[go: up one dir, main page]

DE2352970A1 - Korrosionsbestaendige metallueberzuege, die galvanisch abgeschiedenes nickel und mikroporoeses chrom enthalten - Google Patents

Korrosionsbestaendige metallueberzuege, die galvanisch abgeschiedenes nickel und mikroporoeses chrom enthalten

Info

Publication number
DE2352970A1
DE2352970A1 DE19732352970 DE2352970A DE2352970A1 DE 2352970 A1 DE2352970 A1 DE 2352970A1 DE 19732352970 DE19732352970 DE 19732352970 DE 2352970 A DE2352970 A DE 2352970A DE 2352970 A1 DE2352970 A1 DE 2352970A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bath
nickel
metal
group
hydroxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19732352970
Other languages
English (en)
Other versions
DE2352970C2 (de
Inventor
Henry Brown
Richard John Clauss
Thaddeus Walter Tomaszewski
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oxy Metal Finishing Corp
Original Assignee
Oxy Metal Finishing Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oxy Metal Finishing Corp filed Critical Oxy Metal Finishing Corp
Publication of DE2352970A1 publication Critical patent/DE2352970A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2352970C2 publication Critical patent/DE2352970C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)

Description

Patentanwälte
CM*. Ing. H. Negendank
PIpI. Ing. H. Hauck DIpI. Phys. W. Sch mite
Dipl. Ing. E. Gre.aivs
Dipl. Ing, vy. Wehnelt
2 Hamburg 36
Nauer Wall 41
Korrosionsbeständige Metallüberzüge, die galvanisch abgeschiedenes Nickel und mikroporöses Chrom enthalten
Gegenstand der Erfindung ist eine wäßrige Lösung für ein Nickel-Elektroplattierbad, die Nickelionen, ein im Bad lösliches Amin in einer Konzentration von ungefähr 0,1 g/l bis ungefähr 10 g/l und ein im Bad lösliches Metallsalz enthält, welches, wenn es gelöst ist, dreiwertige oder vierwertige Metallkationen in einer Menge von mindestens ungefähr 0,001 g/l bis ungefähr 0,5 g/l ergibt, und die bei einem pH-Wert ausgefällt werden, der niedriger ist als der, bei dem das Nickel in der Lösung ausgefällt wird. - .
409818/1107
In der Literatur wurde bereits vorgeschlagen, feine, im Bad unlösliche, im wesentlichen nicht leitfähige Teilchen wie Aluminiumoxyd, Titanoxyd, Siliciumdioxyd, Bariumsulfat u.a. in Nickelplattierungsbädern für Semiglanz- und Glanzüberzüge zu dispergieren. Beim Plattieren werden diese Teilchen in hoher Dichte mitabgeschieden und anschließend wird auf einen solchen gemischten Nickelüberzug ein dünner Dekorations-Chromüberzug in mikroporöser Form abgeschieden. Diese offensichtliche Mikroporosität.des Chromüberzugs ergibt für das darunterliegende, galvanisch abgeschiedene Nickelmetall einen verbesserten Korrosionsschutz, was darauf zurückzuführen ist, daß die anodischen Korrosionsströme in den Poren des mikroporösen Chromüberzugs eine wesentlich niedrigere Stromdichte besitzen, verglichen mit dem Fall, bei dem nur die üblichen Poren vorhanden sind.
Es ist ebenfalls bekannt, einen gemischten Metallüberzug herzustellen, indem man einen Nickelüberzug auf einem Nickelsubstrat abscheidet, wobei man eine Teilchendicke von 0,076 bis 1,27/u (0,003 bis 0,05 mils) erhält und wobei der Überzug 1000 bis 1 000 000 Teilchen/6,45 cm2 (square inch) enthält, wenn man verschiedene Metallsalze wie Aluminiumtrichlorid, Magnesiumchlorid u.a. verwendet. Beim Abscheiden der mikroporösen Struktur werden keine Feststoffe eingeführt. In der Literatur ist ebenfalls ein Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von einem dünnen Decküberzug mit einer Dicke von
409-818/1107
0,000012 cm (0,0000050 inch) auf ein im wesentlichen aus Nickel bestehendes Grundmaterial beschrieben, welches in dem elektrolytisch abgeschiedenen Nickelgrundmaterial Feststoffe enthält.
Es wurde nun gefunden, daß man einen elektrolytischen Glanz-
Nickelüberzug aus einer wäßrigen sauren Nickellösung erhalten kann, wenn die Badlösung im Bad lösliche Metallsalze enthält, die ein dreiwertiges oder vierwertiges Metall enthaltendes Kation in einer Menge von mindestens ungefähr 0,001 bis ungefähr 0,5 g/l ergeben und deren Ausfällung bei einem pH-Wert auftritt, der relativ niedriger ist als der des Nickels in der Lösung. Die Badlösung enthält außerdem ein im Bad lösliches Amin in einer Konzentration von ungefähr 0,1 bis ungefähr 10 g/l. Wird ein Bad dieser Art elektrolysiert, um Nickel in einer Dicke abzuscheiden, die im allgemeinen größer ist als ungefähr 3,81 /u (0,15 mil),und wird der Überzug anschließend als Substrat verwendet, um darauf einen dünnen Dekorations-Chromüberzug elektrolytisch abzuscheiden, der mindestens eine Dicke von ungefähr 0,25/U (0,01 mil) besitzt, so erhält man einen wesentlich verbesserten Korrosiansschutz.
Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, einem Metallsubstrat einen verbesserten Korrosionsschutz zu verleihen, indem man einen Glanz-Nickelüberzug auf das Substrat galvanisch abscheidet und anschließend darauf einen relativ
409018 /11 07 ■ ". *.
dünnen Chromüberzug galvanisch abscheidet. Wenn in der vorliegenden Anmeldung von "galvanischer Abscheidung" gesprochen wird, so wird dieser Ausdruck im gleichen Sinne wie elektrolytische Abscheidung verwendet.
Nickel wird auf das Metallsubstrat wie auf Kupfer-, Zink-, Stahl-, Eisen- und ähnliche Substrate elektrolytisch abgeschieden. Das Metallsubstrat, das verwendet werden kann, kann auf einem Kunststoff wie auf Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polypropylen, Polyäthylen, Acrylnitril-Butadien-Styrol und ähnlichen Kunststoffen aufgebracht sein. Das Metall wird auf das Kunststoffsubstrat aufgebracht, nachdem das Substrat mit einer sauren Zinn-Palladium-Verbindung sensibilisiert wurde.
Das Nickelbad, das bei dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden kann, ist ein normales, wäßriges, saures Nickel-Elektroplattierbad, welches Nickelglanzzusätze,üblicherweise organische Nickelglanzzusätze, enthält. Das Nickelplattierbad besitzt üblicherweise einen pH-Wert von ungefähr 1 bis 5 und mehr bevorzugt von ungefähr 2 bis 5. Das Nickel wird in das Nickelbad üblicherweise als im Bad lösliches Salz wie als Sulfat, Chlorid, SuIfonat, Fluorborat oder Bromid oder als ähnliches Salz eingeführt. Bevorzugt verwendet man Nickelchlorid und Nickelsulfat. Die Menge an Nickelchlorid, die verwendet werden kann, kann im Bereich von ungefähr 30 bis 300 g/l liegen, bevorzugt beträgt sie ungefähr 60 g/l. Das Nickelsulfat
4Ö9818/1107
wird dagegen in einer Menge im Bereich von ungefähr 100 bis 400 -g/l, bevorzugt in einer Menge von ungefähr 225 g/l, verwendet .
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren liegt die Temperatur des Bades, die verwendet werden kann, im Bereich von ungefähr 23,9 Ms 76,70C (75 bis 1700F), bevorzugt im Bereich von 43,3 bis 65,6°C (110 bis 1500F).
Das Nickelbad kann beachtliche Mengen an Kobalt enthalten. Das Kobalt kann beispielsweise in so hohen Mengen wie mindestens 5096 vorhanden sein und es ist dann in den Nickel enthaltenden, elektrolytisch abgeschiedenen Schichten vorhanden. Ein Teil des Nickelüberzugs kann ebenfalls aus einer Eisen-Nickellegierung bestehen, es ist jedoch bevorzugt, daß jier elektrolytisches Nickel enthaltende Überzug so reines Nickel wie möglich ist.
Die Plattierungsbäder, die erfindüngsgemäß verwendet werden können, können ebenfalls andere Bestandteile wie Benetzungsmittel, um ein Pitting oder eine Grübchenbildung zu verhindern, und ebenfalls Puffer wie Borsäure, Ameisensäure und ähnliche Verbindungen enthalten.
Die Stromdichte der Plattierungsbäder kann im Bereich von ungefahr 0,5 bis 22 A/cm- (5 bis 200 ams per sq.ft.) liegen, wäh-
AÖ9S18/1107
2357970
rend die Anodenstromdichte im Bereich von ungefähr 1,1 bis 3,3 A/cm (10 bis 30 amps per sq.ft.) liegen kann.
Die Metall enthaltenden Kationen, die in das Bad eingeführt werden, um in dem elektrolytischen Glanznickelüberzug Porosität zu induzieren, sind solche, deren Ausfällung bei einem pH auftritt, der niedriger ist als der des Nickels in dem Nickel-Elektroplattierungsbad. Die Ausfaliting von irgendwelchen Metall enthaltenden Kationen hängt nicht nur von der Konzentration der Hydroxylionen, sondern ebenfalls von der Konzentration des Nickels ab. Anders ausgedrückt gilt, je niedriger die Nickelkonzentration ist, umso höher wird der Ausfällungspunkt für Nickel sein. Im allgemeinen sind die badlöslichen Metallsalze, die in das Nickel-Elektroplattierungsbad eingeführt werden, solche, die in den Gruppen III, V und VI des Periodischen Systems stehen. Die Kationen, die verwendet werden können, sind Metall enthaltende Kationen, in denen das Metall Aluminium, Chrom, Thallium, Thorium, Vanadium, Uran, Lanthan sein kann oder verschiedene oxygenierte Metallkationen (d.h. Sauerstoff enthaltende Metallkationen) wie Uranyl-,. Vanadyl- und ähnliche Kationen. Von den oben aufgezählten Kationen sind bevorzugte Metall enthaltende Kationen solche, die Aluminium- oder Chromionen enthalten.
Die Verbindung, die Stickstoff enthält und die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, ist bevorzugt eine im
409818/1107
2357970
Bad lösliche Aminoverbindung. Eine bevorzugte Aminoverbindung ist eine Verbindung, die eine Gruppe der Formel I
-N (-RA)g (R')h (D
enthält, worin die Gruppen
R unabhängig voneinander Alkylen-, Arylen-, Hydroxysubstituierte Alkylen-, durch Hydroxy substituierte Arylen-, Polyoxyalkylen-, durch Hydroxy substituierte Polyoxyalkylen-Gruppen oder deren Chlor- oder Bromderivate bedeuten,
die Gruppen A unabhängig voneinander -N (R')o> -COOHj -SO3H oder -P(O)(OH)2 bedeuten und
. die Gruppen R' unabhängig voneinander Wasserstoffatome, Alkyl-, Aryl-, durch Hydroxy substituierte Alkyl-, durch Hydroxy substituierte Aryl-, Polyoxyalkylen-, durch Hydroxy substituierte Polyoxyalkylen-Gruppen.oder die Chlor- oder Bromderivate davon bedeuten, v -
g 0 bis 2 und
h 0 bis 2 bedeuten, wobei die Summe von g + h = 2 beträgt.
Eine bevorzugte Aminoverbindung ist eine Verbindung der Formel II
R"s-N(RA)t (II)
R und A die zuvor gegebenen Bedeutungen besitzen,
R" Wasserstoff,.-- ,-. . ;
4 0 9 8 18/110 7
-RN ι
RA
RA
R-N ■ R1
bedeutet,
s O bis 3»
t O bis 3 bedeuten und die Summe von s + t = 3 beträgt ,
m 1 bis 10, bevorzugt 1 bis 4,
ν 1 bis 20, bevorzugt 1 bis 10 bedeuten* vorausgesetzt, daß s eine andere Bedeutung als 3 besitzt, wenn R" Wasserstoff bedeutet.
Die Wertigkeiten des Stickstoffs werden durch die verschiedenen oben erwähnten Substituenten gesättigt.
Bevorzugt verwendet man bei der vorliegenden Erfindung als Aminoverbindung ein Polyamin oder eine Polycarbonsäure.
Geeignete Amine, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind die folgenden:
(CH3)2NH
(HOCH2CH2)2NH
(HO - C4Hg)
- CH2 - CH2NH2
(H0CH2)2 N-CH2-CH2-N(CH2OH)2
8 18/110 7
HgN - CH2^CHg-NH-CHg-CHg-NHg C6H5- NH2 HgN-CHg-CH2-O ^CHg-CHg-O]1-20 H (HO - CHg-CHg)2-N - CHg-CH2-O (-CH-CHgO)1-20 H
CHg-OH
H(O-CH-CH2) 1_20°"CH2"CH2"N"CH2"CH2'N"CH2'CH2
CHgOH ' CHgOH
HN(CH2-COOH)2
N(CH2COOH)3 '
(HOOC CHg)2N-CHg-CHg- N(CHgCOOH)2 (HOOC-CHg)2-N - CHg-CHg-N - CHg-CHg-N-(CHgCOOH)g
CHg-COOH HOOC - CHgNHg HOOC-CHgNHCH3 HOOC-(CHg)4-NH2 HOOC-CH2-N(C3H7)2 HOOCH2CH2NHg HOOC - CH (NHg) CHgC (O) NHg (HO)2N-CHg-CHg - N(CHgCOOH)2 (HO) (HOOCHg) N-CHg-CHg-N(CHgCOOH)g N
HOOC-CH(NH2) - CH2 ■ = |J- ^ 1
H2N CH2CH2SO3H CH3HN CH2CHgSO3H (C4H9)gN CH2CHgSO3H
NHg-C6H5-P-SO3H "."·■-
NH2CH2-CH2-CH2- SO3H ; '-ρ'-
(C4H9)2N -CH2-CH2SO3H
4 O 9 8 -1 8 / 11 01 ' '-'
? 3 5 ? 9 7 G
N [CH2-P (0) (0H)2]3
HN [ CH2P (0)
Ebenfalls nützlich sind Polyalkyleniminderivate, die man durch Polymerisation, einer Verbindung der Formel
X-CH-CH-Y
Z
erhält, worin
X und Y Wasserstoff, niedrig-Alkyl oder durch Hydroxy substituiertes niedrig-Alkyl und
Z Wasserstoff, niedrig-Alkyl, durch Hydroxy substituiertes niedrig-Alkyl oder durch Cyano substituiertes niedrig-Alkyl, worin die Alkylgruppe bevorzugt 1 bis 3 Kohlenstoffatome enthält, bedeuten.
Die am meisten bevorzugte Verbindung ist Polyäthylenimin. Andere Polyalkylenimine sind in der US-Patentschrift 3 393 135 beschrieben.
Die Säuren, die in dem Bad verwendet werden können, können, wie oben, ausgeführt, als solche, d.h. als Säuren verwendet werden oder sie können als im Bad lösliche Salze wie die Ammonium- oder Alkalimetallsalze davon, z.B. die Natriumoder Kaliumsalze, verwendet werden.
409818/11.0 7
Sind in den obigen Verbindungen Alkyl- oder Alkylengruppen vorhanden, so ist es bevorzugt, daß diese 1 bis 6 Kohlenstoffatome enthalten. Der Ausdruck "Aryl", wie er oben verwendet wurde, bedeutet bevorzugt Phenyl- oder Naphthylgruppen. Der Ausdruck "Alkylen" wie in Polyoxyalkylen und durch Hydroxy substituiertes Polyoxyalkylen bedeutet im allgemeinen niedrig-Alkylen, bevorzugt mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen. Der Ausdruck "Alkylen" bedeutet eine gesättigte Alkylengruppe.
Verwendet man die erfindungsgemäße Nickelplattierbad-Zusammensetzung und führt den "Dubpernell-Kupferplattierungsversuch" durch, um die Porosität des DekorationsChromüberzugs, der, wie oben beschrieben, auf dem Glanznickel abgeschieden wurde, zu bestimmen, so erhält man eine Porositätsauszählung für eine Dicke von 3,81 /U (0,15 mil) Nickel, die so hoch ist wie 10 000 Poren/6,45 cm (square inch), während man für einen dickeren Nickelüberzug einen wesentlich höheren Wert erhält. Verwendet man einen Nickelüberzug mit einer Dicke von 7,6 bis 12,7/U (0,3 bis 0,5 mil), so ist die Porositätszählung für
den Dekorationschromüberzug oft höher als 300 000 Poren/6,45 cm Im allgemeinen kann die Mikroporosität in dem Dekorationschromüberzug mit den erfindungsgemäßen Zusatzstoffen Werte
von ungefähr 60 000 Poren/6,45 cm erreichen, ohne daß der Glanznickelüberzug mit einer Dicke von 3,81 bis ungefähr 50,8/u (0,15 bis 2 mil) erkennbar matt oder stumpf wird. Bei Oberflächen, die runde Konturen besitzen, kann die Porenzählung
409818/1107
? 3 5 ? 9 7 O
im Chrom Werte von ungefähr 100 000/6,45 cm erreichen, ohne daß eine starke Mattheit auftritt, bei Dicken des Nickels von 3,8 bis zu ungefähr 50,8 /u (0,15 bis 2 mils).
Bei der vorliegenden Erfindung ist es von besonderem Vorteil, daß es nicht erforderlich ist, ein getrenntes Glanznickelbad zu verwenden, das zugefügte, dispergierte, feine, im Bad unlösliche, nichtleitende Teilchen enthält, um einen dünnen (um ein Mattwerden zu vermeiden) Glanznickelüberzug, der gleichzeitig viele abgeschiedene, feine Teilchen enthält, auf dem dickeren, üblichen Nickelüberzug mit einer Dicke von ungefähr 3,8 bis ungefähr 50,8 /u (0,15 bis 2 mil) abzuscheiden. Dieses letztere Verfahren, bei dem Teilchen verwendet werden, ergibt in dem letzten Chromdekorationsüberzug-eine hohe Mikroporosität, es kann jedoch in einigen automatischen Plattierungsvorrichtungen, die für ein zusätzliches Nickelbad, welches die zugefügten, dispergierten, feinen Teilchen enthält, keine Einrichtungen oder keinen Raum enthalten, nicht verwendet werden.
Werden wasserlösliche Aluminium- oder Chromsalze wie die Chloride, Sulfate, Fluoborate oder Sulfamate ohne die zuvor erwähnten, im Bad löslichen Aminoverbindungen wie EDTA (Äthylendiamin-tetraessigsäure und deren Natrium-, Kalium-, Lithium-, Magnesium-, Eisen-, Nickel- oder Kobaltsalze), Asparagin usw. verwendet, dann erhält man keine guten Ergeb-
409818/1107
nisse. In der Tat kann das schädliche "Verbrennen" (eine erniedrigte, begrenzte Kathodenstromdichte) auftreten, wenn die Konzentration an Aluminium- oder Chromionen in dem Nickelbad Werte von ungefähr 0,5 g/l oder höher erreicht. Ohne die regulierenden Wirkungen, die bei Anwesenheit von Aminoverbindungen, insbesondere bei Aminoverbindungen, die Säuregruppen enthalten, auftreten, kann die Bildung von übermäßig großen, kolloidalen, hydrophilen Teilchen aus Aluminium- und Chromoxyden oder deren basischen Salzen in den Glanznickelüberzügen eine sichtbare unansehnliche Fleckenbildung verursachen. Hauptsächlich aus diesem Grund betrachtet man die Anwesenheit der fremden Materialien, nämlich der Aluminium- und Chromsalze, in sauren Nickelbädern als Verunreinigungen, und daher werden diese von dem Bad bei pH-Werten von ungefähr 3,5 bis 5»5 abfiltriert. Aluminium kann in die Nickelbäder gelangen, wenn Aluminiumgegenstände mit Nickel beschichtet werden und einige Teile von den Plattierungsgestellen in die Nickelbäder fallen. Chrom kann in das Nickelbad aus fehlerhaften Plattierungsgestellen, die durch die Nickel- und Chromplattierungsbäder periodisch geleitet werden, gelangen. Auf jeden Fall werden durch dieübliche Filtration, die man bei Nickelglanzbädern verwendet, diese Ionen aus dem Bad als Hydroxyde entfernt, wenn der pH-Wert des Nickelbades ungefähr 3 bis 5*5 beträgt.
Bei der vorliegenden Erfindung werden jedoch wasserlösliche Salze aus Aluminium und Chrom und anderen Metallkationen wie
4098
? 3 5 ? 9 7 Q
oben beschrieben vorsätzlich zugegeben und ihre Konzentration wird durch kontrollierte, kontinuierliche Zugabe oder durch Zugeben bei bestimmten Intervallen während des Plattierens bei dem wirksamen bzw. geeigneten Wert gehalten. Da es den Anschein hat, daß ein im Bad unlösliches, kolloidales Salz langsam gebildet wird, werden diese Metallkationen kontinuierlich aus der Nickellösung durch Filtration entfernt.
Praktisch werden alle Glanzlösungen filtriert und üblicherweise geschieht dies kontinuierlich. Dies ist besonders bei Nickelbädern, die durch Luft oder mechanisch gerührt werden, erforderlich. Diese Rührverfahren sind ebenfalls die besten Verfahren, um die kolloidalen Hydroxyde oder die basischen Salze dieser Metallkationen als Kolloide in den Nickelbädern dispergiert zu halten. Bei der Filtration, die erforderlich ist, um die Verunreinigungen, die aus der Luft stammen, Anodenteilchen u.a. zu entfernen, werden ebenfalls die kolloidalen Teilchen, die als Hydroxyde oder basische Metallsalze der Kationen wie von Aluminium, Chrom und anderen oben beschriebenen Verbindungen vorliegen, entfernt. Das mehrwertige Kation kann in einer so geringen Menge wie 2 mg/l vorhanden sein, während die Konzentration an Amin so niedrig wie 50 mg/1 sein kann, wobei trotzdem eine beachtliche Erhöhung in der Mikroporosität in dem Chromdekorationsüberzug erhalten wird, wenn der darunterliegende Glanznickelüberzug, den man aus Bädern herstellt, die geringe Konzentrationen an Zusatzstoffen enthalten, im oberen Dickebereich von ungefähr 12,7/U (0,5 mils) liegt.
409818/1107
Die verwendete durchschnittliche Konzentration der Metallkationen, die in dem Nickelplattierungsbad vorhanden sind, liegt üblicherweise im Bereich von ungefähr 1 bis 50 mg/l und die Aminoverbindung wird in einer Konzentration von ungefähr 0,5 bis 10 g/l verwendet, wenn die Dicke der Nickelplattierung 3,81 bis 12,7/U (0,15 bis 0,5 mil) beträgt, und sie ist etwas niedriger, wenn die Dicke des Glanznickelüberzugs ungefähr 25,4 bis 50,8/U (1 bis 2 mils) beträgt, beispielsweise kann man dann Konzentrationen von ca. 0,1 g/l verwenden. Der geeignete Bereich der Aminoverbindung beträgt ungefähr 0,1 bis ungefähr 10 g/l. In dem'Chromdekorationsüberzug wird eine maximale Mikroporosität erreicht, je höher die Konzentrationen an den Salzen der Metallkationen sind, und wenn man bei dem Nickelbad einen oberen pH-Bereich (4 bis ungefähr 5,8) verwendet.
Die organische Aminoverbindung, die gleichzeitig mit den Kationen zusammenwirkt und die am besten geeignet ist, ist eine Verbindung, die innerhalb eines breiten Konzentrationsbereichs verwendet werden kann, ohne daß sie die Wirkung der üblichen Glanzmittel stört.oder die Eigenschaften oder Qualitäten des elektrolytischen Überzugs nachteilig beeinflußt, d.h. bewirkt, daß in den Bereichen mit niedriger Stromdichte kein Überzug abgeschieden wird oder daß spröde Überzüge gebildet werden-. In dieser Hinsicht sind die.Aminosäuren wie Diäthylentriaminpentaessigsäure, das Pentanatriumsalz (DTPA), N-MethyItaurin, Äthylendiamin-tetraessigsäure und ähnliche Verbindungen beson-
' 409818/1107
ders wirksam und geeignet»
Obgleich einige S8 sekundäre33 Glangmittel (lickelglanzmittel der Art der !Class® H)9 die aminogruppen enthalten wie Tetraäthylen= -pentamin oder quaternäres Pjridinpropansultonp manchmal-bei der Bildung von Mikroporosität zusammen 'mit dem Metall enthaltenden Kationen wirksam sinds stimmt die optimal© Konzentration s um Mikroporosität zu @rsielens nicht mit der Konzentration üb@r©inP die erforderlich istj, um elektrolytisehe 9 galva-
Daher sind die bevorzugten organischen Aminoverbindungen keine Glanzmittel und sie sind innerhalb ©ines großen IConzentrations bereichs wirksam<>. Ihre Einwirkung auf d@n Glanz v die Egalisiemang land die physücalischea und mechanischen Eigenschaften der Überzüge ist praktisch neutral ο
Wie oben erwähnt 9 sind bevorzugt© Kationen9 die zusaiimea mit den Aminoverbindungen verwendet werden 9 Kationen des Periodischen Systems der Gruppen UIr, ¥ und ¥1=» Es wurde Jedoch außer dem gefunden9 daß ©ine groBe Zahl anderer Metallkationen zusätzlich zu den oben erwähntem Verbindungen der Gruppen III, V und VI verwendet werden kann wie solche der Gruppen I und II des Periodischen Systems s weaa la das Bad Teilchen, die darin unlöslich sindj, eingefüllt werden sollen»
Es wurde weiterhin gefunden9 daß die Mikroporosität s die in dem Dekorationschromüberzug induziert bzw ο gebildet wiröp 'wem sehr feinverteiltes;, amorphes Siliciumdioxydpulver in so niedrigen Konzentrationen x*/ie ungefähr 10 mg/1 bis höchstens usage= fähr 10 g/l in den Glanznickelplattierungsbädernp die die er=· findungsgemäSen Zusatzstoffe enthalten» dispergiert wirds gleich der ist, die man erhält9- wenn man 20 bis 60 g/l der gleichen amorphenp feinen¥Siliciumdioxydteilchen9 dispergiert in üblichen Glanznickelplattierungsbädern,, die unter den gleichen Bedingungen wie Badrührung 9 pHp Temperatur und Überzugsdicke betrieben werdenB verwendet» Mit der stark erhöhten Co=Abscheidung der sehr feinen 9 amorphen Siliciumdioxydteil·= chen können die Glanznickelüberzüge etwas zu glanzlos sein^ wenn Überzugsdicken verwendet werden» die größer sind als ungefähr 3S81 /U (O915 mil) 9 insbesondere Ό wenn, die Konzentra- ,
tion an dem feinen Siliciumdioxydpulver9 das in dem Glanznicke lbad dispergiert ist, größer ist als ungefähr 0s3 g/l»
Dies steht im Gegensatz zu den Ergebnissen, die man erhält, wenn im wesentlichen keine Teilchen (ungefähr 10 Teile/Million) in dem Bad vorhanden sind und in dem Bad nur .das Metall enthaltende Kation und die Stickstoff enthaltende Verbindung vorhanden sind» Im letzteren Fall erhält man hochglänzende 9 starke Nickelüberzügey selbst wenn der Nickelüberzug ungefähr 25,4 bis 50,8 /U (1 bis 2 mils)' dick ist*
4098 18/1107
Die feinverteilten SiIieiumdioxydpuluerj, di© im allgemeinen als mikrofeine j ausgefällte Siiieiuiiaiosiyde oder mikronisierte synthetische Siliciiamdioxyde bezeichnet werden und die in Konzentrationen verwendet nerdens die so niedrig sind wie 10 bis 300 mg/lp sind beim gemeinsamen Abscheiden axt dem Glanzaickel wesentlich wirksamer,? wem man geringe Konzentration®®, an Salzen der oben beseliriebenea Matallkatioasia zufügt» Diese Wirkung wird anreli Zugab© von Jaia©säMr©a Ia geringes ILowzenirationen wie EDSA9 DfPA usw» noch, vergrößert., Die Versrsia&ung von ungefähr 093 ^is 2-g/l. von amorphen 9 feinen Siliciusadioxyd-_ teilchen zusammen mit den erfindungsgemäßen Zusatzstoffen bei Glanznickelbädern ergibt eine sehr dichte' Mikroporosität in dem Chromdekorationsüberzug s die gleich ists wie man sie bei der gleichen Mickeldicke mit mindestens 20 g/l des gleichen Pulvers im Wickelbad erhält» Das heißt 9 die Co-Abscheidung der Siliciujadioxydteilchen ist so stark» daß eine Glanzplattierung von nur 1 bis 2 Minuten bei 5»5 A/cm (50 smps/sq.ft.) erforderlich ist, um einen mikroporösen überzug abzuscheiden^ d.h. einen Chromde£orationsüberzugr der eine starke Mikroporosität besitzt j wohingegen in einem üblichen GlanznickeIbaä Mindestens 20 g/l des gleichen Siliciumdioxydpulvers dispergiert sein müßten. Bei diesen kurzen Plattierungszeiten von 30 Sekunden selbst bis - zu . 5 Minuten bei KathodenstromdichteEi von ungefähr 4,4 bis 5»5 A/cm (40 bis 50 amps/sq.ft.) ist es nicht erforderlich zu filtrieren und dalier ist es leichter, bei diesen Bedingungen die Konzentrationen an Metall enthaltenden Kationen in dem Bad zu regulieren.
409818/1107
■ - 19 - - 2352370
Offensichtlich absorbieren die mehrwertigen Kationen die Siliciumdioxydteilelien und iferden positiv geladen9 und daher werden die feinen Siliciumdioxydteilchen leichter zusammen mit dem Nickel abgeschieden» Ohne die Metallkationen besitzen die Siliciumdioxydteilchen in der Nickellösung fast eine neutrale Ladung» Die Aminosäuren helfen ebenfallss die CG—Abscheidung zu erleichtern mnd insbesondere2 wenn mehrwertige Kationen vorhanden sind« Die Aluminium- und Chromsalze wie auch andere Metallsalze der Aminosäuren können verwendet werdenρ anstatt daß man die Metallsalze und die Aminosäuren getrennt zugibt.
Das Siliciumdioxydpulver kann ebenfalls zu Lösungen dieser mehrwertigen Kationen mit oder selbst ohne Aminosäuren zugegeben werden und beim Verdampfen zur Trockene wird das SiIiciumdioxydpulver teilweise oder ganz mit Salzen.oder Hydroxyden der mehrwertigen Metallkationen beschichtet und besitzt für die Co-Abscheidung mit dem nickel die gleiche erhöhte Wirksam- ." keit. In der Tat unterstützen zusammen mit feinverteilten Siliciumdioxydteilchenp die in den Nickelbädern dispergiert sind j mehrwertige Metallisationen wie solche der Cer (XIX)- und Cer(IV)=salze9 Salze der Seltenen Erden wie Salze von Lanthans Neodym und Praseodym und die Mischungen von Salzen der Seite·= nen Erden9 die als Didymsalze bekannt sind,, die Cto-Abscheidung der feinen Siliciumdioxydteilchen stark» offensichtlich durch Adsorption an dem Siliciuiadioxydj, obgleich diese Salze in Nickelbädem selbst nicht leicht Hydroxyde bilden. Selbst Kon·=
1107
zentratlonen von Magnesiumionen über 1 g/l begünstigen diese Wirkung. Die Yerdampfungsver'fahren s die oben erwähnt wurden^ ergeben j, wenn man sie bei Eisensalzen zusammen mit dem SiIiciumdioxydpulver verwendet, Eisen(Il)- und Eisen(XIl)-ionen, die wirksamer sind als wenn sie getrennt zugefügt werden.
Die Verfahrens, die beschrieben wurden9 um die Co-Äbscheidung der feinen Siliciufudloxydteilelien zu verbessern, begünstigen ebenfalls die Co-Abscheidung feiner» im Bad unlöslicher Teilchen aus Silikaten und Metalloxyden9 obgleich let ziere in Nickelbädern ohne besonderen Zusatzstoff wie der der vorliegenden Erfindung eine positive Ladung annehmen. Insbesondere bei feinen,, amorphen Siliciumdioxydteilchen sind die erfindungsgemäßen Zusatzstoffe am wirksamsten»
Die Menge an,feinen Teilchens die im Bad unlöslich sind, die verwendet werden kann,, liegt im Bereich von Oj,01 bis 10 g/l, wobei die Größe der Teilchen im Bereich von ungefähr .0,015 bis ungefähr 10/u liegen kam- Wegen der beachtlichen Trägeraktivität der im Bad unlöslichen Teilchen mit den Metallkat-" ionen müssen nur sehr geringe Mengen an im Bad unlöslichen Teilchen verwendet werden« Je höher die Konzentration der erfindungsgemäßen Metall enthaltenden Kationen istp uiso stärker ist die Forderung;, dia Konzentration an Amin zu erhöhen 9 damit man möglichst gute Ergebnisse erhält=
4 0 9 018/110
Zusätzlich zu den zuvor erwähntenp im Bad.unlöslichen Teil= chen sind andere im Bad unlösliche Teilchen,, die verwendet werden können, Polyvinylchlorids Polyvinylidenchlorid 0 Polyäthylen, Polypropylen 9 Talkp Galciumcarbonat und andere^ die in den US-Patentschriften 3 152 971 9 3 152 972 und 3 152 973 beschrieben sind'.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung, ohne sie zu beschränken« Sofern nicht anders angegeben» sind alle Temperaturen in 0C und'alle Prozentgehalte durch das Gewicht ausgedrückt,
Beispiel 1
1 ο Ein halbtechnischer Versuch wurde mit den folgenden Lösungen durchgeführts
Nickelsulfat 325,06 g/l (43,4 oz/gal)
Nickelchlorid 68990 g/l (9*2 " )
Borsäure 53*92 g/l ( 7,2 » )
Als Glanzmittel waren vorhanden
Bis-benzolsulfonamid 1,3 g/l
Nätriumallylsulfonat 2,1 g/l -= 0 - C2H4SO3Na
2J4 2H4SO3
C-CH2= 0 -C2H4-O-C2H SO3Na 60 bis 90 mg/l (das im folgenden als BDOES bezeichnet wird)
409818/1107
2357970
Zu eier Badlösung warden 198 g/l mikrofeines Siliciumdioxyd, 15 mg/1 Al' (als Aluminiumsulfat) und 1 g/l Diätixfientriamin pentaessigsäure sis Matriumsalz zugegeben= Di© Lösmig itfurde bei einem pH-Wert von 3^8 bis 4 gehalten und eine Temperatur von 60 bis 630C (14OTaLs 1450F) wurde verwendet» Es \-mrde mit Luft gerührt.
Dünne Nickelüberzüges die ungefähr 1C27 bis 2P54yu '(0^05 0si mil) dick warsn^ ?mrden auf das CSlanzEiickel überplattiert und anschließend x^urde Chrom "in einer Dicke von ungefähr O8 25/U (.Og01 mil) auxplattiert ο
Es wurde ein Standard=Dubpernell=Versuch für die Mikroporosität des Chroms durchgeführt und festgestelltρ daß die Porosität -40 000 Poren/cm (256 600 pores/sqoin.) betrug=
Beispiel 2
Es wurde die gleiche Versuchsanordnung wie in Beispiel 1 beschrieben verwendets jedoch enthielt die Badlösung als zusätzlichen Glanzstoff 1S4 g/l o=Benzoyisulfimid und es wurden weitere Porositätsversuciie durchgeführt. Diese Versuche wurden an Scheidungen durchgeführt ΰ die im wesentlichen die gleiche Dicke hatten wie bei Beispiel 1.
Die Porosität nacii dem Dubperaell-Versuch betrug 58 885c7/cm (250 800 pores/sq.in»).
4 0 9 8 18/1107
Bei diesem Versuch betrug die Konzentration an mikrofeinem Siliciumdioxyd 1,9 g/l und die Al -Konzentration betrug 13 mg/l. Die Aminosäure-Konzentration betrug 1 g/l.
Beispiel 5
Es wurde eine Hickellösung der Watts Art der folgenden Zusammensetzung verwendet!
KTickelsulfat 291,1 g/l-(39,0 oz/gal)
Kickelchlorid 62„9 g/l ( 894 )
Borsäure 41 99 g/l (5,6 89 )
Sie enthielt die folgenden Glanzstoffei
(1) 195 Gew.96 Mischung aus Saccharin (!atriumsalz)
und eine geringe Menge (ungefähr O9I g/l) Bis-benzolsulfonimid
(2) O9? Gew.?6 Mischung aus Natriumallylsulfonat
(2S1 g/l) und BBOES.
Eine mit Luft gerührte Lösung von einer Temperatur von 60 bis 63°C (140 bis 145°F) wurde verwendet,, um Versuche mit einem Volumen von 227 1 (60 gallon) durchzuführeno
(a) Aus dieser Lösung wurde ein Glänznickelüberzug mit einer Dicke von ungefähr 10196/u. (Qs4 mil) plattiert und anschließend wurde Chrom in einer Dicke von ungefähr 0,25/U (O9Oi mil) aufplattiert» Die Porosität nach dera Dubpernell-Versuch war geringer als 15»5 Poren/cm (100 pores/ sq.in.).
(b) Dann.wurden 0p2 g/l Diäthylentriamin-pemtaessig= säure (Ma-SaIz) und 12S5 mg/l Al zu der Lösung zugegeben
4 0 9 8 18/1107
und die Lösung wurde über Nacht gerührt und elektrolysiert. ■ Der pH-Wert der Lösung wurde auf 4,0 eingestellt.
Ein Glanznickelüberzug mit einer Dicke von ungefähr 10;1/u (0,4 mil) wurde aus der Lösung plattiert und anschließend wurde daraus Chrom in einer Dicke von 0,25/u (OyOI mil) aufplattiert. Die Porosität nach dem Standard-Dubpernell-Versuch betrug 5620 Poren/cm (36 250 pores/sq.in.)·
(c) Der pH-Wert der Lösung von Versuch (b) wurde auf 3,0 eingestellt und Glanznickel-Chrom wurde auf gleiche Weise plattiert. Die Mikroporosität der Chromabscheidung betrug 3480 Poren/cm (22 500 pores/sq.in.).
(d) Zu der oben bei (c) beschriebenen Lösung gab man weiterhin 5 mg/1 Cr , zugefügt als Sulfat.
Ein glänzender Überzug aus Nickel und Chrom, der auf gleiche
Weise wie bei den Beispielen (a), (b) und (c) plattiert wurde,
zeigte eine Mikroporosität von 10 271 Poren/cm (66 250 pores/ sq.in.)·
Beispiel 4
Laborversuche wurden mit der Nickellösung von Beispiel 3 der Watts Art unter Luftrührung bei einem Lösungs-pH von 3*8 bis 4,2 und einer Temperatur von 63°C (145°F) durchgeführt« Es wurde mit Luft gerührt. Die Glanzmittelkonzentration betrug 2% Nr. 1 und 0,755$ Nr. 2*
409818/1107
Zu dieser Lösung fügte man 25 mg/l" Al + (als Aluminiumsulfat), OS5 g/l Diäthylentriamin-pentaessigsäure (Ma=SaIz) und 10 mg/l mikrofeines Siliciumdioxydo
Ein Glanznickelüberzug wurde mit einer Dicke von ungefähr 10,1 6/U (0,4 mil) aus dieser Lösung auf plattiert und darüber
wurde ein Chromüberzug mit einer Dicke von 0525/U (0P01 mil) ■ . « -
.aufplattiertο
Die Porosität;, bestimmt nach dem-Dubpernell-Versuch, betrug 7751 j,9 Poren/cm2 (50 000 pores'/sq.in.).
Beispiel 5
Es wurden weitere Laborversuche durchgeführt 9 wobei man mit Luft gerührte Lösungen der folgenden Zusammensetzungen verwendetes
Nickelsulfat 200 bis 300 g/l .
Nickelchlorid 40. bis 120 g/l
Borsäure 40 g/l
Die Lösung wurde bei Temperaturen von 60 bis 65S6°C (140 bis 1500F) und einem Löswngs-pH von 3 bis 4D7 verifendet»
Es wurden Sinzelversuche durchgeführt 0 wobei zu der Wickellösung die folgenden Zusatzstoff© zugegeben vjurden und wobei bei den einzelnen Versuchen ebenfalls die Mikroporosität des abgeschiedenen Chroms bestimmt wurde»
409818/1107 '
Al+"1"1" 41 mg/1
th
g/
Biäthjrlentriamis-TDemtaessigsäisire (25 () 0,5 g/l* 3876 fels 6356B6 Foren/cm ( 4 /
35B/ 41 000 por-es/sq^in«
Al+++ 82 mg/1
N=Methyltaurin (ITa= Salz) 1 g/l TIpSO/, 100 mg/1
(DTPA) 1 g/l
46 201,5 Ms 74
(298000=478000 pores/sq.in <
3876 oder mehr Poren/cm (25 OCO or more por-es/sq»iac
Sulfanilsäure 1
I Bsg/l
Th -\- 4 ' (als Sioriuaf luoborat^ 10 bis 20 iig/1 (DTEi) 40 bis 80 sag/1
U5 bis
mikrofaines Siliciumdioxyd
(4/u) 0,5 Ms 1,0 g/1 283 ~b±& 8527 Poresi/can~
(1825 bis 55000 pores/sq.in.)
N[CH9P (OH)5]
2J3
290
e i_s p_ i e 1 6
Eine Mickellösung der Watts lrt ϊπιΜθ hergestellt und dazu
fügte man.
Saccharin 1S5 g/l
NatriumaXlylsulforAat 298 g/l BBOES ' 60 bis 90 m.
Der pH=¥ert der Lösuaig betrug 4 vmu. die Temperatur
630C (1450P). Man rührte mit iaaft„ ,
Zu der Löstiag fügt© Eaix O9S g/l Diäthj ääurs (Ia=SaIz) zusammen mit 25 ag/l Al HoO Io
[als
403818/1107
Glanznickel mit Dicken von 10s2 bis 12S7/U (0s4 bis 0,5 mils) wurde abgeschieden und anschließend nrurde Chrom in einer Dicke von ungefähr 0025/U (0p01 mils) aufplattiert.
Ein Standard-Dubpernell-Versuch wurde durchgeführts um die Porosität des Chroms zu "bestimmen und eine mäßige Mikroporosität wurde festgestellt,
10 mg/l Eisen(III)-ionen (als Eisen(III)-chlorid) wurden dann zu der Lösung zugegeben und der oben beschriebene Plattierungstest wurde wiederholt, Man fand, daß die Mikroporosität des Chroms, vergleichen mit dem vorherigen Versuch, verbessert war.
Die Dicke der elektrolytisch abgeschiedenen Chromüberzüge kann im Bereich von ungefähr O9101 bis ungefähr 2502/u (0,Q04 bis 0,08 mils) liegen»
409818/1107

Claims (1)

  1. Patentansprüche
    1. Wäßrige» saure Nickelbadlösung zum Elektroplattieren, enthaltend Nickelionen, ein im Bad lösliches Amin in einer Konzentration von ungefähr O?1 g/l bis ungefähr 10 g/l und ein im Bad lösliches Metallsalz, welches in der Lösung dreiwertige oder vierwertige, Metall enthaltende Kationen in einer Menge von mindestens ungefähr 0,001 g/l bis ungefähr 0,5 g/l ergibt, deren Ausfällung bei einem pH-Wert stattfindet, der niedriger ist als der des Nickels in der Lösung.
    2. Badlösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als Metall enthaltendes Kation ein Metall der Gruppen III, V oder VI des Periodischen Systems der Elemente verwendet.
    3. Badlösung nach Anspruch Z9 dadurch gekennzeichnet, daß das Metall enthaltende Kation in dem Bad in einer Menge im Bereich von 0,1 bis 50 mg/l vorhanden ist.
    4. Badlösung nach Anspruch Z9 dadurch gekennzeichnet, daß die Stickstoff enthaltende Verbindung in einer Menge im Bereich von ungefähr 0s1 bis ungefähr 10 g/l vorhanden ist.
    5. Badlösung nach Anspruch Z9 dadurch gekennzeichnet, daß man als Stickstoff enthaltende Verbindung ein Polyamin verwendet.
    409818/110?
    235?970
    6. Badlösung nach Anspruch Z9 dadurch gekennzeichnets daß das Amin ebenfalls eine saure Gruppe enthält«,
    7« Badlösung nach Anspruch Z9 dadurch gekennzeichnet,, daß die Stickstoff enthaltende Verbindung eine saure Gruppe wie eine Carbonsäuregruppe 9 Sulfonsäuregrappe ©der/iaad. Phos= phonsäuregruppe enthält9 die in d@m Molekül irorfeamdea ist»
    8 ο Badlösung nach Anspruch 2S dadurch gekennzeichnet v daß man als Stickstoff enthaltende Verbindung eine Verbindung verwendet, die eine Gruppe der -Formel .-1(-RJk)-(R9 )ih enthält^ worin
    R eine Alkyl en-"? Arylen-S durch Hydroxy substituierte Alkylen-j, durch Hydroxy substituierte Arylen=P Polyoxy=· alkylen=2 durch Hydroxy substituierte Polyoxyalkylen=Gruppe oder/und die Chlor- oder Bromderivate davon bedeutet,
    A -N(R5)*--COOH9 -SO3H oder/und -P(O) (OH)2 bedeutet, und
    R8 Wasserstoff 9 eine Alkyl= ΰ durch Hydroxy substi== tuierte Alkyl-p Folyoxyalkylen-s, durch Hydroxy substituierte Polyoxyalkylen=Gruppe oder-die Chlor= oder Broaderivate davon bedeutet9
    g 0 bis 2 bedeutet,
    h 0 bis 2 bedeutet und die Summe von g -f h - 2 beträgt.
    9 c Bad nach Anspruch S^ dadurch gekemiseielaEiet^ daß
    man als Stickstoff enthaltende FerMnctaiK ein AmIb. der Formel R" -M(RA). verwendet,, worin
    O hf
    und A die oben gegebenen B®£in±t, ionen besitzen-, 8 Wasserstoff g
    ] Γ 1
    RH =11= RiL cdez* =4= E=E
    Ri,
    s O "bis 5 bedeutet^
    ΐ 0 Ms 5 bedeutet und die Seme γοη s -i- t = 3 be=
    trägtj
    m 1 bis 10 bedeutet und
    γ 1 bis 20 bedeutet ρ vorausgesetzt s daS s" eine ari·= dere Bedeutung als 3 besitzt9 i-jezin R03 Wasserstoff bedeutet«
    Qo Bad nacb. Änspr-ucii 9S dadurcli gekenazelenaet, daß -M(R)ρ bedeutet =
    1 ο Bad nach insprueh 9» dadurch gelcsiaazelcmiet s daa?· =COOH bedeutet»
    12o Bad nach /inspruch 99 dadurch gekenazeieüaiet2 daß Δ =SO^H bedeutet,
    Bad nach Anspruch 9ΰ dadurch g@k,Qmrt.z®±oluietv daß bedeutet o
    4 u y © ι ο / ι j ο //
    14. -. Bad nach Anspruch 9„ dadurch gekennzeichnete, daß R Alkylen bedeutet,
    15« Bad nach Anspruch 9S dadurch gekennzeichnete daß
    bedeutet« .
    RA m
    16. Bad nach Anspruch 9P dadurch gekennzeichnets daß R' Hydroxyalkylen bedeutet»
    17· Bad nach Anspruch 99 dadurch gekennzeichnet, daß
    R" -E- R-N -J- R» bedeutet.
    R« ν
    18. Bad nach Anspruch 9S dadurch gekennzeichnet, daß man als Aminverbindung Diäthylentriamin-pentaessigsäure verwendet.
    19. Bad nach Anspruch 9S dadurch gekennzeichnet, daß man als Aminverbindung Äthylendiamin-tetraessigsäure verwendet,
    20. Bad nach Anspruch 9S dadurch gekennzeichnet, daß man als Aminverbindung N-Methyltaurin verwendet,
    21. Bad nach Anspruch 9 5 dadurch gekennzeichnet 9 daß man als Aminverbindung M-[CH2-P(O) (OH)ρ]^ verwendet«
    22 ο Bad nach Anspruch 9S dadurch gekennzeichnet 9 daß es außerdem feine, im Bad unlösliche Teilchen enthält 9 die in
    409818/1107 .
    einer Menge im Bereich von ungefähr 0^01 bis ungefähr 10 g/l vorhanden sind.
    23. Verfahren zur Herstellung eines Korrosionsschutzüberzugs auf einem Metallsubstrat, dadurch gekennzeichnet, daß man einen Strom von einer Anode durch eine wäßrige-, saure Nickelelektroplattierbadlösung, die Nickelionen und ein im Bad lösliches Amin enthält, zu einem kathodischen Werkstück während einer Zeit leitet, die ausreicht, um einen Nickelüberzug zu bilden, wobei in dem Bad mindestens ungefähr 1 mg/l eines Metall enthaltenden Kations vorhanden ist, dessen Ausfällung bei einem pH-Wert auftritt, der niedriger ist als der des Nickels in der Lösung, und man anschließend auf das mit Nickel plattierte Substrat einen Chromüberzug elektrolytisch abscheidet, wobei ein mikroporöser Chromüberzug gebildet wird.
    24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß man als Metall enthaltendes Kation ein Metall der Gruppen III, V oder VI des Periodischen Systems der Elemente verwendet.
    25. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß das Metall enthaltende Kation in einer Menge im Bereich von ungefähr 1 bis ungefähr 50 mg/l vorhanden ist.
    26. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Stickstoff enthaltende Verbindung in einer Menge im Bereich von ungefähr 0,1 bis ungefähr 10 g/l vorhanden ist.
    409818/1107
    27. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß man als Stickstoff enthaltende Verbindung ein Polyamin
    verwendet.
    28. Verfahren nach Anspruch 27$ dadurch gekennzeichnet, daß das Amin ebenfalls eine saure Gruppe enthält.
    29· Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß die Stickstoff enthaltende Verbindung eine Gruppe der Formel -N(-RA) (RO11 enthält, worin
    R eine Alkylen-, Arylen-, durch Hydroxy substituierte Alkylen-, durch Hydroxy substituierte Arylen-, Polyoxyalkylen-, durch Hydroxy substituierte Polyoxyalkylengruppe oder/und die Chlor- oder Bromderiirate davon bedeutet,
    A eine Gruppe der Formel -N(R1)2* -COOH, -SO3H oder -P(O) (OH)2 bedeutet,
    R1 eine Alkyl-, durch Hydroxy substituierte Alkyl-, Polyoxyalkylen-, durch Hydroxy substituierte Polyoxyalkylengruppe oder/und die Chlor- oder Bromderivate davon oder
    Wasserstoff bedeutet,
    g O bis 2 bedeutet,
    h 0 bis 2 bedeutet und die Summe von g + h = 2 beträgt.
    30. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß man als Stickstoff enthaltende Verbindung ein Amin der
    409818/1107
    Formel R'' -N(RA)+ verwendet, worin
    R und A die oben gegebenen Definitionen besitzen, R" Wasserstoff, eine Gruppe der Formel
    RN
    RA
    HA
    oder
    R-N R*
    R1
    bedeutet,
    s O bis 3 bedeutet 9
    t O bis 3 bedeutet und die Summe von s + t = 3 beträgt,
    m 1 bis 10 und
    ν 1 bis 20 bedeuten, vorausgesetzt, daß· s eine andere Bedeutung als 3 besitzt, wenn R" Wasserstoff bedeutet.
    31. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrolytisch abgeschiedenen Chromüberzüge Dicken im Bereich von ungefähr 0,102 bis ungefähr 2,03/u (0,004 bis 0,08 mils) besitzen.
    409818/11G7
DE2352970A 1972-10-30 1973-10-23 Wäßriges saures Nickelbad zum galvanischen Abscheiden von Glanznickelschichten vom Dispersionstyp und dessen Verwendung Expired DE2352970C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US00302170A US3825478A (en) 1972-10-30 1972-10-30 Electrolyte and method for electrodepositing microporous chromium-nickel composite coatings

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2352970A1 true DE2352970A1 (de) 1974-05-02
DE2352970C2 DE2352970C2 (de) 1983-11-24

Family

ID=23166569

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2352970A Expired DE2352970C2 (de) 1972-10-30 1973-10-23 Wäßriges saures Nickelbad zum galvanischen Abscheiden von Glanznickelschichten vom Dispersionstyp und dessen Verwendung

Country Status (12)

Country Link
US (1) US3825478A (de)
JP (1) JPS5615471B2 (de)
BR (1) BR7308384D0 (de)
CA (1) CA1012924A (de)
DE (1) DE2352970C2 (de)
ES (1) ES420067A1 (de)
FR (1) FR2204703B1 (de)
GB (1) GB1441972A (de)
IT (1) IT996347B (de)
NL (1) NL7313939A (de)
SE (1) SE414649B (de)
ZA (1) ZA737402B (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE6873T1 (de) * 1979-09-13 1984-04-15 M & T Chemicals, Inc. Bad zum glanzvernickeln und verfahren und zusammensetzung hierfuer.
US4865700A (en) * 1987-02-13 1989-09-12 M&T Chemicals Inc. Plating bath and process for making microporous chromium deposits
JPH01309997A (ja) * 1988-06-09 1989-12-14 Kanto Kasei Kogyo Kk 耐食性に優れた銅−ニッケル−クロム光沢電気めっき方法およびそれにより得られためっき皮膜
JP4911622B2 (ja) * 2007-09-21 2012-04-04 柿原工業株式会社 マイクロポーラスめっきに関わる不具合防止方法
EP2145986B1 (de) * 2008-07-15 2010-03-24 Atotech Deutschland Gmbh Lösung und Verfahren zur elektrochemischen Abscheidung eines Metalls auf ein Substrat
MX2012000241A (es) * 2009-07-07 2012-06-01 Herbert Schmidt Gmbh & Co Kg Sistema de niquel.
JP6517588B2 (ja) * 2015-05-27 2019-05-22 デクセリアルズ株式会社 熱硬化性接着シート、及び半導体装置の製造方法
CN112831745B (zh) * 2020-12-30 2023-04-18 王炯 金属涂层在铝及铝合金餐饮器具上的应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3152972A (en) * 1960-07-26 1964-10-13 Udylite Corp Electrodeposition of lustrous satin nickel
US3268424A (en) * 1963-03-01 1966-08-23 Udylite Corp Method of depositing a corrosion resistant composite nickel electroplate

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL243931A (de) * 1958-10-01
US3471271A (en) * 1965-08-16 1969-10-07 Udylite Corp Electrodeposition of a micro-cracked corrosion resistant nickel-chromium plate

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3152972A (en) * 1960-07-26 1964-10-13 Udylite Corp Electrodeposition of lustrous satin nickel
US3268424A (en) * 1963-03-01 1966-08-23 Udylite Corp Method of depositing a corrosion resistant composite nickel electroplate

Also Published As

Publication number Publication date
ES420067A1 (es) 1976-06-16
JPS5615471B2 (de) 1981-04-10
US3825478A (en) 1974-07-23
AU6048573A (en) 1975-03-20
GB1441972A (en) 1976-07-07
CA1012924A (en) 1977-06-28
DE2352970C2 (de) 1983-11-24
IT996347B (it) 1975-12-10
JPS4976734A (de) 1974-07-24
FR2204703A1 (de) 1974-05-24
SE414649B (sv) 1980-08-11
FR2204703B1 (de) 1978-11-17
BR7308384D0 (pt) 1974-08-22
ZA737402B (en) 1974-08-28
NL7313939A (de) 1974-05-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2255728A1 (de) Elektrochemische zubereitungen und verfahren
DE3143833A1 (de) &#34;waessriger saurer cr(pfeil hoch)+(pfeil hoch)(pfeil hoch)3(pfeil hoch)-elektrolyt und ein verfahren zur regenerierung eines solchen elektrolyten&#34;
DE2428499A1 (de) Glanzverzinkung
DE832982C (de) Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer
DE3231054C2 (de)
DE1496917A1 (de) Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege
DE4210884C2 (de) Cobalt- und Nickel-freie Verdichtungs-Zubereitungen
DE2417952A1 (de) Verfahren zur galvanischen abscheidung von nickel und/oder kobalt
DE2352970A1 (de) Korrosionsbestaendige metallueberzuege, die galvanisch abgeschiedenes nickel und mikroporoeses chrom enthalten
DE2506467A1 (de) Bad zur galvanischen abscheidung von palladium-nickel-legierungen
DE2319197B2 (de) Waessriges bad und verfahren zur galvanischen abscheidung eines duktilen, festhaftenden zinkueberzugs
CH629541A5 (de) Verfahren zur elektrolytischen abscheidung einer eisenlegierung.
DE2208327A1 (de) Verfahren zur galvanischen Metallplattierung
EP2635724B1 (de) Verfahren zur abscheidung von hartchrom aus cr(vi)-freien elektrolyten
DE2537065A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen abscheidung von legierungen von nickel, kobalt oder nickel und kobalt mit eisen
DE2835539C2 (de)
DE3149043A1 (de) &#34;bad zur galvanischen abscheidung duenner weisser palladiumueberzuege und verfahren zur herstellung solcher ueberzuege unter verwendung des bades&#34;
EP3415665B1 (de) Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink-nickel-legierungsüberzügen aus einem alkalischen zink-nickel-legierungsbad mit reduziertem abbau von additiven
DE2229883A1 (de) Verfahren zur galvanischen Ab scheidung von Chrom
DE2215737C3 (de) Wäßriges saures galvanisches Halbglanznickelbad
DE2333096C3 (de) Galvanisch aufgebrachter mehrschichtiger Metallüberzug und Verfahren zu seiner Herstellung
DE3347593C2 (de)
DE2032867B2 (de) Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge
DE2642666A1 (de) Verfahren und zusammensetzung zur herstellung einer galvanischen abscheidung
DE1952218A1 (de) Verfahren und Mittel zum galvanischen Verzinnen

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8126 Change of the secondary classification

Ipc: C25D 3/56

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee