DE4003673A1 - Erweiterte schnellschreibschaltung fuer den dram-test - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine
Speichereinrichtung, wie beispielsweise ein DRAM hoher
Dichte, und insbesondere auf eine erweiterte
Schnellschreibschaltung für den DRAM-Test.
Da das DRAM immer stärker integriert wird, werden für die
vielen Schichten und Muster genaue Verfahren benötigt,
wobei die Fehlerrate des DRAM durch die Menge an Staub
oder Verunreinigungen bestimmt wird. Insbesondere nimmt
mit zunehmendem Integrationsgrad der DRAMs die Fehlerrate
ebenfalls zu, so daß neuerdings die DRAM-Testschaltung
innerhalb der Speichereinrichtung angeordnet ist, um einen
inneren Test durchzuführen. Aber selbst wenn der DRAM-Test
innerlich ausgeführt wird, wird die DRAM-Testzeit bei
höherem Integrationsgrad länger.
Beim konventionellen DRAM-Test wird der DRAM-Test mit
einer Biteinheit (x4, x8, x16) unter Verwendung von
Testsignalen durchgeführt. Die für das Testen aufgewandte
Zeit nimmt entsprechend der Integrationsdichte/x-Bit zu.
Entsprechend nimmt die Testzeit umsomehr zu, je mehr die
Integrationsdichte zunimmt, da das Einschreiben und
Auslesen der Daten durch eine x-Biteinheit über
Ein/Ausgabeleitungen erfolgt und die Daten miteinander auf
Fehlerhaftigkeit verglichen werden.
Um derartige Probleme der Parallelschreibmethode zu lösen,
gibt es eine Schnelltestmethode für DRAMs, bei der zur
gleichen Zeit die Daten in jede der mit der angesteuerten
Wortleitung verbundenen Speicherzellen eingeschrieben
werden, und zwar durch direktes Schreiben und Vergleichen
der Daten auf den Bitleitungen ohne Benutzung der
Ein/Ausgabeleitungen (E/A). Weiter gibt es eine
Schnellschreibmethode, bei der das Schreiben über die
E/A-Leitungen erfolgt. Diese Methoden sind jedoch nicht in
der Lage, stets den gleichen Datenwert (1 oder 0) in die
mit der angewählten Wortleitung verbundenen Speicherzellen
entsprechend der Position der Bitleitungen und
Speicherzellen einzuschreiben, weil die Bitleitungen B/L
und in konstanter Folge angeordnet sind, nämlich B/L,
, B/L, , , B/L, , B/L, . . .
Es ist demgemäß ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine
erweiterte Schnellschreibschaltung für den DRAM-Test zu
schaffen, mit deren Hilfe Daten schnell auf Bitleitungen
ohne Benutzung von E/A-Leitungen geschrieben werden können.
Es ist ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung, eine
erweiterte Schnellschreibschaltung für den DRAM-Test zu
schaffen, mit der die gleichen Daten in alle mit einer
angesteuerten Wortleitung verbundenen Speicherzellen
eingeschrieben werden können.
Diese Ziele werden durch Schaffung eines Paares von
Schnellbitleitungsknoten erreicht, an die alle
Bitleitungen angeschlossen sind und wobei durch die
Schnellbitleitungsknoten ein Datenschreibpfad gelegt wird.
Das bedeutet, daß der gleiche Datenwert zur gleichen Zeit
über die Bitleitungen jeder Speicherzelle eingeschrieben
wird, über die über die innerlich angesteuerte Wortleitung
pro Blockeinheit Zugriff besteht.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine erweiterte
Schnellschreibschaltung für den DRAM-Test in einer
Speicherschaltung mit einer Vielzahl jeweils von
Leseverstärkern, Speicherzellen und MOS-Transistoren
geschaffen, die gekennzeichnet ist durch: Ausgleichs- und
Verbindungsmittel mit einer Vielzahl von Gruppen mit einem
Ausgleichs-MOS-Transistor und einem Paar von
Verbindungs-MOS-Transistoren in einem Paar von
Bitleitungen, die mit jedem der Leseverstärker verbunden
sind; Knotenverbindungsmittel, bei denen das Paar von
Bitleitungen mit einem Paar von Knoten durch eine
Speicherzelleneinheit verbunden ist, auf die über eine
angesteuerte Wortleitung Zugriff besteht; und
Schreibsignalverarbeitungsmittel zur Schaffung eines
Spannungsunterschiedes zu den Knotenverbindungsmitteln,
wenn ein Datenwert in die Speicherzelle geschrieben wird.
Fig. 1 stellt eine Schaltung dar, die eine Verkörperung
der vorliegenden Erfindung wiedergibt.
Die Erfindung sei nun unter Bezugnahme auf die
Zeichnung näher beschrieben. Ein erster Komponententeil 1
und ein zweiter Komponententeil 2, die mit der
konventionellen DRAM-Struktur übereinstimmen, weisen eine
für integrierte Schaltkreise (I/C) erforderliche Struktur
auf. Das heißt, daß der erste Komponententeil 1 einen
zwischen ein Paar von Bitleitungen B/L und
geschalteten Leseverstärker S1, MOS-Transistoren M9 und
M10 zum Verbinden der Ein/Ausgangsleitungen E/A⌀ und mit dem Leseverstärker S1, und Speicherzellen MS1 und MS2
aufweist, die zwischen ein Paar von Wortleitungen W/L1 und
W/L2 zum Schreiben und Lesen von Daten auf das Paar von
Bitleitungen geschaltet sind. Weiter weist der erste
Komponententeil 1 einen Leseverstärker S2,
MOS-Transistoren M11 und M12 und Speicherzellen MS2 und
MS6 auf.
In gleicher Weise sind die E/A-Leitungen und
Speicherzellen auf der linken und rechten Seite der
Leseverstärker S3 und S4 angeordnet. Der zweite
Komponententeil 2 besitzt die gleiche Struktur wie der
erste Komponententeil 1. Das Paar von Bitleitungen B/L und
sowie die E/A-Leitungen, die mit den Leseverstärkern
S1 und S2 verbunden sind, unterscheiden sich von den
Bitleitungen und den E/A-Leitungen der Leseverstärker S3
und S4 im Hinblick auf den Schaltungsaufbau, d. h., auf den
Anschlußzustand. Der zweite Komponententeil 2 weist die
gleiche Zusammensetzung wie der erste Komponententeil 1
auf.
Weiter umfassen Ausgleichs- und Verbindungsmittel 5 einen
MOS-Transistor M6, der zum Ausgleichen zwischen das Paar
von Bitleitungen B/L und geschaltet ist, sowie ein
Paar von MOS-Transistoren M7 und M8 zum Verbinden des
Paares der Bitleitungen B/L und mit einem Paar von
Knoten FBL und . Der andere Leseverstärker besitzt den
gleichen Aufbau. Knotenverbindungsmittel 4 sind so
aufgebaut, daß die Bitleitungen der Speicherzellen MS1,
MS2, . . ., die von einem Paar von Wortleitungen W/L1 und
W/L2 angesteuert werden, mit dem Paar von Knoten FBL und
verbunden sind.
Schreibsignalverarbeitungsmittel 3 sind an den
Knotenverbindungsteil 4 angeschlossen. Die
Schreibsignalverarbeitungsmittel 3 weisen einen
MOS-Transistor M5 zum Ausgleichen der Knoten FBL und ,
einen Datenentscheidungsteil und einen Teil zur Lieferung
der Versorgungsspannung auf. Wenn der Datenwert schnell
eingeschrieben wird, wird der Datenentscheidungsteil durch
die Steuerlogiksignale A-D gesteuert und umfaßt die
MOS-Transistoren M1 und M3 zum Anlegen des
Versorgungsspannungspegels (VCC-Pegel) an das Knotenpaar
FBL und , sowie die MOS-Transistoren M2 und M4 zum
Anlegen des Erdpegels (VSS-Pegel) an das Knotenpaar FBL
und .
Entsprechend dem in der Speicherzelle gespeicherten
Datenwert (1 oder 0) werden die MOS-Transistoren M1, M2
und M3, M4 durch die Steuerlogiksignale A-E zum Anlegen
der Versorgungsspannung VBL an beide Knoten FBL und
gesteuert. Der Teil zur Lieferung der Versorgungsspannung
VBL zum Ausgleichen der Bitleitungen während eines
Vorladezyklus umfaßt die MOS-Transistoren M21 und M22,
welche die Versorgungsspannung VBL an das Knotenpaar FBL
und anlegen. Weiter umfassen die
Knotenverbindungsmittel 4 ein Paar von Knoten FBL und
zum Anlegen der im Schreibsignalverarbeitungsteil 3
erzeugten Spannung an die Bitleitungen.
Insbesondere wird der Knoten FBL durch Verbinden der
Bitleitungen (ohne Unterscheidung entweder B/L oder )
der durch die gewählte Wortleitung angesteuerten
Speicherzelle gebildet. Auch die anderen Bitleitungen sind
unter Bildung des Knoten miteinander verbunden. Jetzt
gibt es natürlich keine Unterscheidung zwischen dem
Knotenpaar FBL und , wie auch dem Bitleitungspaar B/L
und . Deshalb weisen auch die mit der angesteuerten
Wortleitung verbundenen Speicherzellen alle den gleichen
Datenwert auf. In dieser Hinsicht besteht also ein
fundamentaler Unterschied zwischen der Schreibmethode mit
Verwendung der E/A-Leitungen und der hier angewandten
Methode.
Nachfolgend wird die obige Struktur der vorliegenden
Erfindung im Detail erläutert.
Das konventionelle DRAM besitzt eine sich alternierend
wiederholende Struktur aus einem erstem Komponententeil 1
und einem zweiten Komponententeil 2. Insbesondere sind
wegen der Verbindungsfolge der E/A-Leitungen E/A⌀, ,
E/A1, . . ., die Bitleitungen B/L, und , B/L der
Komponententeile im ersten Komponententeil 1 und im
zweiten Komponententeil 2 alternierend angeschlossen. Wenn
also ein Zugriff auf eine Wortleitung W/L1 erfolgt, kann
jede Speicherzelle MS1, MS2, MS3 und MS4 mit den
Bitleitungen B/L oder verbunden werden.
Im konventionellen Falle, bei dem die Daten über die
E/A-Leitungen auf die Bitleitung B/L übertragen werden,
wenn das Spaltenansteuersignal CSL anliegt, werden die
MOS-Transistoren S11 und S12 der Speicherzellen MS1 und
MS2 an die E/A-Leitungen angeschlossen, während die
MOS-Transistoren S13 und S14 der Speicherzellen MS3 und
MS4 mit den -Leitungen verbunden sind, so daß die
Daten, die in der von einer Wortleitung angesteuerten
Speicherzelle gespeichert sind, bezüglich "1" und "0"
vermischt sind. Das bedeutet, daß gleiche Daten nicht
innerlich eingeschrieben werden können, aber von außen her
als gleiche Daten betrachtet werden.
Die vorliegende Erfindung löst dieses Problem und schreibt
die Daten in Form der Knotenpaareinheit FBL und durch
Bilden eines Knotenverbindungsteils 5 und Verbinden des
zugegriffenen Bitleitungspaares B/L, mit dem
Knotenpaar FBL und ein, um so gleiche Daten in die
über eine angesteuerte Wortleitung zugänglich gemachten
Speicherzellen einzuschreiben.
Zunächst sind die Schreib- und Leseoperationen mit denen
des konventionellen DRAMs identisch. Die MOS-Transistoren
M1-M4 der Schreibsignalverarbeitungsmittel 3 sind
abgeschaltet. Das bedeutet, daß wenn die MOS-Transistoren
M9 und M10 durch das Spaltenansteuersignal CSL
eingeschaltet und dann die E/A-Leitungen angesteuert
werden, die E/A-Leitungen mit dem Leseverstärker S1 und
den Bitleitungen B/L und verbunden werden. Bei der
Datenschreiboperation wird der Kondensator C1 der durch
die Wortleitung W/L1 und das Spaltenansteuersignal CSL
gewählten Speicherzelle MS1 durch den Leseverstärker S1
und die Bitleitungen geladen.
Sodann wird in der Datenleseoperation die im Kondensator
C1 gespeicherte Ladung durch den MOS-Transistor S11 in der
Speicherzelle MS1 in die Bitleitung B/L entladen. Der
Leseverstärker S1 erfaßt dieses Statussignal der
Bitleitung und liefert das verstärkte Signal an die
E/A-Leitungen. Dieser Vorgang ist der gleiche wie beim
konventionellen DRAM. Die anderen Speicherzellen arbeiten
in gleicher Weise wie beschrieben.
Die Ablauffolge, mit der die Daten zum Testen des DRAMs
mit hoher Geschwindigkeit schnell geschrieben werden, sei
nunmehr entsprechend der vorliegenden Erfindung
beschrieben.
Da im Schreibbetrieb die Daten ohne Verwendung der
E/A-Leitungen direkt auf die Bitleitungen übertragen
werden, wird das Spaltensignal nicht benutzt, so daß die
MOS-Transistoren M9 und M10 abgeschaltet werden bzw.
abgeschaltet bleiben. Weiter werden die MOS-Transistoren
M21 und M22 durch das an den Knoten E angelegte Signal
abgeschaltet, und ebenso ist die Versorgungsspannung VBL
für das Knotenpaar FBL und FBL abgeschaltet.
Bei der Leseoperation wird die Wortleitung W/L1 durch die
Reihenadresse angesteuert, und es werden die getrennten
Steuerlogiksignale A-D an den
Schreibsignalverarbeitungsteil 3 angelegt. Der Datenwert,
der an das Bitleitungspaar B/L und der angesteuerten
Speicherzelle geliefert wird, wird gemäß den genannten
Steuerlogiksignalen bestimmt. Im Falle, daß die aktuelle
Wortleitung angesteuert und der gleiche Datenwert "1" in
die inneren Speicherzellen MS1, MS2, . . . eingeschrieben
wird, werden die MOS-Transistoren M1 und M4 abgeschaltet,
während die MOS-Transistoren M2 und M3 durch die
Steuerlogiksignale A-D eingeschaltet werden.
Somit wird die Versorgungsspannung VCC durch den
MOS-Transistor M3 an den Knoten FBL übertragen, während
der VSS-Pegel durch den MOS-Transistor M2 ebenfalls an den
Knoten FBL übertragen wird. Die Leseverstärker S1, S2, . . .
erfassen und verstärken die von den Knoten FBL und FBL
gelieferte Spannungsdifferenz ΔV, und liefern das
verstärkte Ausgangssignal an das Bitleitungspaar B/L und
, so daß der Datenwert "1" in den Speicherzellen MS1,
MS2, . . . identisch gespeichert wird (Ausführen von INT
"1").
Nachfolgend wird eine weitere Ausführungsform der
Erfindung erläutert.
Die beiden Transistoren M2 und M3 sind nicht eingeschaltet
und nur ein Transistor der MOS-Transistoren M2 und M3 kann
eingeschaltet werden, wenn identische Daten in die
Speicherzellen MS1, MS2, . . . geschrieben werden. Auch wenn
sich dieser eine Transistor einschaltet, kann die
Spannungsdifferenz ΔV zwischen den Knoten FBL und
erzeugt und auf das Bitleitungspaar B/L und übertragen
werden. Analog erfassen die Leseverstärker S1, S2, . . .,
die Spannungsdifferenz und legen sie an das
Bitleitungspaar B/L und jeweils als VCC- und VSS-Pegel
an. Somit kann der gleiche Datenwert "1" in den
Speicherzellen MS1, MS2, . . . gespeichert werden. Bei
beiden Methoden zur Erzeugung des Spannungsunterschiedes
zwischen den Knoten FBL und ist der an das Gate des
MOS-Transistors M6 angelegte Ausgleichsimpuls ⌀EQ
niederpegelig, so daß der MOS-Transistor M6 ausgeschaltet
bleibt. Ein Impuls ⌀FW ist jedoch hochpegelig und schaltet
die MOS-Transistoren M7 und M8 ein. Somit werden die
Knoten FBL und jeweils mit den Bitleitungen B/L und
verbunden, so daß die für eine Erfassung erforderliche
Spannungsdifferenz ΔV übertragen wird.
Wenn der erweiterte Schnellschreibzyklus beendet ist, wird
der gleiche Datenwert in alle Speicherzellen MS1, MS2,
. . ., die mit der Wortleitung W/L1 verbunden sind,
eingeschrieben. Nach dem Schreibzyklus wird der
Ausgleichsimpuls ⌀EQ als Hochpegel während des
Vorladezyklus geliefert, so daß die Transistoren M5 und M6
zum Ausgleichen der Knoten FBL, und der Bitleitungen
B/L, eingeschaltet werden. In diesem Falle kann ein
Hochgeschwindigkeitsausgleich vollständig durch die mit
jeder Bitleitung B/L und verbundenen Knoten FBL und
durchgeführt werden. Während der Vorlade- und
Normalzyklen schalten die MOS-Transistoren M1 bis M4 ab,
während die MOS-Transistoren M21 und M22 während des
Vorladezyklus einschalten, um die Versorgungsspannung an
die Bitleitungen zu liefern.
Bis hierher im Text beziehen sich alle Erläuterungen auf
den gleichen Datenwert "1", wenn er in die Speicherzellen
geschrieben wird; jedoch ist der Fall des Datenwertes "0"
identisch mit dem des Datenwerts "1", ausgenommen, daß die
MOS-Transistoren M1-M4 eingeschaltet sind.
Wie oben erwähnt, können die Daten erfindungsgemäß nicht
nur direkt in jede Speicherzelle über die Bitleitungen B/L
und ohne Verwendung der E/A-Leitungen eingeschrieben
werden, sondern gleichzeitig auch schnell in jede an eine
gewählte Wortleitung angeschlossene Speicherzelle, so daß
die für den DRAM-Test aufgewandte Zeit erheblich reduziert
wird. Weiter können erfindungsgemäß alle Daten auf alle im
Zugriff mit einer angesteuerten Wortleitung stehenden
Speicherzellen geschrieben werden, und ebenso können
dieselben Daten innerlich eingeschrieben werden
(Durchführen von INT "1" oder "0").
Weiter benutzt die vorliegende Erfindung den
Schaltungsaufbau des konventionellen DRAMs wie er ist.
Jede Bitleitung besitzt nicht die
Schreibsignalverarbeitungsquelle, und der
Schreibsignalverarbeitungsteil ist nicht innerhalb des
Speicherfeldes, unter Benutzung der Knoten angeordnet.
Dementsprechend kann der Schaltungsaufbau vereinfacht
werden und die Pegelstabilisierung der Bitleitungen für
die Entzerrung kann gemäß der vorliegenden Erfindung
absolut schnell sein.
Die Erfindung ist in keiner Weise auf die oben
beschriebene Ausführungsform beschränkt. Verschiedene
Abänderungen der offenbarten Ausführungsform ebenso wie
andere Ausführungsformen der Erfindung liegen für
Fachleute unter Bezugnahme auf die Beschreibung der
Erfindung nahe. Es wird daher davon ausgegangen, daß die
Ansprüche jede solche Änderung oder
Ausführungsform als in den Rahmen der Erfindung fallend
abdecken.
Claims (6)
1. Erweiterte Schnellschreibschaltung für dem DRAM-Test in
einer Speicherschaltung, mit einer Vielzahl jeweils von
Leseverstärkern, Speicherzellen und MOS-Transistoren,
gekennzeichnet durch:
- - Ausgleichs- und Verbindungsmittel mit einer Vielzahl von Gruppen aus einem Ausgleichs-MOS-Transistor und einem Paar von Verbindungs-MOS-Transistoren in einem Paar von Bitleitungen, die mit jedem der Leseverstärker verbunden sind;
- - Knotenverbindungsmittel, bei denen das Paar von Bitleitungen mit einem Paar von Knoten durch eine Speicherzelleneinheit verbunden ist, auf die über eine angesteuerte Wortleitung Zugriff besteht; und
- - Schreibsignalverarbeitungsmittel zur Schaffung eines Spannungsunterschiedes zum Knotenverbindungsmittel, wenn ein Datenwert in die Speicherzelle geschrieben wird.
2. Erweiterte Schnellschreibschaltung für den DRAM-Test
nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der
Ausgleichs-MOS-Transistor der Ausgleichs- und
Verbindungsmittel zwischen die Knoten geschaltet und
während des Ausgleichs der Bitleitung verwendet wird,
wobei ein Verbindungs-MOS-Transistor zwischen eine
Bitleitung und einen Knoten und der andere
Verbindungs-MOS-Transistor zwischen die andere
Bitleitung und den anderen Knoten geschaltet ist, und
wobei die Ausgleichs- und Verbindungsmittel getrennt im
Schreib- und Normalmodus betrieben werden.
3. Erweiterte Schnellschreibschaltung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Schreibsignalverarbeitungsmittel folgende Komponenten
aufweisen: Einen Ausgleichs-MOS-Transistor zum
Ausgleichen der Knoten; MOS-Transistoren zum Anlegen
eines Versorgungsspannungspegel (VCC) an die Knoten und
gesteuert durch Steuerlogiksignale; MOS-Transistoren
zum Anlegen eines Erdpegels (VSS) an die Knoten; und
MOS-Transistoren für den Anschluß einer
Konstantspannungsleitung.
4. Erweiterte Schnellschreibschaltung nach den Ansprüchen
1 oder 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die während
der Schreiboperation gesteuerten MOS-Transistoren durch
die Steuerlogiksignale gesteuert werden, und daß die
Steuerlogiksignale entsprechend den Datenwerten "1"
oder "0" bestimmt werden.
5. Erweiterte Schnellschreibschaltung nach den Ansprüchen
1 oder 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die einen
Erdpegel an die Knoten anlegenden MOS-Transistoren die
Konstantspannung während eines Vorladezyklus liefern
und die Konstantspannung während eines Schreibzyklus
beim Hochgeschwindigkeits-DRAM-Test abschalten.
6. Erweiterte Schnellschreibschaltung nach den Ansprüchen
1, 3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die von den
Steuerlogiksignalen gesteuerten MOS-Transistoren eine
Spannungsdifferenz (ΔV) zu den Knoten erzeugen.
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