[go: up one dir, main page]

DE2021967A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen

Info

Publication number
DE2021967A1
DE2021967A1 DE19702021967 DE2021967A DE2021967A1 DE 2021967 A1 DE2021967 A1 DE 2021967A1 DE 19702021967 DE19702021967 DE 19702021967 DE 2021967 A DE2021967 A DE 2021967A DE 2021967 A1 DE2021967 A1 DE 2021967A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
source
steam
housing
ionized
alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19702021967
Other languages
English (en)
Inventor
Emile Vanderschueren
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
European Atomic Energy Community Euratom
Original Assignee
European Atomic Energy Community Euratom
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by European Atomic Energy Community Euratom filed Critical European Atomic Energy Community Euratom
Publication of DE2021967A1 publication Critical patent/DE2021967A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/02Making non-ferrous alloys by melting

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Europäische Atomgemein schaft (EUEATOM) Europazentrum Kirchberg (Luxemburg)
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren, das die Herstellung von Legierungen, deren Zusammensetzung genau sein soll und die keine Verunreinigungen enthalten sollen, auf einfache Weise und mit geringem Aufwand ermöglicht. Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens. -
Eine grosse Anzahl von Techniken zur Herstellung von Legierungen ist bekannt. Diese sind jedoch sehr schwierig anzuwenden, sobald eine bestimmte Reinheit (oder ein bestimmtes Fehlen voii Unreinheiten) der zu legierenden Bestandteile und eine bestimmte Genauigkeit bei der quantitativen Verteilung der Bestandteile gefordert wird.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein ein-, fach durchzuführendes Verfahren; zur Herstellung von Legierungen, bei dem die Zusammensetzung der Legierung genau gesteuert werden kann und Legierungen von hoher Hein« heit auch bei geringerer Beinheit der Bestandteile erreicht werden können, und eine Vorrichtung zur Jtoohfüh·» rung dieees Verfahrens zu schaffen*
00984δ/Η2β ORIGINAL INSPECTED
Diese Aufgabe wird erfindungsgeinäss dadurch gelöst, dass die Legierungen in einem Vakuum von mindestens 10 Torr aus Bestandteilen hergestellt werden, von denen einer als ionisierter Dampf und der andere in fester Phase vorliegt, dass auf den festen Bestandteil der in ionisierter Dampfphase vorliegende Bestandteil derart niedergeschlagen wird, dass die gewünschte Legierung auf der Oberfläche des festen Bestandteiles in Form von flüssigen Tropfen gebildet wird, die aufgrund der.Schwerkraft von der Oberfläche abfliessen.
Bei der erfindungsgemässen Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens ist vorgesehen, dass in einer Vakuumkammer, in der ein Vakuum von 10 Torr hergestellt werden kann, ein Gehäuse zum Zusammenhalten des Dampfes angeordnet ist, dessen Wände elektrisch mit Erde verbunden sind und auf der RückSprungtemperatur das Dampfes gehalten werden, dass das Gehäuse eine Dampfquelle, die von einem der Bestandteile der gewünschten Legierung gebildet wird, und einen Ablagerungskörper umgibt, der von dem anderen Bestandteil gebildet wird, dass sich unter dem Ablagerungskörper eine Giessform befindet, dass der Ablagerungskörper versehen ist mit geeigneten Einrichtungen, um ihn auf einem elektrischen Anziehungspotential für den ionisierten Dampf und auf der Schmelztemperatur der gewünschten Legierung zu halten, und dass das Gehäuse mit einer oder mehreren öffnungen versehen ist, die den Durchgang eines oder mehrerer Elektronenstrahlen ermöglichen, die von einem in der Vakuumkammer ausserhalb des Gehäuses gelegenen Generator ausgesendet werden«.
gsbeispiel© dex1 Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und WQr&GS im folgenden näher erläuterte Is zeigen §
ORIGINAL INSPECTED
Fig. Λ eine perspektivische Ansicht einer erfindungsgemässen Vorrichtung mit einer Dampfquelle des gewünschten Legierungsbestandteiles,
Fig. 2 eine perspektivische Ansicht einer erfindungsgemässen "Vorrichtung mit zwei Dampf quell en der Bestandteile der gewünschten Legierung.
Das erfindungsgemässe Verfahren zur Herstellung von Le- gierungen wird in einem Vakuum von mindestens 10 . Torr durchgeführt. Einer der Legierungsbestandteile wird als Stück für eine Quelle eingebracht, die "bis zur Siedetemperatur erwärmt ist, und ist vorzugsweise .ionisiert. Der daraus erzeugte Dampf wird auf einem Stück aus festem Material, das den ersten Legierungsbestandteil "bildet, derart niedergeschlagen, dass er eine dünne Schicht auf der Unterlage bildet. Das Stück aus festem Material, das den Ablagerungskörper bildet, ist auf die Schmelztemperatur der gewünschten Legierung erwärmt. Die niedrigste Temperatur, die für den Ablagerungskörper möglich ist, ist die eutektische Temperatur des Eutektikums, das aus den Bestandteilen gebildet wird - sofern es existiert - wenn sie zusammengebracht werden. Dieses Eutektikum bildet sich auf der Oberfläche des Ablagerungskörpers, von wo es einfach aufgrund der Schwerkraft abläuft. Es wird dann schliesslich in einer Giessform aufgefangen. Wenn der Ablagerungskörper auf eine höhere Temperatur erwärmt ist, haben die Legierungstropfen, die sich auf seiner Oberfläche bilden, zwischen den Bestandteilen eine Verteilung, die -im Zustandsdiagramm der Temperatur des Ablagerungskörpers entspricht. Einer der grossen Vorteile der Erfindung ist demzufolge, dass die Zusammensetzung ; der Legierung einfach dadurch gesteuert werden kann, dass' die Temperatur des Ablagerungskörpers nach dem Hinkt des ·
009045/1428
Zustandsdiagramms gesteuert wird, der der gewünschten Verteilung zwischen den Legierungsbestandteilen entspricht .
Der Ablagerungskörper wird vorteilhafterweise auf einem Potential gehalten, das geeignet zum Anziehen des ionisierten Dampfes ist. Bei einer bevorzugten Ausführungsform - jedoch nicht ausschliesslich - liegt dieses Potential je nach dem in der Dampfphase vorhandenen Element zwischen 10 und 150 Volt. Wenn der Dampf durch einen Elektrodenstrahl ionisiert wird, ist dieses Potential positiv, der Ablagerungskörper soll sich dann auf einem Potential befinden, das Je nach dem Stoff der Quelle um 10 bis 150 Volt höher liegt als das der Quelle, von der der Dampf emittiert wird.
Die Wirkung dieses Potentials liegt darin, dass die ionisierten Atome des Dampfes auf den Ablagerungskörper und darüber hinaus für eine Strecke von einigen Gitterebenen seines Kristallgitters in ihn hineingezogen werden, wobei die Atome bevorzugt werden, für die das Anziehungspotential den optimalen Wert hat. Der Vorteil dieses Potentials, bei dem die Dampfphase keine Verunreinigungen in die Legierung trägt, darf daher nicht übersehen werden: Es ermöglicht die Verwendung von Dampfquellen oder Quellen des zu verdampfenden Materials, die keinen zu grossen Grad an Reinheit haben müssen.
Der Ablagerungskörper kann aus einem Stück eines einzigen Stoffes bestehen, er kann Jedoch auch aus einem Stück einer Legierung bestehen, die bereits die für die angestrebte Legierung gewünschten Bestandteile in den gewünschten Verhältnissen mit Ausnahme des als Dampf vorliegenden Bestandteiles enthält. Ebenso kann die ionisierte Dampfphase selber verschiedene Bestandteile ent-
0 0 9 8 4 5 / 1 4*2 6 .
halten. In diesem EaIl wird die Dampfquelle von mehreren Quellen gebildet, von denen jede ausschliesslich einen der Bestandteile emittiert, - die zur Bildung der Legierung auf dem Ablagerungskörper niedergeschlagen werden. Jede der Quellen kann einzeln auf ein Potential gebracht werden, das je nach ihrer Art um 10 bis 150 "Volt unter dem des Ablagerungskörpers liegt. Der Gehalt der Legierung an den verschiedenen Bestandteilen kann immer dadurch gesteuert werden, dass die Temperatur des Ablagerungskörpers geeignet gewählt wird. Es ist jedoch auch möglich, den Gehalt dadurch zu steuern, dass die von jeder Quelle ausgehende Dampfmenge gesteuert wird, sowie dadurch, dass die Potentialdifferenz Quelle/Ablagerungskörper für jede Quelle gesteuert wird.
Das erfindungsgemässe Verfahren bietet eine bestimmte Anzahl von Vorteilen, zu denen die Möglichkeit gehört, sehr reine Legierungen zu erhalten, deren Gehalt an den verschiedenen Bestandteilen auf einfache Weise und. ohne schwierige Handhabungen gesteuert werden kann.
Verschiedene Vorrichtungen, die es auf vorteilhafte Weise ermöglichen, das erfindungsgemässe Verfahren durchzuführen, werden im folgenden unter bezug auf die Figuren beschrieben. Diese Vorrichtungen sind alle im Innern einer nicht 'dargestauten Vakuumkammer angeordnet, in der ein Vakuum in der Grössi
werden kann.
in der Grössenordnung von 10" Torr aufrechterhalten
Die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung umfasst einen Ablagerungskörper 1 aus einem der Bestandteile, der selber schon eine Legierung sein kann, eine Quelle 2 für den zweiten Bestandteil und eine unter dem Ablagerungskörper 1 so angeordnete Giessform 5, dass die Legierungstropfen, die auf dem Ablageransskurpei" 1 gebildet werden 5 an ihm entlang f.lie.B sen und-einfach'aufgrund, der Schwerkraft aL~ -
fallen, vo.ri vde^Giessi'orTfi -aufgefangen werden* Die .Quelle :.:■■'"' 00904.5/ U2S : ■:■ :
·'■■■.. : ■■ BAD ORIGINAL COPY
hat bei einem bevorzugten Ausfülirangsbeispiel die Form eines zylindrischen Stückes aus dem zu verdampfenden Stoff. Auf die ebene Oberfläche 5 der Quelle 2 ist ein konzentrierter Elektronenstrahl gerichtet, der sie erwärmen soll. In den meisten Fällen umfasst diese Quelle keinen Schmelztiegel. Nur Stoffe mit grosser Wärmeleitfähigkeit erfordern die Anwendung eines Schmelztiegels, der dann elektrisch leitend sein muss. Die Giessform ist elektrisch mit Erde verbunden.
Das Stück 2 kann ferner auch an einer senkrechten Drehachse 4· befestigt sein, was eine bessere Verteilung der dem Stück 2 zugeführt en Wärme ermöglicht, wenn der Elektronenstrahl die Fläche 5 nicht in ihrer Mitte trifft. Ferner ist es möglich, auf der Fläche 5 einen Fleck 7 aus flüssigem Material zu bilden, in dem die Flüssigkeit fast siedet.
Um Verluste des von der Quelle 2 emittierten Dampfes zu vermeiden, 2.0t die Quelle sowie der Ablagerungskörper im Inneren eines Gehäuses 6 untergebracht, dessen Wände auf der Rücksprungtemperatur der von der Quelle emittierten Atome gehalten werden, d.h. auf der Temperatur, bei der die Dampfatome, die mit den Wänden zusammenstossen, von diesen zurückspringen und daher allein für den Ablagerungskörper weiter zur Verfügung stehen. Das Gehäuse 6 hat eine kleine Öffnung 8, durch die der Elektronenstrahl dringen kann, der auf die Fläche 5 gerichtet ist und von einem Generator ausgesendet wird, der in der das Gehäuse 6 enthaltenden Vakuumkammer angeordnet ist.
Das Gehäuse 6 und die Quelle 2 sind elektrisch mit Erde verbunden, wogegen der Ablagerungskörper 1 an ein positives Potential angelegt ist, das zwischen 10 und I50 Volt einstellbar ist und von einer Spannungsquelle 9 und einen Potentiometer 10 geliefert wird» Die Streuelektronen
0 0 9 £U 5 / U 2 6 '
. 8AD ORIGINAL COPY
des Elektronenstrahls sowie die von der Quelle emittierten Seinin dar elektronen ionisieren den Dampf.
Um jedes Hinzutreten unerwünschter Stoffe zu dem Dampf während der Anfangsphase zu vermeiden, ist es vorteilhaft, die Wände des Gehäuses 6 aus dem Stoff herzustellen, aus dem das Stück 2 besteht. :
Fig. 2 zeigt eine Vorrichtung, die in allen Punkten der Vorrichtung nach Fig. 1 analog ausgebildet ist, "bei der jedoch die Quelle 2 aus zwei Einzelquellen 2 und 21 besteht, von denen jede einen der Bestandteile in dem für die Legierung gewünschten Zustand emittiert. Ferner besteht das Gehäuse 6 aus zwei Einzelgehäusen 6 und 61, die jeweils von einer öffnung 8 bzw. 8' für den Durchgang konzentrierter Elektron en strahl en zum Heizen und Ionisieren durchbrochen sind. Jedes der Einzelgehäuse wird aus dem gleichen , Stoff hergestellt, aus dem die Quelle,die sie jeweils umgeben, besteht, und ist mit Erde verbunden.
Die erwähnten Gehäuse sind in Höhe des Ablagerungskörpers derart miteinander verbunden, dass sich in jedem der Gehäuse ein Teil der Oberfläche der Unterlage befindet. Der Ablagerungskörper 1 muss sich in diesem Fall so um eine senkrechte Achse drehen, dass er nacheinander alle Punkte seiner Oberfläche allen Bestandteilen der ionisierten Dampfphase darbietet· Der Gehalt der erhaltenen Legierung an ihren Bestandteilen kann ausserdem gesteuert werden, in dem die Oberfläche des Ablagerungskörpers 1, die zu jedem Zeitpunkt dem Dampf jedes Gehäuses ausgesetzt ist, veränderlich gemacht wird, indem die Gehäuse so angeordnet werden, dass der Ablagerungskörper 1 in sie mit der gewünschten Oberfläche hineinragt.
Die Quellen werden ferner auf elektrischen Potentialen gehalten, die um 10 bis 150 Volt niedriger als das der
009845/ 1Λ26
// - "-"■ '-''.'-.W.^.'' ; ■;. ■■■■'■■ --COPY
Unterlage sind und mittels der Potentiometer 11 und 11' einzeln eingestellt werden können.
Es ist ferner möglich, eine Vorrichtung mit mehr als 2 Quellen und 2 Gehäusen herzustellen, ohne den Erfindungsrahmen zu verlassen.
Patentansprüche;
.009845/14 2.6

Claims (10)

Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung von Legierungen, dadurch gekennzeichnet, dass die Legierungen in einem Vakuum von mindestens 10" Torr aus Bestandteilen hergestellt werden, von denen einer als ionisierter Dampf und der andere in fester Phase vorliegt, dass auf den festen Bestandteil der in ionisierter Dampfphase vorliegende Bestandteil derart niedergeschlagen wird, dass die gewünschte Legierung auf der Oberfläche des festen Bestandteiles in Form von flüssigen Tropfen gebildet wird, die aufgrund der Schwerkraft von der Oberfläche abfliessen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der feste Bestandteil ein Ablagerungskörper ist, der auf einer Temperatur, die gleich der Schmelztemperatur der gewünschten Legierung ist, und auf einem elektrischen Potential, das geeignet zur Anziehung des ionisierten Dampfes ist, gehalten wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch ge-. kennzeichnet, dass der Bestandteil in der gasförmigen Phase als ionisierter Dampf vorliegt, der von einer Quelle emittiert wird, die mittels eines oder mehrerer Elektronenstrahlen auf Siedetemperatur gehalten wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Bestandteil in fester Phase und der Bestandteil in der ionisierten Dampfphase jeweils selber mehrere verschiedene Stoffe enthalten können.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass im Falle mehrerer Stoffe in der Dampf- ■
0098/+5/1 A 26
phase die Quelle dieser Dampfphase aus mehreren Einzel-.quellen gebildet wird, von denen jede einen der Bestandteile in reinem Zustand enthält, wobei der Ablagerungskörper einer jeden Quelle gegenüber angeordnet ist und ein elektrisches Anziehungspotential zwischen ionisiertem Dampf und Ablagerungskörper aufweist, das für jeden Dampf einzeln festgelegt ist.
6. Verfahren nach einem der"Ansprüche 1 bis 5* dadurch gekennzeichnet, dass das elektrische Anzfehungspotential erhalten wird, indem der Ablagerungskörper auf ein gegenüber der Quelle um grössenordnungsmässig 10 bis 150 Volt höheres Potential gebracht wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die gewünschten Verhältnisse der verschiedenen Bestandteile der Legierung erhalten werden durch Steuerung der Temperatur der festen Phase derart, dass sie der Schmelztemperatur der gewünschten Legierung gleich gemacht wird, sowie durch Steuerung der auf die verschiedenen Quellen durch die Elektronenstrahlen aufgebrachten Energien und der Anziehungspotentiale für jede Dampfart.
8. Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen aus einer festen Phase und einer ionisierten Dampfphase nach einem der Ansprüche 1 bis 7» dadurch gekennzeichnet, dass in einer Vakuumkammer, in der ein Vakuum von 10" Torr hergestellt werden kann, ein Gehäuse (6, 61) zum Zusammenhalten des Dampfes angeordnet ist, dessen Wände elektrisch mit Erde verbunden sind und auf der ßücksprungtemperatur des Dampfes gehalten werden, dass das Gehäuse eine Dampfquelle (2, 21)» die von einem der Bestandteile der gewünschten Legierung gebildet wird, und einen Ablagerungskörper (1) umgibt, der von dem anderen Bestandteil gebildet wird, dass sich unter dem Ablagerungskörper (1)
009845/1426' ■
eine Giessform (3) "befindet, dass der Ablagerungskörper (1) versehen ist mit geeigneten Einrichtungen (10, 9)» um ihn auf einem elektrischen Anziehungspotential für den ionisierten Dampf und auf der Schmelztemperatur der gewünschten Legierung zu halten, und dass das Gehäuse (6, 61) mit einer oder mehreren Öffnungen (8, 81) versehen ist, die den Durchgang eines oder mehrerer Elektronenstrahlen ermöglichen, die von einem in der Vakuumkammer ausserhalb des Gehäuses gelegenen Generator ausgesendet werden.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7» dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse mehrere Einzelgehäuse (6, 61) umfasst, die auf Höhe des Ablagerungskörpers (1) derart miteinander verbunden sind, dass ein Abschnitt der Oberfläche des Ablagerungskörpers sich in jedem Einzelgehäuse befindet, dass die Einzelgehäuse jeweils eine Quelle (2, 21) eines gewünschten Legierungsbestandteils enthalten und eine Durchgangsöffnung ($, 8') für einen Elektronenstrahl haben, dass die zwischen jeder Quelle (2, 2') und dem gemeinsamen Ablagerungskörper (1) eingestellte Potentialdifferenz für den von jeder Quelle emittierten Dampf wahlweise eingestellt ist und dass der Ablagerungskörper an einer senkrechten Drehachse aufgehängt ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 oder 9» dadurch gekennzeichnet, dass jedes Gehäuse für das Zusammenhalten aus dem gleichen Stoff hergestellt ist wie die in ihm enthaltene Quelle.
Gr/Ur - 22 265/6
009845/U26
DE19702021967 1969-04-29 1970-04-28 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen Pending DE2021967A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
LU58530 1969-04-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2021967A1 true DE2021967A1 (de) 1970-11-05

Family

ID=19726015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19702021967 Pending DE2021967A1 (de) 1969-04-29 1970-04-28 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3719470A (de)
BE (1) BE746622A (de)
CH (1) CH511285A (de)
DE (1) DE2021967A1 (de)
FR (1) FR2040381A1 (de)
GB (1) GB1270638A (de)
LU (1) LU58530A1 (de)
NL (1) NL7005914A (de)
SE (1) SE351681B (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4109061A (en) * 1977-12-08 1978-08-22 United Technologies Corporation Method for altering the composition and structure of aluminum bearing overlay alloy coatings during deposition from metallic vapor
US4402743A (en) * 1979-04-23 1983-09-06 Cannon-Muskegon Corportion Consumable molding process for super alloys
CN112111704B (zh) * 2019-06-20 2023-07-25 刘洪彬 一种热扩渗设备及定量控制方法

Also Published As

Publication number Publication date
CH511285A (fr) 1971-08-15
BE746622A (de) 1970-07-31
GB1270638A (en) 1972-04-12
SE351681B (de) 1972-12-04
US3719470A (en) 1973-03-06
NL7005914A (de) 1970-11-02
FR2040381A1 (de) 1971-01-22
LU58530A1 (de) 1969-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1806643B2 (de) Verfahren zum Dotieren von Halb leitermaterial durch Ionenimplantation mit anschließender Gluhbehandlung
DE840418C (de) Verfahren zum Herstellen Stoerstellen enthaltender Halbleiter, insbesondere fuer Trockengleichrichter
DE3223245A1 (de) Ferromagnetische hochgeschwindigkeits-kathodenzerstaeubungs-vorrichtung
DE2223270A1 (de) Bildaufnahmesystem mit pyroelektrischer Photokatode
DE2335821A1 (de) Teilchenbeschleuniger
DE1515300A1 (de) Vorrichtung zur Herstellung hochwertiger duenner Schichten durch Kathodenzerstaeubung
DE4218671A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum herstellen einer duennschicht
DE2021967A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Legierungen
DE1615055A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Duennschicht-Bauelementen
DE2326547B2 (de) Koronaaufladevorrichtung
DE1220885B (de) Speicherelektrode fuer Bildaufnahmeroehren und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE3136787A1 (de) "verfahren und vorrichtung zum verstaerkten neutralisieren eines positiv geladenen ionenstrahls"
DE1181519B (de) Verfahren, um auf einem Werkstueck mittels Kathodenzerstaeubung einen UEberzug aus zwei oder mehreren Stoffen niederzuschlagen, sowie Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DE641081C (de) Verfahren zur Herstellung einer aus mehreren in Reihe geschalteten Teilzellen bestehenden lichtelektrischen Zelle
DE2305359C3 (de) Vorrichtung zur reaktiven Aufdampfung dünner Schichten auf Unterlagen
DE3543556A1 (de) Vorrichtung zur schnellen erzeugung von dampf
DE2559065A1 (de) Verdampfungs-vorrichtung
DE3610529C2 (de)
DE2430653B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Vakuumaufdampfen eines photoleitfähigen Materials aus mindestens zwei Elementen auf ein Substrat
DE4224686C2 (de) Verfahren zur Implantation von Ionen in einen Festkörper
DE1295957B (de) Verfahren zum Herstellen einer duennen elektrisch leitenden Metallschicht geringer Breitenausdehnung durch Aufdampfen im Hochvakuum
DE2148001A1 (de) Verfahren zur elektrographischen aufzeichnung von ladungsbildern
DE1060053B (de) Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern mit einem mehrschichtigen Halbleiter mit verschiedenem Gehalt an Halogen und elektropositiven Zusaetzen in den einzelnen Schichten
DE973206C (de) Regelbarer Widerstand
DE974580C (de) Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichterplatten