DE4300516C2 - Leistungshalbleitermodul - Google Patents
LeistungshalbleitermodulInfo
- Publication number
- DE4300516C2 DE4300516C2 DE4300516A DE4300516A DE4300516C2 DE 4300516 C2 DE4300516 C2 DE 4300516C2 DE 4300516 A DE4300516 A DE 4300516A DE 4300516 A DE4300516 A DE 4300516A DE 4300516 C2 DE4300516 C2 DE 4300516C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- power semiconductor
- substrate
- contact
- contact piece
- semiconductor module
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 21
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 13
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 18
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 3
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 101100346656 Drosophila melanogaster strat gene Proteins 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010678 Paulownia tomentosa Nutrition 0.000 description 1
- 240000002834 Paulownia tomentosa Species 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49811—Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L24/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/07—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group subclass H10D
- H01L25/072—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group subclass H10D the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/848—Bonding techniques
- H01L2224/84801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Leistungshalbleitermo
dul gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, wie es aus der
DE 37 17 489 A1 bekannt ist.
Als Substrat ist dort eine Keramikplatte
eingesetzt, die zugleich den Boden des Moduls bildet. Die
Keramikplatte trägt Leiterbahnen in Form von dünnen Kupfer
blechen, die nach einem Direktverbindungsverfahren mit der
Keramikplatte festhaftend verbunden sind. Das in solchen
Modulen verwendete Kupferblech hat eine Dicke von einigen
Zehntel Millimeter, typisch 0,3 mm. Die Dicke des Kupfer
blechs kann nicht beliebig vergrößert werden, weil sonst zu
hohe mechanische Spannungen in der Keramik entstehen
kennen.
Die Anschlußlaschen für die äußeren Stromanschlüsse des Mo
duls sind typisch aus einem 1 bis 2 mm dicken Blech herge
stellt und mit ihrem Fußpunkt auf Flächen der Substratme
tallisierung mit Weichlot aufgelötet. Ein bevorzugtes Ver
fahren zum Auflöten der Anschlußlaschen ist die Impulslö
tung. Zur Durchführung der Impulslötung wird ein Lötwerk
zeug in das oben offene Modulgehäuse eingeführt. Die Abmes
sungen der Elektroden des Lötwerkzeugs und damit der not
wendige Platz im Modul, der den Zugang zur Lötstelle ermög
licht, ist abhängig von der Größe der Lötfläche auf der
Substratmetallisierung. Die realisierbare Fläche der Löt
stelle ist deshalb auf relativ kleine Flächen begrenzt.
Kleine Anschlußflächen auf einer dünnen Substratmetallisie
rung führen aber zu einem geringen Stromspreizeffekt und
damit zu einer geringen Stromtragfähigkeit des Moduls.
Eine Kontaktstelle mit der Fläche 5 × 6 mm2 kann z. B. zer
stört werden, wenn kurzzeitig, d. h. etwa 10 ms lang ein
Strom von 20 kA fließt. Ein Strom von dieser Größenordnung
fließt z. B. im Kurzschlußfall, wenn keine Schmelzsicherun
gen, sondern sogenannte Unterbrecher-Schütze den Strom ab
schalten. Die Zerstörung der Kontaktstelle tritt durch Ver
dampfen der Metallisierung in der Nähe der Kontaktstelle
ein.
Weitere kritische Lötstellen im Modul sind solche, an denen
Metallstücke, die einen unterschiedlichen Ausdehnungskoef
fizienten haben, miteinander durch Weichlöten zu verbinden
sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Leistungs
halbleitermodul anzugeben, das in der oben beschriebenen
Lötkontakttechnik ausgeführt ist, wobei Maßnahmen zur Ver
besserung kritischer Lötkontaktstellen getroffen sind, ins
besondere eine verbesserte Stromtragfähigkeit der Anschluß
stellen der Modulanschlüsse erzielt ist.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Leistungshalbleitermodul
mit den Merkmalen des Anspruchs 1.
Das erfindungsgemäß angeordnete Kontaktstück bewirkt quasi
eine Lötflächentransformation, da es einerseits einen groß
flächigen Lötkontakt auf einer relativ dünnen Substratme
tallisierung ermöglicht und andererseits einen kleinflächi
gen Lötkontakt zwischen zwei relativ dicken Metallstücken.
Als Kontaktstück im Sinne der Erfindung kann auch ein bit
Modul als Verbindungsteil ohnehin benötigtes Metallteil
ausgebildet werden.
Zur Vermeidung kritischer Lötkontaktstellen trägt die
Anordnung eines Zwischenstücks zwischen einer an Silizium
angepaßten Kontaktplatte oder Ausgleichsronde und einem
Kontaktstück bei. Der Ausdehnungskoeffizient des Zwischen
stücks ist an denjenigen des Kontaktstücks angepaßt, vor
zugsweise durch Wahl desselben Materials. Die Kontaktplatte
und das Zwischenstück sind durch Hartlöten miteinander ver
bunden.
Eine ausführlichere Beschreibung der Erfindung erfolgt
nachstehend anhand eines in den Figuren dargestellten
Ausführungsbeispiels.
Es zeigen:
Fig. 1 ein bestücktes Substrat für ein erfindungsgemäßes
Leistungshalbleitermodul
Fig. 2 die elektrische Schaltung des Leistungshalblei
termoduls gemäß Ausführungsbeispiel,
Fig. 3 einen Schnitt durch eine Ebene A'-A" die in
Fig. 1 eingetragen ist,
Fig. 4 eine Detaildarstellung eines Kontaktstücks mit
einer Anschlußlasche,
Fig. 5 einen Modulgehäuseteil mit eingesetztem Sub
strat,
Fig. 6 einen Schnitt durch die Anordnung gemäß
Fig. 5,
Fig. 7 eine Außenansicht des fertiggestellten Moduls,
und
Fig. 8 eine Kontaktplatte mit Zwischenstück.
Die Zeichnungen beziehen sich alle auf ein Ausführungsbei
spiel eines Leistungshalbleitermoduls, dessen elektrische
Schaltung in Fig. 2 gezeigt ist. Die elektrische Schaltung
ist eine Reihenschaltung zweier Dioden 3.1, 3.3, die eine
in der Leistungselektronik als Teilbrückenschaltung häufig
vorkommende Grundschaltung ist. Ein Leistungshalbleitermo
dul, mit den diese Grundschaltung realisiert ist, weist ne
ben den Dioden 3.1, 3.2 noch Metallteile zur Herstellung
der elektrischen Verbindungen und zur Schaffung äußerer
Stromanschlüsse A, K, A-K auf.
Fig. 1 zeigt ein bestücktes Substrat 1, das für einen Ein
bau in einen Modulgehäuserahmen 10 (siehe Fig. 5 und 6)
aus Kunststoff vorbereitet ist. Das Substrat 1 ist sowohl
auf seiner Unterseite als auch auf seiner Oberseite mit ei
ner Metallisierung 2 versehen. Das Substrat 1 besteht im
Ausführungsbeispiel aus einer Aluminiumoxidkeramik und hat
die Abmessungen 47 × 65 mm2, kann aber auch aus einem anderen
elektrisch isolierenden Material bestehen, und auch andere
Abmessungen haben. Die Metallisierung 2 besteht aus etwa
0,3 mm dicken Kupferfolien, die unter Anwendung eines Di
rektverbindungsverfahrens mit dem Keramiksubstrat 1 verbun
den sind. Die Dicke der Kupferfolie liegt typisch im Be
reich 0,25 bis 0,5 mm. Die obere Metallisierung 2 ist in
mehrere Einzelflächen unterteilt, entsprechend den Erfor
dernissender elektrischen Schaltung, die mit dem Modul re
alisiert wird. Auf solchen Einzelflächen der Metallisierung
2 sind die Diodenchips 3.1, 3.2 jeweils mit ihrer Anoden
seite mittels Weichlot aufgelötet. Außerdem sind auf den
Metallisierungsflächen 2 und ggf. auf den Dioden 3.1, 3.2 aus etwa
1 bis 2 mm dickem Kupferblech bestehenden Kontaktstücke
4.1, 4.2, 4.3 mittels Weichlot aufgelötet.
Die Diodenchips 3.1, 3.2 haben im Ausführungsbeispiel Ab
messungen von 29 × 23 mm2. Auf die Chips 3.1, 3.2 sind auf
der in Fig. 1 jeweils oben liegenden Kathodenseite Kon
taktplatten 7 aufgelötet. Der thermische Ausdehnungskoeffi
zient der Kontaktplatten 7 ist weitgehend an denjenigen von
Silizium angepaßt. Die Kontaktplatten 7 können z. B. aus Mo
lybdän oder noch besser aus einem Trimetall aus Cu/NiFe/Cu
hergestellt sein. Auf den Kontaktplatten 7 wurde in einem
vorausgegangenen Montageschritt, also vor dem Auflöten der
Kontaktplatten 7 auf den Diodenchips 3.1, 3.2, jeweils ein
Zwischenstück 6 (siehe Fig. 3, 6 und 8) aus Kupfer mittels
Hartlot auf der Oberseite der Kontaktplatten 7 aufgebracht.
Durch die Anordnung des hartgelöteten Zwischenstücks 6 wird
eine Weichlotverbindung zwischen Materialien mit unter
schiedlichem Ausdehnungsvermögen, also z. B. eine Weichlot
verbindung zwischen Molybdän und Kupfer, vermieden. Dies
ist von Bedeutung, da zur Erlangung geringer Innenwider
stände der Kathodenstrom mittels massiver Kupferteile
weitergeleitet werden muß.
In Fig. 3 ist ein auf die Kontaktplatte 7 stumpf aufgelö
tetes Zwischenstück 6 gezeigt. Bei der Formgebung und An
ordnung des Zwischenstücks kam es ferner darauf an, die
Verwölbung der Kontaktplatte möglichst gering zu halten.
Dies wurde erreicht, indem das Zwischenstück 6 zentral so
auf der Kontaktplatte 7 angeordnet wird, daß die Strom
spreizung radial nach allen Seiten erfolgt. Die Fläche der
Stromeinspeisung in die Kontaktplatte muß für die Strombe
lastung groß genug sein, aber andererseits so klein, daß es
nicht zur bimetallähnlichen Verspannung der Kontaktplatte 7
kommt. In Fig. 8 ist eine vorteilhafte Gestaltung des Zwi
schenstücks 6 dargestellt. Das Zwischenstück 6 ist als zy
linderartiges Drehteil mit einer oberen Platte 6.1 gestal
tet. Es steckt in einer zentralen Öffnung 25 in der Kon
taktplatte 7 aus Trimetall. Der Zylinderteil 6.2 des Zwi
schenstücks 6 kontaktiert dabei die obere und untere
Kupferschicht in der Kontaktplatte 7 und ist mit der Kon
taktplatte 7 hart verlötet.
Ein erstes Kontaktstück 4.1 ist als Bindeglied zwischen dem
Kathodenanschluß (siehe Fig. 3) der ersten Diode 3.1 und
einer ersten Anschlußlasche 8.1 (siehe Fig. 5) für den Mo
dulanschluß K angeordnet. Das Kontaktstück 4.1 ist mittels
Weichlot mit dem Kathodenanschluß der Diode 3.1 verbunden.
Das zweite Kontaktstück 4.2 ist Bindeglied zwischen einer
mit der Anode der ersten Diode 3.1 verbundenen Metallisie
rungsfläche 2 und einer zweiten Anschlußlasche 8.2 (siehe
Fig. 5) für den Modulanschluß A-K. Außerdem ist das zweite
Kontaktstück 4.2 Verbindungsglied zwischen der Anode der
ersten Diode 3.1 und dem Kathodenanschluß der zweiten Diode
3.2.
Das dritte Kontaktstück 4.3 ist Bindeglied zwischen einer
mit der Anode der zweiten Diode 3.2 verbundenen Metallisie
rung 2 und einer dritten Anschlußlasche 8.3 für den Modul
anschluß A.
Alle Kontaktstücke 4.1, 4.2, 4.3 tragen auf ihrer Oberseite
eine Weichlotschicht 5 auf einer Fläche, die für den An
schluß einer Anschlußlasche 8.1, 8.2, 8.3 im Impulslöt
verfahren vorgesehen ist.
Fig. 3 zeigt einen Schnitt durch eine in Fig. 1 eingetra
gene Ebene A'-A", anhand dessen weitere Einzelheiten er
läutert werden. In Fig. 3 ist das Substrat 1 mit der
strukturierten Metallisierung 2 auf der Oberseite und einer
ganzflächen Metallisierung 2 auf der Unterseite darge
stellt. Auf einer Teilfläche der Metallisierung 2 ist die
erste Diode 3.1 mit der Anodenseite mittels Weichlot auf
gelötet. Ebenfalls mittels Weichlot ist auf der Kathode der
Diode 3.1 eine Kathodenplatte 7 aus Trimetall aufgelötet.
Über eine Hartlotverbindung 12 ist ein Zwischenstück 6 aus
Kupfer mit dem Kontaktstück 7 verbunden. Das Zwischenstück
6 ist mittels Weichlot mit dem ersten Kontaktstück 4.1 ver
bunden. Ein in Fig. 3 auf der rechten Seite befindliches
Ende des Kontaktstücks 4.1 ist nach unten gebogen und liegt
dort auf einer mit Bezugszeichen 9 versehenen Teilfläche
der Metallisierung 2 auf. Das Kontaktstück muß nicht durch
eine Lötschicht mit der Metallisierung 2 verbunden sein, da
an dieser Stelle kein Strom fließt. Ein nicht angelötetes
Ende des Kontaktstückes kann als Dehnungsausgleich dienen
und vermeidet eine Verspannung und Wölbung des Substrats 1.
Fig. 4 zeigt in einer Detaildarstellung das dritte Kon
taktstücke 4.3 mit der Lotschicht 5 und darüber die dritte
Anschlußlasche 4.3 noch vor dem Anlöten. Der obere, mit ei
nem Loch 13 zur Durchführung einer Stromanschlußschraube
versehene Teil der Lasche 8.3 wird vor der Montage im Modul
und dem Impulslötvorgang noch um 90° gebogen, damit die La
sche 8.3 mit dem Loch 13 im fertigen Zustand des Moduls
(siehe Fig. 7) über einer Anschlußmutter 15 liegt, die
sich in einem Gehäusedeckel 11 befindet.
Das Kontaktteil 4.3 hat im dargestellten Beispiel die Form
eines C. Es wird mit den nach innen gebogenen Füßen auf die
Metallisierung 2 des Substrats 1 (siehe Fig. 1) gelötet.
Je nach Anforderungen und Platzverhältnissen kann das Kon
taktstück auch andere Formen haben.
Fig. 5 zeigt eine Draufsicht auf einen Modulgehäuserahmen
10 aus Kunststoff, der eine in Fig. 6 sichtbare Ausnehmung
in seiner Bodenebene hat, in die das bestückte Substrat 1
eingesetzt ist. Die weiteren Ausführungen beziehen sich
sowohl auf die Fig. 5 als auch auf die Fig. 6, die einen
Schnitt durch die Anordnung gemäß Fig. 5 in einer Ebene
B'-B" zeigt.
Der Modulgehäuserahmen 10 weist Befestigungsflansche 16 mit
Befestigungslöchern 17 auf. Außerdem hat der Rahmen 10 Ver
strebungen 18 mit angeformten Stützen 19. Die Stützen 19
drücken im fertigmontierten Zustand des Moduls auf die Kon
taktplatten 7 und verhindern damit eine nach innen gerich
tete Wölbung des Substrats 1. Mit fertigmontiertem Zustand
ist eine Anordnung gemeint, in der das Modul auf einem
nicht dargestellten Kühlkörper montiert ist mittels Schrau
ben, die durch die Befestigungslöcher 17 geführt sind. Im
montierten Zustand werden Druckkräfte von dem Gehäuserahmen
10 sowie über die Verstrebungen 18 und Stützen 19 auf das
Substrat 1 und die Bestückungselemente 3.1, 3.2 übertragen.
Der Gehäuserahmen 10 liegt nicht direkt auf dem Rand des
Substrats 1 auf. Das Substrat 1 befindet sich in einer Aus
nehmung 20 in der Bodenebene des Rahmens 10. Es besteht
eine elastische Verbindung zwischen Substratrand und
Gehäuserahmen, die vorzugsweise mittels einer etwa 0,5 bis
1 mm dicken Klebstoffraupe aus elastischem Silikon herge
stellt ist. Die Verbindung dient hauptsächlich der Abdich
tung. Das metallisierte Substrat 1 steht leicht, d. h. etwa
0,1 mm über der Bodenebene des Rahmens 10 über und wird da
durch federnd auf den Kühlkörper gedrückt.
In Fig. 5 sind die Verstrebungen 18 durch eine Schraffur
hervorgehoben, obwohl es sich nicht um Schnittflächen han
delt.
In den Fig. 5 und 6 ist der Modulanschluß A-K zu erken
nen, der gebildet ist durch die zweite Anschlußlasche 8.2
mit dem Loch 13 und einer darunter in einer Tasche 21 des
Gehäuserahmens 10 befindlichen Mutter 15.
Fig. 7 zeigt eine äußere Ansicht des Moduls nach dem ein
Gehäusedeckel 11 auf dem Gehäuserahmen 10 aufgesetzt ist
und das Modul mit Vergußmasse 14 gefüllt ist. Durch den
Deckel 11 sind die Anschlußlaschen 8.1 und 8.3 für die Mo
dulanschlüsse A und K geführt. Unterhalb der Laschen 8.1
und 8.3 befinden sich in Fig. 7 nicht sichtbare Muttern,
die in Taschen des Deckels liegen. Der Deckel 11 hat Öff
nungen 22, die geeignet sind zur Einführung eines Impuls
lötwerkzeugs und zum Einfüllen von Vergußmasse 14.
Die Herstellung des in den Fig. 1 bis 7 dargestellten
Moduls kann auf nachstehende Weise erfolgen. Ein Keramik
substrat 1, das z. B. aus Aluminiumoxid besteht, wird unter
Verwendung eines Direktverbindungsverfahrens mit einer Me
tallisierung 2 aus Kupferblechen oder Kupferfolien verse
hen. Die Metalliserung 2 wird chemisch vernickelt mit einer
Schichtdicke von einigen Mikrometern. Mit Hilfe einer Löt
form wird das in Fig. 1 gezeigte, mit Bestückungselementen
versehene Substrat 1 in einem Durchlaufofen mit Schutzgas
atmosphäre gelötet. In diesem Lötprozeß werden auch die in
Fig. 1 mit Bezugszeichen 5 versehenen Lotschichten auf den
Kontaktstücken 4.1, 4.2, 4.3 aufgebracht, also diese Kon
taktstücke mit Weichlot benetzt. Das bestückte und gelötete
Substrat 1 wird anschließend in die Ausnehmung 20 des Ge
häuserahmens 10 eingeklebt, wie oben näher beschrieben ist.
Im folgenden Fertigungsschritt wird die zweite Anschlußla
sche 8.2 für den Modulanschluß A-K in die Führungsvertie
fung 23 eingelegt und mit dem zweiten Kontaktstück 4.2
verlötet. Dies geschieht mittels Impulslötung, bei der der
Laschenfuß kurzzeitig auf eine hohe Temperatur erwärmt wird
und das auf dem Kontaktstück befindliche Lot zum Aufschmel
zen bringt. Die Laschen 8.1 bis 8.3 werden vor dem Anlöten
galvanisch verzinnt, um ein gutes Benetzungsverhalten zu
erzielen.
Der Gehäusedeckel 11 weist Taschen auf, in die M8-Muttern
für Stromanschlußschrauben eingelegt werden und außerdem
Schlitze 24, durch die vorgebogene Anschlußlaschen 8.1 und
8.3 gesteckt werden. Der Deckel 11 wird mit den eingehäng
ten Laschen 8.1, 8.3 auf den Gehäuserahmen 10 aufgesetzt
und mit diesem verklebt. Die Laschen 8.1 und 8.3 werden an
schließend mit dem jeweiligen Kontaktstück 4.1 bzw. 4.3
mittels Impulslötung verbunden. Dazu wird ein Impulslöt
werkzeug durch Öffnungen 22 im Deckel 11 geführt. In einem
letzten Herstellungsschritt wird Vergußmasse 14 durch die
Öffnungen 22 eingefüllt.
Als weitere vorteilhafte Ausgestaltung ist es möglich, Ge
häusedeckel 11 und Gehäuserahmen 10 als einstückiges Teil
zu fertigen. Dann wird die zweite-Anschlußlasche 8.2 im
einstückigen Gehäuse vorbestückt, bevor das Substrat 1 in
die Ausnehmung 20 eingeklebt wird.
In Versuchen mit Modulen gemäß Ausführungsbeispiel hat sich
gezeigt, daß eine Stromtragfähigkeit über 25 kA während
10 ms gegeben ist, ohne daß dabei die 0,3 mm dicke Kupfer
metallisierung 2 und die Zwischenstücke 6 gemäß Fig. 8
zerstört werden.
1
Substrat
2
Metallisierung
3.1
erste Diode
3.2
zweite Diode
4.1
erstes Kontaktstück
4.2
zweites Kontaktstück
4.3
drittes Kontaktstück
5
Weichlotschicht
6
Zwischenstück
6.1
Platte
6.2
Zylinderteil
7
Kontaktplatte
8.1
erste Anschlußlasche
8.2
zweite Anschlußlasche
8.3
dritte Anschlußlasche
9
Auflagefläche
10
Modulgehäuserahmen
11
Gehäusedeckel
12
Hartlotverbindung
13
Loch
14
Vergußmasse
15
Anschlußmutter
16
Befestigungsflansch
17
Befestigungsloch
18
Verstrebung
19
Stütze
20
Ausnehmung
21
Tasche
22
Einfüllöffnung
23
Führungsvertiefung
24
Schlitz
25
Öffnung
A Anoden-Modulanschluß
A-K Anoden/Kathoden-Modulanschluß
K Kathoden-Modulanschluß
A Anoden-Modulanschluß
A-K Anoden/Kathoden-Modulanschluß
K Kathoden-Modulanschluß
Claims (5)
1. Leistungshalbleitermodul mit
- - einem Kunststoffgehäuse (10, 11),
- - einem elektrisch isolierenden Substrat (1), das Metallisierung (2) aufweist und als Bodenplatte in das Kunststoffgehäuse (10, 11) eingesetzt ist,
- - Leistungshalbleiterbauelementen (3.1, 3.2), die auf mit Metallisierungen (2) versehenen Flächen des Substrats (1) aufgelötet sind, und
- - Anschlußlaschen (8.1, 8.2, 8.3) zur Bildung äußerer Modulanschlüsse für die Leistungshalbleiterbauelemente (3.1, 3.2),
2. Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das Kontaktstück (4.1, 4.2) als Verbindungsglied
zwischen der Anschlußlasche (8.1, 8.2) und einer Elektrode des
Leistungshalbleiterbauelements (3.1, 3.2) eingesetzt ist.
3. Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Leistungshalbleiterbauelemente (3.1, 3.2), die je
mit einem Kontaktstück (4.1, 4.2, 4.3) zu verbinden sind, auf der zu
kontaktierenden Elektrode eine mittels Weichlot aufgelötete Kontaktplatte (7)
aufweisen, auf der ein Zwischenstück (6) zentral angeordnet ist, das mittels Hartlot
mit der Kontaktplatte (7) und mittels Weichlot mit dem Kontaktstück (4.1)
verbunden ist und aus dem gleichen oder bezüglich des Ausdehnungskoeffizienten
ähnlichem Material wie das Kontaktstück (4.1, 4.2, 4.3) besteht.
4. Leistungshalbleitermodul nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das metallisierte Substrat (1, 2) eine Keramikplatte
mit direkt damit verbundenen Kupferblechen ist.
5. Leistungshalbleitermodul nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Kunststoffgehäuse (10, 11) ein rahmenförmiges
Gehäuseteil (10) aufweist, in dessen Bodenebene das Substrat (1) in einer
Ausnehmung (20) so eingesetzt ist, daß es etwa 0,1 mm weit über der Bodenebene
hervorsteht und daß der Gehäuserahmen (10) Verstrebungen (18) mit angeformten
Stützen (19) hat.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4300516A DE4300516C2 (de) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | Leistungshalbleitermodul |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4300516A DE4300516C2 (de) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | Leistungshalbleitermodul |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4300516A1 DE4300516A1 (de) | 1994-07-14 |
DE4300516C2 true DE4300516C2 (de) | 2001-05-17 |
Family
ID=6477987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4300516A Expired - Lifetime DE4300516C2 (de) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | Leistungshalbleitermodul |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4300516C2 (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10213648B4 (de) * | 2002-03-27 | 2011-12-15 | Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg | Leistungshalbleitermodul |
DE102004035746B4 (de) * | 2004-07-23 | 2009-04-16 | Infineon Technologies Ag | Leistungshalbleitermodul |
JP4338620B2 (ja) * | 2004-11-01 | 2009-10-07 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
DE102004057421B4 (de) * | 2004-11-27 | 2009-07-09 | Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg | Druckkontaktiertes Leistungshalbleitermodul für hohe Umgebungstemperaturen und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE102005047566C5 (de) * | 2005-10-05 | 2011-06-09 | Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg | Anordnung mit einem Leistungshalbleiterbauelement und mit einem Gehäuse sowie Herstellungsverfahren hierzu |
DE102006014145C5 (de) * | 2006-03-28 | 2015-12-17 | Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg | Druck kontaktierte Anordnung mit einem Leistungsbauelement, einem Metallformkörper und einer Verbindungseinrichtung |
CN102576705B (zh) | 2009-09-28 | 2015-10-21 | Abb技术有限公司 | 电路装置及其制造方法 |
EP2302674A1 (de) * | 2009-09-29 | 2011-03-30 | ABB Research Ltd. | Elektrisches Endgerät, elektronisches Schaltmodul mit einem elektrischen Endgerät und entsprechendes Verfahren zur Herstellung davon |
DE102012211952B4 (de) * | 2012-07-09 | 2019-04-25 | Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg | Leistungshalbleitermodul mit mindestens einem stressreduzierenden Anpasselement |
CN105378921A (zh) * | 2013-07-10 | 2016-03-02 | 日立汽车系统株式会社 | 功率半导体模块 |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE8203300U1 (de) * | 1982-06-24 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Halbleiterbauelement mit Keramiksubstrat | |
DE3505086A1 (de) * | 1985-02-14 | 1986-08-28 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Leistungshalbleitermodul mit einem kunststoffgehaeuse |
DE8701935U1 (de) * | 1987-02-09 | 1987-04-09 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Halbleiterbauelement mit mindestens einem Halbleiterkörper |
DE3127458C2 (de) * | 1981-07-11 | 1987-06-25 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim, De | |
DE3610288A1 (de) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Bbc Brown Boveri & Cie | Leistungshalbleitermodul |
DE3717489A1 (de) * | 1987-05-23 | 1988-12-01 | Asea Brown Boveri | Leistungshalbleitermodul und verfahren zur herstellung des moduls |
DE3528427C2 (de) * | 1985-08-08 | 1989-04-06 | Asea Brown Boveri Ag, 6800 Mannheim, De | |
DE3837920A1 (de) * | 1988-11-09 | 1990-05-10 | Semikron Elektronik Gmbh | Halbleiterelement |
EP0381849A1 (de) * | 1989-02-07 | 1990-08-16 | Asea Brown Boveri Ag | Schnelle Leistungshalbleiterschaltung |
DE4020577A1 (de) * | 1989-06-28 | 1991-01-10 | Hitachi Ltd | Halbleiteranordnung |
DE9017042U1 (de) * | 1990-12-18 | 1991-03-07 | Akyürek, Altan, Dipl.-Ing., 8560 Lauf | Halbleitermodul |
EP0459283A1 (de) * | 1990-05-29 | 1991-12-04 | Daimler-Benz Aerospace Aktiengesellschaft | Halbleiterbauelement, befestigt an einem keramischen Substrat |
EP0468475A1 (de) * | 1990-07-26 | 1992-01-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Leistungshalbleiteranordnung, geeignet zur Automation der Herstellung |
DE4130637A1 (de) * | 1990-10-11 | 1992-04-16 | Abb Patent Gmbh | Verfahren zur herstellung eines verbindungselements fuer eine verwendung in leistungshalbleitermodulen |
DE9203000U1 (de) * | 1992-03-06 | 1992-06-17 | Siemens AG, 8000 München | Halbleiteranordnung mit mehreren Halbleiterkörpern |
US5148264A (en) * | 1990-05-02 | 1992-09-15 | Harris Semiconductor Patents, Inc. | High current hermetic package |
-
1993
- 1993-01-12 DE DE4300516A patent/DE4300516C2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE8203300U1 (de) * | 1982-06-24 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Halbleiterbauelement mit Keramiksubstrat | |
DE3127458C2 (de) * | 1981-07-11 | 1987-06-25 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim, De | |
DE3505086A1 (de) * | 1985-02-14 | 1986-08-28 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Leistungshalbleitermodul mit einem kunststoffgehaeuse |
DE3528427C2 (de) * | 1985-08-08 | 1989-04-06 | Asea Brown Boveri Ag, 6800 Mannheim, De | |
DE3610288A1 (de) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Bbc Brown Boveri & Cie | Leistungshalbleitermodul |
DE8701935U1 (de) * | 1987-02-09 | 1987-04-09 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Halbleiterbauelement mit mindestens einem Halbleiterkörper |
DE3717489A1 (de) * | 1987-05-23 | 1988-12-01 | Asea Brown Boveri | Leistungshalbleitermodul und verfahren zur herstellung des moduls |
DE3837920A1 (de) * | 1988-11-09 | 1990-05-10 | Semikron Elektronik Gmbh | Halbleiterelement |
EP0381849A1 (de) * | 1989-02-07 | 1990-08-16 | Asea Brown Boveri Ag | Schnelle Leistungshalbleiterschaltung |
DE4020577A1 (de) * | 1989-06-28 | 1991-01-10 | Hitachi Ltd | Halbleiteranordnung |
US5148264A (en) * | 1990-05-02 | 1992-09-15 | Harris Semiconductor Patents, Inc. | High current hermetic package |
EP0459283A1 (de) * | 1990-05-29 | 1991-12-04 | Daimler-Benz Aerospace Aktiengesellschaft | Halbleiterbauelement, befestigt an einem keramischen Substrat |
EP0468475A1 (de) * | 1990-07-26 | 1992-01-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Leistungshalbleiteranordnung, geeignet zur Automation der Herstellung |
DE4130637A1 (de) * | 1990-10-11 | 1992-04-16 | Abb Patent Gmbh | Verfahren zur herstellung eines verbindungselements fuer eine verwendung in leistungshalbleitermodulen |
DE9017042U1 (de) * | 1990-12-18 | 1991-03-07 | Akyürek, Altan, Dipl.-Ing., 8560 Lauf | Halbleitermodul |
DE9203000U1 (de) * | 1992-03-06 | 1992-06-17 | Siemens AG, 8000 München | Halbleiteranordnung mit mehreren Halbleiterkörpern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4300516A1 (de) | 1994-07-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0221399B1 (de) | Leistungshalbleitermodul | |
DE68927295T2 (de) | Kunstharzversiegeltes halbleiterbauelement | |
DE102009044641B4 (de) | Einrichtung mit einem Halbleiterchip und Metallfolie sowie ein Verfahren zur Herstellung der Einrichtung | |
EP0069901B1 (de) | Stromrichtermodul | |
DE68920469T2 (de) | Elektronische Packung. | |
DE102013216709B4 (de) | Halbleiteranordnung, verfahren zur herstellung einer anzahl von chipbaugruppen und verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung | |
DE102016104844B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Chipverbunds | |
WO1996001497A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer dreidimensionalen schaltungsanordnung | |
DE3616494A1 (de) | Integrierte schaltungspackung und verfahren zur herstellung einer integrierten schaltungspackung | |
WO2003098666A2 (de) | Hochfrequenz-leistungshalbleitermodul mit hohlraumgehäuse sowie verfahren zu dessen herstellung | |
EP0152818A2 (de) | Leistungshalbleitermodul | |
DE102012202281A1 (de) | Halbleiteranordnung für Druckkontaktierung | |
DE102013217801B4 (de) | Halbleiteranordnung, verfahren zur herstellung einer anzahl von chipbaugruppen, verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung und verfahren zum betrieb einer halbleiteranordnung | |
DE4300516C2 (de) | Leistungshalbleitermodul | |
DE19507547C2 (de) | Verfahren zur Montage von Chips | |
DE2639979B2 (de) | Halbleiterbaueinheit | |
DE102013217802A1 (de) | Halbleiteranordnung, verfahren zur herstellung einer halbleiterbaugruppe, verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung und verfahren zum betrieb einer halbleiteranordnung | |
EP1595287B1 (de) | Elektronisches bauteil mit halbleiterchip und verfahren zur herstellung desselben | |
DE3432449C2 (de) | ||
DE19716102A1 (de) | Integrierte Schaltungsanordnung mit mehreren Bauelementen und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE102014203306A1 (de) | Herstellen eines Elektronikmoduls | |
DE112022003837T5 (de) | Halbleitervorrichtung und herstellungsverfahren | |
EP1298723A2 (de) | Elektronisches Bauteil mit einem Kunststoffgehäuse und Komponenten eines Systemträgers und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE10134943A1 (de) | Elektronisches Leistungsbauteil mit einem Halbleiterchip | |
DE102007002807A1 (de) | Chipanordnung und Verfahren zur Herstellung einer Chipanordnung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8120 | Willingness to grant licences paragraph 23 | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: IXYS SEMICONDUCTOR GMBH, 68623 LAMPERTHEIM, DE |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R071 | Expiry of right | ||
R071 | Expiry of right | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: OPPERMANN, FRANK, DIPL.-ING., DE |