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DE3604402C2 - Lichtempfindliche Harzmasse und deren Verwendung zur Herstellung einer Photopolymer-Druckplatte - Google Patents

Lichtempfindliche Harzmasse und deren Verwendung zur Herstellung einer Photopolymer-Druckplatte

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DE3604402C2
DE3604402C2 DE19863604402 DE3604402A DE3604402C2 DE 3604402 C2 DE3604402 C2 DE 3604402C2 DE 19863604402 DE19863604402 DE 19863604402 DE 3604402 A DE3604402 A DE 3604402A DE 3604402 C2 DE3604402 C2 DE 3604402C2
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Hidefumi Kusuda
Masami Kawabata
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Nippon Paint Co Ltd
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Description

Die Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Harzmasse, sie betrifft insbesondere eine lichtempfindliche Harzmasse, die geeignet ist für eine Relief-Druckplatte mit einer ausgezeichneten Beständigkeit gegenüber einer Druckerfarbe auf Wasserbasis und auf Ölbasis, so daß Wasser oder ein wäßriges Lösungsmittel als Entwicklerlösung verwendet werden kann.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Harzmasse eignet sich nicht nur für eine Relief-Druckplatte, sondern auch für eine Offset-Druckplatte, einen Schirm und ein Resistmaterial.
Es sind bereits lichtempfindliche Zusammensetzungen für eine Relief-Druckplatte bekannt, die verschiedene Typen von Basisharzen enthalten, wie z. B. einen flüssigen ungesättigten Polyester, Polyvinylalkohol, ein wasserlösliches Polyamid, ein alkohollösliches Polyamid, ein Styrolcopolymeres, 1,2-Polybutadien u. dgl. Die Zusammensetzung auf Basis des flüssigen ungesättigten Polyesters ist für die Handhabung oder Behandlung unzweckmäßig wegen ihrer flüssigen Form. Außerdem besteht das Problem, daß zur Entwicklung dieser Zusammensetzung eine Alkalilösung oder ein spezielles Luftmesser verwendet werden muß.
Die Zusammensetzung auf Basis eines Polyvinylalkohols oder eines wasserlöslichen Polyamids hat den Vorteil, daß zum Entwickeln Wasser verwendet werden kann, sie hat jedoch den Nachteil, daß wegen ihrer geringen Wasserbeständigkeit beim Drucken keine Druckerfarbe auf Wasserbasis verwendet werden kann. Die Zusammensetzung auf Basis von Celluloseacetatsuccinat erfordert die Verwendung einer Alkalilösung und sie ist nicht beständig gegenüber einer wäßrigen Druckerfarbe. Wenn es sich bei dem Basisharz um ein alkohollösliches Polyamid handelt, muß zum Entwickeln ein entflammbarer Alkohol verwendet werden, was vom Standpunkt der Umweltsicherheit aus betrachtet ein schwerwiegender Nachteil ist. Die Verwendung des Styrol/ Isopren/Styrol-Blockcopolymeren als Basisharz erfordert die Verwendung eines halogenhaltigen organischen Lösungsmittels (als Entwicklerlösungsmittel), was ebenfalls vom Standpunkt der Umweltsicherheit für die Arbeiter von Nachteil ist.
JP 51-90 603 (Derwent-Abstract 72786X/39) offenbart eine lichtempfindliche mit Wasser entwickelbare Harzmasse, enthaltend ein wasserlösliches Polyamid, einen Phosphorsäureester einer definierten Struktur und einen Photopolymerisationsinitiator.
In JP 58-102230-A (Derwent-Abstract 83-719802/30) wird eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung beschrieben, die ein filmbildendes Vinylcopolymer aus einem aliphatischen Aminogruppen-tragenden Monomeren einer spezifischen Struktur und einem Carboxylgruppen-tragenden Monomeren, ein organisches Halogenid, eine ethylenisch ungesättigte Verbindung und einen Sensibilisator enthält.
DE 32 15 513 A1 offenbart eine photoempfindliche Harzmasse, die ein Polymerisat enthält, das durch Copolymerisation eines eine aliphatische Aminogruppe enthaltenden Monomeren erhalten wird, sowie als weitere Komponenten eine ethylenisch ungesättigte Verbindung, einen Photosensibilisator und eine organische Halogenverbindung.
In DE 28 00 754 A1 ist eine photopolymerisierbare Masse offenbart, enthaltend ein wasserlösliches oder in Wasser dispergierbares Polymer oder Copolymer, ein durch Additionspolymerisation polymerisierbares Monomer, einen Photoinitiator, sowie ein durch Additionspolymerisation polymerisierbares Vorpolymer mit Vinyl-Endgruppen einer definierten Struktur.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung bzw. Harzmasse (nachstehend der Einfachheit halber stets als "lichtempfindliche Harzmasse" bezeichnet) zur Verfügung zu stellen, die insbesondere geeignet ist für eine Relief-Druckplatte mit einer ausgezeichneten Beständigkeit gegenüber Druckerfarbe auf Wasserbasis, so daß Wasser oder ein wäßriges Lösungsmittel als Entwicklerlösung verwendet werden kann.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung bzw. Harzmasse, die dadurch gekennzeichnet ist, daß sie enthält:
  • i) ein Polymeres (A) mit einem gewichtsdurchschnittlichen Molekulargewicht von 5000 bis 500 000, das eine Aminogruppe und einen polymerisierbaren Doppelbindungs-Rest enthält, und das hergestellt wurde durch Copolymerisieren der folgenden Komponenten:
    • (a) 5 bis 95 Mol-% eines (Meth)acrylats oder (Meth)acrylamids mit einer Aminogruppe,
    • (b) 5 bis 95 Mol-% eines (Meth)acrylats oder (Meth)acrylamids,
    • (c) 0 bis 90 Mol-% eines konjugierten Dien-Monomeren,
  • ii) ein Monomeres (B) mit einer α,β-ethylenisch ungesättigten Bindung und einer freien Säuregruppe, die das Stickstoffatom des Polymeren (A) quaternisieren kann, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Monomeren mit den folgenden Formeln: worin bedeuten:
    R₁ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
    R₂ (CH₂)n, worin n eine ganze Zahl von 1 bis 6 darstellt, und
    R₃ eine Alkylengruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder eine Phenylengruppe;
  • (iii) eine photopolymerisierbare ungesättigte Verbindung (C) mit einer Ethylenbindung in der endständigen Gruppe und
  • (iv) einen Photopolymerisations-Initiator (D).
In der erfindungsgemäßen Zusammensetzung (Harzmasse) wird das Polymere (A) durch das Monomere (B) quaternisiert, so daß es in Wasser löslich oder in Wasser dispergierbar wird. Diese Zusammensetzung (Harzmasse) wird zu einer Folie geformt, die an einem geeigneten Substrat, beispielsweise aus Stahl, Aluminium oder Kunststoff, haftet.
Die lichtempfindliche Schicht wird durch einen Negativfilm hindurch ultraviolettem Licht ausgesetzt, um das Polymere (A), das Monomere (B) und die photopolymerisierbare ungesättigte Verbindung (C) zu copolymerisieren, wodurch der belichtete Teil in Wasser unlöslich wird. Andererseits kann der unbelichtete Teil, der nicht copolymerisiert worden ist, mit Wasser leicht aufgelöst und entfernt werden, um so die Entwicklung der Reliefplatte zu vervollständigen.
Das erfindungsgemäß verwendete Polymere (A) enthält demgemäß die Aminogruppe in einer solchen Menge, daß das Polymere wasserlöslich oder in Wasser dispergierbar wird, wenn das Polymere durch das Monomere (B) quaternisiert wird. Auch weist das Polymere (A) einen polymerisierbaren Doppelbindungs-Rest in einer solchen Menge auf, daß es mit der photopolymerisierbaren ungesättigten Verbindung (C) copolymerisiert werden kann unter Bildung eines in Wasser unlöslichen Polymeren, und außerdem hat das Polymere (A) ein ausreichendes Molekulargewicht, um ein in Wasser unlösliches Material zu bilden. Der Doppelbindungs- Rest ist nicht notwendigerweise in dem Polymeren (A) in einer solchen Menge vorhanden, daß die Doppelbindung die Gesamtheit der in Wasser unlöslichen Materialien bildet. Diese Insolubilisierung wird hauptsächlich erzielt durch das Monomere (B) und die photopolymerisierbare ungesättigte Verbindung (C).
Das erfindungsgemäß verwendete Polymere (A) kann hergestellt werden durch Copolymerisieren der folgenden Komponenten:
  • (a) 5 bis 95 Mol-%, vorzugsweise 10 bis 30 Mol-%, eines (Meth)acrylats oder (Meth)acrylamids mit einer Aminogruppe,
  • (b) 5 bis 95 Mol-%, vorzugsweise 20 bis 60 Mol-%, eines (Meth)acrylats oder (Meth)acrylamids und
  • (c) 0 bis 90 Mol-%, vorzugsweise 20 bis 60 Mol-%, eines konjugierten Dienmonomeren.
Vorzugsweise liegt das gewichtsdurchschnittliche Molekulargewicht des Polymeren (A) innerhalb des Bereiches von 5000 bis 500 000, besonders bevorzugt bei 10 000 bis 250 000.
Das (Meth)acrylat oder (Meth)acrylamid (a), das die Aminogruppe aufweist, die in dem Polymeren (A) verwendet wird, hat vorzugsweise die folgende Formel:
worin bedeuten:
R₁ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
(CH₂)n einen Ethylen-, Trimethylen-, Butylenrest und
R₄ ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, eine Hydroxyalkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine Alkoxyalkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen.
Bevorzugte Beispiele sind Dimethylaminoethyl(meth)acrylat, Diethylaminoethyl(meth)acrylat, Dimethylaminoethyl(meth)acrylamid, Dimethylaminopropyl(meth)acrylamid u. dgl.
Beispiele für die in dem Polymeren (A) verwendbaren polymerisierbaren ungesättigten Monomeren (b) sind ein (Meth)Acrylsäureester, (Meth)Acrylamid, Dicyclopentenyl(meth)acrylat, Dicyclopentenoxyethyl(meth)acrylat, Dicyclopentenoxypropyl(meth)acrylat, ein (Meth)Acrylsäureester von Diethylenglykoldicyclopentenylmonoäther und eine Mischung davon. Beispiele für die (Meth)Acrylsäureester sind Methyl(meth)acrylat, Ethyl(meth)acrylat, n-Butyl(meth)acrylat, 2-Ethylhexyl(meth)acrylat u. dgl.
Beispiele für die konjugierten Dienmonomeren (C) sind konjugierte Dienkohlenwasserstoffe, wie Butadien, Isopren, Dimethylbutadien, Chloropren u. dgl.
Das Monomere (B) mit der α,β-ethylenisch ungesättigten Bindung enthält eine freie Säuregruppe, die das Polymere (A) quaternisieren kann, um dieses wasserlöslich zu machen, sowie eine polymerisierbare ungesättigte Bindung, die zusammen mit der photopolymerisierbaren ungesättigten Verbindung (C) photopolymerisiert werden kann, um diese wasserunlöslich zu machen.
Beispiele für die freien Säuregruppen sind eine Carbonsäuregruppe, eine Phosphorsäuregruppe, und eine Sulfonsäuregruppe. Die Monomere haben die folgenden Formeln:
worin bedeuten:
R₁ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
R₂ (CH₂)n, worin n eine ganze Zahl von 1 bis 6 darstellt, und
R₃ eine Alkylengruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder eine Phenylengruppe.
Beispiele für die α,β-ethylenisch ungesättigten Monomeren (B), welche die Carbonsäuregruppe enthalten, sind (Meth)Acrylsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Citraconsäure u. dgl. Beispiele für die Monomeren (B), welche die Sulfonsäuregruppe enthalten, sind 2-Acrylamido-2-methyl- propansulfonsäure u. dgl. Beispiele für die Monomeren (B), welche die Phosphorsäuregruppe enthalten, sind 2- Hydroxyethylacryloylphosphat, 2-Hydroxypropylacryloylphosphat, 2-Hydroxy-α-chloropropylacryloylphosphat u. dgl. Die obigen Monomeren können einzeln oder in Form einer Mischung verwendet werden.
Die photopolymerisierbare ungesättigte Verbindung (C) der vorliegenden Erfindung kann eine solche der konventionellen Typen sein, bei denen es sich um nicht-gasförmige, ethylenisch ungesättigte Verbindungen handelt, die vorzugsweise mindestens eine Ethylengruppe in dem endständigen Rest enthalten und die auch mit dem obengenannten Polymeren (A) gelöst werden können. Beispiele für die Verbindungen (C) sind ungesättigte Carbonsäureester, wie Ethylenglykoldi(meth)acrylat, Diethylenglykoldi(meth)acrylat, Triethylenglykoldi(meth)acrylat, Tetraethylenglykoldi(meth)acrylat, 1,4-Butandioldi(meth)acrylat, 1,6-Hexandioldi(meth)acrylat, 1,4-Cyclohexandioldi(meth)acrylat, Propylendioldi(meth)acrylat, Neopentylglykoldi(meth)acrylat, Pentaerythrittetra(meth)acylat; ungesättigte Amide, wie z. B. N,N′-Methylenbisacrylamid, N,N′-Ethylenbisacrylamid, N,N′-Hexamethylenbisacrylamid, N,N′-Xylylenbisacrylamid, N-(β-Hydroxyethyl)methacrylamid, N,N′-Bis- (β-hydroxyethyl)acrylamid; urethanisierte (Meth)Acrylate, die abgeleitet sind von 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat und einer Isocyanatverbindung; Mono- oder Di(meth)acrylate von Diepoxypolyäthern, die modifiziert sind durch aromatische Polyhydroxyalkohole, wie z. B. Bisphenol, eine Novolak- Verbindung u. dgl.; sowie Mischungen davon. Vorzugsweise werden Verbindungen mit einer schwach hydrophilen Natur verwendet.
Beispiele für die Photopolymerisations-Initiatoren (D) sind Benzoinäther, wie Benzoinmethyläther, Benzoinethyläther, Benzoinisopropyläther, Benzoinbutyläther; Benzophenone, wie Benzophenon, o-Benzoylmethylbenzoat u. dgl.; Xanthone, wie Xanthon, Thioxanthon, 2-Chlorothioxanthon, 2-Isopropylthioxanthon u. dgl.; Acetophenone, wie Acetophenon, Trichloroacetophenon, 2,2-Diethoxyacetophenon, 2,2-Dimethoxyacetophenon, 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon u. dgl.; Benzyl-2-ethylanthrachinon; Methylbenzoylformiat; 2-Hydroxy-2-methyl-propiophenon; 2-Hydroxy-4- isopropyl-2-methylpropiophenon; 1-Hydroxycyclohexyl-phenylketon; und Mischungen davon.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Harzzusammensetzung bzw. Harzmasse enthält:
  • (i) 30 bis 90, vorzugsweise 40 bis 80 Gew.-% des obengenannten Polymeren (A);
  • (ii) eine ausreichende Menge eines α,β-ethylenisch ungesättigten Monomeren (B) mit einer Säuregruppe, um 20 bis 250 Mol-% der Aminogruppe in dem Polymeren (A) zu quaternisieren, im allgemeinen 1 bis 60 Gew.-%;
  • (iii) 5 bis 70, vorzugsweise 10 bis 55 Gew.-% der photopolymerisierbaren, ungesättigten Verbindung (C); und
  • (iv) 0,01 bis 20, vorzugsweise 0,05 bis 10 Gew.-% des Photopolymerisations-Initiators (D).
Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann gewünschtenfalls enthalten einen Polymerisationsinhibitor, wie z. B. Hydrochinon, p-Methoxyphenol, 2,6-Di-t-butylbrenzkatechin, Benzochinon, Naphthochinon, 2,6-Diphenyl-p-benzochinon, Phenothiazin u. dgl.; einen Farbstoff, wie z. B. Eosin Y, Bengalrosa, Malachitgrün, Methylenblau u. dgl.; und einen Weichmacher, wie z. B. ein Dialkylphthalat, ein Dialkylfumarat, ein Dialkylsebacat, ein Dialkylitaconat, ein Alkylphosphat, (Poly)Ethylenglykol, einen (Poly)Ethylenglykolester, einen (Poly)Ethylenglykoläther.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Harzmasse wird zu einer gleichmäßigen Folie einer Dicke von 0,01 bis 10,00 mm geformt unter Anwendung eines Formverfahrens, wie z. B. durch Extrusionsformen, Kalanderformen u. dgl., und die Folie wird mittels einer Klebstoffschicht mit einem Substrat verbunden. Die lichtempfindliche Schicht wird mit ultraviolettem Licht belichtet, wobei die Harzmasse auf dem belichteten Teil polymerisiert wird, wodurch ein polymerisiertes latentes Bild erhalten wird, das in Wasser, in einer Alkalilösung und in einem organischen Lösungsmittel unlöslich ist. Der unbelichtete Teil wird mit Wasser entfernt zur Bildung einer Relief-Druckplatte, die eine ausgezeichnete Beständigkeit gegenüber einer wäßrigen Druckerfarbe hat.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Harzmasse ist im wesentlichen wasserlöslich, die aus der Harzmasse hergestellte Platte wird jedoch leicht polymerisiert, wodurch sie selbst wasserunlöslich wird. Daher wird die Platte durch einen Negativfilm mit ultraviolettem Licht belichtet und mit Wasser gewaschen, wobei man eine Druckplatte erhält, die ein getreues Bild des Films aufweist. Die Entwicklung kann mit Wasser durchgeführt werden und die Platte ist in Wasser unlöslich, so daß eine Vervielfältigung mit einer Druckerfarbe auf Wasserbasis durchgeführt werden kann. Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Harzmasse eignet sich nicht nur für eine Relief-Druckplatte, sondern auch für eine Offset-Druckplatte, einen Schirm und ein Resistmaterial.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert. Alle darin angegebenen Teile und Prozentsätze beziehen sich, wenn nichts anderes angegeben ist, auf das Gewicht.
Beispiel 1
Die lichtempfindliche Harzmasse wurde durch Mischen der folgenden Komponenten hergestellt:
Die resultierende Zusammensetzung (Masse) wurde auf eine Stahlplatte einer Dicke von 0,18 mm aufkalandriert zur Erzielung einer Gesamtdicke von 0,5 mm bei etwa 80°C.
Ein Negativfilm wurde unter Vakuum mit der lichtempfindlichen Platte auf der beschichteten Seite in Kontakt gebracht. Dann wurde die Zusammensetzung (Masse) mit einer chemischen Lampe von 350 W in einem Abstand von 6 cm 1 min lang belichtet, anschließend wurde der Negativfilm entfernt und es wurde mit einer Nylonbürste 2 min lang in Wasser von 40°C gewaschen, wobei man ein getreues Reliefbild des Negativfilms mit einer Shore-A-Härte von 95° erhielt.
Wenn dieses zum Drucken auf ein Kraft-Papier mittels einer Gummidruckpresse vom Stack-Typ unter Verwendung einer Druckerfarbe auf Wasserbasis verwendet wurde, wurde ein scharfes Bild mehr als 2 h lang bei 50 m/min aufrechterhalten. Wenn eine 2,5 cm × 5,0 cm große Probe dieser Platte außerdem 2 h lang bei 40°C in die Wasserlösung eingetaucht wurde, die 1 Gew.-% Na₂CO₃ und 5 Gew.-% Butylcellosolve enthielt, quoll die Oberfläche der Probe um 6,4% der Dicke der Probe auf. Dies zeigt, daß die Zusammensetzung (Masse) eine ausgezeichnete Wasserbeständigkeit aufwies.
Vergleichsbeispiel 1
Aus den folgenden Komponenten wurde eine lichtempfindliche Harzmasse hergestellt:
Die obigen Komponenten wurden bei Raumtemperatur mittels einer Druckknetvorrichtung gemischt und dann wurde die Mischung mittels eines Extruders zu einem Stab extrudiert. Der extrudierte Stab wurde auf eine galvanisierte Farbplatte einer Dicke von 0,3 mm kalandriert, wobei man eine lichtempfindliche Folie aus der Masse (Zusammensetzung) mit einer Gesamtdicke von 0,96 mm erhielt.
Die Folie aus der Masse (Zusammensetzung) wurde wie allgemein in Beispiel 1 beschrieben verarbeitet, wobei man ein getreues Relief-Bild einer Dicke von 0,66 mm des Negativfilms mit einer Shore-A-Härte von 96° erhielt. Wenn eine 2,5 cm × 5,0 cm große Probe dieser Platte 2 h lang bei 40°C in eine Lösung eingetaucht wurde, die 1 Gew.-% Na₂CO₃ und 5 Gew.-% Butylcellosolve enthielt, quoll die Oberfläche der Probe um mehr als 20% der Dicke der Probe auf.
Beispiel 2
Durch Mischen der folgenden Komponenten wurde eine lichtempfindliche Harzmasse hergestellt:
Komponenten
Gew.-Teile
Copolymerharz des Beispiels 1
50
2-Hydroxyethylacryloylphosphat 4,8
Phenoxyethylacrylat 23,9
1,6-Hexandiolacrylat 23,9
2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon 2,16
2,6-Di-t-butylbrenzkatechin 0,24
Die resultierende Zusammensetzung (Masse) wurde auf eine Stahlplatte einer Dicke von 0,18 mm aufkalandriert zur Erzielung einer Gesamtdicke von 0,5 mm bei etwa 80°C.
Die resultierende Harzmasse wurde, wie in Beispiel 1 beschrieben, belichtet, anschließend mit der Nylonbürste 50 s lang in Wasser von 40°C gewaschen, wobei man ein getreues Relief-Bild des Negativfilms mit einer Shore-A- Härte von 84° erhielt. Wenn eine 2,5 cm × 5,0 cm große Probe dieser Platte 2 h lang bei 40°C in eine wäßrige Lösung eingetaucht wurde, die 1 Gew.-% Na₂CO₃ und 5 Gew.-% Butylcellosolve enthielt, quoll die Oberfläche der Probe um 7,9% der Dicke der Probe auf. Außerdem wurde beim Drucken, das mit einer Geschwindigkeit von 150 m/min auf Kraftpapier mit der in Beispiel 1 beschriebenen Presse unter Verwendung der in dem obigen Verfahren erhaltenen Relief-Druckplatte durchgeführt wurde, das scharfe Bild mehr als 2 h lang aufrechterhalten.
Beispiel 3
Durch Mischen der folgenden Komponenten wurde eine lichtempfindliche Harzmasse hergestellt:
Komponenten
Gew.-Teile
Copolymerharz des Beispiels 1
50
2-Acrylamid-2-methylpropansulfonsäure 4,8
Urethanverbindung von 2-Hydroxyethylacrylat und Butylisocyanat 23,9
1,6-Hexandiolacrylat 23,9
2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon 2,16
2,6-Di-t-butylbrenzkatechin 0,24
Die resultierende Masse (Zusammensetzung) wurde auf eine Stahlplatte einer Dicke von 0,18 mm aufkalandriert zur Erzielung einer Gesamtdicke von 1,9 mm bei etwa 80°C.
Die resultierende Harzmasse wurde wie in Beispiel 1 beschrieben belichtet, danach mit einer Nylonbürste in Wasser von 40°C 1 min lang gewaschen, wobei man ein getreues Relief-Bild des Negativfilms mit einer Shore-A- Härte von 76° erhielt. Wenn eine 2,5 cm × 5,0 cm große Probe dieser Platte 2 h lang bei 40°C in eine wäßrige Lösung eingetaucht wurde, die 1 Gew.-% Na₂CO₃ und 5 Gew.-% Butylcellosolve enthielt, quoll die Oberfläche der Probe um 9,6% der Dicke der Probe auf. Wenn das Drucken 1 h lang wie in Beispiel 2 beschrieben durchgeführt wurde, wurde ein scharfes Bild aufrechterhalten.

Claims (4)

1. Lichtempfindliche Harzmasse, dadurch gekennzeichnet, daß sie enthält:
  • i) ein Polymeres (A) mit einem gewichtsdurchschnittlichen Molekulargewicht von 5000 bis 500 000, das eine Aminogruppe und einen polymerisierbaren Doppelbindungs-Rest enthält, und das hergestellt wurde durch Copolymerisieren der folgenden Komponenten:
    • (a) 5 bis 95 Mol-% eines (Meth)acrylats oder (Meth)acrylamids mit einer Aminogruppe,
    • (b) 5 bis 95 Mol-% eines (Meth)acrylats oder (Meth)acrylamids,
    • (c) 0 bis 90 Mol-% eines konjugierten Dien-Monomeren,
  • ii) ein Monomeres (B) mit einer α,β-ethylenisch ungesättigten Bindung und einer freien Säuregruppe, die das Stickstoffatom des Polymeren (A) quaternisieren kann, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus Monomeren mit den folgenden Formeln: worin bedeuten:
    R₁ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
    R₂ (CH₂)n, worin n eine ganze Zahl von 1 bis 6 darstellt, und
    R₃ eine Alkylengruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder eine Phenylengruppe,
  • (iii) eine photopolymerisierbare ungesättigte Verbindung (C) mit einer Ethylenbindung in der endständigen Gruppe und
  • (iv) einen Photopolymerisations-Initiator (D).
2. Harzmasse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem Photopolymerisations-Initiator um einen Benzoinäther, Acetophenon, Benzophenon oder ein Ketalderivat handelt.
3. Lichtempfindliche Harzmasse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie enthält:
  • (i) 30 bis 90 Gew.-% eines Polymeren (A),
  • (ii) 1 bis 60 Gew.-% eines Monomeren (B),
  • (iii) 5 bis 70 Gew.-% einer photopolymerisierbaren ungesättigten Verbindung (C) und
  • (iv) 0,01 bis 20 Gew.-% eines Photopolymerisationsinitiators (D).
4. Verwendung der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung nach den Ansprüchen 1 bis 3 zur Herstellung einer Photopolymer- Druckplatte, die mit Wasser entwickelbar ist, umfassend einen Träger und einen darauf aufgebrachten Überzug aus der mit Wasser entwickelbaren lichtempfindlichen Harzmasse nach einem der Ansprüche 1 bis 3.
DE19863604402 1985-02-12 1986-02-12 Lichtempfindliche Harzmasse und deren Verwendung zur Herstellung einer Photopolymer-Druckplatte Expired - Fee Related DE3604402C2 (de)

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DE (1) DE3604402C2 (de)
GB (1) GB2171107B (de)
NZ (1) NZ215095A (de)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5344747A (en) * 1988-04-15 1994-09-06 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photopolymerizable compositions
JPH01263645A (ja) * 1988-04-15 1989-10-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性組成物
DE3837324A1 (de) * 1988-11-03 1990-05-10 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
AU634214B2 (en) * 1989-03-14 1993-02-18 Robert Koch Procaine double salt complexes
JP2639728B2 (ja) * 1989-04-27 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US5143819A (en) * 1991-01-25 1992-09-01 W. R. Grace & Co.-Conn. Aqueous developing, photocurable composition, photosensitive articles having layers made therefrom and method of improving those articles
DE4211390A1 (de) * 1992-04-04 1993-10-07 Hoechst Ag Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten
US5736298A (en) * 1992-10-02 1998-04-07 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Water developable photosensitive resin composition
WO1994023341A1 (en) * 1993-03-31 1994-10-13 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Reactive microgel, photosensitive resin composition containing the same, and flexographic plate material
JP3415260B2 (ja) * 1993-05-12 2003-06-09 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録ヘッド及びその製造法
JP3011864B2 (ja) * 1994-12-09 2000-02-21 日本ペイント株式会社 水現像性感光性樹脂組成物
JP2000305267A (ja) 1999-04-22 2000-11-02 Jsr Corp 感光性樹脂組成物
EP1788434B2 (de) 2005-11-18 2019-01-02 Agfa Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
JP5206434B2 (ja) * 2009-01-14 2013-06-12 星光Pmc株式会社 凸版製造用感光性樹脂組成物
CN116199822B (zh) * 2023-04-24 2023-08-15 有研工程技术研究院有限公司 一种含羧基的树脂酸金、负性光刻有机金浆料及其制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5190603A (ja) 1975-01-31 1976-08-09 Hikarikayogatakankoseijushisoseibutsu
JPS5310648A (en) * 1976-07-19 1978-01-31 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Photosensitive resin compositions
GB1599281A (en) * 1977-01-10 1981-09-30 Ici Ltd Photopolymerisable composition
DE3215513C3 (de) * 1981-04-27 1994-07-14 Hitachi Chemical Co Ltd Photoempfindliche Harzmasse
JPS57190045A (en) * 1981-05-19 1982-11-22 Toyobo Co Ltd Photosensitive resin composition
JPS57192461A (en) * 1981-05-22 1982-11-26 Toyobo Co Ltd Photosensitive resin composition
US4440850A (en) * 1981-07-23 1984-04-03 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerisation process with two exposures of a single layer
JPS5868740A (ja) * 1981-10-21 1983-04-23 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 耐熱性フイルムホトレジスト積層物
JPS58102230A (ja) 1981-12-15 1983-06-17 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
CA1203107A (en) * 1982-08-31 1986-04-15 Uniroyal, Inc. Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates, processable in semi- aqueous basic solution or solvent
JPS6051833A (ja) * 1983-07-01 1985-03-23 Toray Ind Inc 感光性樹脂組成物
JPS61128243A (ja) * 1984-11-28 1986-06-16 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性樹脂組成物

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Publication number Publication date
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AU582628B2 (en) 1989-04-06

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