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DE2033585C3 - Saures galvanisches Bad zum Abscheiden von Zinn - Google Patents

Saures galvanisches Bad zum Abscheiden von Zinn

Info

Publication number
DE2033585C3
DE2033585C3 DE19702033585 DE2033585A DE2033585C3 DE 2033585 C3 DE2033585 C3 DE 2033585C3 DE 19702033585 DE19702033585 DE 19702033585 DE 2033585 A DE2033585 A DE 2033585A DE 2033585 C3 DE2033585 C3 DE 2033585C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tin
compound
acid
group
galvanic bath
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19702033585
Other languages
English (en)
Other versions
DE2033585A1 (de
DE2033585B2 (de
Inventor
Jan Johannes; Schoot Cornells Johannes; Eindhoven Engelsmann (Niederlande)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from NL6910903A external-priority patent/NL6910903A/xx
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of DE2033585A1 publication Critical patent/DE2033585A1/de
Publication of DE2033585B2 publication Critical patent/DE2033585B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2033585C3 publication Critical patent/DE2033585C3/de
Expired legal-status Critical Current

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Description

Il .
H2C=C-C-N
H I
R.
XG
ν Il
N-C-C=CH2 I H
R2
in der π 1,2 oder 3 ist und R, und R2Je Wasserstoff oder eine Alkylgruppe darstellen oder R1 und R2 gemeinsam ein Ringsystem in Form eines 5- oder 6-Ringes bilden und aus den Gruppen
-CH2-
-CH2-CH2-
oder
sehe Verbindung ist vorzugsweise eine Verbindung, die polymerisierbar ist.
Ais Glanzmittel wird vorzugsweise eine Verbindung verwendet, wie sie in der österreichischen Patentschrift 2 59 965 beschrieben ist und die der allgemeinen Formel
O
R1-C=C-C
R2 R3 K4
entspricht, in der jedes der Symbole R1, R2 und R4 ein Wasserstoffatom, eine aliphatische, heterocyclische oder aromatische Gruppe oder eine ähnliche völlig oder teilweise hydrierte Gruppe darstellt, die gegebenenfalls nicht ionisierbare oder in diesem Milieu nicht reduzierbare Substituenten enthält, R3 Wasserstoff, eine Alkylgruppe oder eine veresterte Carboxylgruppe darstellt, oder in der die Kombination
R1-C=C-
oder
bestehen, wobei R3 Wasserstoff, eine Acyl- oder eine Alkylgruppe darstellt, während jede der Gruppen R1 bis R3 Substituenten, mit Ausnahme von NO2, tragen kann.
2. Saures galvanisches Bad zum Abscheiden von Zinn nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es als Anionen Sulfationen enthält.
3. Saures galvanisches Bad zum Abscheiden von Zinn nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die oberflächenaktive Verbindung eine Verbindung auf Basis von Polyoxyäthylen ist.
4. Saures galvanisches Bad zum Abscheiden von Zinn nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die acryloylhaltige Verbindung aus der Gruppe N,N'- Methylenbisacrylamid, 1,3,5-Triacryloylhexahydro-s-triazin, S-Acetyl-l^-bis-acryloylhexahydro-s-triazinundN.N'-Bis-acryloylimidazo- lin gewählt ist.
R2 R3
R1-C=C
durch Zusammenschluß der Substituenten R2, R3 bzw. R1R2 ein Ringsystem bildet, unter der Bedingung, daß die Gruppe
-C=C-
darin einen rein ungesättigten Charakter aufweist. Eine wirkungsvolle Klasse polymerisierbarer organischer Verbindungen, die die überspannung zum Abscheiden von Wasserstoff erniedrigen können, kann durch die allgemeine Formel
H2C=C-C
1 \
K1 K2
dargestellt werden, in der R1 ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Phenylgruppe und R,-OH oder
Die Erfindung bezieht sich auf ein saures galvanisches Verzinnungsbad auf Basis von Sulfat, Sulfonat, Sulfamat oder Fluoborat, mit dessen Hilfe sich glänzende Zinniederschläge herstellen lassen.
In der deutschen Offenlegungsschrift 16 21 127 sind derartige Bäder beschrieben, die zweiwertige Zinnionen, als Anionen Sulfat-, Sulfonat- oder Fluoborationen, einen oberflächenaktiven Stoff, als Glanzmittel eine ungesättigte Verbindung mit einer Formyl- oder Ketogruppe und außerdem eine organische Verbindung zur Herabsetzung der überspannung für die Abscheidung von Wasserstoff an einer aus Zinn bestehenden Kathode enthalten. Die letztere organi-
55 — N
darstellt, wobei R3 und R4 je ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Phenylgruppe oder — OR5 darstellen, wobei R; eine Alkylgruppe darstellt, in der entweder ein Wasserstoffatom durch ein gegebenenfalls alkyliertes Stickstoffatom ersetzt ist oder ein oder mehrere Wasserstoffatome durch OH-Gruppen ersetzt sind.
Ein Nachteil von Bädern mit diesen Zusätzen ist der, daß die während der Verwendung des Bades auftreten-
3* 4
de Polymerbildung zu Verschmutzung Anlaß gibt, läutert. Nach diesen Beispielen wurden stark profiweil die Polymerprodukte von einer solchen kollo- lierte Werkstücke, die aus üblichem Eisenblech geidalen Art sind, daß sie durch Filtration nicht entfernt stanzt worden waren, bei einer Bacltemperaur von etwa werden können. 20'C mit mittleren Stromdichte zwischen 0,5 und
Im Vergleich mit vorher beschriebenen Glanz- 5 5 A/cm2 verzinnt Die auf diese Weise verzinnten Gezinnbädern wird,mit den obenerwähnten bekannten genstände wiesen über ihre ganze Oberfläche einen galvanischen Bädern ein Zinniederschlag erhalten, gleichmäßigen sehr hohen Glanz auf. der in einem großen Stromdichtenbereich einen Einem der vier nachstehenden an sich bekannten schönen Glanz aufweist. Dies ist von besonderer Verzinnungsbäder, die pro Liter Flüssigkeit die folgen-Bedeutung bei der Verzinnung von Gegenständen mit io den gelösten Bestandteile enthielten: verwickelter Form, z. B. von stark profilierten Werkstücken mit scharfen Rändern und kleinen Löchern. a) Zinn(II)-sulfat 40 g
Dabei treten Änderungen in der Stomdichte um einen Schwefelsäure (d = 1,84) 120g
Faktor von nicht weniger als 100 auf. Bei niedrigen Kondensationsprodukt von Polyoxy-
Werten der Stromdichte läßt jedoch der Glanz 15 äthylen und Alkylplienol 10 g
etwas zu wünschen übrig. b) Zinnfiuoborat Sn{BF4)2 30 g
Die Erfindung schafft ein saures galvanisches Ver- Fluoborsäure 200 g
zinnungsbad, das im ganzen Stromdichtenbereich bei Kondensationsprodukt von Polyoxy-
der Verzinnung der obenerwähnten Werkstücke mit äthylen und Alkylphenol 5 g
verwickelter Form, also auch bei den niedrigsten in der 20 c) Zinnsulfat 40 g
Praxis auftretenden Werten der Stromdichte, Nieder- m-BenzoldisuI fonsäure 170 g
schlage mit einem hohen gleichmäßigen Glanz liefert. Kondensationsprodukt von Polyoxy-
Außerdem tritt bei diesen Bädern die obenerwähnte äthylen und Alkylphenol 3 g
Verschmutzung nicht auf. Obgleich während der d) Zinnsulfamat 60 g
Verwendung der Bäder Polymere gebildet werden, ist 25 Sulfaminsäure 100 g
diese Polymerbildung derart, daß sich diese Polymere Polyoxyäthyle.Ti-(10)-sojaamin 10 g
ohne Schwierigkeiten durch Filtration entfernen lassen.
Das Bad nach der Erfindung, das zweiwertige wurde das Glanzmittel in einer Menge von 0,16 g
Zinnionen, als Anionen Sulfat-, Sulfonat-, Sulfamat- pro Liter zugesetzt.
od;r Fluoborationen, eine oberflächenaktive Verbin- 30 Außerdem wurde diesen Bädern eine der nach-
dung, als Glanzmittel eine ungesättigte Verbindung stehenden Verbindungen in den angegebenen Mengen
mit einer Formul- oder Ketogruppe und mindestens zugesetzt: eine organische Verbindung mit einer Acryloylgruppe enthält, ist dadurch gekennzeichnet, daß die acryloyl-
haltige Verbindung der nachstehenden Formel ent- 35 Ν,Ν'-Methylen-bis-acrylamid 0,050 g/l spricht
H2C=C-C-N
TT I
H I
Vc-C=CH2
I ti
I H
N-CH2-N HH
45
in der η 1, 2 oder 3 ist und R, und R2 je Wasserstoff 1,3,5-Triacryloyl-hexahydro-s-triazin 0,100 g/l oder eine Alkylgruppe darstellen oder R1 und R2
1 2
gemeinsam ein Ringsystem in Form eines 5- oder 6-Ringes bilden und aus den Gruppen — CH2 —, -CH2-CH2- oder
-CH5-N-CH,-
H2C=C-H
-C-N
H2C
; Ii
N-C-
CH,
-C=CH2 H
55
bestehen, wobei R3 Wasserstoff, eine Acylgruppe oder eine Alkylgruppe ist, während jede der Gruppen R1 bis R3 Substituenten, mit Ausnahme von NO2, tragen kann.
Nach einer bevorzugten Ausführungsform enthält das Bad nach der Erfindung Sulfationen, während bei einer weiteren bevorzugten Zusammensetzung die oberflächenaktive Verbindung aus einer Polyoxyäthylenverbindung besteht.
Die Erfindung wird nachstehend an Hand einiger Beispiele galvanischer Verzinnungsbäder näher er-
O=C-C=CH2 H
Ν,Ν'-Bisacryloyl-imidazolin 0V200 g/l
Il
H2C=C-C-N
H
CH,
N-C-C=CH2 \ / H
H1C-CH2
5 Acetyl-1,3-bisacryloyl-hexahydro-s-triazin 0,100g/l s-triazin 0,2 g/1
O CH2 O CH2
H2C=C-C-N N-C-C=CH, 5 H2C=C-C-N N-C-C=CH2
h| I H" H Il I ! Il κ
H2C CH, O CH2 H2C O
N N C2H5
O=C-CH3 l0 O=C-CH2-CH2-N
^-Diäthylaminopropionyl-l.S-bisacryloyl-hexahydro-

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Saures galvanisches Bad zum Abscheiden von Zinn, das zweiwertige Zinnionen, als Anionen Sulfat-, Sulfonat-, Sulfamat- oder Fluoborationen, eine oberflächenaktive Verbindung, als Glanzmittel eine ungesättigte Verbindung mit einer Formyl- oder Ketogruppe und mindestens eine organische Verbindung mit einer Acryloylgruppe enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die acryloylhaltigeiVerbindvng der nachstehenden Formel£nfep%htC._ i Ä ii !·: Ji- ^v Z-..
DE19702033585 1969-07-16 1970-07-07 Saures galvanisches Bad zum Abscheiden von Zinn Expired DE2033585C3 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL6910903A NL6910903A (de) 1969-07-16 1969-07-16
NL6910903 1969-07-16

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2033585A1 DE2033585A1 (de) 1971-02-11
DE2033585B2 DE2033585B2 (de) 1976-09-23
DE2033585C3 true DE2033585C3 (de) 1977-05-05

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