DE2349522C3 - Ladungsgekoppelte Strahlungsfühlermatrix - Google Patents
Ladungsgekoppelte StrahlungsfühlermatrixInfo
- Publication number
- DE2349522C3 DE2349522C3 DE19732349522 DE2349522A DE2349522C3 DE 2349522 C3 DE2349522 C3 DE 2349522C3 DE 19732349522 DE19732349522 DE 19732349522 DE 2349522 A DE2349522 A DE 2349522A DE 2349522 C3 DE2349522 C3 DE 2349522C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- substrate
- charge
- busbar
- potential
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims description 28
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 31
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 27
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 17
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 9
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 8
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- 235000010210 aluminium Nutrition 0.000 description 8
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 5
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 101100346656 Drosophila melanogaster strat gene Proteins 0.000 description 1
- 101150086776 FAM3C gene Proteins 0.000 description 1
- 101150087426 Gnal gene Proteins 0.000 description 1
- LFVLUOAHQIVABZ-UHFFFAOYSA-N Iodofenphos Chemical compound COP(=S)(OC)OC1=CC(Cl)=C(I)C=C1Cl LFVLUOAHQIVABZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001276440 Irodes Species 0.000 description 1
- 240000000220 Panda oleosa Species 0.000 description 1
- 235000016496 Panda oleosa Nutrition 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000002051 biphasic effect Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamothioyl n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound CN(C)C(=S)SC(=S)N(C)C REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000012432 intermediate storage Methods 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 description 1
- 230000003389 potentiating effect Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
Description
Die Erfindung betrifft eine ladungsgekoppelte Strahlungsfühlermatrix mit einem Substrat und zwei
benachbarten Reihen (Kanälen) von Ladungsspeicherstellen, deren jede eine Elektrodenanordnung aufweist,
die bei Anregung durch Strahlungsenergie zur Speicherung eines Ladungssignals an der Substratoberfläche
führt; ferner mit einzelnen Leitern, deren Anzahl mindestens gleich ist der Anzahl von Ladungsspeicherstellen
in einer Reihe und deren jeder mit den Elektrodenanordnungen zweier benachbarter
Reihen verbunden ist, um diesen Elektrodenanordnungen eine Spannung anzulegen; und schließlich mit
einer Einrichtung, die das Fließen der an einer Spcicherstelle angesammelten überschüssigen Ladung in
eine benachbarte Speicherstelle derselben oder einer anderen Reihe verhindert und folgendes enthält: eine
im Substrat zwischen benachbarten Reihen eingebettete. Sammelschiene; eine Anordnung zur Aufrcchterhaltung
eines solchen Potentials der Sammelschiene, daß sie als Abfluß für Ladungen wirkt, und eine
Sperranordnung, die zwischen jeder Ladungsspcicherstclle und der Sammelschiene eins Potcntialschwclle
solcher Höhe erzeugt, daß die überschüssige Ladung, die über das an einer Ladungsspeicherstelle speicherbare
Maß hinausgeht, über die Potcntialschwclle zur Sammelschiene fließen kann.
Bei der Belichtung einer Matrix aus lichtfühlenden Elementen kann es vorkommen, daß das belichtende
Bild an einigen Stellen sehr viel heller als der übrige Teile des Bildes ist. Hierdurch werden die entsprechenden
Teile der Matrix von einer besonders intensiven Strahlung getroffen, die z.B. das I(Hache der
mittleren Intensität des Bildes betragen kann, was zu Übcrlastungserschcinungen in diesen Teilen der
Matrix führt. Im Falle einer ladungsgekoppelt Lichtfühlermatrix kann die auf eine bestimmte Matrixstelle
treffende intensive Strahlungsenergie zur Folge haben, daß mehr elektrische Ladung erzeugt
wird, als sich an dieser Stelle speichern läßt. Die überschüssige La .'.lung kann dann »überlaufen a , d. h., sie
kann auf benachbarte Stellen längs derselben ladungsgckoppcltcn
I.ichtfühlerrcihe (im folgenden auch »Kanal« genannt) übergreifen und sich auch in benachbarte
ladungsgekoppelt Kanäle ergießen. Diese Liidi'iigsaiisbrcitung zeigt sich in einem »Überstrahlen«
des aus der Matrix ausgclcscncn Bildes. Das
heißt mit anderen Worten, die Quelle der intensiven Strahlungsenergie erscheint in dem ausgelesenen und
anschließend wiedergegebenen B:ld flächenmäßig viel größer als beim Original.
Eine Strahlungsfühlermatnx der eingangs beschriebenen
Art, die Gegenstand einer älteren Patentanmeldung (Offenlegungsschrift 23 45 784) ist, vermindert
die Gefahr des Überstrahlens durch das Vorhandensein der Sammelschiene und der zwischen ihr
und den Kanälen gebildeten Pctentialschwellen. Da diese Potentialschwellen niedriger sind als die Sperren
zwischen den Ladungsspeicherstellen jeweils ein- und desselben Kanals, fließt überschüssige Ladung
eher zur ableitenden Sammelschiene als in benachbarte Ladungsspeicherstellen desselben Kanals. Diese
Maßnahme zur Vermeidung des Überstrahlens hat jedoch dann einen unerwünschten Begleiteffekt, wenn
im Zuge der Weitergabe der Ladung von einer Speicherstelle zur anderen die unter einer Speicherstelle
liegende gefüllte Potentialgrube vorübergehend schmaler wird. Da hiermit bei gleichbleibender Ladunssmenge
die in der Grube gesammelte Ladung in ihrem »Niveau« steigt, kann es vorkommen, daß ein
Teil der Ladung bei der Weitergabe über die Potentialschwelle zur Sammelschiene hin überfließt und
dort unwiderruflich abgeleitet wird. Dies führt zu einem Verlust an Nutzsignalenergie.
Die Aufgabe der Erfindung besteht da-in, die Gefahr
von Ladungsverlusten bei der Ladungsweitergabc zu vermeiden. Bei einer ladungsgekoppelten Strahlunp,sfülilermatrix
der eingangs beschriebenen Art wird diese Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß die Sperrenanordnung von den Spannungen an den Leitern beeinflußbar ist und an der Substratoberfläche
eine dynamische Potentialschwelle erzeugt, die sich mit diesen Spannungen ändert.
Die Erfindung hat den Vorteil, daß man mit einer Anordnung zur Vermeidung des Überstrahlens nicht
einen Lrdungsverlust bei der Weitergabe der Ladung in Kauf nehmen muß. Einzelheiten und besondere
Ausgestaltungen der Erfindung werden nachstehend in Ausführungsbeispielen an Hand von Zeichnungen
erläutert.
F i g. 1 zeigt die Draufsicht auf eine ladungsgekoppelte
Bildfühlermatrix;
F i g. 2 und 3 zeigen Schnitte gemäß den Linien 2-2 und 3-3 der in F i g. 1 gezeigten Matrix;
Fig. 4 zeigt das Profil des Oberflächenpotentials quer über einen Kanal der in den Fig. 1 bis 3 gezeigten
Anordnung; 5"
F i g. 5 zeigt Profile von Oberflächenpotentialen längs einem Kanal der in den Fig. 1 bis 3 gezeigten
Anordnung;
F i g. 6 zeigt den Verlauf von Signalen zum Betrieb der Anordnung nach den F i g. 1 bis 3;
F i g. 7 zeigt einen Schnitt durch eine Ausführungsform der Erfindung;
F i g. 8 zeigt die Verteilung von Obcrflächenpotenlialen
quer zum Kanal der in Fig. 7 gezeigten Ai.-ordnung;
Fig."') zeigt die Verteilung von Oberflächcnpotcntialcn
lungs dc- Kanals während der Zeit der Strahlungscrfassung
bei der Anordnung nach Fi g. 7;
Fig. H) zeigt in einem Schaubild das Obcrflächcnpotcnlial
abhangig von dem Potential der Speicherelektrode bei einer ladungsgckoppclten Anordnung,
und zwar für verschiedene Doticnmgsstärkcn des
Fig. 11 zeigt perspektivisch und aufgebrochen den
Aufbau einer zweiten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 12 und 13 zeigen den Verlauf von Signalen
für unterschiedliche Betriebsarten der Anordnung nach Fig. 11;
Fig. 14 zeigt in einem Schaubild das Oberflächenpotential
in Abhängigkeit von der Spannung der Speicherelektrode einer ladungsgekoppelten Anordnung,
und zwar für verschiedene Dicken des Kanaloxyds zwischen dem Speicherelcktrodenleiter und dem Substrat;
Fig. 15 und 16 zeigen die Dicke von Isolierschichten
für zwei verschiedene Arten der Ausführungsform nach Fig. 11;
Fig. 17 zeigt das Profil des Oberflächenpotentials
quer zum Kanal bei der Ausführungsart nach Fig. 15;
Fig. 18 zeigt Oberfiächenpotentialprofile längs des
Kanals für die Ausführungsart nach Fig 15;
Fig. 19 zeigt Oberflächenpotentialprofile längs des
Kanals für die Ausführungsart nach Fig. 16;
Fig. 20 ist ein Schaubild zur Erläuterung des Betriebs
einer modifizierten Ausführungsart der Anordnung nach F i g. 7.
Die Fig. 1 zeigt einen Teil einer Bildfühlermatrix,
wie sie der Anmelderin bekannt ist. Von den vielen in der Matrix vorhandenen Spcicherstellen sind nur
einige dargestellt. Die der Bildfühlermatrix zugeordnete Zwischenspeichermatrix für Ladungen sowie die
Leseverstärker und dazugehörigen Schaltungen sind nicht eigens dargestellt, da sie nicht Bestandteil der
vorliegenden Erfindung sind. Eine Beschreibung solcher Anordnungen und anderer Merkmale von Bildfühlermatrizen
befindet sich in der auf die obengenannte ältere Patentanmeldung zurückgehende deutsche OrTenlegungsschrift 23 45 784.
Die Matrix nach den Fig. 1 bis 3 enthält ein Substrat
10 aus P-leitcndem Silizium, welches eine Dotierungsdichtc von N,,= 1014 bis IOIS Störstellen pro
cm:1 aufweist. Auf einer Oberfläche des Substrats 10
befinden sich P-Ieitende Diffusionszonen 12« und 12/), die als Kanalbcgrenzungen dienen und jeweils
zwischen zwei benachbarten Kanälen (d. h. Reihen) von Ladungsspcicherstellcn liegen. Diese DifTusionszoncn,
die durch Ionenimplantation oder irgendein anderes Verfahren gebildet sein können, sind stärker
dotiert als das Substrat und können beispielsweise /V1=IO17 bis 101!>
Störstellen pro cm3 enthalten. Die Substraloberfläche und die Diffusionszonen sind von
einer Isolierschicht 14 bedeckt, die beispielsweise aus Siliziumdioxyd (SiO.,) bestehen kann.
Auf der Oberseite der Isolierschicht befindet siel· eine Vielzahl sogenannter Ladungsspcichcrclektroder
16«, 16/), 16 c und 16d. Über der gesamten Anordnung
kann zum Schutz eine sehr dünne, mit Phosphoi
dotierte Oxydschicht (nicht gezeigt) aufgetragen sein
In der oben beschriebenen Anordnung hat dci Kanal eine Breite von 15,24|im, und die der Kanal
begrenzung dienenden DilTusionszonen 12π und 12/
sind ebenso breit. Die Elektroden 16. die aus Alumi nium bestehen können, seien 7,62 pm breit um
2.54 um voneinander entfernt. Die Dicke der Oxyd schicht (SiO.,) sei 2500 Ä. Diese Maße sind lcdiglicl
als Beispiele anzusehen.
Die vorstehend beschriebene Bildfühlermatrix kam
mit 3 Phasen betrieben werden, wofür die Signale mi dem in F i c 6 gezeißten Verlauf herangezogen wer
den. Die Elektroden 16<i und 16ft sowie alle anderen Ρίη,κ fW ir ι c ·
(nicht dargestellten) Elektroden, die im späteren Ve - Sl^un? ?°T 'T'3' S'Ch jcdc «bcrschüslauf
des Betriebs mit den Wechselspannung™ Φ, und „e oder meSL ho ^0"0" Potentialgrubc in
<I>2 angesteuert werden sollen, werden zunächs auf selbeη K-Zl 1 ? \ Potenlialö™^n dese.ner
festen Gleichspannung von 24 Volt gehallen 5 einer S«r,-n m T * Vad.ungsausbreitun8 fiiIm zu
Die Elektrode 16e und alle diejenigen anderen S ΓμΓ2^ ^^ JCdCS ^"«ven. ^
iroden, die später mit der Wechselspannung Φ, an- ei er F schrin,,nn T'" B!Ic Punkts ll"d somit zu
gesteuert werden sollen, werden auf eineV festen dc Bi des bekannt'k,'" ^™' "" ^ »Übc««™hlcn,
Gleichspannung von 4 Volt «ehalten W=UmMiH H1.r ·»""" Bekannt ist.
Zeit des Anliegt dieser Spannungen" wid Ä ! 10 F £", A^." d" Anordnung nach den
iungsb.ld (z.B. ein optisches Bild) auf die Matrix habun» der sS,? ge C"1Cr bcstim™™ Handproj.Zicrt,
und zwar entweder auf deren Oberseite IntcSionszeft w T""""^11 SCin- Wiihrcnd dcr
oder deren Unterseite. Die durch Belichtung mit die- ve hffim"ßL S " «T™ tIeklrodcn *»' einer
scm Bild erzeugten Ladungsträger sammeln sich in zeug TeZl relathhrVi'T""8 Phaltcn und cr"
den »Potcntialgruben« unterhalb der auf I 24 Volt .5 F ifs 7U sohpi I uru P?tentia|gnibc, wie es in
gehaltenen Elektroden an. Diese Ladungsträger sind sig.falUcrtra^nfJo H ,^ ^' dCr Uldun8s"
Minontats.rager (und zwar Elektronen im Falle eines für den GVoE il Wni ? ^" Ρο1εηΐ!ίΊ§™Ικ'η
P-lcitcnden Substrats), und ihre Ansammlunn sowie Grube zusTnImI J w Übertra8"ngsperiode auf eine
d.c Obernächenpo.entiale sind schematisch in Fig. S grat vSS" n"" ^ die brdtc Potcnli«'-a)
dargestellt. Die an jeder Stelle ansammelte *o h™l .eThrc^SfSi1 IntC8ratIonszeit ^"f mehr als die
Ladungsmenge ist proportional dem Betrag der auf ani ί dann la. f. ^T^"' mit Lad"ngslrä<u:rn
diese Stelle treffenden Strahlungsenergie. re e ΓπΓ Itu™ Ί ''' dCr Ladunß über' wenn die
Die als »Kanalbegrcnzungcn« bezeichneten P-Iei- halben Brche or"? f"1·0^"131*5 Grubc Von clwa dcr
tcndcn Diffusionszonen bilden Potentialschwellen bei M in F C 5? W'rd· D'C SchmaIen Grub™ sind
zwischen benachbarten Kanälen, wie es schematisch as In F ^1.8' Ä? «ezeigt.
in Fig. 4 gezeigt ist. Sie sollen einen Ladungsfluß sich da obenerwXf °$hc^cn veranschaulicht, wie
von einem Kanal zum nächstbenachbarten Kanal ver- lösen ΐίβΓ DerTn P -t"*'61" gCmMß der Erfindung
hindern. Das Oberflächenpotential unterhalb einer trix s der ZiZ ?' 7 gezeigte Aufbau einer Mapiffus.onszonc
(z. B. der DIffusionszonc 12«) betrage Resehcn von ί^ δ V u Orslehend beschrieben, abcmen
Bruchteil von einem Volt, während das Obe'r- 30 SSrMiS iede'r κΤη t™"' ^*"8 befi"de« sich
nachenpotcntial an einer Ladungsspeicherstelle etwa tendc DiiΓωΐοηί^ M^lbe4re"fun§S2«ne eine N-lei-
,ϊί^Ύ' Wenn dic Elektrode an dieser Stelle begrenzung elbs.T f M * bZW· 2°C- Die Kanal"
auf 24 Voll hegt. Weil die Störstellenkonzcntration sionszonen h R lf ? ^ ZWei P-'eite»^n DiITum
den P-leitenden Diffusionszonen so hoch ist, be- jederSe"te derN iS^ ""J*.™" Jcweils eine auf
wirkt O.C Spannung der über den Diffusionszonen 35 Zwe ten sind Sie ρΤί"^»,ffusionszonc (z.B. 20«).
verlaufenden Leiter (z.B. 16,/) praktisch keine Ver- so stark^ dotiert w κ "^" DliTusi°n^ncn nicht
armung und hat somit praktisch keinen Einfluß auf Fig 1 bis 3 snnH ?L Anordnung nach den
die Potentialschwellen. ' f ,. ls J>
sondern sie haben eine Störstellcnkon
Nachdem sich Ladungsträger in ausreichender Zahl DoSung ^C6"!°" ^™11™ Ρ™ ™'Κ ™™
angesammelt haben, werden sie aus der Matrix hin- 40 tion h™rbeiS.rt ?We?u durch Ioncnimplanlaausgeschoben,
und zwar mittels der Dreiphasen- Wrf, 8 ,' Wei1 Slch hiermit die Stärke der
Wechselspannung, die während der in Fg\Z ™3 fe n e aU fl kontro'lieren «*· Bei diesem Do.t-
»Ladungssignal-Übertragung« bezeichneten Zeit- ^Sfffurion dle f SPannu"gen an den über
spanne angelegt wird. Die Zum Zeitpunkt r, herr- Leiter 16 ^Xp ?'?· a"fenden Leitern (z.B. am
sehenden Obcrflachenpotentiale sind schematich in 45 fusions^^
Fig. 5 (b) dargestellt. Man erkennt, daß die vorher SwZLS1^, Wifd- Die N-leitenden
unter den Φ - und Φ,-Elektroden vorhandene Ladung ΆγηΪΪ^μ w a^ Abflüsse oder »Drains«
nunmehr vollständig in die Potentialgrube unterhalb Spannung von z' Bm V ^""ί ^"^cr positiven
der 0s-Elektrode geschoben ist. Während einer nach- D™ ifrSn« X gehalten Werden·
folgenden Zeitspanne (ts in Fig. 6) wird die Ladung 50 und 9 vor, I r't^" Matrix ist in den Fig 8
unter die Φ,-EIekirode geschoben usw. Die dS? £ ObeSn^V ?ie.Fi8·9 ^igt das p/ofi
Phasenspannung bleibt weiterhin so lange angelegt Kanak wSWhT ^3'5 m Längsrichtung eines
bis das gesamte in der Matrix gespeicherte Ladung! In F B ΐϊ S 7 ^u ί* °ptischen Integration
s.gnal aus der Matrix hinausgeschoben ist. g schiedJiJL lS2f Oberflächenpotentiale bei ver-
E,nes der bei der vorstehend beschriebenen Matrix 55 rodensSann^^T8raden Über der Speicherelekauftretenden
Probleme ist die überbelastung mit 2S)C A Γ, "^Wi, und zwar für eine
Strah ungsenergie. Wenn eine starke Strahlungsquelle potent nt ^«^«^chL Das Oberflächenauf
e,ne Ladungsspeichersteile projiziert wird, dann K ~ 18 Vnh ^ ™ Volt lie^enden Elektroden
wird an d.eser Stelle mehr Ladung erzeugt, as dort den an~4in£ r ?™ Oberflächenpotential unter
pqmchert werden kann. Hiermit Irgibt skh für te 60 Sese 2 v^ ' S ·" E!,ektrod™ ^t Vs = 2 Vo,t
»chema nach F, g. 5 a ein Zustand, bei welchem die Sien hl Li JCWeiIs eine potentfalschwelle
π e,ner Potentialgrube angesammelte Ladungsmenge Ss 3ar Fe ^n" .Potentialgruben längs des
g) ger ist als das Oberflächen- Z 2-Vc* LSf Οι^&1""=»' »■ niedriger als
*«en„a, ™,«hen W^ ^ ^i^S^S^^
die als Übcretrahlungsspcrre dienende Diffusionsh Ioncnjm lantalion mit c,ncr
festen Dosis ( wcrdcn kann>
die dcn kntlschen
Spannungswert Vx festlegt, bei welchem d.ese D.f-
fusionszonc vollständig verarmt ist.
^^ Μ,ηΐ..χ is{ rc,aUv unab.
„:in„jg von der tatsächlichen Dotierungsdichte der
^^ ^ hä „ur von dcr Gcsamtdos.s
^ ^^ ^ kann dje störstcHcnkonzentra-
^ 'tjon ^ ( durch djc Durchbruchsspannung zwischen
der als Übcrstrahlungsspcrre dienenden DifTusions-
^ ^ ^n N+_,cUendcn Sammelschiencn auf
■ ^n ^, scin>
dcr gleich ocier größer ist
ioi«cm».
^ p. zci„t cjne zwcHe Ausführungsform der
^ p. zci„t cjne zwcHe Ausführungsform der
Frfind ^ sich mit ciner Zweiphasen-Sleuerspan-
- betreiben läßt. Die Ladungspeicherelektroden t ^ einzelnen Paaren. Jedes Elektrodenpaar
bU po, ilizium.E,ektrodef (z. B. 30), die
i h Sbtrat angeordnet ist und
S.rahlunusenergie erfolg! und mehr Ladungstrage, erzeugt
werden. aU die in den Γ i g. 9 und Sa gezeigte
Polentiakrube aufnehmen kann. Hießt die ubcrschussiue
Ladung daher eher über die 4-Voh-Pote. ι lalsc'hwelle
/ur N-Ieitenden Diffusions/.onc 20« als übe
die "'-Voli-Polentialscliwcllc zur nächstbenachbarte
Potenlialschwclle desselben Kanals. Das gleiche gilt
««eli dann, wenn die breiten Po.enlialgruben gemii«
Ii u. ·> die schmale Form gemäß I-ig. 5 b an- ^
"ti'ohen erwähnt, werden die N-DiJIusUins/oncn
20 auf einer positiven Spannimg wie z. B. 10 Vollgehalten.
Diese 10 Volt beeinflussen die P-D.iTus.ons-/oncn
22 nicht, weil sie eine Sperrspannung fur den PNCbcnving /wischen der P-Diffus.ons/one 22 und
der N-Diiiusions/.onc 20 darstellen.
Wie man an Hand der F i g. 6 und 9 erkennen
kann, handelt es sich bei der die N-leitende: DiI £ χ ^
_ _ ^
sioiis/onc umgebenden Potentialschwcllc um cmc ,SUnismäßig nahe am Substrat angeordnet ist, und
,dvnam.sche« Schwelle, d. h., ihr Wert andc t sieη Aluminium-Elektrode (z. B. 32), die sich weiter
mii den an den Leitungen 16 liegenden Spannungen ^^ ^^ befindel DieScs Elektroden-
Wenn beispeilsweisc die Spannung an der Leitung ^ ^ ejn_ und derselben Phase (z. B. Φ,)
16</ 24 oh beträgt, dann ist die Schwellcnhohc am 1 zweiphasigcn Stcucrspannung angesteuert und
>nicdni.sien<, (d.h. am meisten positiv), sie betrat bjldcl'in/Substrat cine asymmetrische Potcnt.a grube
dann nur 4 Volt. Wenn die Leitung 16 d' aul einei adungsspeichcrung. Das benachbarte Elektro-
Spannunu von 4 Volt liegt, dann wächst die Schwel· ■ ^ ^ mk dcf phasc „^ ge_
■ ,lcu'crt Die Arbeitsweise einer solchen Anordnung
ist ausführlich in einer USA.-Patentanmeldung mit
s'ehc-'ucMciit'wird "'dtir die Ladung, wenn sie längs 30 dem 1 Jc] »Charge ^up^^ ^^^^ Wa] R
des Kanals weitergegeben Nvird, nicht aus dem Kana , ...IJ:. a.„„m„„„
vcrlo,cn,ehl. Wenn die Potentialschwelle konstant
auf 4 W>\\ gehalten würde und dic Spannung an den
I adunosspeicherelektroden dann während der Ladun^übe
trammcszcit zum Zwecke der Weitergabe
der I ad.„m läniis des Kanals geändert w.,d dann
^. . * ... ■ τ·ι .linonr I :idiinß an oil
Spannunu von 4 Volt liegt, dann wächst die Sch
lcnhöhe (d. h., sie wird weniger positiv) auf einen Wen unterhalb von 1 Volt. Dies ist ein ™E"
Merknu.' der vorliegenden Erfindung, wcl!
id dß di Ladung w
I adi.nn länus des Kanals geände
^iire c, denkbar, daß ein Teil dieser Ladung an
Sanum-ischicc 20 verlorengeht, wahrend die Span
nun. einer Elektrode auf ihren relativ niedngeη, ^cr
sinkt. Mit der Anordnung nach Fig. 7 wird sowoh
ehrend der Integrationszeit als auch ^hrcnd der
Zeit der 1 aduncssignal-Übcrtragung cm Überstrahlen
verhindert. ^ . . .Fic7
Beider Erläuterung der Arbeitswe.se der in Fig. 7
d i orausgesetzt daß die
bcschricben, die auf den Erfinder Walte
Kosonocky zurückgeht und auf die Anmeldern!
vorijeecndcn Anmeldung überschrieben ist.
Anordnung nach Fig. 11 unterscheidet sich
von der in der besagten Patentanmeldung bcschne-Anordnung
dadurch, daß s.e Sammclschienen
34fl ^ ^ ft jm Subslrat h dcn Ka-
^ ^ ^ ^ -^ der Abstand zwischen
Sammclschienen und dem Polysihz.um-Leiter
eingestellt sein muß. Jede Sammelschiene fe fc^^^ ^ yom Substral fitesten ent
^ E]ektrodenteils. Die Sammelschiencn wirken
Abflüssc oder »Drains« fur Minor.tatstrager und
sind elektrisch von den Kanälen getrennt una zwar
Pilhwellen die im Substra t durch die
. . .Fic7 sind elektrisch von den Kanälen getrennt una zwar
Beider Erläuterung eitswe.se der in Fig. 7 Potentialschwellen, die im Substra t durch die
darstellten Anordnung sei vorausgesetzt, daß die ..^ djc Sammelschienen laufenden Elektroden er-
^^S^ % ZC^W Fi^Il gezeigte Anordnung
wert der ansteuernden
ständig crarmt werden. .
Emc solche Betriebsweise ist m schaulicht. Wie man in der unteren
stellung erkennen kann, wird ei«l groDer als der ivj^.i.c^v, . ^
der Aluminiumelektrode unc
i~ · . Λ r J t„H
Im SubsUßeider zweiten, in Fig.16 dargestell
« ten Ausführungsart liegt die Polysilizium-Elektrod.
55 auch mit ihrem größten AbstandIJf, naher am Sub
strat als die Aluminiumelektrode. In den Fig.^l.
und 16 sind typische Maße für die jeweiligen Ab
in dieser Potentialgrube m«imal pSaTder Speidung
ist fest und unabhängig vom Potential der oV
cherclektrode. ^0 auseelegten Ia-
Ein Vorteil einer gemäß Fig. ^O ausge:i ζ
dungsgekoppclten Bildfühlermatnx besteht dann, α
finden sich in der graphische 609 635/27
Darstellung nach Fig. 14. Die Polenlialschwelle V11,
d. h. das Oberllächeiipotential unmittelbar neben der
Sammelschiene 34, beträgt 2 Volt. Das Oberlläclicnpotcntial
zwischen benachbarten Speicherstellen längs des Kanals (vgl. Fig. 18a) beträgt I Volt, d.h., es
ist höher (weniger positiv) als das Sperrpotential an der Sammelschiene. Jede Ladungsansiimmlung
unterhalb der '/'.,-Elektrode 30, die das Oberllächenpotenlial
unter dieser Llektrode auf weniger als 2 Volt vermindern könnte, lließl daher eher zur Sanimelscliiene
30 als zur benachbarten Speicherstelle desselben Kanals.
Aus der Fig. IS erkennt man, daß das Sperrpoiential,
welches die Sammelschiene von den Kanälen Irennt, ebenso wie bei der weiter oben beschriebeneu
ersten Aiislüliruiigslonii der EiTnidung einen
Wert hat, tier vom Potential ties über die Sammelschiene
laufenden Leiters abhängt. Wenn dieser PoIysili/iuni-Leiler
auf KJVoIt liegt, dann beträgt das Sperrenpolenlial (iHieistralihingssperre) 2 Voll. Wenn
die Aluminiumelektrode 32 auf K)VoIt liegt, dann beträgt das Sperrenpolenlial 1,5VoIl. Dieser Unterschied
zwischen den Oberllächenpotentialen hat seinen (iiiind in den unterschiedlichen Abständen ilei
Aluminium- und der Polysilizium-Elektroden von der Sammelschiene 34. Diese und die anderen Werte
tier Oberlläclienpotentiale sind aus der Fig. 14 entnommen.
Die Fig. IHb zeigt den Betrieb für den Fall, daß
während der Ladungssignal-Übertragungszeit die '/'.,-Elektrode auf 20 Voll und die '/',-[.Elektrode auf
K)VoIt liegt. Auch hier ist zu erkennen, tlaß di;· Sperrenpotentiale -dynamisch* sind und eine Funktion
mit denjenigen Spannungen darstellen, tlie an i\t:n über die Übertstrahlungssperre laufenden Leitern
liegen. Die Spcrrenpotciuiale hängen außerdem ab
vom Abstand zwischen den Leitern und demjenigen Teil des Substrats, der die Sammelschienen 34 enthält.
Die in F"ig. 16 gezeigte Ausführungsart kann mit den in Fig. 13 gezeigten Spannungen betrieben werden.
Wegen der gezeigten anderen Maße sind auch die während der Zeit der Strahlungserfassung, d. Ii.
während der Integrationszeit, verwendeten Spannungen anders als in Fig. 12 angegeben.
Der daraus resultierende Betrieb ist in Fig. 10
veranschaulicht. Während der Integrationszeit ist das Sperrenpotential V11 in der Nähe der die tiefste
Potentialgrube aufweisenden Polysilizium-Elektrode
30 ■-■■- 9 ; Volt. Das Obcrfiächcnpotential im
Kanal unterhalb der mit dieser Polysilizium-FJektrode verbundenen Aluminiumelektrode 32 beträgt
-I- Volt. Somit ist das Sperrenpotential niedriger
(d.h. positiver) als das Oberllächcnpotential in Kanal neben der tiefen Potenlialgrube. Das heißt, be
diesem Beispiel kann sich die "polenlialgrube während
der Inlegrations/eit nicht mit mehr Ladung füllen, als es elwa 44 Volt (14 Volt - 9 I Volt) entspricht.
Die vorstehend beschriebene Anordnung bildel
einen Schulz gegen Überlastungen sowohl während Her lntegraHonszeit als auch während der Ladungssignal-Übeitragu.igszeit.
Während des Intervalls L '''.I-ig 13 ι,·,, d.ls Oberllächcnpotential das in
1 ig. Kh gezeigte Piolil. Das Sperrenpotential zwischen
benachbarten Ladungsspeicherstellcn längs des Kanals ist I 8 Volt. Das Sperrenpotential an der
sammelschiene ist »niedriger« und liegt bei I- 9 Volt.
Wenn also während der Weitergabe des Ladungs-Mgnals
eine überlastung eintritt und eine Potentialgrube
überläuft, dann Hießt die überschüssige Ladung
eher zur Sammelschiene als zur nächstbenachbarten Potcntialgrube desselben Kanals.
Die Ausluli. ungsart nach F i g. I 5 ist gegen Überlastungen
nur während der Zeit der StrahhingscrasMing,
j. 1,. während der Integrationszeit, geschützt,
"e Mg. 17 und 18 zeigen, daß das Sperrenpoten-
!" unterhalb der Polysiliz.ium-Flektrode mit der
'eisten I oleniialgrube höher (d. h. weniger positiv)
<s. als das Oberllächenputential im Kanal unterhalb
c er Aluminiumelektrode 32 des betreffenden Elektrouipaars
\V ah rend der Übertragungszeil (Intervall/., " ü- I-; ist das Sperrenpotential hinter den lie-
^1 I ou-ntialgrubcn IV- 2 V0It, und das Ober-■■:«..κ;ι.ρο
ential zwischen benachbarten Kanälen ist Ringer (c. h. poshiver) - Vs - - 3 Volt. Wenn also
W rend der Signalübcrtragunuszcit eine Überbein
\ fr Tv11 lind Cine I'otenlialgrubc überläuft,
dann fließt the überschüssige Ladung eher zur nächsterbenachbarten
Potcntialgrube desselben Kanals als zur Sammelschiene 34.
V.?.'0,,?,^1!1^ Wurdc vorstehend im Zusammen-
-'S nm P-ie.tendcn Substraten erläutert. Natürlich
stat dessen auch N-leitende Substrate verwenden, wenn man die Polantäten der Span-'"
'"rechend ändert und für die Sammelsinri
,v iC? de DifTus'onszonen venvendet. Auch
sind d.c vorstehend beschriebenen Prinzipien nicht
Anordn dar8es^llten zweiphasig angesteuerten
Anordnung anwendbar, sondern auch bei anderen gesteuerten Anordnungen, wie sie in
ahnten USA.-Patcntanmeldung 106 381
dilwiiP^" Ϊ!" ,' Es sei ferner darauf hingewiesen,
l!cSpi:-l^hJ: e„dinen anßegebenen Materialien ledig-
Hierzu 8 Blatt Zeichnungen
Claims (6)
1. Ladungsgekoppelte Strahlungsfühlermatrix mit einem Substrat und zwei benachbarten Reihen
(Kanälen) von Ladungsspeicherstellen, derer, jede eine Elektrodenanordnung aufweist, die bei
Anregung durch Strahlungsenergie zur Speicherung eines Ladungssignals an der Substratoberfläche
führt; ferner mit einzelnen Leitern, deren Anzahl mindestens gleich ist der Anzahl von Ladungsspeicherstellen
in einer Reihe, und deren jeder mit den Elektrodenanordnungen zweier benachbarter
Reihen verbunden ist, um diesen Elektrodenanordnungen eine Spannung anzulegen; und schließlich mit einer Einrichtung, die das
Fließen der an einer Speicherstelle angesammelten überschüssigen Ladung in eine benachbarte
Speicherstelle derselben oder einer anderen Reihe verhindert und folgendes enthält: eine im Substrat
zwischen benachbarten Reihen eingebettete Sammelschiene, eine Anordnung zur Aufrechterhaltung
eines solchen Potentials der Sammelschiene, daß sie als Abfluß für Ladungen wirkt,
und eine Sperranordnung, die zwischen jeder Ladungsspeicherstelle und der Sammelschiene eine
Potentialschwelle solcher Höhe erzeugt, daß die überschüssige Ladung, die über das an einer Ladungsspeicherstelle
speicherbare Maß hinausgeht, über die Potentialschwelle zur Sammelschiene fließen kann, dadurch gekennzeichnet,
daß die Sperrenanordnung (22 α, 22 b, 22 c und die darüberliegenden Leiter 16 a b;s 16 d in den
F i g. 1 und 7, oder die Substratzonen neben der Sammelschiene 34a bzw. 34 ft und die darüberliegenden
Leiter 30, 32, 30c, 32a in Fig. 11) von den Spannungen an den Leitern (16a bis I6d
bzw. 30, 32, 30a, 32a) beeinflußbar ist und an der Substratoberfläche eine dynamische Potentialschwclle
erzeugt, die sich mit diesen Spannungen ändert.
2. Ladungsgekoppelte Matrix nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Leiter im wesentlichen
den gleichen Abstand vom Substrat haben wie die Elektrodenanordnungen und daß die Sammelschiene eine DilTusionszone im Substrat
ist, die einen anderen Leitfähigkeitstyp als das Substrat hat, und daß eine Anordnung zur
Bildung einer Potentialschwelle aus einer Diffusionszone (22 in Fig. 7) im Substrat besteht, die
denselben Leitfähigkeitstyp wie das Substrat hat und eine höhere Störstellcnkonzentration als das
Substrat aufweist und zwischen jeder Reihe und der Sammelschiene angeordnet ist.
3. Ladungsgekoppelte Matrix nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Leiter (30, 32 in
Fig. II) einen größeren Abstand vom Substrat
haben als die mit ihnen verbundenen Elcktrodcnanordnimgcn, wobei der Abstand zwischen einem
Leiter und dem Substrat in den Bereichen zwisehen einer Reihe und der Sammelschiene so gewählt
ist. daß bei den während der Integ-ationszeit
der Strahlungsenergie vorhandenen Spannungen eine Potcntialschwellc zwischen einer Reihe
und der Sammelschiene gebildet wird, clic niedriger ist als die Potentialschwelle zwischen benachbarten
I.adungsspciclicrstcllcn einer Reihe und die holier ist als das während der besauten Integrationszeit
unter einer Elektrodenanordnung vorhandene maximale Oberflächenpotential.
4. Ladungsgekoppelte Matrix nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß jede Elektrodenanordnung
aus zwei Elektroden besteht, von denen die erste näher am Substrat liegt als die
zweite, um eine asymmetrische Potentialgrube zu erzeugen, und daß die Anzahl der Leiter gleich
ist der Anzahl der Elektroden in einer Reihe.
5. Ladungsgekoppelte Matrix nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Elektrode
jedes Paars näher an der Sammelschiene liegt als diejenigen Teile der Leiter, die die zweite Elektrode
verbinden.
6. Ladungsgekoppelte Matrix nach Anspruch 5. dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Elektrode
jedes Paars weiter vom Substrat entfernt liegt als diejenigen Teile der Leiter, die die zweiten Elektroden
verbinden.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US293829A US3863065A (en) | 1972-10-02 | 1972-10-02 | Dynamic control of blooming in charge coupled, image-sensing arrays |
US29382972 | 1972-10-02 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2349522A1 DE2349522A1 (de) | 1974-04-18 |
DE2349522B2 DE2349522B2 (de) | 1976-01-22 |
DE2349522C3 true DE2349522C3 (de) | 1976-08-26 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3104489C2 (de) | ||
DE2810597C2 (de) | Elektrische Bauelementstruktur mit einer mehrschichtigen Isolierschicht | |
DE2805170C2 (de) | ||
DE4413824A1 (de) | Lineare Festkörper-Abbildungseinrichtung | |
DE2107022B2 (de) | Ladungsübertragungsvorrichtung | |
DE2432352C3 (de) | MNOS-Halbleiterspeicherelement | |
DE2200455C3 (de) | Ladungsgekoppelte Halbleiterschaltung | |
DE2429836A1 (de) | Verfahren zur bestimmung des stabilitaetsverhaltens von halbleiterschaltungen | |
DE2349522C3 (de) | Ladungsgekoppelte Strahlungsfühlermatrix | |
DE2734409C3 (de) | Bildaufnahmegerät in CCD-Bauweise | |
EP1584904B1 (de) | Photomischdetektor | |
DE19620641C1 (de) | Bidirektionale, horizontale Ladungsübertragungseinrichtung | |
AT393181B (de) | Bildaufnahmeanordnung | |
DE3105910C2 (de) | ||
DE2250140C2 (de) | Ladungsgekoppelte Halbleiteranordnung | |
DE3213408A1 (de) | Ladungsgekoppelte anordnung | |
DE2334116A1 (de) | Ueberstroemkanal fuer ladungsuebertragende abbildungs-baueinheiten | |
DE3544450A1 (de) | Ladungsgekoppeltes bauelement | |
DE2820580A1 (de) | Transversalfilter mit elektronisch einstellbaren gewichtungsfaktoren | |
DE2606308C2 (de) | Zweidimensionaler optoelektronischer Halbleitersensor | |
DE2349522B2 (de) | Ladungsgekoppelte strahlungsfuehlermatrix | |
DE2808620C2 (de) | ||
DE2553633C2 (de) | Optoelektronische Sensoranordnung | |
DE2536311A1 (de) | Ladungsuebertragungsvorrichtungen | |
DE2553686C2 (de) | Eindimensionaler optoelektronischer Sensor |