dass die Ausbeute der Abscheidung dann,
wenn man bestimmte Dotiermittel injizieren will, verringert
oder sogar verhindert ist.
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Die Fig. 3 stellt eine schematische Ansicht der Position von
verschiedenen Elementen der Vorrichtung von Fig. 1 in einer
Kompromissposition entsprechend dem Stand der Technik dar, und
zwar für den Fall einer Rechtsverschiebung (Pfeil F) der
Vorform 3 in Bezug auf die Düse 5 und den Brenner 4. Der
Unterschied zur Fig. 2 liegt in der Richtung der genannten
Verschiebung. Die Translationsrichtung des Brenners ist durch
den Pfeil F' angegeben. Man erkennt, wie in der Fig. 2, den
Kegel 14 zum Abscheiden der Partikel oder der reaktiven Gase,
welche aus der Düse 5 durch die Mündung 5a austreten, sowie
das Plasma 15 und die Zone ABCD, die warme Zone der Vorform 3.
Der Kegel 14 ragt über die warme Zone ABCD hinaus, und es gibt
eine kalte Zone BCE.
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Die Fig. 4 stellt eine schematische Ansicht der Position
verschiedener Elemente der Vorrichtung von Fig. 1 in einer
erfindungsgemäß optimierten Position dar, und zwar für den
Fall einer Linksverschiebung der Vorform 3 in Bezug auf die
Düse 5 und den Brenner 4. Als stromabwärts des Brenners wird
der Teil der Vorform bezeichnet, der während des dargestellten
Durchlaufs bereits einer Abscheidung unterworfen war. Die Düse
5 hat stromabwärts in Bezug auf die Translationsrichtung der
Vorform 3 in Bezug auf den Brenner 4 eine Achse mit einem
Abstand d von der Achse des Brenners. Als Folge liegt der
Kegel 14 der Abscheidung der Partikel oder der Gase, die aus
der Düse 5 durch die Mündung 5a austreten, auf Höhe der
Vorform 3, gänzlich in der warmen Zone ABCD der Vorform 3. Es
gibt keine kalte Zone.
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Die Fig. 5 stellt eine schematische Ansicht der Position
verschiedener Elemente der Vorrichtung von Fig. 1 in einer
erfindungsgemäß optimierten Position dar, und zwar für den
Fall einer Rechtsverschiebung der Vorform 3 in Bezug auf die
Düse 5 und den Brenner 4. Die Achse der Düse 5 hat
stromabwärts in Bezug auf die Translationsrichtung der Vorform
3 hinsichtlich des Brenners 4 einen Abstand d von der Achse
des Brenners 4, der zu dem in der Fig. 4 dargestellten
Abstand d gleich ist. Als Folge liegt der Kegel 14 der
Abscheidung der Partikel oder der Gase, die aus der Düse 5
durch die Mündung 5a austreten, auf Höhe der Vorform 3,
gänzlich in der warmen Zone ABCD der Vorform 3. Im allgemeinen
hat das Heizmittel keine zylindrische Symmetrie. So weist die
Achse der Düse 5 stromabwärts in Bezug auf die
Translationsrichtung der Vorform 3 in Bezug auf den Brenner 4
einen Abstand d', welcher von dem in der Fig. 4 dargestellten
Abstand d verschieden ist, von der Achse des Brenners 4 auf.
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Die vorstehende Beschreibung wurde für den Fall angegeben, bei
dem die relative Verschiebung des Heizmittels, nämlich der
Brenner 4, und des Injektionsmittels, nämlich die Düse 5,
durch Verschiebung des Injektionsmittels relativ zum
Heizmittel erfolgt. Selbstverständlich ist es im Rahmen der
Erfindung auch möglich, dass die Verschiebung des Heizmittels
relativ zum Injektionsmittel in umgekehrter Weise erfolgt,
wobei ein im wesentlichen identisches Ergebnis erzielt wird.
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Selbstverständlich ist die Erfindung nicht auf die oben
beschriebenen Darstellungen beschränkt. Insbesondere ist sie
für die Plasma-Nachfüllverfahren, jedoch auch für andere
Nachfüllverfahren, wie das OVD-Verfahren, geeignet.