DE4305119C2 - MOS-Speichereinrichtung zur seriellen Informationsverarbeitung - Google Patents
MOS-Speichereinrichtung zur seriellen InformationsverarbeitungInfo
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- 230000010365 information processing Effects 0.000 title claims description 4
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 36
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 10
- 101150110971 CIN7 gene Proteins 0.000 description 9
- 101150110298 INV1 gene Proteins 0.000 description 9
- 101100397044 Xenopus laevis invs-a gene Proteins 0.000 description 9
- 101100286980 Daucus carota INV2 gene Proteins 0.000 description 5
- 101100397045 Xenopus laevis invs-b gene Proteins 0.000 description 5
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 101100508840 Daucus carota INV3 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 101100346656 Drosophila melanogaster strat gene Proteins 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C14/00—Digital stores characterised by arrangements of cells having volatile and non-volatile storage properties for back-up when the power is down
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/027—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use of logic circuits, with internal or external positive feedback
- H03K3/037—Bistable circuits
-
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- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/353—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of field-effect transistors with internal or external positive feedback
- H03K3/356—Bistable circuits
- H03K3/356104—Bistable circuits using complementary field-effect transistors
- H03K3/356113—Bistable circuits using complementary field-effect transistors using additional transistors in the input circuit
- H03K3/356147—Bistable circuits using complementary field-effect transistors using additional transistors in the input circuit using pass gates
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Description
Die Erfindung betrifft eine MOS-Speichereinrichtung zur
seriellen Informationsverarbeitung gemäß dem Oberbe
griff des Patentanspruches 1.
Die Fig. 1 zeigt eine solche bekannte MOS-Speicherein
richtung zur seriellen Informationsverarbeitung, die
eine Schieberegisterzelle darstellt, in die Daten über
eine EEPROM-Zelle eingelesen werden können. Diese
Schieberegisterstufe besteht in bekannter Weise aus
zwei Transferelementen TG1 und TG2 sowie aus zwei In
verterstufen INV1 und INV2, die gemäß der Fig. 1 in
Reihe geschaltet sind, wobei der Eingang IN des ersten
Transferelementes TG1 den Dateneingang und der Ausgang
OUT der zweiten Inverterstufe INV2 den Datenausgang
darstellt. Ein weiteres Transferelement TG3 dient zur
Rückkopplung des Datenausganges auf den das erste
Transferelement TG1 mit der ersten Inverterstufe INV1
verbindenden Schaltungsknoten K1. Hierdurch werden die
in diesen Schaltungsknoten K1 eingetakteten oder einge
lesenen Daten gehalten. Die Transferelemente TG1 bis
TG3 sind als CMOS-Transmissionsgatter aufgebaut, die
Inverterstufen INV1 und INV2 in bekannter Weise als
CMOS-Inverter. Das erste und zweite Transmissionsgatter
TG1 und TG2 werden mit Hilfe der Taktsignale CLOCK und
CLOCKB gegensinnig angesteuert, während das dritte
Transmissionsgatter TG3 mittels den Taktsignalen HOLD
und HOLDB angesteuert wird.
Der Schaltungsknoten K1 ist mit einer EEPROM-Zelle ver
bunden, die mit einem n-Kanal-Floating-Gate-Transistor
EE1 und einem zugehörigen n-Kanal-READ-Transistor N1
aufgebaut ist. Ferner ist dieser Schaltungsknoten K1
über einen p-Kanal-Transistor P1 an das Bezugspotential
VDD angeschlossen. Die Betriebsspannungsquelle VSS ver
sorgt sowohl den Source- und Substrat-Anschluß des
READ-Transistors N1 und den Substrat-Anschluß des Floa
ting-Gate-Transistors EE1 als auch die Transmissions
gatter TG1 bis TG3 und die Inverterstufen INV1 und
INV2. Die Gate-Elektrode des READ-Transistors N1 als
auch des Floating-Gate-Transistors EE1 sind nach außen
geführt, wobei zum Auslesen der Information aus der
EEPROM-Zelle der Gate-Elektrode dieses READ-Transistors
N1 ein READ-Signal zugeführt wird.
Die Schieberegisterstufe mit EEPROM-Zelle nach Fig. 1
kann zum Aufbau eines Schieberegisters mit n-Zellen
verwendet werden, bei dem die Daten seriell ins Schie
beregister eingegeben werden. Zur Erzeugung der Pro
grammierspannung für die EEPROM-Zellen ist ein HV (High
Voltage)-Generator vorgesehen, der mit dem Schieberegi
ster auf einem integrierten Schaltkreis (IC) integriert
ist. Diese Programmierspannung wird über die Steuer
eingänge den EEPROM-Zellen zugeführt, die ansonsten die
logischen Pegel führen.
Im folgenden soll die Funktionsweise eines solchen
Schieberegisters, nämlich das Auslesen der Daten aus
der EEPROM-Zelle in eine Schieberegisterstufe anhand
der Fig. 1 im Zusammenhang mit einem möglichen Ausle
seschema nach Fig. 2 erläutert werden, wobei der Aus
lesevorgang mit dem dort dargestellten internen Takt
CLK erfolgt, während der Systemtakt CLOCK bzw. CLOCKB
auf der logischen "0" bzw. der logischen "1" liegt, so
daß das Transmissionsgatter TG1 während des gesamten
Auslesevorganges gesperrt bleibt. Im Betrieb arbeitet
diese Schaltung nach Fig. 1 mit Logikpegeln von 0/-
5 V, wobei der Wert 0 V die logische "1" (H-Pegel) und
der Wert -5 V die logische "0" (L-Pegel) darstellt. Zum
Auslesen der Information aus der EEPROM-Zelle wird zu
nächst ein SET-Signal nach Fig. 2 gesetzt, das den
Transistor P1 leitend schaltet, mit der Folge, daß der
Schaltungsknoten K1 auf dem logischen Pegel "1" liegt.
Anschließend wird zur Erzeugung eines Aus
lesereferenzstromes der p-Kanal-Transistor P1 mit einem
Zwischenpegel (in Fig. 2 nicht dargestellt) des SET-
Signals leitend gesteuert. Daraufhin steuert ein READ-
Impuls den READ-Transistor N1 leitend. Je nachdem, ob
der Floating-Gate-Transistor EE1 mit einer logischen
"1" programmiert ist (entspricht also einer positiven
Schwellwertspannung) oder mit einer logischen "0"
(entspricht einer negativen Schwellwertspannung),
sperrt oder leitet dieser Floating-Gate-Transistor EE1.
Bleibt dieser Floating-Gate-Transistor EE1 gesperrt,
bleibt der Schaltungsknoten K1 auf dem Pegel der logi
schen "1", während im anderen Fall, also bei leitendem
Floating-Gate-Transistor EE1 der Schaltungsknoten K1
auf den Pegel der Betriebsspannung VSS, also auf den
Pegel der logischen "0" gezogen wird. Nachfolgend wird
der an dem Schaltungsknoten K1 ausgelesene logische Pe
gel durch das HOLD- bzw. HOLDB-Signal mittels des
Transmissionsgatters TG3 wieder auf den Schal
tungsknoten K1 rückgekoppelt und damit die Information
im Schieberegister gespeichert.
Da sämtliche EEPROM-Gate-Elektroden einer solchen
Schieberegisterzelle auf gleichem Potential liegen, be
steht der Nachteil, daß zur vollständigen Programmie
rung zwei Programmierzyklen erforderlich sind. Im er
sten Programmierzyklus werden alle EEPROM-Gate-Elektro
den auf den Pegel der logischen "1", also auf 0 V ge
legt und gleichzeitig wird die Eingangsspannung VSS auf
die mit einem HV-Generator erzeugte Programmierspannung
von -18 V gezogen. Dies hat zur Folge, daß alle Floa
ting-Gate-Transistoren EE1, deren Drain auf -18 V lie
gen, geschrieben, also mit einer logischen "1" program
miert werden. In einem zweiten Programmierzyklus werden
alle EEPROM-Gate-Elektroden mit der Programmierspannung
von -18 V versorgt. Nun werden alle Floating-Gate-Tran
sistoren, deren Drain-Elektrode auf dem Pegel der logi
schen "1" liegen, also auf 0 V, gelöscht.
Nun gibt es Anwendungen, die nur eine geringe Lei
stungsaufnahme aus der Betriebsspannungsversorgung zu
lassen. So kann beispielsweise eine externe Kapazität,
die vorher möglicherweise lediglich von einer Solar
zelle aufgeladen werden konnte, als Betriebsspannungs
versorgung für ein solches EEPROM-IC dienen.
Die Leistungsaufnahme hängt unter anderem von der Pro
grammierzeit und dem erforderlichen Strom für die Pro
grammierung ab. Insbesondere steigt die erforderliche
Ladungsmenge, wenn für die Programmierung aller EEPROM-
Zellen mehrere Programmierschritte erforderlich sind.
Der Vollständigkeit halber sei auf die US 5168 463 verwiesen,
die ein Schieberegister beschreibt, deren einzelne
Stufen aus zwei antiparallel geschalteten Invertern
sowie einer nichtflüchtigen Speicherzelle aufgebaut
sind. In einem Notfall, beispielsweise bei einem
Ausfall der Energieversorgung, wird der Inhalt der
Schieberegisterzelle in die nichtflüchtige Speicherzelle
ausgelesen und dort gespeichert.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine MOS-Spei
chereinrichtung der eingangs genannten Art anzugeben,
die eine Programmierung in einem einzigen Zyklus zu
läßt.
Diese Aufgabe wird durch das kennzeichnende Merkmal des
Patentanspruches 1 gelöst. Hiernach wird die Gate-Elek
trode des Floating-Gate-Transistors der EEPROM-Zelle an
den Ausgang der ersten Inverterstufe angeschlossen.
Hierdurch wird der an der Drain-Elektrode des Floating-
Gate-Transistors liegende logische Pegel invertierend
auf dessen Gate-Elektrode geführt. Somit werden während
eines einzigen Programmierzyklus' gleichzeitig die
EEPROM-Zellen geschrieben, deren Drain-Elektroden nach
vorherigem Eintakten auf dem Pegel der logischen "0"
liegen, während diejenigen EEPROM-Zellen, deren Drain-
Elektrode auf dem Pegel der logischen "1" liegen, ge
löscht werden. Diese erfindungsgemäße MOS-Speicherein
richtung reduziert die Gesamtprogrammierzeit als auch
den Gesamtprogrammierstrom im Vergleich zum Stand der
Technik auf die Hälfte.
Bei einer vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsge
mäßen MOS-Speichereinrichtung sind eine erste und zwei
te Versorgungsspannung vorgesehen, wobei die erste Ver
sorgungsspannung einerseits der Source- und dem Sub
strat-Anschluß des READ-Transistors und andererseits
dem Substrat-Anschluß des Floating-Gate-Transistors der
EEPROM-Zelle angelegt wird und die zweite Versorgungs
teilspannung die Transmissionsgatter als auch die bei
den Inverterstufen versorgt. Hierdurch kann eine varia
ble Spannungsdifferenz zwischen der Gate- und Source-
Elektrode des Floating-Gate-Transistors angelegt wer
den, so daß die Bestimmung der Verschiebung der
Schwellwertspannung der EEPROM-Zelle möglich wird, um
einen bestimmten Wert der Schwellwertverschiebung und
damit eine vorgegebene Datenerhaltungszeit zu garantie
ren.
Weiterhin kann gemäß einer bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung der das HOLDB-Signal umsetzende P-MOS-
Transistor des dritten Transferelementes zur Erzeugung
eines Auslesereferenzstromes verwendet werden. Dies
führt zu dem Vorteil, daß nur für drei Takte ein strom
minimaler Gleichstrompfad zur Erzeugung des HOLDB-
Signals benötigt wird. Ansonsten finden im gesamten
EEPROM-IC während des Auslesens nur Umladevorgänge
statt.
Schließlich kann in einer weiteren vorteilhaften Wei
terbildung der erfindungsgemäßen MOS-Speichereinrich
tung diese zum Aufbau eines Schieberegisters mit n-Zel
len verwendet werden, wobei die n-te Zelle über eine
Inverterstufe mit der ersten Zelle rückgekoppelt ist.
Dies führt in vorteilhafter Weise dazu, daß im Standby-
Modus sowohl alle geschriebenen EEPROM-Zellen extern
weiter schwach geschrieben als auch alle gelöschten
EEPROM-Zellen extern weiter schwach gelöscht werden.
Diese Maßnahme eliminiert das Problem der Datenerhal
tung von EEPROM-Zellen.
Im folgenden soll die Erfindung anhand von Ausführungs
beispielen im Zusammenhang mit den Figuren dargestellt
und erläutert werden. Es zeigt
Fig. 1 eine bekannte MOS-Schieberegisterstufe mit
einer EEPROM-Zelle,
Fig. 2 ein Ausleseschema zur Erläuterung der Funkti
onsweise der Speichereinrichtung nach Fig.
1,
Fig. 3 eine MOS-Schieberegisterstufe mit EEPROM-Zel
le gemäß der Erfindung,
Fig. 4 ein weiteres Ausführungsbeispiel der erfin
dungsgemäßen Speichereinrichtung und
Fig. 5 ein Schieberegister gemäß der Erfindung.
In den Figuren sind einander funktionell entsprechende
Bauelemente mit den gleichen Bezugszeichen versehen.
Die erfindungsgemäße Schaltung nach Fig. 3 unterschei
det sich von derjenigen bekannten Schaltung nach Fig.
1 lediglich durch die Verbindung der Gate-Elektrode des
Floating-Gate-Transistors EE2 mit dem Ausgang der er
sten Inverterstufe INV1. Die folgenden Erläuterungen
beziehen sich daher lediglich auf die durch diesen Un
terschied beruhenden funktionellen Folgen. Durch diese
Inverterstufe INV1 werden die an der Drain-Elektrode
des Floating-Gate-Transistors EE1 liegenden logischen
Pegel invertierend auf die Gate-Elektrode des Floating-
Gate-Transistors EE1 geschaltet. Zum Schreiben der
EEPROM-Zelle wird der Pegel der logischen "0" auf den
Wert der Programmierspannung von -18 V gezogen. Liegt
nun der Schaltungsknoten K1, also die Drain-Elektrode
des Floating-Gate-Transistors EE1 auf diesem Pegel der
Programmierspannung, liegt an dessen Gate-Elektrode der
Pegel der logischen "1", also 0 V an. Liegt dagegen der
Schaltungsknoten K1, also die Drain-Elektrode auf dem
Pegel der logischen "1", also auf 0 V, wird dessen
Gate-Elektrode der Pegel der Programmierspannung von
-18 V zugeführt. Dies bedeutet jedoch, daß die EEPROM-
Zelle gelöscht wird. Somit werden während eines einzi
gen Programmierzyklus′ gleichzeitig diejenigen EEPROM-
Zellen geschrieben, deren Drain-Elektrode nach vorheri
gem Eintakten auf dem Pegel der logischen "0" liegt,
während diejenigen EEPROM-Zellen, deren Drain-Elektroden
auf dem Pegel der logischen "1" liegen, gelöscht wer
den. Hierdurch wird die Gesamtprogrammierzeit als auch
der erforderliche Gesamtprogrammierstrom im Vergleich
zu der Schaltung nach Fig. 1 auf die Hälfte reduziert.
Bei dieser Schaltung wird der Auslesereferenzstrom
nicht mittels des Transistors P1 wie bei der Schaltung
nach Fig. 1 erzeugt, sondern mit dem p-Kanal-Tran
sistor des Transmissionsgatters TG3, der hierzu mit dem
einen Zwischenpegel gemäß der Fig. 2 aufweisenden
HOLDB-Signal gesteuert wird.
Ein Nachteil der Schieberegisterstufe nach Fig. 3 be
steht darin, daß es nicht möglich ist, den Wert der
Schwellwertverschiebung festzustellen. Es muß eine be
stimmte Schwellwertverschiebung gewährleistet sein, um
eine vorgegebene Datenerhaltungszeit zu garantieren.
Hierzu wird die Versorgungsspannung VSS, wie sie in der
Schaltung nach Fig. 3 vorgesehen ist, gemäß Fig. 4 in
zwei Versorgungsspannungen VSS1 und VSS2 aufgeteilt.
Die erste Versorgungsspannung VSS1 wird sowohl dem
Source- und dem Substrat-Anschluß des READ-Transistors
N1 als auch dem Substrat-Anschluß des Floating-Gate-
Transistors EE1 zugeführt. Dagegen versorgt die zweite
Versorgungsspannung VSS2 die Transmissionsgatter TG1
bis TG3 sowie die beiden Inverterstufen INV1 und INV2.
Die Funktionsweise entspricht im wesentlichen derjeni
gen der Schaltung nach Fig. 3 mit der Maßgabe, daß zur
Programmierung als auch für die Lesefunktion die beiden
Versorgungsspannungen VSS1 und VSS2 auf gleichem Poten
tial liegen. Dabei bleibt der Vorteil der Programmie
rung in einem einzigen Programmierzyklus erhalten.
Zur Bestimmung des Schwellwertes der EEPROM-Zelle wer
den die beiden Versorgungsspannungen VSS1 und VSS2 auf
unterschiedliche Spannungspegel gesetzt, so daß deren
Spannungsdifferenz als Gate-Source-Spannung an den
Floating-Gate-Transistor EE1 der EEPROM-Zelle angelegt
werden kann.
Die Ermittlung der Werte der Schwellwertverschiebungen
der EEPROM-Zellen eines mit der Schieberegisterstufe
nach Fig. 4 aufgebauten Schieberegisters wird folgen
dermaßen durchgeführt.
In einem ersten Schritt wird in bekannter Weise eine
logische "1" in die EEPROM-Zelle geschrieben. Nun kann
der Inhalt der EEPROM-Zelle mit einer variablen Gate-
Source-Spannung VGS ausgelesen werden. Typischerweise
wird für die Gate-Source-Spannung VGS = VSS2 - VSS1 = +2 V
gewählt, beispielsweise bleibt die erste Versor
gungsteilspannung VSS1 auf dem Pegel der logischen "0",
also -5 V und die zweite Versorgungsteilspannung VSS2
wird auf einen Pegel von -3 V gesetzt. Der logische Pe
gel an der Drain-Elektrode des Floating-Gate-Tran
sistors EE1 wird invertierend über die Inverterstufe
INV1 dessen Gate-Elektrode zugeführt, dort liegt also
der Pegel der logischen "0" an, entspricht also dem
Spannungspegel der Versorgungsspannung VSS2 (-3 V). Mit
dem READ-Impuls ist der READ-Transistor N1 durchge
schaltet, so daß die Source-Elektrode des Floating-
Gate-Transistors auf dem Pegel der ersten Versorgungs
spannung VSS1, also auf -5 V liegt. Somit ergibt sich
eine Gate-Source-Spannung VGS von +2 V. Nun kann
geprüft werden, ob alle eingeschriebenen Bits auf dem
Pegel der logischen "1" bleiben, ob also der n-Kanal-
Floating-Gate-Transistor EE1 der EEPROM-Zelle trotz po
sitiver Gate-Source-Spannung VGS sperrt.
In einem zweiten Schritt werden alle geschriebenen Bits
gelöscht, also die logische "0" programmiert. Ausge
lesen wird mit einer negativen Gate-Source-Spannung VGS
= VSS2 - VSS1 von typischerweise -2 V. Die Spannungs
pegel der beiden Versorgungsspannungen werden so ge
wählt, daß die erste Versorgungsspannung VSS1 auf dem
Pegel der logischen "0", also auf -5 V liegt, während
der Pegel für die zweite Versorgungsspannung VSS2 auf
einen Pegel von -7 V eingestellt wird. Somit liegt beim
Auslesevorgang an dem Floating-Gate-Transistor EE1 der
EEPROM-Zelle eine Gate-Source-Spannung VGS von -2 V an.
Bleibt nun beim Auslesen die logische "0" erhalten, so
leitet der Floating-Gate-Transistor EE1 der EEPROM-
Zellen trotz negativer Gate-Source-Spannung.
Die Prüfung, ob eine logische "1" bzw. eine logische
"0" erhalten bleibt, erfolgt einfach durch serielles
Austakten der Bits aus dem mit den Schieberegisterstu
fen nach Fig. 5 aufgebauten Schieberegister.
Die für ein solches Schieberegister erforderliche Chip
fläche ist annähernd gleich groß wie bei einem Schiebe
register, das mit Schieberegisterstufen nach Fig. 3
aufgebaut ist.
Die Verwendung der Schieberegisterstufe nach Fig. 5
zum Aufbau eines dynamischen Schieberegisters ermög
licht einen extrem niedrigen Stromverbrauch während des
Lesevorganges, da bei leitendem Floating-Gate-Tran
sistor EE1 während des Auslesevorganges unmittelbar
nachdem der Knoten K1 auf eine logische "0" auch der
OUT-Ausgang auf die logische "0" geht und damit den p-
Kanal-Transistor des Transmissionsgatters TG3 abschal
tet.
Die Programmierung eines Floating-Gate-Transistors er
folgt unter Ausnutzung des Tunneleffekts nach Fowler-
Nordheim, in dem Elektronen von der Drain-Elektrode zu
dem Floating-Gate und umgekehrt ein Tunneloxid
durchtunneln. Zum Programmieren einer solchen EEPROM-
Zelle werden für einige 10 ms zwischen der Gate- und
Drain-Elektrode eine Gate-Drain-Spannung Vgd = ± 18 V
gelegt.
Im Standby-Modus verursacht diese Gate-Drain-Spannung
Vgd ebenfalls einen Tunnelstrom. Dieser extrem niedrige
Tunnelstrom kann über eine sehr lange Zeitdauer von Mo
naten oder Jahren zur Umladung der EEPROM-Zelle führen.
Dies ist immer dann der Fall, wenn im Standby-Modus an
der geschriebenen Zelle, d. h. also bei positiver
Schwellenspannung die Gate-Drain-Spannung Vgd = -(VDD - VSS),
also negativ ist oder an einer gelöschten EEPROM-
Zelle, also bei negativer Schwellenspannung die Gate-
Drain-Spannung Vgd = (VDD - VSS) positiv ist. Auch ohne
extern angelegte Spannung, also bei einer Gate-Drain-
Spannung Vgd = 0 V, findet über einen sehr langen Zeit
bereich eine Entladung statt. Dies liegt daran, daß die
Ladungen, die sich auf dem Floating-Gate befinden, ein
entgegengesetztes Feld zum aktuellen Speicherzustand
erzeugen, d. h. daß bei einer geschriebenen Zelle ein
sehr schwaches Feld mit Löschpolarität, dagegen bei ei
ner gelöschten Zelle ein sehr schwaches Feld mit
Schreibpolarität existiert.
Wird nun ein Schieberegister mit n-Zellen gemäß der Fig.
5 mit Schieberegisterstufen nach Fig. 4 oder Fig.
3 aufgebaut, wird schaltungstechnisch dafür gesorgt,
daß im Standby-Modus sowohl alle geschriebenen EEPROM-
Zellen extern weiter, allerdings sehr schwach geschrie
ben werden, als auch alle gelöschten EEPROM-Zellen ex
tern weiter, allerdings auch sehr schwach gelöscht wer
den. Dies erfolgt einerseits dadurch, daß die an der n-
ten Zelle des Schieberegisters seriell ausgetakteten
Daten über eine Inverterstufe INV3 auf die erste Zelle
gegeben werden und andererseits dadurch, daß die Gate-
Elektroden der EEPROM-Zellen nach den Fig. 3 und 4
jeweils an den Ausgang der ersten Inverterstufe INV1
angeschlossen sind.
Zum Einschreiben einer logischen "1" in die EEPROM-
Zelle wird die Drain-Elektrode des Floating-Gate-Tran
sistors EE1 auf -18 V gelegt, entspricht also der logi
schen "0" und dessen Gate-Elektrode auf 0 V, entspricht
also der logischen "1". Da der n-Kanal-Floating-Gate-
Transistor EE1 eine positive Schwellwertspannung auf
weist, bleibt er während des Lesevorganges gesperrt,
d. h. die Drain-Elektrode liegt auf 0 V, entspricht also
der logischen "1", während die Gate-Elektrode auf -5 V
liegt, entspricht also der logischen "0". Durch das er
neute invertierte Einlesen mittels der Inverterstufe
INV3 gemäß der Fig. 5 während des seriellen Austaktens
des Schieberegisters liegt die Drain-Elektrode auf
-5 V, also auf dem Pegel der logischen "0" und die
Gate-Elektrode auf 0 V, also auf dem Pegel der logi
schen "1". Mit dieser Gate-Drain-Spannung Vgd ist die
EEPROM-Zelle in gleicher Richtung bezüglich des aktuel
len Speicherzustandes vorgespannt. Diese äußere Span
nung Vgd wirkt dem oben beschriebenen inneren Feld ent
gegen. Somit wird ein hoher Schwellwert auch im Lang
zeitbereich garantiert. Entsprechend wird auch bei ei
ner gelöschten EEPROM-Zelle garantiert, daß nach dem
seriellen Austakten eine Gate-Drain-Spannung Vgd an dem
Floating-Gate-Transistor EE1 anliegt, deren Feld eben
falls dem inneren Feld entgegenwirkt.
Zusammenfassend kann daher festgestellt werden, daß an
der Drain-Elektrode jeder geschriebenen EEPROM-Zelle
eine logische "0" und an der Gate-Elektrode eine logi
sche "1" als auch an der Drain-Elektrode jeder gelösch
ten EEPROM-Zelle eine logische "1" und an deren Gate-
Elektrode eine logische "0" anliegt.
Damit werden Langzeitdatenverluste vermieden, zeitauf
wendige Testprozeduren für die Gewährleistung einer
Mindestdatenerhaltungszeit entfallen und die Ausbeute
bei der Herstellung solcher EEPROM-IC′s erhöht sich be
trächtlich.
Claims (4)
1. MOS-Speichereinrichtung zur seriellen Informations
verarbeitung mit einem ersten und zweiten Transferele
ment (TG1, TG2), wobei diese beiden Transferelemente
über eine erste Inverterstufe (INV1) verbunden sind und
dem zweiten Transferelement (TG2) eine zweite Inverter
stufe (INV2) nachgeschaltet ist, sowie einer EEPROM-
Zelle, die einen Floating-Gate-Transistor (EE1) und
einen READ-Transistor (N1) aufweist, wobei die Drain-
Elektrode des Floating-Gate-Transistors (EE1) mit dem
Ausgang des ersten Transferelementes (TG1) und mit dem
Eingang der ersten Inverterstufe (INV1) verbunden ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die Gate-Elektrode des
Floating-Gate-Transistors an den Ausgang der ersten In
verterstufe (INV1) angeschlossen ist.
2. MOS-Speichereinrichtung nach Anspruch 1 mit einem
dritten Transferelement (TG3), das den Ausgang der
zweiten Inverterstufe (INV2) auf die Drain-Elektrode
des Floating-Gate-Transistors (EE1) rückkoppelt,
gekennzeichnet durch folgende Merkmale:
- a) es ist eine erste und zweite Versorgungsspannung (VSS1, VSS2) vorgesehen,
- b) die erste Versorgungsspannung (VSS1) liegt ei nerseits an dem Source-Anschluß und Substrat-An schluß des READ-Transistors (N1) und andererseits an dem Substrat-Anschluß des Floating-Gate-Tran sistors (EE1) an und
- c) die zweite Versorgungsspannung (VSS2) versorgt die drei Transferelemente (TG1, TG2, TG3) sowie die beiden Inverterstufen (INV1, INV2).
3. MOS-Speichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1
oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung eines
Auslesereferenzstromes dem p-Kanal-Transistor des drit
ten Transferelementes (TG3) ein HOLDB-Signal zugeführt
wird, das neben einem H- und L-Pegel einen Zwischenpe
gel aufweist.
4. Verwendung der MOS-Speichereinrichtung nach einem
der vorangehenden Ansprüche zum Aufbau eines Schiebere
gisters mit n-Zellen, wobei die n-te Zelle über eine
Inverterstufe (INV3) mit der ersten Zelle rückgekoppelt
ist.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4305119A DE4305119C2 (de) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | MOS-Speichereinrichtung zur seriellen Informationsverarbeitung |
JP4629694A JPH06302197A (ja) | 1993-02-19 | 1994-02-08 | シリアル情報処理するためのmosメモリ |
US08/194,562 US5416737A (en) | 1993-02-19 | 1994-02-10 | MOS memory unit for serial information processing |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4305119A DE4305119C2 (de) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | MOS-Speichereinrichtung zur seriellen Informationsverarbeitung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4305119A1 DE4305119A1 (de) | 1994-08-25 |
DE4305119C2 true DE4305119C2 (de) | 1995-04-06 |
Family
ID=6480860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4305119A Expired - Fee Related DE4305119C2 (de) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | MOS-Speichereinrichtung zur seriellen Informationsverarbeitung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5416737A (de) |
JP (1) | JPH06302197A (de) |
DE (1) | DE4305119C2 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2739967B1 (fr) * | 1995-10-16 | 1997-11-14 | Sgs Thomson Microelectronics | Procede d'initialisaiton d'un registre a decalage et registre associe |
JP3360793B2 (ja) | 1997-02-17 | 2002-12-24 | クラリオン株式会社 | 符号分割多重通信装置 |
JP3360794B2 (ja) * | 1997-02-17 | 2002-12-24 | クラリオン株式会社 | 符号分割多重通信装置 |
US7479654B2 (en) | 2005-05-09 | 2009-01-20 | Nantero, Inc. | Memory arrays using nanotube articles with reprogrammable resistance |
US8008745B2 (en) * | 2005-05-09 | 2011-08-30 | Nantero, Inc. | Latch circuits and operation circuits having scalable nonvolatile nanotube switches as electronic fuse replacement elements |
US8102018B2 (en) * | 2005-05-09 | 2012-01-24 | Nantero Inc. | Nonvolatile resistive memories having scalable two-terminal nanotube switches |
EP2070088A4 (de) * | 2006-08-08 | 2009-07-29 | Nantero Inc | Nicht flüchtige resistive speicher, sperrschaltungen und betriebsschaltungen mit skalierbaren nanoröhrchenschaltern mit zwei klemmen |
CN104933982B (zh) * | 2015-07-15 | 2017-06-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 移位寄存单元、移位寄存器、栅极驱动电路和显示装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3648066A (en) * | 1969-06-30 | 1972-03-07 | Ibm | Three-phase dynamic shift register |
DE3115640A1 (de) * | 1981-04-18 | 1982-11-11 | Deutsche Itt Industries Gmbh, 7800 Freiburg | "integrierter dynamischer schiebespeicher aus isolierschicht-feldeffekttransistoren" |
JPS6154100A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-18 | Nec Corp | シフトレジスタ回路 |
JPS62146498A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-30 | Nec Corp | シフトレジスタ |
JPH01214993A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-29 | Nissan Motor Co Ltd | データ記憶装置 |
JPH03198A (ja) * | 1989-05-27 | 1991-01-07 | Yoshikimi Watanabe | 汚水浄化装置 |
-
1993
- 1993-02-19 DE DE4305119A patent/DE4305119C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-02-08 JP JP4629694A patent/JPH06302197A/ja active Pending
- 1994-02-10 US US08/194,562 patent/US5416737A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4305119A1 (de) | 1994-08-25 |
US5416737A (en) | 1995-05-16 |
JPH06302197A (ja) | 1994-10-28 |
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8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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|
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |