DE2635117A1

DE2635117A1 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung von speiseeis

Info

Publication number: DE2635117A1
Application number: DE19762635117
Authority: DE
Inventors: Bonu Dipl Ing Bonu
Original assignee: Linde GmbH
Current assignee: Linde GmbH
Priority date: 1976-08-04
Filing date: 1976-08-04
Publication date: 1978-02-09
Also published as: DE2635117C3; DE2635117B2

Description

Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung
von Speiseeis Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Speiseeis durch Homogenisieren einer Speiseeismasse und anschließendem Tiefgefrieren der Speiseeismasse in einer Gefrierzone.
Beiden bekannten Verfahren dieser Art wird die Speiseeisrohmasse pasteurisiert, homogenisiert und anschließend gekUhlt. Nach einer Reifungszeit wird die Eismasse zu einer weichen Masse gefroren, portioniert und verpackt. Die verpackten Eiskremportionen werden durch weiteres Ausfrieren des noch in ihnen verbleibenden Wassers ausgehärtet.
Weiterhin gibt es Verfahren, die das Gefrieren und die Aushärtung der Speiseeismasse durch einen einzigen Vorgang ersetzen. Die betreffende Masse wird dabei auf eine Gefriertrommel gebracht und unter -20°C tiefgefroren. Das starr gewordene Produkt wird geschabert und nachher zusammengepreßt.
Die bekannten Verfahren haben den Nachteil, daß der Herstellungsprozeß sehr lange dauert. Außerdem bilden sich durch das Ausfrieren der flüssigen Speiseeisrohmasse in dieser Eiskristalle, welche die Qualität des fertigen Speiseeises mindern.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Herstellung von Speiseeis zu entwickeln, durch das einerseits die Qualität des Speiseeises erhöht und zum anderen der Herstellungsprozeß verkürzt wird.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Speiseeismasse vor der Homogenisierung ein Gas oder Gasgemisch zugeführt wird.
Im Gega9atz zu den bekannten Verfahren wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die Speiseeismasse durch Einblasen von Gasen so fein verteilt, daß eine mikrokristalline Struktur der Speiseeismasse erzielt wird. Im Hinblick auf die später durchzufWhrende TiefkUhlung erreicht man durch diesen Verfahrensschritt eine Verkürzung der Dauer der Gefrier- und AushSrtungsvorgänge.
Erhöht werden kann die feine Verteilung der Speiseeisteilchen, wenn mit Hilfe eines weiteren Gases oder Gasgemisches die Speiseeismasse in die Gefrierzone eingesprUht wird. Bei dem anschließenden Tiefgefrieren erzielt man dadurch eine homogene und feine Verteilung der LufteinschlUsse in den Partikeln. Das Entstehen grober Eiskristalle wird somit vermieden.
Als besonders günstig fUr diese Gasströmung erweist sich eine Temperatur von -300C bis -1000C. Je nach Produkt und wirtschaftlicher Lage kann statt gasförmigem auch flüssiger Stickstoff eingesprüht werden.
Bestehen die zugeführten Gase oder Gasgemische aus Kohlendioxid und/oder Stickstoff, so wird dadurch ein Schutz vor Sekundärinfektionen erzielt. Die Bakterienvermehrung wird einmal durch die Fernhaltung von Sauerstoff gehemmt und zum anderen durch die bakteriostatischen Eigenschaften des Kohlendioxids.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann mit einer Vorrichtung durchgeführt werden, die aus einem Homogenisator, einem TiefkUhltunnel und einemFormgerät besteht und bei der in die Einspeiseleitung, die in den TiefkUhltunnel führt, vor und hinter dem Homogenisator je eine GaszufUhrungsleitung einmUndet. Durch das Gas, das durch diese Leitung gefUhrt wird, kann eine möglichst große Schwellung der Speiseeismasse durch die eingeschlossenen Gasbläschen erreicht werden.
Wird das Endprodukt in einem Formgerät zu passenden Portionen verarbeitet, so verwendet man dort zweckmäßigerweise poröse Platten zur Formung der Speiseeisportionen. Dadurch verhindert man, daß Hohlräume durch Einschluß von luftblasen während des Pressvorganges entstehen. Der Gasflberschuß kann dann während des Pressvorganges aus den zu formenden Speiseeisportionen entweichen.
Das Tiefgefrieren kann in einem Gefriertunnel waagrechter oder auch senkrechter Ausführung erfolgen.
Weitere Einzelheiten der Erfindung werden beispielsweise schematisch in der Figur dargestellt, die eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens mit einem Gefriertunnel in waagrechter AusfUhrungdarstellt.
In eine Elnspeiseleltung 1 fUr eine Speiseeismasse mUndet eine weitere Leitung 2, durch die ein Gasgemisch aus Kohlendioxid oder Stickstoff gefUhrt wird. Die begaste Masse tritt aus der Leitung 1 in einen Homogenisator 3 ein. Nach diesem Homogenisator wird die Leitung 1 in einen Gefriertunnel 6 eingeführt. Dort mündet in die Leitung 1 eine weitere Leitung 4, durch die ein Zerstäubungsgas geleitet wird. Zusätzlich wird Gas an mehreren Stellen in den Gefriertunnel mit Hilre einer Leitung 18 eingebracht. In diese Leitung 18 mUndet noch ein weiteres Rohr 5, durch das während des Tiefgefrierens verbrauchtes Gas wieder ersetzt werden kann. Das sich im Gefriertunnel befindende Gas verläßt den Gefriertunnel über eine Leitung 7, die in ein Zyklon 9 einmUndet. Dort werden noch vorhandene feste Anteile über eine Leitung 12 abgezogen. Eine weitere Leitung 11 fUhrt aus dem Zyklon zu einem Filter 13, dessen beide Ausgangsleitungen 14 und 15 das Gas bzw. den festen Anteil weiterleiten.
Der gasförmige Anteil wird Uber eine Leitung 14 durch ein Gebläse 16 und einen Wärmetauscher 17 zu der Leitung 18 gefUhrt.
Der feste Anteil der tiefgefrorenen Speiseeismasse wird aus dem Gefriertunnel Uber eine Leitung 8 zu einem Vorratsbehälter 10 gefördert, in den auch noch die Leitungen 12 und 15 einmUnden, die von dem Zyklon bzw. dem Filter herrühren. Der Vorratsbehälter ist Uber eine Leitung 19 mit einem Formungsgerät 20 verbunden.
Dieses Formungsgerät enthält poröse Platten zur Formung von Speiseeisportionen. Uber einen Ausgang 21 verlassen die geformten Speiseeisportionen das Formungsgerät.
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Claims

Patentansprüche 1. Verfahren zur Herstellung von Speiseeis durch Homogenisieren einer Speiseeismasse und anschließendem Tiefgefrieren der Speiseeismasse in einer Gefrierzone, dadurch gekennzeichnet, daß der Speiseeismasse vor der HomogeniVerung ein Gas oder Gasgemisch zugefUhrt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Speiseeismasse mit Hilfe eines weiteren Gases oder Gasgemisches in die Gefrierzone eingesprüht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas oder Gasgemisch eine Temperatur von 300 bis -1000C besitzt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die zugeführten Gase oder Gasgemische aus Kohlendioxid und/oder Stickstoff bestehen.
5. Vorrichtung zur DurchfUhrung eines Verfahrens nach einem der AnsprtIche 1 bis 4 mit einem Homogenisator, einem Tiefkühltunnel und einem Formgerät, dadurch gekennzeichnet, daß in die, in den Tiefkühltunnel rohrende Einspeiseleitung vor und hinter dem Homogenisator Je eine GaszuRührungsleitung einmündet.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Formgerät poröse Platten zur Formung von Speiseeisportionen aufweist.