DE2719800B2 - Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Projektion einer Maske auf ein Präparat mit einer Einrichtung zur Justierung der Maske relativ zum Präparat und Verfahren zur Justierung - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein korpuskularstrahloptisches Gerät zur Projektion einer durch ein Kondensorlinsensystem gleichmäßig mit einem Korpuskularstrahl beleuchteten Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat, bei dem ein eine Justierrrarke enthaltender Bereich des Präparates mit einer Korpuskularstrahlsonde abgetastet wird, die als punktförmige Sonde eine Justieröffnung in der Maske durchsetzt und durch ein in Strahlrichtung oberhalb der Maske angeordnetes Ablenksystem rasterförmig ausgelenkt wird, und bei dem das dabei vom Präparat ausgehende Signal zur Bilderzeugung einem Monitor zugeführt wird. Ein derartiges Gerät, wie es z. B. aus einer Arbeit von Heritage. J. Vac. Sei. TechnoL, Vol. 12, No. 6, 1975, i bis 1 !40 bekannt ist. dient insbesondere zur Erzeugung von Mustern auf Halbleiterplättchen (Wafern) bei der Herstellung von integrierten Schaltungen.

Bei dem bekannten Gerät wird zur relativen Justierung von Maske und Präparat die Erregung des Kondensorlinsensystems derart erhöht, daß die Strahlquelle — ideale Linsen vorausgesetzt — punktförmig in die Maskenebene und damit durch das anschließende Projektionslinsensystem ebenfalls punktförmig in die Präparatebene abgebildet wird. Oberhalb der Maske

ίο Hegt ein Ablenksystem; es wird so erregt, daß die durch den Strahl gebildete punktförmige Sonde die Prüföffnung in der Maskenebene abrastert In der Nähe des Präparates befindet sich ein Detektor, der am Wafer ausgelöste Sekundärelektronen registriert; das Detektorsignal wird einem Monitor zugeführt Auf dem Bildschirm des Monitors erscheint dann als Bild die Überlagerung zweier Abbildungen, von denen die eine die scharfe Abbildung der Oberfläche des Präparates mit der Justiermarke und den anderen Einzelheiten dieser Oberfläche ist Die andere Abbildung ist ein Schattenbild der Prüföffnung in der Maske. Zur Justierung wird die Maske oder das Präparat so lange verschoben, bis sich das Bild der Prüföffnung und das der Justiermarke decken. Der Rasterbereich braucht dabei nicht größer als die Prüföffnung zu sein; die Vergrößerung sollte so gewählt sein, daß das Bild der Prüföffnung den Bildschirm des Monitors ausfüllt

Bereits beim Einsetzen der Maske und des Präparates in das korpuskularstrahloptische Gerät wird ohne Bildbetrachtung auf dem Monitor eine mechanische Vorjustierung vorgenommen. Dabei kann die relative Lage von Maske und Präparat zueinander etwa auf 100 μΐη genau an sich außerhalb des Gerätes befindenden Verstellelementen abgelesen werden. Bei dem aus dem Aufsatz von Heritage bekannten Justierverfahren müßten die Justiermarke und die Prüföffnung mindestens so groß gewählt werden, daß sich ihre Bilder auf dem Monitor nach der beschriebenen Vorjustierung zumindest teilweise überlappen. Wäre das nicht der Fall, so würae auf dem Bildschirm des Monitors nur das Bild der Prüföffnung erscheinen; das der Justiermarke müßte erst gesucht werden. Bei dieser Größe von Prüföffnung und Justiermarke läßt sich jedoch die relative Lage der beiden Monitorbilder zueinander nicht mehr mit genügender Genauigkeit bestimmen. Diese Genauigkeit, die mindestens dem kleinsten Abstand zwischen den einzelnen Elementen auf dem Wafer, wie Kondensator, Transistor, Widerstand usw., entsprechen muß, beträgt etwa 0,1 μηι.

so Die Erfindung befaßt sich daher mit der Aufgabe, bei einem korpuskularstrahloptischen Gerät der eingangs genannten Art bei geringem Meßaufwand die Meßgenauigkeit zu erhöhen.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die Justieröffnung aus einem Einfangbereich und einem innerhalb dieses Bereiches liegenden Feinjustierbereich besteht, daß sowohl der Einfang- als auch der Feinjustierbereich von einem für den Korpuskularstrahl undurchlässigen Rand umgeben sind und daß das korpuskularstrahloptische Bild des Einfangbereiches in der Präparatebene so groß ist, daß die Justiermarke bei mechanisch ohne Beobachtung des Bildes auf dem Monitor erreichbarer Vorjustierung innerhalb dieses korpuskularstrahloptischen Bildes des Einfangsbereichs liegt.

Im Gegensatz zu dem aus der Arbeit von Heritage bekannten Gerät ist es bei dem Gerät nach der Erfindung nicht notwcndi" daS das Bild der lustieröff-

nung und das der Justiermarke etwa die gleiche Größe haben oder darüber hinaus auch noch die gleiche Form. Die Form der Justieröffnung kann bei dem erfindungsgemäßen Gerät völlig beliebig gewählt werden ohne Rücksicht auf die Form der Justiermarke. Wesentlich ist nur, daß das korpuskularstrahk<ptische Bild der Justieröffnung in der Präparatebene so groß ist, daß die Justiermarke bei der mechanischen Vorjustierung innerhalb dieses Bildes zu liegen kommt Erst die Form des Feinjüstierbereiches muß, zumindest bei einem Justierverfahren, bei dem zwei Bilder zur Deckung gebracht werden, mit der Form der Justiermarke insoweit übereinstimmen, daß die relative Lage der beiden Bilder atf dem Monitor zueinander bestimmbar ist

Abweichend von dem bisher beschriebenen Positionierverfahren wird bei einem anderen bekannten Verfahren in einem Elektronenstrahlschreiber kein vollständiges Bild der Präparatoberfläche, sondern lediglich ein Intensitätsprofi! entlang einzelner Rasterzeilen (line scan) quer durch eine Justiermarke aufgenommen (IEEE Transactions on Electron Devices, Vol.ED-17, Nor. 6, Juni 1970, Seiten 450 bis 457). Anhand der Lage des Markensignals relativ zum Rasterfeld kann dort die Abweichung der Marke von einer Sollage, z. B. der Rasterfeldmitte, bestimmt werden. Wie dazu bereits in einer früheren Patentanmeldung (DE-OS 27 02 448 vorgeschlagen wurde, kann dieses Verfahren auch zum Justieren einer Maske relativ zu einem Präparat eingesetzt werden. Dabei ist e_; zur Steigerung der Meßgenauigkeit vorteilhaft, den nur entlang einer Zeile über den Bildschirm des Monitors geführten Schreibstrahl in dazu senkrechter Richtung proportional zu dem erzeugten Signal auszulenken. Auch für dieses Positionierverfahren ist das Gerät nach der Erfindung besonders vorteilhaft insbesondere wenn als Justiermarken auf dem Präparat schmale Gräben oder entsprechende Erhöhungen vorgesehen sind. Zur Bilderzeugung können dabei sämtliche durch den Korpuskularstrahl in dem Präparat erzeugten Signale verwendet werden, also entweder die rückgestreuten Korpuskeln, die Sekundärkorpuskehi oder aber auch der Probenstrom. Die höhere Meßgenauigkeit ergibt sich bei dem korpuskularstrahloptischen Gerät nach der Erfindung nicht nur, wenn, wie es aus dem Aufsatz von Heritage bekannt ist, die Maske verkleinert auf das Präparat abgebildet wird, sie ergibt sich ebenfalls bei einer korpuskularstrahloptischen Schattenprojektion, bei der sich die Maske unmittelbar über dem Präparat befindet; die Maske wird 1 :1 auf das Präparat abgebildet. Gerade bei der korpuskularstrahloptischen Schattenprojektion wird man vorteilhafterweise den Probenstrom als Signal verwenden, da eine einwandfreie Registrierung der vom Präparat ausgehenden Sekundär- oder Rückstreukorpuskeln wegen der dicht darüberliegenden Maske Schwierigkeiten bereitet.

Ein vorteilhaftes Verfahren zur Justierung einer Maske relativ zu einem Präparat mit dem erfindungsgemäßen Gerät besteht darin, daß durch eine Grobjustierung die Marke auf dem Präparat in den Feinjustierbereich der Maske geschoben wird, in dem nach einer Erhöhung der Vergrößerung die Feinjustierung vorgenommen wird. Wie bereits ausgeführt, soll sich die Justiermarke nach der mechanischen Vorjustierung bereits innerhalb des korpuskularstrahloptischen Bildes des Einfangsbereiches der Maske befinden. Zur Grobjustierung wird dann der Rasterbereich und die Einfangbereich etwa den Bildschirm dieses Monitors ausfüllt Bei dieser Einstellung wird das Präparat oder die Maske mechanisch derart verschoben, daß die Justiermarke innerhalb des Feinjustierbereiches der Maske zu liegen kommt Anstelle der mechanischen Verschiebung, z.B. mit PiezokristaUen, ist auch eine Verschiebung des Korpuskularstrahls durch ein magnetisches oder elektrisches Gleichfeld denkbar. Zur anschließenden Feinjustierung wird die Vergrößerung des Monitors so gesteigert und gegebenenfalls auch der Rasterbereich so geändert, daß nun das Bild dieses Feinbereiches die gesamte Fläche des Bildschirmes des Monitors ausfüllt — im line scan-Betrieb soll die Breite des Feinjustierbereiches entlang der abgetasteten Zeile etwa auf die Breite einer Bildschirmzeile vergrößert werden. Bei dieser Einstellung wird dann die Feinjustierung vorgenommen, d. h. die Maske so lange verschoben, bis Justiermarke und Feinjustierbereich die geforderte relative Lage zueinander zeigen.

Ein besonders einfacher Aufbau des Feinjustierbereiches ergibt sich dadurch, daß dieser aus einer oder mehreren Maschen eines innerhalb des Einfangbereiches aufgespannten Gitters besteht Sollen auch andere Formen des Feinjustierbereiches als die einer Gittermasche zugelassen sein, so empfiehlt es sich, daß der Rand des Feinjnstierbereiches über ein Stützgitter mit dem Rand des Einfangbereiches verbunden ist Hierbei können sowohl der Einfangbereich als auch der Feinjustierbereich völlig beliebige Formen annehmen. Eine vorteilhafte Weiterbildung besteht darin, daß der Rand des Feinjustierbereiches breiter als die Stegbreite des Stützgitters ist Dadurch unterscheidet sich der Feinjustierbereich deutlicher von den ihn umgebenden Bereichen, so daß er bereits während der Grobjustierung leichter zu erkennen ist Insbesondere im line scan-Betrieb bekommt man dadurch einen deutlicheren Intensitätssprung an diesem Rand, der wiederum das sichere Auffinden des Feinjustierbereiches erleichtert

Anhand der F i g. 1 bis 4 werden im folgenden Ausführungsbespiele nach der Erfindung beschrieben. Dabei zeigt

F i g. 1 ein elektronenstrahloptisches Gerät als Ausführungsbeispiel der Erfindung,

Fig.2a und 2b unterschiedliche Ausführungen von Masken, wie sie bei dem Gerät nach F i g. 1 vorteilhaft eingesetzt werden können, und

F i g. 3b den Probenstrom für verschiedene in F i g. 3a dargestellte Justiermarken.

Mit Hilfe der F i g. 4a bis 4c soll das Justierverfahren schrittweise erläutert werden.

Fig. 1 zeigt ein elektronenstrahloptisches Gerät 1, bestehend aus einer Elektronenquelle 2, einem dreistufigen Kondensorlinsensystem 3 mit den Linsen a, b und c und einem Projektionslinsensystem 6, das aus einer langbrennweitigen Zwischenlinse 7 und einer kurzbrennweitigen Abbildungslinse 8 zusammengesetzt ist. Die Linsen 7 und 8 sind als magnetische Linsen ausgebildet Sie sind vorzugsweise entgegengesetzt gleich erregt; das bedeutet, daß sie dieselbe Amperewindungszahl besitzen und daß die Richtungen ihrer Magnetfelder zueinander entgegengesetzt sind. Durch diese Art der Erregung in Verbindung mit einem telezentrischen Strahlengang (der gegenseitige Abstand der beiden Linsen 7 und 8 ist gleich der Summe ihrer Brennweiten) wird erreicht, daß im Projektionslinsensystem der Verdrehungsfarbfehler, der Vergrößerungsf

furbfehler und die

trope

werden und die verbleibenden Fehler zumindest teilweise aufgehoben sind

Mit 4 ist eine Maske bezeichnet, die verkleinert auf ein Präparat U, z. B. ein Halbleiterplättchen, abgebildet wird Der Strahlengang des Projektionsiinsensystems 6 ist telezentrisch; die hintere Brennebene der Zwischenlinse 7 und die vordere Brennebene der Abbildungslinse 8 fallen zusammen, die Maske 4 liegt in der vorderen Brennebene der Zwischenlinse 7 und das Präparat 11 in der hinteren Brennebene der Abbildungslinse 8. Der Verkleinerungsmaßstab, unter dem die Maske auf das Präparat abgebildet wird entspricht dem Verhältnis der Brennweiten beider Linsen.

Zur integralen Abbildung der Maske 4 auf das Präparat Il sind die Linsen des Kondensorlinsensystems 3 derart erregt daß die Maske 4 gleichmäßig mit einem Elektronenstrahl beleuchtet wird Dieser Fall ist hier nicht dargestellt Zum Justieren wird die Erregung der Linse c des Kondensorlinsensystems 3 derart gesteigert daß der Elektronenstrahl auf die Maske 4 fokussiert wird Zwischen den Linsen b und c des Kondensorlinsensystems 3 berindet sich ein Ablenksystem 9, durch welches der Elektronenstrahl um einen Punkt gekippt wird der am vorderen Brennpunkt der Linse c liegt Dadurch wird die Maske 4 von dem Elektronenstrahl in senkrechter Richtung durchstrahlt

Der auf die Maske 4 fokussierte Elektronenstrahl bildet die Sonde, die mit Hilfe des Ablenksystems 9 rasterförmig über die Maske 4 geführt werden kann. Die Maske 4 weist eine Prüföffnung Aa auf, das Präparat 11 eine Justiermarke 11a. In dem Ausführungsbeispiel nach F i g. 1 wird als durch den einfallenden Elektronenstrahl im Präparat 11 erzeugtes Signal der Probenstrom verwendet der über einen Verstärker 12 auf die K-Platten 13 eines Monitors 14 gegeben wird Die Platten 15 für die X-Ablenkung werden synchron mit der entsprechenden ^-Ablenkung des Ablenksystems 9 angesteuert Diese Signalverarbeitung eignet sich speziell für den line scan-Betrieb, bei dem die Intensität des Probenstromes über dem Ort auf dem Bildschirm des Monitors t4 aufgezeichnet wird Ebenso wäre es möglich, durch Registrierung der Sekundär- bzw. Rückstreuelektronen die zwei überlagerten Bilder von Prüföffnung Aa und Justiermarke 11 a zu erhalten.

Direkt unterhalb der Maske 4 ist gestrichelt ein Präparat U' eingezeichnet Bei dieser Stellung des Präparates handelt es sich um eine Schattenprojektion; das Projektionslinsensystem 6 kommt dabei nicht zum Einsatz. Die Maske 4 wird im Verhältnis 1 :1 auf das Präparat U' abgebildet Ansonsten bleibt alles unverändert. Auch hier ist wiederum gestrichelt der Probenstrom auf den Verstärker 12 und von dort auf dem Monitor 14 gegeben. Gerade bei der Schattenprojektion eignet sich der Probenstrom besonders zur Erkennung der Justiermarke, da wegen der direkt oberhalb des Präparates 11' angeordneten Maske 4 die Sekundär- bzw. Rückstreuelektronen nur schwer vollständig zu registrieren sind

Die Fig.2a und 2b zeigen die Ausschnitte aus der Maske 4, die die Prüföffnung Ast enthalten. F i g. 2a zeigt als Beispiel eine runde Prüföffnung, in der sich ein Gitter 16 befindet Der breite Rand 17 der Prüföffnung ist Teil der Maske 4 und nur in dieser Darstellung der Form der Prüföffnung angepaßt Jede Masche dieses Gitters 16 kann der Feinjustierbereich darstellen. Vorzugsweise wird nun jedoch die mittlere Masche 16« dazu verwenden.

F i g. 2b zeigt eine quadratische Prüföffnung, wieder

um von einem Rand 17 umgeben. Innerhalb diese Prüföffnung befindet sich als Feinjustierbereich ein Rinj 18, der von einem Stützgitter 19 getragen wird. In Gegensatz zur F i g. 2a ist in dem Beispiel nach F i g. 21 auch der Feinjustierbereich von einem breiten, fü Elektronen durchlässigen Rand umgeben.

Für den Elektronenstrom im Präparat kann mal folgende Bilanzgleichung aufstellen:

= Ike + Ise + Ipr,

wobei Ie den Strom der auftreffenden Elektronen, Ir₁ den der rückgestreuten, /_Äfden der Sekundärelektronei und Ipr den Probenstrom darstellt Um ein charakteristi sches Signal von der Justiermarke zu erhalten, mul

is diese — konstantes /*· vorausgesetzt — einen ode mehrere dieser Tefatröme typisch verändern. Üblich« Justiermarken sind deshalb z. B. aufgedampfte anden Substanzen mit unterschiedlichem Rückstreuvermögei oder Gräben, in deren Bereich die Sekundärelektronen ausbeute verändert wird Aus der obigen Bilanzglei chung ergibt sich, daß dann auch der Probenstrom, um zwar gegenläufig, verändert wird

In F i g. 3 ist der Verlauf des Probenstromes für einei Einfachgraben und für einen Doppelgraben aufgezeigt Im mittleren Abschnitt dieser Figur ist zur Verdeutli chung des Entstehens des Probenstromsignals an einen Doppelgraben der Fall aufgezeichnet in dem zwe Einzelgräben ohne gegenseitige Beeinflussung neben einanderliegen. Wie man an diesem Teil der Fig.:

ersehen kann, überlagern sich die Signale der beidei Einzelgräben in einem mittleren Bereich und führen zi einem schärferen größeren Signalpik an dieser Stelle Der Doppelgraben verbessert dadurch wesentlich dii Genauigkeit mit der man seine Lage relativ zu

Prüföffnung bestimmen kann.

Anhand der Fig.4 soll nun das Justierverfahren ii drei Schritten näher erläutert werden. Im oberen Tei der F i g. 4 sind die jeweiligen Sekundärelektronenbilde dargestellt im unteren Teil die entsprechende) Probenstromsignale. Der obere Teil der F i g. 4a zeig dabei die Justieröffnung, in der sich der von einen Stützgitter getragene Feinjustierbereich 20 befindet Dieser besteht aus fünf ein Kreuz bildenden Quadrater die von einem Rand umgeben sind dessen Breit« wesentlich größer als die Stegbreite des Stützgitters 1! ist Außerdem zeigt dieses Bild die zufällige Lage dei Justiermarke 21 nach der mechanischen Vorjustierung Dabei handelt es sich wiederum um einen Doppelgra ben entsprechend dem rechten TeD der F i g. 3, der siel

so durch eine erhöhte Sekundärelektronenausbeute an dei beiden äußeren Rändern des Doppelgrabens und ii dessen Mitte bemerkbar macht (gegenläufig zun Probenstromsignal entsprechend Fig.3b, rechte Bild seite). Durch die Pfeile 22 ist angedeutet entlanj welcher Linie im line scan-Betriebabgerastert wird

Im unteren Teil der Fig.4a ist der entsprechend« Probenstrom über dem Ort aufgetragen. Außerhalb dei Prüföffnung ist der Probenstrom NuH innerhalb dei Prüföffnung springt er auf einen bestimmten Wert Bein Oberfahren jedes Steges des Stützgitters wird dei einfallende Elektronenstrahl abgeschirmt dh. dei Probenstrom sänkt ab. Wegen der Zeitkonstante dei Verstärker und wegen der geringen Breite dei Stützgitterstibe sinkt er jedoch nicht ganz auf NuI

herunter. Beim Oberqueren des Doppelgrabens ander sich der Probenstrom entsprechend Fig.3b, wegen dei geringen Vergrößerung ist jedoch die Auflösung füi eine genaue Lagebestimmung noch zu schlecht

Im mittleren Bild 4b ist die Grobjustierung bereits durchgeführt. Der Doppelgraben wurde in die Mitte des Einfangbereiches geschoben. Durch den Aufbau der Justieröffnung erscheint der Doppelgraben 21 nun im Feinjustierbereich. Bei dieser Einstellung wird die Vergrößerung so weit erhöht, daß nur noch ein Quadrat des Feinjustierbereiches 20 den Bildschirm des Monitors ausfüllt. Auch der Rasterbereich kann dabei derart geändert werden, daß nur noch über dieses eine Quadrat des Feinjustierbereiches gerastert wird. Der breite Rand ι ο der einzelnen Quadrate des Feinjustierbereiches bietet dabei den Vorteil, daß das Probenstromsignal in diesem Bereich auf Null zurückgeht. Dadurch ist auch am Probenstromsignal eindeutig feststellbar, daß wirklich über den Feinjiistierbereich gerastert wird und nicht !5 über eine andere Masche des Stützgitters. Wie in F i g. 4c dargestellt, kann nach dieser Vergrößerungserhöhung die Feinjustierung vorgenommen werden.

Wie Versuche am Schattenprojekt ergeben haben, ist bei Verwendung einer Sondengröße von 0,5 μπι und eines Sondenstromes von 5 · 10-'⁰A die geforderte Genauigkeit der Lageerkennung möglich.

Im Beispiel nach der Fig.4 ist im line scan-Betrieb die Justierung in einer Richtung vorgenommen worden. In der dazu senkrechten Richtung muß das Verfahren entsprechend wiederholt werden.

Die spezielle Form des Feinjustierbereiches 20 entsprechend Fig.4 bietet dabei einen wesentlichen Vorteil. Im Prinzip könnte der Feinjustierbereich allein aus dem mittleren Quadrat bestehen. Zur Justierung in beiden Richtungen müßten jedoch sich kreuzende Gräben verwendet werden, wodurch im Kreuzungspunkt eine unerwünschte Störung der Grabenstruktur auftreten würde. Daher ist es vorteilhaft, außerhalb dieses Kreuzungsbereiches die Gräben zu überfahren und dazu beispielsweise, wie in Fig.4 dargestellt, in einer Richtung das untere Quadrat des Feinjustierbereiches zu benutzen, in der dazu senkrechten Richtung das rechte oder linke Quadrat.

Neben den hier in den Ausführungsbeispielen gezeigten Justieröffnungen in einer Maske sind andere, beliebig geformte öffnungen sowohl für den Einfangbereich als auch für den Feinjustierbereich möglich.

Die Erfindung ist nicht nur bei Elektronenstrahlgeräten, sondern auch bei Ionenstrahlgeräten dieser Art anwendbar.

Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (5)

Patentansprüche:

1. Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Projektion einer durch ein Kondensoriinssensystem gleichmäßig mit einem Korpuskularstrahl beleuchteten Maske auf ein zu bestrahlendes Präparat, bei dem ein eine Justiermarke enthaltender Bereich des Präparates mit einer Korpuskularstrahlsonde bestrahlt wird, die als punktförmige Sonde eine Justieröffnung in der Maske durchsetzt und durch ein in Strahlrichtung oberhalb der Maske angeordnetes Ablenksystem rasterförmig ausgelenkt wird, und bei dem das dabei vom Präparat ausgehende Signal zur Bilderzeugung einem Monitor zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Justieröffnung (4a) aus einem Einfangbereich und einem innerhalb dieses Bereiches liegenden Feinjustierbereich (16a, 18, 20) besteht, daß sowohl der Einfang- als auch der Feinjustierbereich (16a, 18,20) von einem für den Korpuskularstrahl undurchlässigen Rand umgeben sind und daß das korpuskularstrahloptische Bild des Einfangbereiches in der Präparatebene so groß ist, daß die Justiermarke (Ha, 21) bei mechanisch ohne Beobachtung des Bildes auf dem Monitor (14) erreichbarer Vorjustierung innerhalb dieses korpuskularstrahloptischen Bildes des Einfangbereiches liegt

2. Korpuskularstrahloptisches Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Feinjustierbereich (16ajaus einer oder mehreren Maschen eines innerhalb des Einfangbereiches aufgespannten Gitters (16) besteht (F i g. 2a).

3. Korpuskularstrahloptisches Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Rand des Feinjustierbereiches (18) über ein Stützgitter (19) mit dem Rand (17) des Einfangbereiches verbunden ist (Fig. 2b).

4. Korpuskularstrahloptisches Gerät nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Rand des Feinjustierbereiches (18) breiter als die Stegbreite des Stützgitters (19) ist.

5. Verfahren zur Justierung einer Maske relativ zu einem Präparat mit einem Gerät nach einem der Ansprache 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß durch eine Grobjustierung die Marke (UaJ auf dem Präparat (11) in den Feinjustierbereich (16a, 18, 20) der Maske (4) geschoben wird, in dem nach einer Erhöhung der Vergrößerung die Feinjustierung vorgenommen wird.