DE1635713U - Halbleiter fuer dioden oder kristallverstaerker. - Google Patents
Halbleiter fuer dioden oder kristallverstaerker.Info
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Description
- Halbleiter für Dioden oder Kristallverstärker
ffl------------------m eignete Fläche zu sch-,. ifen. - Die Neuerugn bezieht sich ebei@alls auf solche Halbleiter und schlägt vor, den Halbleiter vor der Ätzung mit. einem, gegen das Ätzmittel beständigen Überzug zu versehen, der während des Aufbringens oder auch nachträglich mit Durchbrechungen versehen ist, durch die das Ätzmittel nur an gewünschten Stellen wirksam ist. Deiser Überzug kann gegebenenfalls nach der ätzung wieder entfernt sein. Der Vorteile der sich hierdurch bietet, ist der, dass der Halbleiterkörper nur an jenen Stellen geätzt ist, die für seine spätere Verwendung benötigt werden. Wenn man ausserdem das Ätzmittellängere Zeit einwirken lässt, wird sich an jenen geätzten Stellen eien Vertiefung bilden in welche die Elektrode sicher gegen Verrücken eingesetzt werden k@nnen.
. Der Überzug kann aus einem derartigen Stoff bestehen dass er. im Falle des Verbleibens auf dem Halbleiterkörpor für " diesen eine dauernde Snb+pcoh bdot. In der Zeichnung ist gezeigt, wie ein halbleiterkörper ent- sprechend der Neuerung ausgebildet ist.. Ii der FgT ist ein grosses Stück einer von einem Block'eines-Halbleiters abgeacigten Blatte mit, 1 bezeichnet, welche'auf ihrer Ober- nachträglich'Durchbrechungen 3 und 4 angebracht, an denen zu das Ätzmittel auf den Halbleiterkörper 1 einwirken kann. c - In der Fig. 2 ist gezeigt, dass ein einzelnes Halbleiterelement 5 beiderseitig mit durch Ätzung ehrvorgerufenon VErtiefungen 6 und 8 hergestellt ist, in welche die Elektroden
;'7 und 9, gelegt sind. In diesem Fall handelt es sich um einen sogenannten koaxialen Transistor, bei dem die-Elektroden 7 BHrr* und 9 durch eine bestimmte Halbleiterschichyvonöinander getrennt sind. In der. Fig. 3 soliliesslich ist ein keilförmig. , gestalteter Halbleiterkristall 10 gezeigt, bei welchem in- Während in Fig. 1 und 2 auf dem Halbloiterplättohon die ätzfeste Schicht verblieben ist, ist sie im Beispiel der Fig3 nachträglich entfernt. a Schutzanapriiohe
Claims (2)
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Schutzansp r ü c h e ---------- 1. Halbleiter für Dioden : der Kri. tallverstärker, insbesondere aus Germanium oder Silizium, dessen Oberfläche wenigstens - 2. Halbleiter nach Anspruch 1, dadurch gekenzneicht, dass die geätzte Stelle eine Vertiefung im Halbleiterkörper bildet, in welche die zugehörige Elektrode eingesetzt ist.3a Halbleiter nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Überzug im Falle des Verbleiben gleichzeitig eine dauernde Schutzschicht für den Halbleiter bildet,
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DES1978U DE1635713U (de) | 1950-09-12 | 1950-09-12 | Halbleiter fuer dioden oder kristallverstaerker. |
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DE1635713U true DE1635713U (de) | 1952-03-13 |
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ID=30127473
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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DE (1) | DE1635713U (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE969748C (de) * | 1952-08-18 | 1958-07-10 | Licentia Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines gesteuerten, elektrisch unsymmetrisch leitenden Halbleitersystems |
DE1213926B (de) * | 1963-05-09 | 1966-04-07 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von AEtz- oder Poliermasken fuer das Bearbeiten der Halbleiterkoerper von Halbleiterbauelementen |
DE1292253B (de) * | 1959-09-26 | 1969-04-10 | Telefunken Patent | Halbleiteranordnung |
-
1950
- 1950-09-12 DE DES1978U patent/DE1635713U/de not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE969748C (de) * | 1952-08-18 | 1958-07-10 | Licentia Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines gesteuerten, elektrisch unsymmetrisch leitenden Halbleitersystems |
DE1292253B (de) * | 1959-09-26 | 1969-04-10 | Telefunken Patent | Halbleiteranordnung |
DE1213926B (de) * | 1963-05-09 | 1966-04-07 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von AEtz- oder Poliermasken fuer das Bearbeiten der Halbleiterkoerper von Halbleiterbauelementen |
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