DE2726746B2 - Verfahren und Einrichtung zur Fehlerkontrolle des Oberflächenmusters eines Objektes - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine ">^r> Einrichtung zur Fehlerkontrolle von Objekten. Sie bezieht sich insbesondere auf die automatische Kontrolle von kleinen Artikeln und Objekten, wie beispielsweise Halbleitersubstrate, deren aufgebrachte Schaltkreisstruktur einer Kontrolle — End- oder Zwischenkontrolho Ie — zu unterziehen sind.

Die stetig sinkende Größe und steigende Komplexität elektronischer Schaltkreise stellt eine echte Herausforderung der Technik auf einer Vielzahl von relevanten Gebieten dar. Eins dieser Gebiete betrifft die Kontrolle hi maschinell hergestellter Schaltkreise hinsichtlich typischer Defekte, wie beispielsweise Leitungsunterbrechungen oder Kurzschlüsse zwischen benachbarten Leitern. Derartige Schaltkreise können beispielsweise

auf einem keramischen Substrat von etwa 2,5 cm Breite und 12,5 cm Länge aufgebracht sein, indem diese Substrat« plattierte Silber- oder Kupferldtungen mit einem Abstand von etwa 03 mm tragen. Die Leitungen können Ecken und Verbindungen aufweisen. Sie können ^r-> auch an Anschlußflächen für die Montage einzelner Halbleiterchips oder für die Verbindung mit externen Anschlußstiften enden. Sie können ebenso Ober leitende Querverbindungen oder Durchführungen enden, die beispielsweise Leitungszüge auf beiden Seiten des i<> Substrats, also auf dessen Ober- und Unterseite miteinander verbinden. Wenn Substrate dieses Typs entworfen werden, werden die Leiter, Anschlußflächen u.dgl. in einem Gitter schmaler Zeilen oder Bereiche aufgelegt, die eine Fläche von etwa 0,15 χ 0,15 mm² r> aufweisen.

Die Kontrolle solcher Objekte erfordert ein hochaufgelöstes Bild, um Haarrisse in den Leitern, dendritische Brücken zwischen den Leitern und andere sehr kleine Defekte festzustellen. In der US-PS 39 08 118 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung angegeben, mit der automatisch die Oberfläche von Objekten, wie beispielsweise integrierte Schaltungen, auf Fehlerfreiheit untersucht werden können. Zu diesem Zwecke wird die Oberfläche des Objekts optisch abgetastet und es 2^r> werden die Abtastsignale in maschinenlesbare Daten umgewandelt Danach werden diese Daten mit den Daten, die von einem idealen Objekt gewonnen wurden und die gespeichert sind, miteinander verglichen. Auf diese Weise können fehlerhafte Abweichungen festge- «> stellt werden.

Der direkte Vergleich mit einer Vorlage oder einem idealen Muster dieser hohen Auflösung hat jedoch zwei Nachteile. Der erste liegt darin, daß eine hochaufgelöste Mustervorlage etwa eine Million zu speichernde Bytes ·> für ein solches Substrat erfordert, selbst dann, wenn jede Zelle des Musters nur ein einziges Byte erfordern würde. Der zweite Nachteil ist darin zu sehen, daß es höchst unwahrscheinlich ist, daß ein direkter Vergleich eine exakte Übereinstimmung ergeben würde, selbst ^n dann, wenn das Objekt überhaupt keine Defekte aufwiese. Scharfe Leiterecken, zufällig erteilte Fremdmaterialien auf dem Muster, Störungen vom Abtastvorgang u.dgl. würden ferner eine beträchtliche Anzahl offensichtlicher Fehler produzieren. Daher ist es -»5 technisch nicht sinnvoll, ein Objekt durch einen direkten Vergleich mit einer Hauptvorlage oder einem Hauptmuster zu kontrollieren.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren und eine Einrichtung zur Fehlerkontrolle so hergestellter Objekte oder Artikel anzugeben, die einerseits die Verwendung einer hochaufgelösten Mustervorlage und damit für deren Speicherung teure Speicher mit hoher Kapazität erfordert, vermeidet und andererseits nicht durch Abweichungen bei unbedeutenden Details zu nicht erforderlichen Fehlei meidungen führt.

Gelöst wird diese Aufgabe der Erfindung für ein Verfahren durch die im Hauptanspruch angegebenen Merkmale. Eine Anordnung zur Durchführung dieses 6" Verfahrens verfügt über Merkmale, die im Anspruch 2 angegeben sind.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen, Weiterbildungen und technische Merkmale des Gegenstandes der Erfindung sind den Unteransprüchen zu entnehmen. f>->

Durch die Erfindung wird also der Vorteil erzielt, daß die beiden genannter. Nachteile bei der Fehlerkontroüc vermieden werden, die sich bei einem direkten Vergleich eines hochaufgelösten Bildes des Objektes mit einem hochaufgelösten Bild einer Mustervorlage ergeben.

Im folgenden wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnungen erläutert

Es zeigen:

F i g. 1 das Blockschaltbild eines Kontrollsystems, in dem die vorliegende Erfindung verwendet wird und

F i g. 2 ein Blockschaltbild der in F i g. 1 dargestellten Vergleichseinheit

F i g. 1 zeigt als Blockschaltbild eine Einrichtung 100 zur Kontrolle von Artikeln, beispielsweise die im folgenden erwähnten rohen Keramikplättchen oder Substrate bei der Herstellung hochintegrierter Halbleitermodule. Eine mechanische Transportvorrichtung 110 führt die (nicht dargestellten) rohen Keramikplättchen unter einem Abtaster 120 durch, der einen an sich bekannten Aufbau haben kann. Für die folgende Beschreibung wird angenommen, daß der Transport 110 die Keramikplättchen longitudinal mit einer konstanten Geschwindigkeit unter einer querlaufenden Lichtpunkt-Abtastzeile des Abtasters 120 transportiert Der Abtaster 120 teilt das Bild in individuelle kleine Bereiche oder Zellen ein, wobei diese Einteilung auf konventionelle Weise von Signalen gesteuert wird, die ein Takterzeuger 130 liefert Jeder dieser Zellen wird auf einen von zwei Pegeln digitalisiert: »weiß«, das den Hintergrund oder das Substrat repräsentiert und »schwarz«, welches das Muster repräsentiert Das auf der Leitung 121 erscheinende Videosignal entspricht einem hochaufgelösten Bild, dessen Abtastungen jeweils dem digitalisierten Wert einer kleinen Viereckzelle des Objekts, das einer Kontrolle unterzogen werden soll, entspricht Eine solche Zelle kann beispielsweise die Flächenausdehung von 0,025 χ 0,025 mm² haben.

Der Musterspeicher 140 enthält ein Hauptmuster (d. h. das Bild einer idealen Vorlage des von dem Abtaster 120 abzutastenden Objektes). Dieses Hauptmuster, das seriell auf der Leitung 141 erscheint, ist ebenfalls in kleine Bereiche oder Zellen unterteilt Diese Zellen sind jedoch viel größer; sie können beispielsweise eine Fläche von 0,15 χ 0,15 mm² aufweisen. Dieses bedeutet, daß über die Leitung 141 ein weniger gut aufgelöstes Bild übertragen wird. Der Vergleicher 200 vergleicht das Bild eines tatsächlichen Objektes (Leitung 121) mit dem Bild einer idealen Vorlage (Leitung 141), um Entsprechungssignale auf der Leitung 201 zu erzeugen. Diese Signale geben an, daß einander entsprechende Zellen der Bilder, die über die Leitungen 121 und 141 übertragen werden, einander hinreichend ähnlich sind. (Solche Signale können auch dazu verwendet werden, Ausnahmebedingungen anzugeben, wo sich nämlich zwei Bilder beträchtlich voneinander unterscheiden). Die Ergebniseinheit 15(1 speichert die Entsprechungs- oder Übereinstimmungssignale für eine Auswertung des abgetasteten Objektes als Ganzes; z. B. um festzustellen, ob die Fehler so beträchtlich sind, daß das Objekt zurückgewiesen werden muß. Die Ergebniseinheit 150 und/oder der Musterspeicher 140 können in einem Allzweck-Digitalrechner realisiert sein, der auch andere Funktionen durchführen kann, die nicht direkt mit der vorliegenden Erfindung im Zusammenhang stehen. Alle Einheiten, die in F i g. 1 dargestellt sind, mit Ausnahme des Vergleichers 200, können einen konventionellen Aufbau aufweisen.

F i g. 2 zeigt nun den Vergleicher 200 in größerem Detail.

Die digitalisierten Daten des Abtasters gelangen über

die Leitung 121 über dessen obere linke Ecke in ein Schieberegister 210. Sie verlassen dieses Schieberegister an der unteren rechten Ecke, so daß sie ein konventionelles, zweidimensionales Abbild des abgetasteten Objektes bilden. In dem Schieberegister 210 sind ·-> die Stufen zu Zeilen zusammengefaßt, wobei jeweils das Ende einer Zeile mit dem Anfang der nächsten verbunden ist Jede Zeile des Schieberegisters 210 verfügt über genügend Stufen, um eine vollständige horizontale Abtastung des zu kontrollierenden Objek- m tes aufzunehmen. Für eine Zelle mit der Kantenlänge von 0,025 mm verfügt jede Zeile in typischer Weise über etwa 4200 Stufen. In dem hier typischen Anwendungsfall kann das Schieberegister 210 aus sechs Schieberegisterzeüen aufgebaut sein. Die Daten werden durch die \ -5 Stufen des Schieberegisters 210 im gleichen Zeitabstand to, tu h,... geschoben, wobei ti+ \ = t\+Atist. (Wenn der Abtaster 120, F i g. 1, eine Spurrücklaufzeit benötigt, die länger als Δ t ist, dann sollte jeder 4200ste Schiebeimpuls verzögert werden.) Die sechs rechts gelegenen Stufen in jeder Zeile bilden ein Fenster 211, das einen Bereich des abgetasteten Objekts repräsentiert, der sechs Zellen breit und sechs Zellen hoch ist. Dieses entspricht einem Flächenquadrat von 0,150 χ 0,150 mm² auf dem Objekt. Das Muster 212 gibt einen Teil des Objekts wieder, und y> zwar denjenigen, der im Fenster 211 erscheint Die »AVe-Marfcierung stellt leitende Flächenelemente auf dem Keramiksubstrat dar, während leere Stellen isolierende Bereiche des Keramikuntergrundes darstellen. JO

Inzwischen gelangen über die Leitung 141 die Daten des Hauptmusters durch das Schieberegister 220, beginnend an der linken oberen Ecke und endend an der unteren rechten. Jede Zeile des Schieberegisters 220 enthält ebenfalls die Daten einer vollständigen horizon- r> talen Abtastung. Da aber die Zellen im Hauptmuster typischerweise eine Fläche von 0,15x0,15 mm² bedekken (d. h, das 6fache der Musterzellen im Register 210), sind für jede Zeile nur ungefähr 700 Zellen erforderlich. Das Fenster 212 umfaßt die letzten drei Stufen aller drei 41: Zeilen des Schieberegisters 220. Das Muster 222 stellt einen Teil des Hauptmusters dar, und zwar denjenigen, der im Fenster 212 erscheint Die Fläche, die eine Zelle 223 bedeckt, beträgt 0,15 χ 0,15 mm² des niedriger aufgelösten Hauptmusters, eine Fläche, die 36 Zellen des a > hochaufgelösten Objektmusters im Fenster 211 entspricht Das Fenster 221 enthält aber auch acht andere, niedriger aufgelöste Zellen, die die Zelle 223 umgeben. Um diese Beziehung über das gesamte Abtastfeld aufrechterhalten, fangen die Daten der Hauptmaske sechs Abtastzeilen früher an, bevor die Daten über die Leitung 121, die die erste Abtastung über das Objekt darstellen, in das Schieberegister 210 eintreten. Das bedeutet, daß die Daten auf der Leitung 121 stets sechs vollständige horizontale Abtastungen hinter den Daten der Hauptmaske auf der Leitung 121 zurückliegen. Das Schieberegister 220 verschiebt seinen Inhalt mit nur einem Sechstel der Verschiebegeschwindigkeit des Schieberegisters 210. Überhaupt keine Verschiebung findet während fünf Abtastungen von jeweils sechs Abtastungen statt. Auf diese Weise bleiben die Schieberegister 210 und 220 stets miteinander synchronisiert, so daß die Zelle 223 stets den Bereich des Hauptmusters repräsentiert, der den Bereich des abgetasteten Objekts entspricht, der sich im Fenster 211 befindet.

Es sei nun angenommen, daß das abgetastete Objekt ein Isolationssubstrat ist, auf dem eine Anordnung von Leiterzügen aufgebracht ist, die Abstände aufweisen, die ganzzahlige Vielfache von 0,3 mm sind. Dieses entspricht der doppelten Zellengröße des Hauptmusters im Musterspeicher 140, Fig. 1. Die Aufgabe der Kontrolleinrichtung 100 besteht darin, festzustellen, ob irgendwelche Leiter entweder Kurzschlüsse oder Unterbrechungen während der Herstellung erfahren haben. Die Art und Weise, in der die Kontrolleinrichtung 100 diese Funktion durchführt, besteht darin, festzustellen, ob für jedes Flächenelement von 0,15 χ 0,15 mm² des zu kontrollierenden Objekts ein bestimmtes gewünschtes »Merkmal« vohanden ist oder nicht Wenn das Merkmal festgestellt wird, wird eine Übereinstimmung aufgezeichnet. Ist dieses nicht der Fall, dann wird ein Fehlersignal gegeben. Die Merkmale, um die es sich hier handelt können vertikale, horizontale und diagonale Leitungen sein, rechtwinklige oder schräge (135°) Ecken, Verbindungen von zwei oder mehr Leitungen und Durchführungen, entweder isoliert oder an den Enden der Leitungen. (Eine Durchführung ist eine leitfähige Verbindung zwischen zwei Schichten, rechtwinklig zur Oberfläche eines Substrats.) Das in F i g. 2 dargestellte Beispiel zeigt eine vertikale Leitung.

Das besondere Merkmal, das in der betrachteten 0,15 mm χ 0,15 mm-Zelle vorliegt wird von einer Booleschen Meßlogik 230 festgestellt Die Meßlogik 230 empfängt Eingangssignale über die Leitung 231 von den Schieberegisterstufen im Fenster 211. Sie enthält vorzugsweise mehrstufige UND-ODER-Tore konventionellen Aufbaus, die bereits in weitem Umfang in Zeichen und Mustererkennungsmaschinen Verwendung finden. Für das spezielle Beispiel des Musters im Fenster 212 kann die Logik zur Feststellung einer vertikalen Leitung durch folgende Schreibweise repräsentiert sein:

A3 - B3 · C3 · D3 · E3 - F3 · A4 · B4 ■ C4 · D4 · E4 · F4 · Al Bl Cl Dl El Fl · Ä6-B6-C6-D6-E6-F6- (A2+A5) - (B2+B5) · (C2+C5) · (D2+D5) · (E2+E5) · (F2+F5) ·

wobei die sechs Zeilen des Fensters 211 von oben nach unten durch die Buchstaben A bis F und die Spalten von links nach rechts durch die Ziffern 1 bis 6 gekennzeichnet sind. Jede Teillogikschaltung in der Meßlogik 230 erzeugt Ausgangssignale auf einer der Leitungen 232. Das Vorliegen einer vertikalen Leitung kann beispielsweise durch ein Signal auf der Leitung 232a angezeigt werden.

In dem Hauptmuster, das niedriger aufgelöst ist, als das Objektmuster, repräsentiert die Zelle 223 einen Gesamtflächenbereich von 0,15 χ 0,15 mm², der 36 separate Zellen im Fenster 211 bedeckt Da die Zelle 223 eine einzige Schieberegisterstufe ist, kann die einzige Information, die sie enthält, eine Ein-Bit-Anzeige darüber sein, ob der Bereich als ganzer zu dem Muster oder zu dem Untergrund gehört Anders ist es bezüglich des Fensters 211, bei dem es nicht möglich ist, ein Merkmal von der Zelle 223 zu extrahieren. Das Fenster 221 enthält aber acht Zellen mit einer Fläche von 0,15 χ 0,15 mm², welche die Zelle 223 umgeben. Aus diesem größeren Bereich (mit einer Fläche von 0,45 χ 0,45 mm²) ist es möglich, Merkmale der gleichen

Art zu extrahieren, wie diejenigen, die von der Meßlogik 230 festgestellt werden. Die Boolesche Merkmallogik 240 führt diese Funktion aus. Die Merkmallogik jedoch kann einfacher sein, da das Hauptmuster ideal ist, d. h„ daß es keine »Störungen« oder andere Defekte aufweist Die Logikstruktur für das vertikale Leitungsmuster in 222 kann beispielsweise ganz einfach folgendermaßen beschrieben werden:

X2 Y2 Z2 Xl ■ Ϋϊ ΖΪ X3 Ϋ3 Z3

wobei die Buchstaben X bis Z die Zeilen des Fensters 221 und die Ziffern 1 bis 3 die Spalten bezeichnen. Logikstrukturen für andere Merkmale sind ebenfalls sehr einfach und leicht zu finden. Jede Teillogikschaltung erzeugt ein Ausgangssignal auf einer der Leitungen 242. Die Erfüllung der Logikbedingungen für eine vertikale Leitung erzeugt z. B. ein »1 «-Signal auf der Leitung 242a

Der Merkmalvergleicher 250 verknüpft die Signale auf den Leitungen 232 mit den Signalen auf den Leistungen 242, um ein Ausgangssignal auf der Leitung 201 zu erzeugen. Hierzu empfangen die UND-Tore 251 jeweils ein Eingangssignalpaar auf einem Eingangsleitiincrcns^nr^ yiyn denen ein Signal von der Meßlopik 230 und das andere von der Merkmallogik 240 kommt Die Signale jedes Paares stellen die Feststellung des gleichen Merkmals durch ihre entsprechenden Logikschaltungen dar. Dieses bedeutet daß das UND-Tor 251a Signale über die Leitungen 232a und 242a empfängt die beide eine vertikale Leitung repräsentieren. Dieses gilt analog auch für die Eingangssignale der weiteren UND-Tore des Merkmalvergleichers 250. Der Ausgang jedes UND-Tores 251 ist zu einem ODER-Tor 252 geführt dessen Ausgangssignal über die Leitung 201 abgegeben wird. Dieses Ausgangssignal auf der Leitung 201, das mit Hilfe eines Abstastimpulses zur Ergebniseinheit 150, F i g. 1, übertragen werden kann, indem der Takterzeuger 130 ein solches Abtastsignal einmal je Verschiebevorgang des Schieberegisters 220 erzeugt ist ein Übereinstimmungssignal, wenn es seinen hohen Pegelwert einnimmt was nur der Fall ist wenn von beiden Logikschaltungen, der Meßlogik 230 und der Merkmallogik 240 das gleiche Merkmal für den augenblicklich betrachteten Rechteckbereich auf dem zu kontrollierenden Objekt festgestellt wird. Das Signal auf der Leitung 201 könnte genausogut auch invertiert werden, um ein Fehlersignal für jeden Bereich oder jede

s Zelle zu bilden.

In Fig.2 ist die Torschaltungsanordnung 250 so dargestellt als sei sie von der Meßlogik 230 und der Merkmallogik 240 separiert was nicht der Fall zu sein braucht da die gleichen physikalischen Tore 251 beide begrifflichen Funktionen auszuführen vermögen. Die Ausgänge 242 der Merkmallogik 240 können mit den Eingängen der Meßlogik 230 zusammen mit der Leitung 231 verbunden sein, welch letztere die Signale der Fenster-Speicherzellen überträgt Die Ausgangsleitun gen 232 könnten dann direkt mit dem ODER-Tor 252 verbunden sein. Das 3Ofach UND-Tor in der oben erwähnten Gleichung der vertikalen Zeile würde dann ein 31 fach UND-Tor werden, wobei der 31. Term das Ausgangssignal 242a darstellt

Weitere Abänderungen dieser Ausführungsform sowie weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung gehen an sich aus der obigen Beschreibung hervor. Insbesondere können (nicht dargestellte) Zusatzschaltungen vorgesehen werden, wenn es gewünscht wird, das Bild 212 im Fenster 211 genauer bezüglich des Hauptmusters 222 zu registrieren, indem konventionelle Mittel verwendet werden, wie beispielsweise Bezugsmarken auf dem Objekt selbst oder durch andere Möglichkeiten, die nicht Gegenstand der vorliegenden

Erfindung selbst sind. Auch die Daten, die für die Speicherung des Hauptmusters erforderlich sind, könnten ferner dadurch reduziert werden, indem sie in Lauflängen oder anderer codierter Form gespeichert werden und vor ihrer Übertragung über die Leitung 141 im Musterspeicher 140 decodiert werden. Die Meßlogik 230 und die Merkmallogik 240 könnten ferner, obwohl sie mit »Logik« bezeichnet sind, in anderen bekannten Formen implementiert werden, wie beispielsweise Widerstands-Korrelationsmatrizen. Auch die Schiebe register 210 und 220 können durch Speicher mit wahlfreiem Zugriff und einer geeigneten Adressierung ersetzt werden.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (7)

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Fehlerkontrolle des Oberflächenmusters eines Objektes durch Abtastung der Oberfläche zum Zwecke der Erzeugung einer maschinenlesbaren elektronischen Darstellung ^Daten) derselben sowie Vergleich dieser Daten mit gespeicherten Daten eines einwandfreien Oberflächenmusters des Objekts, gekennzeichnet durch folgende Yerfahrensschritte:

a) Herstellen einer hochaufgelösten, maschinenlesbaren elektronischen Darstellung mit einer Anzahl von Zellen (Flächenelernenten), von denen jede einen Flächenbereich einer ersten Ausdehung des Oberflächenmusters repräsentiert,

b) Herstellen und Speichern einer niedriger aufgelösten maschinenlesbaren elektronischen Darstellung eines Vergleichsmusters mit einer Anzahl von Zellen, von denen jede einen Flächenbereich einer zweiten, wesentlich größeren Ausdehung des Oberflächenmusters repräsentiert,

c) Feststellung eines gegebenen Formmerkmals des Oberflächenmusters aus einem vorgegebenen Satz von Formmerkmalen in einem ersten Beobachtungsbereich (Fenster), in dem mehrere Zellen der hochaufgelösten elektronischen Darstellung erscheinen,

d) Feststellen eines Formmerkmals des Vergleichsmusters aus dem genannten Satz von Formmerkmalen in einem zweiten Beobnchtungsbereich, in dem mehrere Zeilen des niedriger aufgelösten Vergleichsmusters erscheinen, wobei der zweite Beobachtungsbereich einen im wesentlichen größeren Gesamtbereich auf der Objektoberfläche repräsentiert als der erste Beobachtungsbereich,

e) Vergleichen der in Schritt c) und d) festgestellten Merkmale und

f) Wiederholen der Schritte c) bis e) für weiten;, in den genannten Beobachtungsbereichen erscheinende Zellen, die weitere Bereiche auf der Objektoberfläche repräsentieren.

2. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Abtaster (120) zur Erzeugung einer hochaufgelösten elektronischen Darstellung eines auf Fehler zu kontrollierenden Objektes, eine Transportvorrichtung (110) zum Transport des Objektes unterhalb des Abtasters, durch einen Musterspeicher (140), der ein Vergleichsmuster des zu kontrollierenden Objektes in einer Darstellung mit niedrigerer Auflösung enthält, als sie der Abtaster (120) erzeugt, durch eine Vergleichsvorrichtung (200), zum Vergleich der Beobachtungsbereiche des abgetasteten Objektes mit solchen des Vergleichsmusters, die einander entsprechende Formmerkmale enthalten, durch einen Ergebnisspeicher (150) sowie einen Takterzeuger (130), der die schrittweise Steuerung der Anordnung vornimmt.

3. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Vergleicher (200) folgenden Aufbau aufweist: ein erstes Schieberegister (210) üur Aufnahme der abgetasteten hochaufgelösten elektronischen Darstellung des zu kontrollierenden

Objektes, wobei das Schieberegister in eine Anzahl von Zellen unterteilt ist, von denen jede einen anderen Bereich einer ersten Ausdehung des Objektes repräsentiert, ein zweites Schieberegister (220) für die Aufnahme des Vergleichsmusters, das die ideale Form des zu kontrollierenden Objektes in niedrigerer Auflösung darstellt, wobei das zweite Schieberegister ebenfalls in mehrere Zellen unterteilt ist, von denen jede einen Bereich einer zweiten Ausdehnung des Objektes repräsentiert und wobei die Bereiche zweiter Ausdehnung einer Anzahl von Bereichen erster Ausdehung des Objektes entsprechen, ferner eine Meßlogik (230), die mit einer Gruppe von Zellen des ersten Schieberegisters, die einen ersten Beobachtungsbereich repräsentieren, zur Feststellung des Vorhandenseins oder Fehlens eines gegebenen Formmerkmals verbunden ist, ferner eine Merkmallogik (240), die mit einer Gruppe von Zellen des zweiten Schieberegisters, die einen zweiten Beobachtungsbereich repräsentieren, zur Feststellung des Vorhandenseins oder Fehlens von Fürmmerkmalen verbunden ist, und schließlich Torschaltungen (250), die mit der Meßlogik (230) und der Merkmallogik (240) verbunden sind und ein Signal erzeugen, das angibt, ob die von den genannten Logikschaltungen festgestellten Formmerkmale die gleichen sind oder nicht

4. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Gruppe von Zellen im ersten Schieberegister (210) einen beträchtlichen kleineren Beobachtungsbereich des Objektes bedecken, als ein größerer Beobachtungsbereich, der in der Gruppe von Zellen des zweiten Schieberegisters (220) enthalten ist.

5. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der größere Beobachtungsbereich so angeordnet ist, daß er den kleineren enthält und umgibt.

6. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der kleinere Beobixhtungsbereich im wesentlichen die gleiche Ausdehung hat wie der Bereich des Objektes, der einer einzelnen Zelle entspricht, die im zweiten Schieberegister (220) enthalten ist.

7. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßlogik (230) und die Merkmallogik (240) Tore darstellen, die eine Boolesche Logik repräsentieren, deren Eingänge mit den Ausgängen (231,241) der Schieberegister verbunden sind.