DE1952218C3 - Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Zinnüberzügen und seine Verwendung - Google Patents
Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Zinnüberzügen und seine VerwendungInfo
- Publication number
- DE1952218C3 DE1952218C3 DE1952218A DE1952218A DE1952218C3 DE 1952218 C3 DE1952218 C3 DE 1952218C3 DE 1952218 A DE1952218 A DE 1952218A DE 1952218 A DE1952218 A DE 1952218A DE 1952218 C3 DE1952218 C3 DE 1952218C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- bath
- baths
- carbinamine
- tin
- ions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 19
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 12
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 title claims 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 16
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 claims description 16
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 14
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 5
- IUTCEZPPWBHGIX-UHFFFAOYSA-N tin(2+) Chemical compound [Sn+2] IUTCEZPPWBHGIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 4
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 4
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- RCIVOBGSMSSVTR-UHFFFAOYSA-L stannous sulfate Chemical compound [SnH2+2].[O-]S([O-])(=O)=O RCIVOBGSMSSVTR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000375 tin(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 7028-40-2 Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N osmium dioxide Inorganic materials O=[Os]=O XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229940083254 peripheral vasodilators imidazoline derivative Drugs 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 1
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052572 stoneware Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001180 sulfating effect Effects 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/30—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
- C25D3/32—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin characterised by the organic bath constituents used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/04—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D233/06—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms
- C07D233/08—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with alkyl radicals, containing more than four carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms
- C07D233/12—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with alkyl radicals, containing more than four carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D233/14—Radicals substituted by oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
R2-C- NH(C2H4O)JSO3X
enthält, worin Ri, R^ und R3 Alkylreste mit insgesamt
7 bis 23 Kohlenstoffatomen, m eine Zahl von 8 bis 25 und X ein einwertiges Kation von Wasserstoff oder
eines Alkalimetalls bedeuten.
3. Bad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es ein Imidazolinderivat der
Formel
H2C — CH2 CH2Z
\ .·■'
N
N
N = C G CH2CH2Y
R
enthält, worin
(1) R einen Alkylrest mit 5 bis 24 Kohlenstoffatomen,
(2) G den Rest -OH, einen salzbildenden Saureres.!, den salzbildenden Rest eines anionischen
oberflächenaktiven Sulfats oder eines anionischen oberflächenaktiven Sulfonats,
(3) Z die Gruppe
COOM,
HO CH
CH2COOM oder
CH2SO, M
(4) M ein Wasserstoffatom. ein Alkalimetall oder
eine organische Base,
(5) Y die Gruppe -OR'oder -N(R')jA.
(6) jeder Rest R' ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetall oder die Gruppe -(CHj)nCOOM,
(7) A einen anionischen einwertigen Rest und
(8) η eine ganze Zahl von 1 bis 4 bedeuten und
(9) die Gruppe G und CHjZ entweder beide vorhanden sind oder beide fehlen.
4. Bad nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich 0,5 bis 5,0 g pro Liter
eines der Antioxydantien Brenzkatechin, Resorcin oder Naohthol enthält.
5. Bad nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich 0,06 bis 0,5 g pro Liter
eines Aminpolyglykolkondensats als Glanz- und Entschäumungsmittel enthält
6. Bad nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich 10,0 bis 50,0 g pro Liter
Apfelsäure, Zitronensäure oder einer Aminopolyessigsäure als Chelatisiermittel enthält
7. Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Zinn unter Verwendung eines Bades gemäß den
Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Abscheidung bei einer Temperatur im Bereich von
24 bis 66° C und einer Stromdichte im Bereich von 16
bis 210 A/dm2 durchgeführt wird.
Die Erfindung betrifft ein wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines glatten, gut haftenden,
gegebenenfalls halbglänzenden oder glänzenden Zinnüberzugs gemäß Oberbegriff des Hauptanspruchs sowie
ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Zinn unter Verwendung dieses Bades.
Zur galvanischen Abscheidung von Zinn auf Metallsubstraten wurden bereits verschiedenartige Bäder
verwendet Am meisten haben wohl die Stannofluoborat- und alkanischen Stannatlösungen Verwendung
gefunden. Diese bekannten Bäder haben sich zwar im allgemeinen als brauchbar erwiesen und sind in großem
Umfang angewandt worden, zeigen jedoch gewöhnlich hinsichtlich einer oder mehrerer wünschenswerter
Betriebseigenschaften Mängel. Weiterhin fehlen den damit erzielten Oberzügen häufig die gewünschten
Werte für Glanz, Glätte, Geschmeidigkeit, Haftung, Lötbarkeit, Porosität oder Alterungsbeständigkeit
Einige dieser Bäder sind verhältnismäßig aufwendig, und bei vielen ist es schwierig, den Betriebszustand
aufrechtzuerhalten, da gewöhnlich eine zu genaue Überwachung der Konzentration ihrer Bestandteile
erforderlich ist. Außerdem arbeiten sie häufig verhältnismäßig langsam und liefern nur in ziemlich engen
Stromdichtebereichen brauchbare Betriebsergebnisse.
Aus der AT-PS 2 52 681 ist bekannt, daß saure Bäder zur galvanischen Abscheidung von Zinnüberzügen, die
ein nichtionisches Netzmittel enthalten müssen, dadurch verbessert werden können, daß :>ian bestimmte
ungesättigte Ringverbindungen zusetzt und daß der in den beschriebenen Bädern vorhandene Formaldehyd
teilweise oder vollständig durch bestimmte Imidazolinderivate ersetzt werden kann.
Die in diesem Stand der Technik beschriebenen galvanischen Bäder ermöglichen jedoch nicht die
Abscheidung glatter, gut haftender und verhältnismäßig porenfreier Zinnabscheidungen bei verhältnismäßig
hohen Geschwindigkeiten und innerhalb breiter Stromdichtebereiche und Temperaturbereiche.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht somit darin, wäßrige saure Bäder zur Erzeugung eines
gut haftenden, glatten und gegebenenfalls halbglänzenden oder glänzenden Zinnüberzugs zu schaffen, die bei
relativ hohen Temperaturen und hohen Stromdichten eingesetzt werden können, verhältnismäßig wohlfeil
sind, leicht in betriebsfähigem Zustand gehalten werden können und kein hohes Maß an Überwachung und
Steuerung der Konzentration ihrer Bestandteile innerhalb kritischer Grenzen erfordern.
Es wurde nun überraschenderweise gefunden, daß diese Aufgabe mit einem wäßrigen Bad der eingangs
definierten Art gelöst werden kann, das pro Liter 15,0 bis 100,0 g Stannoionen, 30,0 bis 280,0 g Sulfationen, 0,5
bis 6,0 g eines oberflächenaktiven sulfatierten Polyoxyalkylcarbinamins,
0,5 bis 3,0 g eines oberflächenaktiven Imidazolinderivats und 0,9 bis 4,1 g Wasserstoffionen
enthält und ein Gewichtsverhältnis von Carbinamin zu Imidazolinderivat von 0,75 bis 3,0 :1,0 aufweist
Gegenstand der Erfindung ist daher das Bad gemäß Hauptanspruch.
Bevorzugte Ausführungsformen dieses wäßrigen Bades sind Gegenstand der Unteransprüche 2 bis 6.
Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren gemäß Anspruch 7 zur galvanischen Abscheidung von
Zinn unter Verwendung der Bäder gemäß den Ansprüchen 1 bis 6.
Nach diesem Verfahren werden das zu behandelnde Werkstück und one geeignete Anode in das bei einer
Temperatur von 24 bis 66° C gehaltene Bad getaucht,
und es wird zwischen der Anode und dem Werkstück zur Abscheidung von Zinn eine Spannung angelegt, die
an der Oberfläche des Werkstücks eine Stromdichte von 16 bis 210 A/dm2 ergibt
Zum richtigen Betrieb erfordern dif· erfindungsgemä-Qen
Bäder Stannoionen, Sulfationen, ein oberflächenaktives sulfatiertes Polyoxyalkylcarbinamin und ein
Imidazolinderivat Das Bad kann mit den Stannoionen und den Sulfatresten durch jede Kombination von
Verbindungen verscrgt werden, die zur Verwendung in
Zinngalvanisierlösungen geeignet is«, um jedoch die Anwesenheit von unnötigen und möglicherweise störenden
Ionen zu vermeiden, werden dr>se Bestandteile
zweckmäßig in Form von Stannosulfai und Schwefelsäure eingeführt Wie ersichtlich, liefert die erstgenannte
Verbindung sowohl die Stannoionen als auch die Sulfationen, während die zweite Verbindung für weitere
Sulfationen im Bad sorgt Die Verwendung von Schwefelsäure ist auch zur Steuerung der Wasserstoffionenkonzentration
günstig, obgleich auch andere Säuren, die keine störenden Reste liefern, für diesen
Zweck verwendet werden können. Man kann andere Zinnverbindungen als Stannosulfat, z. B. Stannofluoborat,
verwenden, vorzugsweise werden solche Verbindungen dann jedoch in Verbindung mit wenigstens einer
gleichen Gewichtsrnenge der Sulfatverbindung eingesetzt
Die in den Bädern vorhandene Menge an Stannoionen liegt zwischen 15,0 und 100,0 g/l, beträgt jedoch
vorzugsweise 35,0 bis 80,0 g/l. Ebenso beträgt die Sulfationenkonzentration gewöhnlich 30,0 bis 280,0 g/l,
vorzugsweise jedoch 50,0 bis 150,0 g/l. Für die Wasserstoffionenkonzentration ist ein weiter Bereich
von 0,9 bis 4,1 g/l geeignet, sie wird jedoch am zweckmäßigsten zwischen 1,0 und 3,0 g/l gehalten.
Wenn die Stannoionenkonzentration in dem Bad zu niedrig ist, sind der Wirkungsgrad der Galvanisierung
und die Qualität der erzeugten Abscheidung unbefriedigend.
Andererseits ermöglichen zwar hohe Konzentrationen dieses Ions die Erzielung von vorteilhaften
Abscheidungen bei höheren Stromdichten, bei einer zu hohen Stannoionenkonzentration besteht jedoch in
Gegenwart verhältnismäßig kleiner Mengen Schwefelsäure die Gefahr der Bildung eines unerwünschten
Niederschlags. Durch Einstellung der Sulfationen- und der Wasserstoffionenkonzentration auf die angegebenen
Bereiche wird ein wirksames Arbeiten des Bades unter Erzeugung der gewünschten Art von Abscheidungen
gewährleistet
Neben den Stannoionen und Sulfationen benötigen die sauren Bäder nach der Erfindung eine wirksame
Menge einer Kombination von oberflächenaktiven Mitteln. Ein notwendiger Bestandteil dieser Kombination
besteht aus einem amphoteren sulfatierten Polyoxyalkylcarbinamin, das unter den GaJvanisircbedingungen
beständig ist. Im allgemeinen werden solche Carbinamine durch Sulfatieren der endständigen Hydroxylgruppe
an der Polyoxyalkylene hergestellt und können in Form ihrer Alkalisalze vorliegen. Die
Wirksamkeit einer bestimmten Verbindung dieser Klasse sollte geprüft werden, um ihre Verträglichkeit
unci Wirksamkeit mit den anderen Bestandteilen des Bades zu gewährleisten. Für die erfindungsgemäßen
Zwecke haben sich jedoch die Carbinamine der folgenden Formel als geeignet erwiesen:
R1
R1-C-NH(C2H4O)nSO3X
worin Ri, R2 und R3 Alkylreste mit insgesamt 7 bis 23
und vorzugsweise 11 bis 14 Kohlenstoffatomen, m eine Zahl von 8 bis 25 und vorzugsweise von 12,5 bis 17,5 und
X ein einwertiges Wasserstoff- oder Alkalimetallkation bedeuten. Oberflächenaktive Mittel dieser Art sind
ausführlich in der US-PS 30 79 416 beschrieben. Ein besonders vorteilhaftes Material ist ein sulfatiertes
Polyoxyalkyl-tert-carbinamin.
Es wurde gefunden, daß 0,5 bis 6,0 g/l der Carbinaminkomponente
verwendet werden sollen, vorzugsweise enthalten die Bäder jedoch 0,75 bis 3,0 g/l. Die erzielten
Vorteile sind nicht nur nicht so groß, daß der Aufwand für mehr als etwa 6 g/l dieses Materials gerechtfertigt
wird, sondern bei höheren Mengen besteht auch die Gefahr der Bildung matter und rauher Abscheidungen.
Weniger als etwa 0,5 g/l sind im allgemeinen zur Erzielung der gewünschten Ergebnisse unzureichend. Es
ist zu beachten, daß eine Kombination solcher Carbinamine in einem einzelnen Bad verwendet werden
kann oder daß derartige Kombinationen, wie sie in der US-PS 30 79 348 beschrieben sind, mit Vorteil eingesetzt
werden können, sofern die Menge des sulfatierten Carbinamins innerhalb der oben angegebenen Grenzen
liegt. Besonders gute Ergebnisse wurden mit einer
vi Kombination des sulfatierten Polyoxyalkylcarbinamins
und 0,06 bis 0,5 g/l eines Aminpolyglykolkondensats erzielt. Die angegebene Kombination dient nicht nur zur
Erzielung eines wenig schäumenden Bades, sondern das Bad hat auch die überraschende Wirkung, daß ein
Zinnüberzug mit erhöhtem Glanz im Vergleich zu Bädern ohne das Aminpolyglykolkondensat erzeugt
wird.
Der zweite wesentliche Bestandteil der Kombination von oberflächenaktiven Mitteln ist ein Imidazolinderi-
M) vat der Formel
H2C CH2 CH2Z
N-C (i (H2CII2V
K
K
In dieser Formel bedeutet R einen Alkylrest mit 5 bis
24 Kohlenstoffatomen, G das Ion -OH, einen salzbildenden Säurerest, den salzbildenden Rest eines
anionischen oberflächenaktiven Sulfats, vorzugsweise einen Rest -OSO2-OR, oder eines anionischen
oberflächenaktiven Sulfonits und Z einen Rest
-COOM, -CH1COOM oder
HO-CH-CH2SO3M
HO-CH-CH2SO3M
Der mit M bezeichnete Rest stellt ein Wasserstoffatom, ein Alkalimetall oder eine organische Base dar, und der
mit Y bezeichnete Rest besteht aus einer Gruppe —OR' oder N(R')jA. Jeder Rest R' bedeutet ein Wasserstoffatom,
ein Alkallmetall oder die Gruppe -(CHj)nCOOM, A einen anionischen einwertigen Rest
und π eine ganze Zahl von 1 bis 4. Die gestrichelte Linie,
die die Bindungen zwischen den Resten G und CH;Z und dem Stickstoffatom bezeichnet, gibt --.n, daß diese
Substituenten vorliegen oder fehlen können, sie sind jedoch entweder beide vorhanden oder beide nicht
vorhanden. Vorteilhaft sind Verbindungen, in denen entsprechend der oben angegebenen Formel G den
Rest — OSO2 —OR bedeutet, besonders solche, in denen
R einen Alkylrest mit 10 bis 18 Kohlenstoffatomen und Z die Gruppe -COOM darstellen, in der M
vorzugsweise ein Alkalikation ist jo
Beispielhaft für die der angegebenen Formel entsprechenden Verbindungen, die zur Verwendung in den
hierin beschriebenen Bädern geeignet sind, sind 2-Alkyl-l-(äthyl-/?-oxypropansäure)-imidazoIine, die als
Alkylrest den Caprylrest, den Undecylrest oder eine Mischung von Ketten mit 7 bis 17 Kohlenstoffatomen
enthalten, und das Dinatriumsalz von Lauroyl-cycloimidinium-1
-äthoxyäthansäure-2-äthansäure.
Die Menge des Imidazolinbestandteils liegt zwischen 0,5 bis 3,C g/l der Lösung, beträgt jedoch vorzugsweise
0,75 bis 2,0 g/l. Es wurde gefunden, daß weniger als etwa 0,5 g/l dieses Materials verhältnismäßig unwirksam sind,
während mehr als etwa 3,0 g/l wirtschaftlich ungünstig sind und zur Bildung von matten, rauhen Abscheidungen
führen können. Unabhängig davon, in welchen Mengen das Carbinaminderivat und das imidazolinderivat im
Einzelfall verwendet werden, soll ihr Gewichtsverhäitnis 0,75 bis 3,0 :1 betragen und beträgt am zweckmäßigsten
1,0 bis 2,0:1,0.
Außer den oben beschriebenen Ionen und Verbindun- -,0 gen können weitere Additive zur Verbesserung des
Betriebs der erfindur.gsgemäßen Bäder zugesetzt werden. Es ist jedoch einer der bemerkenswerten
Vorteile der Erfindung, daß auch ohne andere Zusätze zu dem Bad außer den zur Versorgung mit den 5-,
Stannoionen, den Sulfationen, dem Carbinamin und dem Imidazolinderivat erforderlichen sehr vorteilhafte Abscheidungen
erzeugt werden.
Der Glanz kann durch Zusatz von Antioxydantien verbessert werden, die außerdem dazu dienen, die (,0
Gefahr der Bildung unlöslicher Niederschläge in dem Bad zu verringern. Solche Antioxydantien sind Brenzkatechin,
Resorcin oder Naphthol. Sie können in Mengen von 0.5 bis 5,0 g/l und vorzugsweise von 1.0 bis 2,0 g/l
verwendet werden. Diese Additive sind besonders in h->
Bädern für höhere Abscheidungsgeschwindigkeiten wirksam, in denen die Stannoionenkonzentration
verhältnismäßig hoch is'.
Die Bäder können zusätzlich 0,06 bis 5,0 g/l eines Aminopolyglykolkondensats als Glanz- und Entschäumungsmittel
enthalten.
Außer den vorstehend genannten Zusätzen können bei Bedarf auch Zitronensäure, Apfelsäure oder eine
Aminopolyessigsäure (Äthylendtamintetraessigsäure,
Diäthylentriaminpentaessigsäure, Nitrilotriessigsäure/
als Chelatisiermittel eingesetzt werden. Diese sind besonders günstig, um den Betrieb der Bäder zu
verbessern und den Glanz zu erhöhen, der im unteren Abschnitt der Stromdichtenbereiche erzielt werden
kann. Sie werden in Mengen von 10,0 bis 50,0 g/l verwendet Es wird darauf hingewiesen, daß die hierin
angegebenen Stannoionen-, Wasserstoffionen- und Sulfationenkonzentrationen auf der Verwendung von
Stannosulfat und Schwefelsäure beruhen und daß dabei deren vollständige Dissoziation angenommen wird.
Diese Faktoren sind bei der Ermittlung der notwendigen Mengen anderer Verbindungen zu berücksichtigen,
die an ihrer Stelle verwendet werden können.
Wie oben angegeben wurde, körnen die erfindungsgemäßen
Bäder über einen weiten Bereich von Kathodenstromdichten betrieben werden, der von 16
bis 210 A/dm2 reicht. Vorzugsweise werden die Bäder jedoch bei Stromdichten von 21 bis 126 A/dm2
betneben, und die Konzentrationen der Badkomponenten können, wie noch genauer erläutert wird, beträchtlich
verändert werden, so daß bei den verschiedenen Stromdichten optimale Ergebnisse erzielt werden. Bei
den niedrigeren Stromdichten, d. h. bei 16 bis 63 A/dm2,
beträgt die Geschwindigkeit, mit der das Zinn abgeschieden wird, etwa 0,005 bis 0,033 mm/min. Bei
den höheren Stromdichten, d.h. bei 63 bis 210 A/dm2, erfolgt die Abscheidung mit einer Geschwindigkeit von
etwa 0,033 bis 0,097 mm/min. Es ist ein besonderer Vorteil, daß in dem gesamten Stromdichtenbereich der
Wirkungsgrad der Abscheidung einen so hohen Wert wie 98%, bezogen auf die theoretische Abscheidungsgeschwindigkeit,
haben kann.
Im allgemeinen enthalten die Bäder, mit denen die besten Ergebnisse bei den niedrigeren Stromdichten
erzielt werden, eine verhältnismäßig niedrige Konzentration an Stannoionen im Vergleich zu Bädern, die am
besten in den höheren Stromdichtenbereichen betrieben werden. Ein Beispiel für die Bäder, die am besten zur
Anwendung bei etwa 16 bis 63 A/dm2 geeignet sind, ist ein Bad, das 50,0 g/l Stannoionen, 65,0 g/l Sulfationen,
0,75 g/l des Carbinamins und 1,0 g/l des Imidazolinderivats
enthält, während die Wasserstoffionenkonzentration etwa 1,0 g/l beträgt. Wie oben angegeben wurde, ist
es zweckmäßig, dem beschriebenen Bad eine geringe Menge eines Chelatisiermittels, z. B. Äthylendiamiiitetraessigsäure,
zuzusetzen, um seine Wirksamkeit zur Erzeugung verhältnismäßig glänzender Überzüge auf
Stromdichten im unteren Abschnitt des Bereiches auszudehnen.
Beispielhaft für die Bäder, die am zweckmäßigsten bei den höheren Stromdichten betrieben werden, ist ein
Bad, das 75,0 "/I Stannoionen, 110,0 g/l Sulfationen,
3,0 g/l Carbinamin und 1,5 g/l des Imidazolinderivats enthält. Dieses Bad soll eine Wasserstoffionenkonzentration
von etwa 2,0 g/l aufweisen. Es enthält am zweckmäßigsten außerdem 2,0 g/l Brenzkatechin und
0,06 g/l eines Aminopolyglykolkondensats. Es wird darauf hingewie .?n, daß bei den Bädern mit den
höheren Stannoionenkonzentrationen darauf geachtet werden soll, übermäßig hohe Sulfatkonzentrationen zu
vermeiden, da Stannosulfat in Bädern dieser Art nicht in
nllen Konzentrationen löslich ist und bei hohen
Sulfatkonzentrationen die Gefahr der Bildung unerwünschter Niederschläge besteht.
Die Bäder sollen bei Temperaturen zwischen 24 und 66°C und vorzugsweise bei 32 bis 49" C betrieben
werden. Bei Betriebstemperaturen unterhalb 24"C besteht die Gefahr, daß der Betrieb unzulänglich ist und
ungünstige Abscheidungen ergibt, während bei Temperaturen oberhalb 66°C matte, rauhe und allgemein
unbrauchbare Abscheidungen entstehen können. Als allgemeine Regel gilt, daß die zur Erzielung guter
Ergebnisse erforderliche Temperatur um so höher ist, je höher die angewandte Stromdichte ist. Ebenso sind die
zulässigen Stromdichten bei den höheren Temperaturen höher als bei den niedrigeren Temperaturen. Für die
oben als beispielhaft beschriebenen Bäder beträgt die beste Betriebstemperatur für das Bad mit geringerer
Stannoionenkonzentration etwa 38"C, während sie bei
etwa 49" C liegt.
Die besten Ergebnisse werden mit den erfindungsgemäßen Bädern erzielt, obwohl diese Arbeitsweise nicht
absolut wesentlich ist, wenn die Kathode (d. h. das Werkstück) relativ zu dem Bad mit hoher Geschwindigkeit
bewegt wird. Diese Bewegung kann beispielsweise durch Drehen des Werkstücks in dem Bad oder durch
lineare Bewegung des Werkstücks durch das Bad mit hoher Geschwindigkeit, z. B. beim Überziehen von
Drähten, erfolgen. Sie kann auch durch Rühren des Bades oder durch rasche Umwälzung des Bades erreicht
werden. Ohne eine solche Bewegung können die erzeugten Niederschläge dunkel und schwammig sein
und schlechte Haftung zeigen. Das Ausmaß der Relativbewegung kann erheblich schwanken, am besten
wird das Werkstück jedoch relativ zum Bad mit einer linearen Geschwindigkeit bewegt, die wenigstens etwa
61 m/min entspricht. Je nach den Eigenschaften des Bades und des Werkstücks und dem' Typ der
verwendeten Vorrichtung können so hohe Geschwindigkeiten wie 244 m/min oder noch mehr angewandt
werden.
Jedes metallische Substrat oder jeder Gegenstand mit Metalloberflächen, die mit bekannten Bädern galvanisch
mit Zinn überzogen werden können, kann auch erfindungsgemäß beschichtet werden. Beispielsweise
können gute Zinnüberzüge auf Gegenständen aus Kupfer, Nickel, Eisen und Stahl erzeugt werden.
Die besten Ergebnisse lassen sich mit diesen Bädern erzielen, wenn Anoden aus verhältnismäßig reinem Zinn
verwendet werden. Ein wesentliches Merkmal der Anode ist ihre Oberfläche in bezug auf die Oberfläche
der Kathode, da gefunden wurde, daß Stromdichten an der Anode von über etwa 8,4 A/dm2 eine übermäßig
hohe Anodenpolarisation mit einem entsprechend scharfen Absinken der Stromausbeute verursachen. Die
Leitfähigkeit dieser Bäder ist gut, und sie können bei verhältnismäßig niederen Spannungen zur Erzeugung
guter Überzüge betrieben werden. Da diese Faktoren sich jedoch etwa in Abhängigkeit von den Komponenten
und ihren Konzentrationen in dem Bad ändern, können einige einfache Vorversuche zweckmäßig sein,
um optimale Ergebnisse mit einer gegebenen Badzusammensetzung, einer bestimmten Galvanisiervorrichtung
und dem verwendeten Werkstück zu erzielen, wie dem Fachmann bekannt ist
Ein Filtrieren des Bades ist nicht wesentlich, gewöhnlich jedoch günstig, besonders, wenn eine
Verschmutzung durch aus der Luft stammende Verunreinigungen und durch Verschleppung aus anderen
Arbeitsgängen erfolgt. Für diesen Zweck können verschiedene Filtermedien, z. B. Gewebe, poröse«
Steinzeug und andere übliche Stoffe, verwendet werden ι Der erforderliche Ausgleich der Verarmung der
verschiedenen Komponenten in dem Bad wird am besten durch regelmäßige quantitative analytische
Bestimmung der verschiedenen Komponenten ermittelt, deren Häufigkeit von der Größe des Bades und den
κι angewandten Galvanisiergeschwindigkeiten abhängt. Die Bäder sind verhältnismäßig wohlfeil und verwenden
Additive, die in verhältnismäßig wenig kritischen Konzentrationsbereichen angewandt werden können
so daß sie leicht im richtigen Betriebszustand gehalten
ι i werden können. Ferner lassen sich die Bäder und ihre
Bestandteile leicht als stabile Lösungen, die ohne Schwierigkeiten hergestellt werden können, lagern.
Durch die folgenden Beispiele, in denen sich alle
Durch die folgenden Beispiele, in denen sich alle
w»nn πιο
.'» anderes angegeben ist, wird die Erfindung näher erläutert.
Es wird ein wäßriges Bad hergestellt, das 90 g/l
r. Stannosulfat, 45 g/l Schwefelsäure, lg/1 2-Alkyl-l-(äthyl-/?-oxypropansäure)-imidazolin
und 0,75 g/l sulfatiertes Polyoxyalkyl-tert.-carbinamin enthält. Das Bad
hat eirf1 Wasserstoffionenkonzentration von etwa
0,9 g/l. Eine Kathode, die aus einem Stück Kupferdraht
in besteht, und eine Anode aus reinem Zinn werden in das
Bad eingetaucht, das auf eine Temperatur von 27°C erwärmt wird. Die Kathode wird in dem Bad mit einer
Geschwindigkeit gedreht, die einer Linearbewegung von etwa 61 m/min entspricht. Zwischen der Anode und
t> der Kathode wird eine solche Spannung angelegt, daß an der Kathode eine Stromdichte von etwa 21 A/dm2
erzeugt und Zinn galvanisch auf der Kathode abgeschieden wird. Die Anode hat in bezug auf die Kathode eine
solche Größe, daß die Stromdichte an der Anode unterhalb 8,4 A/dm2 gehalten wird.
Dann wird das gleiche Bad auf eine Temperatur von 49°C erwärmt, und es wird eine zweite Drahtanode
zusammen mit einer K.athoae in aas ttaa getaucht, die
mit einer Geschwindigkeit gedreht wird, die einer
4", Linearbewegung von etwa 183 m/min entspricht. Es
wird eine solche Spannung angelegt, daß eine Kathodenstromdichte von etwa 42 A/dm2 erzeugt wird.
Die Anode hat in bezug auf die Kathode eine solche Größe, daß die Anodenstromdichte unterhalb 8,4 A/dm2
gehalten wird.
In beiden Fällen zeigen die erzeugten Übe-züge
ausgezeichnete Haftung an dem Kupferdraht und gute Geschmeidigkeit oder Duktilität, Lötbarkeit und Alterungsbeständigkeit
Das bei einer Stromdichte von 42 A/dm2 galvanisierte Werkstück wird nach der
ASTM-Methode B-33 getestet und erweist sich als porenfrei.
Es wird ein Bad mit der gleichen Zusammensetzung wie das in Beispiel 1 beschriebene Bad hergestellt mit
dem einzigen Unterschied, daß das in Beispiel 1 in einer Menge von 0,75 g/l verwendete Carbinamin durch eine
gleiche Gewichtsmenge des angegebenen Imidazolinderivats ersetzt wird, so daß die Gesamtmenge dieser
Verbindung in dem Bad sich auf 1,75 g/l beläuft Beim
Galvanisieren mit diesem Bad unter den in Beispiel 1
angegebenen Bedingungen wird ein Überzug erhalten, der rauh und streifig und allgemein unbrauchbar ist.
Es wird ein zweites Bad, das dem Bad von Beispiel 1 ähnlich ist, herges>ellt, mit dem einzigen Unterschied,
daß die in Beispiel 1 verwendete Gewichtsmenge an Imidazolin durch eine gleiche Gewichtsmenge des
Carbinamins ersetzt wird, so daß sich die in dem Bad enthal'y ie Gesamtmenge an Carbinamin auf 1,75 g/l
beläuft. Beim Betrieb dieses Bades unter den in Beispiel I angegebenen Bedingungen wird ein Überzug erzeugt,
der sehr grob und völlig unbrauchbar ist.
Ein Vergleich der Beispiele I und 2 zeigt also, daß unbrauchbare Überzüge erhalten werden, wenn entweder
nur das Carbinamin oder nur das Imidazolinderivat verwendet wird. Wenn dagegen diese Stoffe entsprechend
Beispiel I in Kombination in einer Gesamtmenge angewandt werden, die der Menge jeder nach Beispiel 2
einzeln verwendeten Komponente entpricht, werden ausgezeichnete Zinniiberzüge erzeugt.
Ein wäßriges Bad wird wie in Beispiel 1 mit 120 g/l
Stannosulfat, 45 g/l Schwefelsäure, 1,0 g/l des gleichen Carbinamins und 0,75 g/l des gleichen Imidazolinderivats
hergestellt. Dieses Bad, das bei einer Temperatur von 490C gehalten und mit Kathodenstromdichten von
126 und 189 A/dm2 betrieben wird, liefert halbglänzende
Überzüge auf einem Stück Stahlrohr mit einem Durchmesser von 2,5 cm, das während des Galvanisierens
mit 2250 Umdrehungen pro Minute gedreht wird. Durch Zusatz von 1,0 g/l Brenzkatechin zu dem Bad
wird der Glanz des Überzugs erhöht, und durch 0,1 g/l eines Aminpolyglykolkondensats wird der Glanz noch
weiter verbessert und gleichzeitig die Neigung des Bades zum Schäumen verringert.
Es werden Bäder wie in Beispiel 3 hergestellt, bei denen 40 g/l des in Beispiel 3 verwendeten Stannosulfats
durch eine gleiche Menge Stannofluoborat ersetzt werden und Lauroyl-cycloimidinium-l-äthoxy-äthansäure-2-äthansäure-natriumsalz
anstelle des iti Beispiel 3 angegebenen Imidazolinderivats verwendec wird. In
allen Fällen haben die erhaltenen Überzüge praktisch die gleiche Qualität wie in Beispiel 3.
Ein wäßriges Bad wird wie in Beispiel 1 durch Auflösen von 180 g/l Stannnsiilfal. 18 g/l Schwefelsäure.
1,0 g/l des gleichen Carbinamins, 0,75 g/l des gleichen Imidazolinderivats und 1,0 g/l Brenzkatechin in Wasser
hergestellt. Das Bad wird wie in Beispiel 1 erwärmt und betrieben mit der Ausnahme, daß eine Spannung
angelegt wird, die an der Kathode eine Stromdichte von 95 bzw. 126 A/dm2 ergibt. In jedem Fall beträgt die
angewandte Temperatur 49°C. Bei beiden Abscheidungsgeschwindigkeiten
werden zwar matte Überzüge erhalten, die jedoch sehr glatt sind. Durch die Erhöhung
der Brenzkatechinkonzentration auf 3,0 g/l werden unter den gleichen Bedingungen halbglänzende Überzüge
erhalten.
Claims (2)
1. Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines glatten, gut haftenden, gegebenenfalls
halbglänzenden oder glänzenden Zinnüberzugs, enthaltend ein Zinnsalz, freie Säure, ein oberflächenaktives Imidazolinderivat und ein Netzmittel in
gelöster Form, dadurch gekennzeichnet, daß das Bad pro Liter 15,0 bis 100,0 g Stannoionen,
30,0 bis 280,0 g Sulfationen, 0,5 bis 6,0 g eines
oberflächenaktiven sulfatierten Polyoxyalkylcarbinamins, 0,5 bis 3,0 g eines oberflächenaktiven
Imidazolinderivats und 0,9 bis 4,1 g Wasserstoffionen enthält und ein Gewichtsverhältnis von Carbinamin zu Imidazolinderivat von 0,75 bis 3,0:1,0
aufweist
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es ein Carbinamin der Formel
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US76818168A | 1968-10-16 | 1968-10-16 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1952218A1 DE1952218A1 (de) | 1970-07-16 |
DE1952218B2 DE1952218B2 (de) | 1980-01-10 |
DE1952218C3 true DE1952218C3 (de) | 1980-09-18 |
Family
ID=25081783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1952218A Expired DE1952218C3 (de) | 1968-10-16 | 1969-10-16 | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Zinnüberzügen und seine Verwendung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3575826A (de) |
JP (1) | JPS4924326B1 (de) |
DE (1) | DE1952218C3 (de) |
FR (1) | FR2020856A1 (de) |
GB (1) | GB1224966A (de) |
NL (2) | NL6915347A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1956144A1 (de) * | 1968-11-07 | 1970-06-11 | Minnesota Mining & Mfg | Verfahren und Bad zum galvanischen Verzinnen |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3616306A (en) * | 1969-11-19 | 1971-10-26 | Conversion Chem Corp | Tin plating bath and method |
US3926749A (en) * | 1971-12-20 | 1975-12-16 | M & T Chemicals Inc | Tin-lead alloy plating |
AU473877B2 (en) * | 1971-12-20 | 1976-07-08 | M And T Chemicals Inc. | Tin-lead alloy plating |
JPS6397585U (de) * | 1986-12-15 | 1988-06-24 | ||
US8114264B2 (en) * | 2005-02-10 | 2012-02-14 | Brookhaven Science Associates | Method of electroplating a conversion electron emitting source on implant |
CN104099646B (zh) * | 2014-06-25 | 2016-08-17 | 武汉钢铁(集团)公司 | 用于氟硼酸亚锡体系的电镀添加剂 |
-
0
- NL NL134759D patent/NL134759C/xx active
-
1968
- 1968-10-16 US US768181A patent/US3575826A/en not_active Expired - Lifetime
-
1969
- 1969-09-17 JP JP44073897A patent/JPS4924326B1/ja active Pending
- 1969-10-10 NL NL6915347A patent/NL6915347A/xx unknown
- 1969-10-16 GB GB50950/69A patent/GB1224966A/en not_active Expired
- 1969-10-16 DE DE1952218A patent/DE1952218C3/de not_active Expired
- 1969-10-16 FR FR6935494A patent/FR2020856A1/fr not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1956144A1 (de) * | 1968-11-07 | 1970-06-11 | Minnesota Mining & Mfg | Verfahren und Bad zum galvanischen Verzinnen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6915347A (de) | 1970-04-20 |
GB1224966A (en) | 1971-03-10 |
NL134759C (de) | |
US3575826A (en) | 1971-04-20 |
DE1952218B2 (de) | 1980-01-10 |
DE1952218A1 (de) | 1970-07-16 |
FR2020856A1 (de) | 1970-07-17 |
JPS4924326B1 (de) | 1974-06-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2152785C2 (de) | Wäßriges saures galvanisches Bad für die Abscheidung von Zinn, Blei und Legierungen davon | |
DE2255728C2 (de) | Wässriges, cyanidfreies Bad mit p↓H↓-Werten von 6 und mehr zur galvanischen Abscheidung heller und einheitlich starker Metallüberzüge | |
DE2255584C2 (de) | Saures Kupfergalvanisierbad | |
DE2845439C2 (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung von Überzügen aus Zinn oder Zinnlegierungen | |
DE3428345A1 (de) | Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von zink und zinklegierungen | |
DE2056954C2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines Zinnüberzugs und Verfahren hierzu | |
DE1496917A1 (de) | Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege | |
DE3875227T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines bades fuer die elektroplattierung einer binaeren zinn-kobalt-, zinn-nickel- oder zinn-blei- legierung und damit hergestelltes elektroplattierungsbad. | |
DE3447813A1 (de) | Waessriges saures bad sowie ein verfahren zur galvanischen abscheidung von zink oder zinklegierungen | |
DE2610705C3 (de) | Saure galvanische Kupferbäder | |
DE1952218C3 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Zinnüberzügen und seine Verwendung | |
DE2319197C3 (de) | Wäßriges Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung eines duktilen, festhaftenden Zinküberzugs | |
DE2247840C3 (de) | Galvanisches Chrombad | |
DE2249037A1 (de) | Verfahren zum plattieren von kupfer auf aluminium | |
DE3327011A1 (de) | Verfahren zum reinigen eines waessrigen dreiwertiges chrom enthaltenden elektrolyten | |
DE1956144C2 (de) | Wässriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines Zinnüberzugs und Verfahren hierzu | |
DE2251285C3 (de) | Alkalisches Bad für die galvanische Abscheidung von Goldlegierungen | |
DE2943399C2 (de) | Verfahren und Zusammensetzung zur galvanischen Abscheidung von Palladium | |
DE10306823B4 (de) | Verfahren und Elektrolyt zur Hochgeschwindigkeitsabscheidung von Zink-Mangan-Legierungen | |
DE2147257A1 (de) | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung halbglanzender Nickeluber züge | |
DE2032867B2 (de) | Galvanisches Goldbad und Verfahren zur Abscheidung gleichmäßiger, dicker Goldüberzüge | |
DE3139641C2 (de) | Galvanisches Bad zur Verwendung mit unlöslichen Anoden zur Abscheidung halbglänzender, duktiler und spannungsfreier Nickelüberzüge und Verfahren zu deren Abscheidung | |
DE2642666A1 (de) | Verfahren und zusammensetzung zur herstellung einer galvanischen abscheidung | |
DE2815786A1 (de) | Waessriges bad zur edektrochemischen abscheidung von glaenzenden eisen-nickel- ueberzuegen | |
DE3619386C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: SPOTT, G., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |