DE2514582B1 - Schaltung zur erzeugung von leseimpulsen - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Schaltung zur Erzeugung von Leseimpulsen für eine MIiI2S-Speichermatrix
nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Unter M11 bS-Transistoren versteht man Transistoren
vom Feldeffekt-Typ, bei denen auf einem Substrat aus Halbleitermaterial oberhalb des Kanalbereiches eine
erste Isolierschicht Ii mit einer darauf befindlichen
zweiten Isolierschicht I2 aufgebracht ist und bei denen
auf der zweiten Isolierschicht I2 eine Metallelektrode angeordnet ist. Bei solchen Transistoren hängt die
Einsatzspannung von dem Ladungszustand der Grenzfläche zwischen den beiden Isolierschichten Ii und I2 ab.
Die an dieser Grenzschicht befindlichen Haftstellen können durch positive und negative Gatespannungen
aufgeladen und entladen werden. Dadurch besitzen die MI]I2S-Speichertransistoren entweder eine hohe oder
eine niedrige Einsatzspannung, die zur Speicherung digitaler Informationen ausgenutzt werden kann. Das
Auslesen geschieht durch das Anlegen einer Gatespannung, deren Amplitude zwischen den zwei Werten der
Einsatzspannungen liegt.
Beim wiederholten Einschreiben von Information tritt jedoch der Nachteil auf, daß sich die Einsatzspannungen
der Transistoren verschieben. Bleibt nun aber die Amplitude der Leseimpulse konstant, so ist das
Unterscheiden zwischen den Einsatzspannungen bis zur Verschiebung möglich, bei der der Transistor mit der
einen Einsatzspannung leitend und mit der anderen gesperrt ist. Wird diese Bedingung jedoch nicht erfüllt,
so kann aus dem Transistor die Information nicht mehr ausgelesen werden, da er bei der angelegten Lesespannung
entweder immer leitend ist oder immer sperrend ist.
Dieses Problem ist auch in »Technical Disclosure Bulletin«, Vol. 16, Nr. 9, Februar 1974, S. 2801, angesprochen.
Der Verschiebung der Einsatzspannungen wird dabei dadurch begegnet, daß die Speicherelemente
gelöscht werden, ehe ihre Einsatzspannungen verschoben werden und daß die Information anschließend
wieder neu eingeschrieben wird. Bei einem solchen Betriebsverfahren muß daher aus sämtlichen Speichertransistoren
der Speichermatrix und einer vorgegebenen Anzahl von Schreib- bzw. Löschvorgängen die
Information ausgelesen und anschließend neu eingeschrieben werden. Dies bedingt, ähnlich wie bei
Speicheranordnungen mit dynamischen Speicherelementen, einen zusätzlichen Schaltungsaufwand und ein
komplizierteres Betriebsverfahren.
In der DT-OS 21 61 783 ist eine Speicherschaltung mit MNOS-Transistoren beschrieben. Dem Problem der
Verschiebung der Einsatzspannungen wird durch eine zusätzlich vorgesehene Zyklussteuereinrichtung begegnet,
die die MNOS-Transistoren vor dem Einstellen auf den gewählten der beiden möglichen Einsatzspannungswerte
zuerst auf den einen und dann auf den anderen dieser beiden Werte schaltet. Dieses Betriebsverfahren
für MNOS-Speichertransistoren erfordert ebenfalls einen zusätzlichen Schaltungsaufwand und ein kompliziertes
Betriebsverfahren.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht demgemäß darin, eine einfache Schaltung zur Erzeugung
von Leseimpulsen für MIiI2S-Speichermatrizen
anzugeben, die die Amplitude ihrer Leseimpulse automatisch so ändert, daß die Zahl der Umschreibvorgänge
möglichst groß ist, ohne daß eine Verschiebung der Einsatzspannungen der Speichertransistoren der
Matrix sich auf die Unterscheidung der auszulesenden Information auswirkt.
Diese Aufgabe wird durch eine wie eingangs bereits erwähnte Schaltung gelöst, die durch die in dem
kennzeichnenden Teil des Patentanspruches 1 aufgeführten Merkmale gekennzeichnet ist.
Der wesentliche Vorteil der Erfindung besteht darin, daß die Schaltung zur Erzeugung der Leseimpulse die
Amplitude ihrer Leseimpulse automatisch so ändert, daß sich eine Verschiebung der Einsatzspannungen der
Speichertransistoren der Matrix auf die Unterscheidung der auszulesenden Information nicht auswirkt, so daß
die Zahl der möglichen Umschreibvorgänge möglichst groß ist. Dies wird dadurch erreicht, daß die
Lesespannung bei der erfindungsgemäßen Schaltung durch einen MIiI2S-Transistor, vorzugsweise durch
einen MNOS-Transistor oder MAOS-Transistor, eingestellt wird, der ebenso wie die Speichertransistoren der
Matrix den Umschreibvorgängen unterworfen wird. Dabei bestehen die Isolierschichten bei einem MNOS-Transistor
aus SiO2 und S13N4 und bei einem MAOS-Transistor
aus SiO2 und A12O3.
Ein weiterer wesentlicher Vorteil der Erfindung besteht darin, daß ein Umschreiben bzw. ein Regenerie-
ren der in den Speichertransistoren enthaltenen Information nicht erforderlich ist. Es sind daher bei der
erfindungsgemäßen Anordnung keine aufwendigen Zyklussteuereinrichtungen bzw. Regenerierschaltungen
erforderlich.
Vorteilhafterweise können die die Lesespannung bestimmenden Lesetransistoren in jeder Zeile mitintegriert
werden.
Vorteilhafterweise liegt die minimale nötige Gatespannung während des Lesens am Gate. Dadurch ist der
Abbau der niedrigen Einsatzspannung, der durch die angelegte Lesespannung verstärkt wird, niedriger als
bei konstanter Lesespannung, da eine konstante Lesespannung höher gewählt werden muß. So können
die Speichertransistoren öfter gelesen werden.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Figuren und der Beschreibung näher erläutert
Fig. 1 zeigt das Schaltbild einer MlifeS-Speichermatrix;
F i g. 2 zeigt eine erfindungsgemäße Schaltung zur Erzeugung von Leseimpulsen für die Speichermatrix
nach der Fig. 1;
Fig.3 zeigt die Schaltung einer MIiI2S-Speichermatrix
mit Adressendecodern und mit der erfindungsgemäßen Schaltung zur Erzeugung von Leseimpulsen;
F i g. 4 zeigt eine Schaltung mit einer Speichermatrix mit MIibS-Transistoren kurzer Kanallänge und mit der
erfindungsgemäßen Schaltung zur Erzeugung von Leseimpulsen.
In der F i g. 1 ist eine bekannte Speichermatrix mit
MIibS-Transistoren, vorzugsweise mit MNOS-Transistoren,
dargestellt. Dabei weisen die MNOS-Transistoren der Matrix einen doppelt geschichteten Gateisolator
auf, der beispielsweise aus einer etwa 2 nm dicken SiO2-Schicht und einer darauf aufgebrachten etwa
45 nm dicken SisN^Schicht besteht. An der Grenzschicht
zwischen der SiO2-Schicht und der SisN^Schicht
befindet sich eine große Anzahl von Haftstellen, die durch unterschiedliche Spannungen aufgeladen oder
entladen werden können. Dadurch weist der Transistor entweder eine hohe oder eine niedrige Einsatzspannung
auf. Unter Einsatzspannung wird dabei die Spannung am Gate des Transistors verstanden, bei der der
Transistor leitend wird. Diese beiden Zustände können zur Speicherung der Information »0« und »1«
verwendet werden.
Anhand der Speichermatrix der F i g. 1 mit zwei mal zwei Transistoren soll nun die Funktionsweise einer
MNOS-Speichermatrix erläutert werden. Die Matrix besteht aus den Transistoren 1,11,2 und 21. Dabei sind
die Transistoren 1 und 11 und die Transistoren 2 und 21 in jeweils einer Zeile und die Transistoren 1 und 2 und
die Transistoren 11 und 21 in jeweils einer Spalte der Matrix angeordnet. Vor Betriebsbeginn wird in alle
Transistoren zunächst eine »0« eingeschrieben, d. h. der ganze Speicher wird gelöscht. Zu diesem Zweck
werden, p-Kanal-MNOS-Transistoren vorausgesetzt, die Gateleitungen 5 an 0 Volt, die Sourceleitungen 6 und
ebenso die Drainleitungen 7 an etwa —40 Volt gelegt.
Anschließend wird nun zeilenweise in die Matrix eingeschrieben, wozu in bestimmte Transistoren einer
Zeile die dort herrschende »0« in eine »1« umgeschrieben wird. Soll beispielsweise in den Transistor 11 eine
»1« eingeschrieben werden, so wird an die Gateleitung der Zeile, in der sich der Transistor 11 befindet,
beispielsweise das Potential —40 Volt angelegt. An der Drainleitung 7 der Spalte, in dem sich der Transistor 11
befindet, liegt die Versorgungsspannung Udd, die vorzugsweise etwa — 20 Volt beträgt, an. Die Sourceleitung
der zugehörigen Spalte, in dem sich der Transistor 11 befindet, wird über den Schalter 61 an vorzugsweise
Masse gelegt. Um das Einschreiben einer »1« in den Transistor 1 der gleichen Zeile zu verhindern, wird der
entsprechende Schalter 6 in der Sourceleitung der Spalte, in dem sich der Transistor 1 befindet,
offengelassen. Somit liegt die Inversionsschicht des Transistors 1 auf dem Potential der Versorgungsspannung
Udd· Die Gatespannung an der Leitung 5 des Transistors 1 reicht nicht aus, um den Transistor 1 in den
Zustand »1« zu schalten. Er bleibt im »0«-Zustand. Der Schalter 61 in der Sourceleitung 6 des Transistors 11
dagegen ist geschlossen. Zwischen dem Gate und dem Substrat liegt die volle Gatespannung. Der Transistor 11
wird in den Zustand »1« geschaltet. Somit wird in dem Transistor 11 selektiv eine »1« eingeschrieben, wohingegen
alle anderen Transistoren in ihrem Zustand »0« verbleiben.
Das Auslesen geschieht dadurch, daß die entsprechende Sourceleitung 6 an Massepotential gelegt wird,
daß die entsprechende Drainleitung 7 über einen Lasttransistor zur Versorgungsspannung Udd geschaltet
wird und daß die Lesespannung auf die entsprechende Gateleitung 5 geschaltet wird. Die Größe der
Lesespannung soll dabei zwischen den durch die positiven und negativen Schaltimpulsen hervorgerufenen
Eingangsspannungswerten liegen. In diesem Fall fließt über den Speichertransistor ein Strom, wenn er
niedrige Einsatzspannung hat bzw. im Falle hoher Einsatzspannung bleibt der Speichertransistor gesperrt.
Zu der Erfindung führten die folgenden Überlegungen. Werden die Speichertransistoren wiederholt
umgeschrieben, so treten Degradierungseffekte auf, die die Verschiebung der Einsatzspannungen verursachen.
Bleibt dabei die Lesespannung aber konstant, so ist das Lesen nur so lange möglich, wie die Lesespannung
zwischen den Einsatzspannungen liegt. Die Speichermatrix ist dann nicht mehr funktionsfähig, wenn die
Lesespannung entweder die zum Einschalten nötige Gatespannung oder die Einsatzspannung des Transistors
erreicht, der gesperrt bleiben soll. Diese Grenze kann erfindungsgemäß dadurch hinausgeschoben werden,
wenn die Leseamplitude der niedrigen Einsatzspannung entsprechend geändert wird. Dies kann dadurch
erreicht werden, daß die Lesespannung mit Hilfe eines MIiI2S-Transistors, vorzugsweise mittels eines MNOS-Transistors,
eingestellt wird, der den Umschreibvorgängen genauso unterworfen ist, wie die Speichertransistoren
der Speichermatrix.
In der F i g. 2 ist eine erfindungsgemäße Schaltung zur Erzeugung von Leseimpulsen mit Hilfe eines MIiI2S-Transistors
dargestellt. Diese Schaltung besteht aus dem Eingangstransistor 9, dem Lasttransistor 8 und dem
MIiI2S-Transistor 10. Die drei Transistoren sind in aus
der F i g. 2 ersichtlichen Weise miteinander verschaltet. Das Gate des Transistors 9 bildet den mit 91
bezeichneten Eingang der Schaltung. Der Ausgang der Schaltung ist mit 82 bezeichnet. Liegt entweder keine
Spannung oder nur eine kleinere Spannung als die Einsatzspannung des Eingangstransistors 9 am Eingang
91, so ist nur der Lasttransistor 8 eingeschaltet und damit wird etwa die um die Schwellspannung des
Transistors 8 erniedrigte Versorgungsspannung Udd — Un auf den Ausgang 82 gezogen. Liegt die
Einsatzspannung des Transistors 9 dagegen in der Nähe der Versorgungsspannung Udd, so schalten alle drei
Transistoren 1 und am Ausgang 82 liegt über den
MIibS-Transistor 10 und den Transistor 9 eine niedrige
Spannung an. Diese niedrige Ausgangsspannung ist gleich der Summe der Einsatzspannung des Transistors
10 und der wirksamen Gatespannung des Transistors 10, wobei die letztere durch den in der Stufe fließenden
Strom bestimmt wird. Erfindungsgemäß ist der Transistor 10 ein MIihS-Transistor und wird so betrieben, daß
er die niedrige Einsatzspannung der Speichertransistoren der Matrix besitzt. Auf diese Weise wird erreicht,
daß die Ausgangsspannung über dem niedrigeren Spannungspegel der Speichermatrix liegt. Die zuletzt
genannte Spannungskomponente bestimmt, wieviel höher die Lesespannung über der niedrigen Einsatzspannung
der Speichertransistoren liegt. Durch geeignete Dimensionierung der Stufe, d. h. durch die Wahl
der Geometrie der Transistoren, kann diese Spannungskomponente auf beliebige Werte im weiten Bereich
eingestellt werden. Damit kann dann die wirksame Gatespannung für die Speichertransistoren mit niedriger
Einsatzspannung bestimmt werden. Weiterhin kann vorteilhafterweise die technologische Streuung dieser
Einsatzspannungen in Betracht gezogen werden.
Vorteilhafterweise kann der MIi US-Transistor der erfindungsgemäßen Schaltung zur Erzeugung der
Leseimpulse in die Speichermatrix integriert werden, wie dies in der Fig.3 dargestellt ist. Einzelheiten der
F i g. 3, die bereits im Zusammenhang mit den anderen Figuren beschrieben wurden, tragen die entsprechenden
Bezugszeichen. Mit 40 ist die erfindungsgemäße Schaltung zum Erzeugen von Leseimpulsen bezeichnet.
Die MIiI2S-Speichermatrix trägt das Bezugszeichen 50.
Für jede Zeile der Matrix 50 ist eine erfindungsgemäße Schaltung zur Erzeugung von Leseimpulsen vorgesehen.
In der Fig.3 ist für die erste Zeile 22 mit den Transistoren 1 und 11 die Schaltung 40 vorgesehen,
wobei der Ausgang dieser Schaltung mit der ersten Zeile 22 verbunden ist. Weitere erfindungsgemäße
Schaltungen zur Erzeugung von Leseimpulsen für weitere Zeilen der Matrix 50 sind der Einfachheit halber
nicht dargestellt. Bei jedem Umschreibvorgang der Zeile wird der MNOS-Transistor 10 der erfindungsgemäßen
Schaltung 40 zur Erzeugung der Lesespannung ebenfalls umgeschrieben, damit dieser Transistor
gleichermaßen, wie die übrigen Speichertransistoren der Zeile der Matrix 50 degradiert wird. Dabei ist eine
statistische Verteilung der Umschreibvorgänge am günstigsten. Aus der Schaltung der F i g. 3 ist ersichtlich,
daß der MNOS-Transistor 10 der erfindungsgemäßen Schaltung genauso geschrieben werden kann wie die
übrigen Speichertransistoren der Matrix. Lediglich der Transistor 9 wird während des Umschreibvorganges
ausgeschaltet und nach dem Vorgang wieder eingeschaltet. Jede Zeile der Matrix 50 ist mit einem an sich
bekannten Dekodierer 30 verbunden. Zum Anlegen der Lesespannung an die Zeile 22 der Matrix 50 wird der
Transistor 9 über den Gateanschluß 91 leitend geschaltet.
In derF i g. 4 ist eine Speicherschaltung in Ein-Kanal-Technik
mit einer Speichermatrix, die aus MNOS-Transistoren kurzer Kanallänge besteht, mit Decodiergattern
und mit Antivalenz-Gattern dargestellt. Diese Schaltung ist auch in der DT-PS 22 45 688 beschrieben.
Das Antivalenzgatter hat die Aufgabe, den logischen Zustand am Ausgang des Decodiergatters wahlweise
mit Hilfe eines Impulses zu invertieren. Der Decodierer besteht aus den Transistoren 41, 42, 43, 44, die das
Decodier-Gatter bilden. Das Gatter ist »ausgewählt«, wenn die an den Transistoren 41, 42, 43 anliegende
Adresse, wie in der Figur dargestellt, die Gateleitung 422 mit dem Transistor 421 auswählt. Der Ausgang des
Gatters führt auf ein Antivalenz-Gatter, das von den Transistoren 745, T^, 7}7, 7« und 7}9 gebildet wird.
Betrachtet man das ausgewählte Gatter und liegen 0 Volt an dem Eingang 54 des Antivalenz-Gatters an, so
sind, da der Transistor 46 leitend ist, die Transistoren 48 und 410 gesperrt, d. h. über den Eingang 56 und den
Transistor 411 liegt die Schreibspannung an der ausgewählten Gateleitung 422, die mit dem Gate des
Transistors 421 verbunden ist, an. An allen nicht ausgewählten Gateleitungen liegt keine Schreibspannung
an, da diese dann durch die leitenden Transistoren 410 kurzgeschlossen sind.
Der Transistor 419 dient zum Einschreiben der Information. Soll eine »1« eingeschrieben werden, so
wird die Sourceleitung der betreffenden Speicherspalte auf Masse gelegt. Soll eine »0« beibehalten werden, so
wird die Sourceleitung der entsprechenden Speicherspalte unterbrochen. Dieser Transistor 419 entspricht
den Schaltern 61 der F i g. 1.
Die Erzeugung von Leseimpulsen mittels der erfindungsgemäßen Schaltung geschieht in der oben im
Zusammenhang mit den F i g. 2 und 3 beschriebenen Weise. In der F i g. 4 ist für die Gateleitung 422 mit dem
Transistor 421 die Schaltung 40 vorgesehen, wobei der Ausgang dieser Schaltung mit der Gateleitung 422
verbunden ist. Weitere erfindungsgemäße Schaltungen zur Erzeugung von Leseimpulsen für weitere Gateleitungen
der Matrix 400 sind der Einfachheit halber nicht dargestellt.
Beim Löschvorgang wird durch einen Impuls an dem Eingang 51 der Transistor 417 leitend gemacht, d. h. die
Source- und Drainleitungen der Transistoren einer Matrixspalte werden kurzgeschlossen. Die Löschspannung
wird über den Transistor 418, der über den Eingang 52 gesteuert wird, an die Source- und
Drainleitungen angelegt. Der Transistor 414 bleibt gesperrt, damit die hohe Löschspannung nicht am
Ausgang 59 auftritt. Die Transistoren 419 und 420 bleiben gesperrt, damit die Löschspannung nicht gegen
Masse kurzgeschlossen wird. Gleichzeitig wird die Adreßleitung ausgewählt. An dem Eingang 54 wird eine
Spannung angelegt und über den Transistor 411 wird an alle Gateleitungen eine Schreibspannung angelegt. In
dem Antivalenz-Gatter, das zum ausgewählten Gatter gehört, leiten die Transistoren 49 und 48, die
Schreibspannung wird kurzgeschlossen und die Gateleitung liegt praktisch auf 0 Volt. In den nicht ausgewählten
Gateleitungen dagegen bleiben die Transistoren 49 und 410 gesperrt, die hohe Schreibspannung ist an allen
Gateleitungen wirksam. Dadurch liegen an -den Speichertransistoren dieser Zeilen Source, Drain und
Gate auf dem gleichen Potential. Der Zustand dieser Elemente wird daher nicht geändert.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Schaltung zur Erzeugung von Leseimpulsen für Speichermatrizen mit MIi^S-Transistoren, deren
Einsatzspannungen bei wiederholten Einschreibvorgängen verschoben werden, dadurch gekennzeichnet,
daß in der Schaltung ein M11 I2S-Transistor
vorgesehen ist, der ebenso wie die MIiI2S-Transistoren
der Speichermatrix den Umschreibvorgängen unterworfen wird und daß die Lesespannung
durch die Parameter dieses MIiI2S-Transistors
bestimmt ist.
2. Schaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Ausgang (82) der Schaltung mit
einer Gateleitung (22, 422) verbunden ist, daß der Gateanschluß des MIiI2S-Transistors (10) der
Schaltung mit dem Ausgang (82) der Schaltung verbunden ist, daß der Source- bzw. Drainanschluß
des MIibS-Transistors (10) über einen durch seinen
Eingang (91), der den Eingang der Schaltung darstellt, steuerbaren Transistor (9) mit dem
Ausgang (82) verbunden ist, daß an dem Drain- bzw. Sourceanschluß des MIibS-Transistors (10) ein
Potential der Versorgungsspannung anliegt, daß der Ausgang (82) der Schaltung über einen Lastwiderstand
(8) mit dem anderen Versorgungsspannungspotential (Udd) verbunden ist, wobei die Differenz
aus dem einen Versorgungsspannungspotential und dem anderen Versorgungsspannungspotential der
Versorgungsspannung entspricht und daß der Ausgang (82) der Schaltung mit einer Gateleitung
(22,422) der Matrix (40,400) verbunden ist.
3. Schaltung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Lastwiderstand (8) ein Feldeffekttransistor
verwendet ist, wobei der Gateanschluß dieses Feldeffekttransistors mit dem anderen Versorgungsspannungspotential
verbunden ist.
4. Schaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als MIiI2S-Transistoren
MNOS-Transistoren oder MAOS-Transistoren verwendet sind.
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