[go: up one dir, main page]

DE1263197B - Method for producing a solid-state electronic switching element without a barrier layer and an element produced therefrom - Google Patents

Method for producing a solid-state electronic switching element without a barrier layer and an element produced therefrom

Info

Publication number
DE1263197B
DE1263197B DED44895A DED0044895A DE1263197B DE 1263197 B DE1263197 B DE 1263197B DE D44895 A DED44895 A DE D44895A DE D0044895 A DED0044895 A DE D0044895A DE 1263197 B DE1263197 B DE 1263197B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
solid
switching element
electrodes
state switching
state
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DED44895A
Other languages
German (de)
Inventor
Mogens Dyre
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Danfoss AS
Original Assignee
Danfoss AS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Danfoss AS filed Critical Danfoss AS
Priority to DED44895A priority Critical patent/DE1263197B/en
Priority to CH837565A priority patent/CH434484A/en
Priority to FR22569A priority patent/FR1441010A/en
Priority to NL6508335A priority patent/NL6508335A/xx
Priority to GB27709/65A priority patent/GB1101094A/en
Publication of DE1263197B publication Critical patent/DE1263197B/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/801Constructional details of multistable switching devices
    • H10N70/821Device geometry
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/011Manufacture or treatment of multistable switching devices
    • H10N70/021Formation of switching materials, e.g. deposition of layers
    • H10N70/026Formation of switching materials, e.g. deposition of layers by physical vapor deposition, e.g. sputtering
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/20Multistable switching devices, e.g. memristors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/801Constructional details of multistable switching devices
    • H10N70/841Electrodes
    • H10N70/8418Electrodes adapted for focusing electric field or current, e.g. tip-shaped
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/801Constructional details of multistable switching devices
    • H10N70/881Switching materials
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N70/00Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
    • H10N70/801Constructional details of multistable switching devices
    • H10N70/881Switching materials
    • H10N70/882Compounds of sulfur, selenium or tellurium, e.g. chalcogenides
    • H10N70/8828Tellurides, e.g. GeSbTe

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Insulators (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY

DEUTSCHESGERMAN

PATENTAMTPATENT OFFICE

AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL

Int. CL:Int. CL:

HOIlHOIl

Deutsche Kl.: 21 g - 41/00German class: 21 g - 41/00

Nummer: 1263 197Number: 1263 197

Aktenzeichen: D 44895 VIII c/21 gFile number: D 44895 VIII c / 21 g

Anmeldetag: 4. Juli A 964 Registration date: July 4th A 964

Auslegetag: 14. März 1968Opening day: March 14, 1968

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines sperrschichtfreien elektronischen Festkörperschaltelements, das unter dem Einfluß eines elektrischen Feldes von einem hochohmigen in einen niederohmigen Zustand schaltet, und ein nach diesem Verfahren hergestelltes elektronisches Festkörperschaltelement. The invention relates to a method for producing a barrier layer-free electronic solid-state switching element, which switches under the influence of an electric field from a high-ohmic to a low-ohmic state, and one after this Electronic solid-state switching element produced by a process.

Es ist bekannt, ein Halbleitermaterial auf einen metallischen Träger aufzudampfen und von der anderen Seite her mit einer Detektorspitze zu kontaktieren. An der Kontaktstelle ergibt sich dann eine Sperrschicht. Es ist ferner bekannt, die Sperrschicht dadurch zu erzeugen, daß zwei Halbleiterkörper aus verschiedenem Material aufeinandergelegt werden, wobei ein mit einer Spitze versehener Körper gegen den anderen Körper gedrückt wird oder die verschiedenen Materialien übereinander auf einen Träger aufgebracht werden.It is known to evaporate a semiconductor material onto a metallic carrier and from the other Side to contact with a detector tip. A barrier layer then results at the contact point. It is also known to produce the barrier layer in that two semiconductor bodies different material are placed on top of each other, with a body provided with a point against the other body is pressed or the different materials are placed on top of each other on a carrier will.

Die eingangs erwähnten Festkörperschaltelemente unterscheiden sich jedoch von den bekannten, aus mehreren monokristallinen Schichten bestehenden Dioden, z. B. Fünf-Schicht-Dioden, weil sie aus einem im wesentlichen einheitlichen Material bestehen und keine Sperrschicht besitzen. Das Material des Festkörpers hat keinen ausgeprägten kristallinen Charakter, sondern ist in wenigstens einem der Zustände amorph. Der Ausdruck »amorph« soll hierbei bedeuten, daß sich weder unter dem Mikroskop noch durch eine Röntgenbeugungsuntersuchung eine kristalline Struktur nachweisen läßt; es soll hiermit nicht ausgeschlossen sein, daß das Material eventuell in einem äußerst feinen polykristallinen Zustand vorliegt. Beispiele solcher Materialien bestehen aus Tellur-Germanium, Tellur-Arsen-Germanium, Cadmium-Arsen-Germanium, Zink-Arsen-Germanium u. dgl., wobei das Germanium auch durch Silizium ersetzt sein kann.However, the solid-state switching elements mentioned at the beginning differ from the known ones diodes consisting of several monocrystalline layers, e.g. B. Five-layer diodes because they are out consist of a substantially uniform material and have no barrier layer. The material of the solid has no pronounced crystalline character, but is in at least one of the states amorphous. The term "amorphous" is intended to mean that neither under the microscope nor shows a crystalline structure by means of an X-ray diffraction examination; it is not meant to be be excluded that the material is possibly in an extremely fine polycrystalline state. Examples of such materials consist of tellurium-germanium, tellurium-arsenic-germanium, cadmium-arsenic-germanium, Zinc-arsenic-germanium and the like, it also being possible for the germanium to be replaced by silicon.

Bei derartigen Festkörperschaltelementen bereitet aber die Kontaktgabe erhebliche Schwierigkeiten, weil die üblichen für eine Halbleiter-Kontaktierung bekannten Maßnahmen entweder nicht anwendbar sind oder die Funktionsfähigkeit des Festkörperschaltelements beeinträchtigen. Insbesondere diffundiert das aufgebrachte Material (z. B. Indium bei einer Lötverbindung, Gold bei einem Wärmekompressionskontakt) in das Halbleitermaterial hinein.With such solid-state switching elements, however, making contact causes considerable difficulties, because the usual measures known for semiconductor contacting are either not applicable or impair the functionality of the solid-state switching element. In particular, diffuses the material applied (e.g. indium for a soldered connection, gold for a thermal compression contact) into the semiconductor material.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die bei Festkörperschaltelementen auftretenden Kontaktierungsschwierigkeiten zu überwinden.The invention is based on the problem of the contacting difficulties that occur with solid-state switching elements to overcome.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß je eine Schicht des gleichen Festkörpermaterials auf nicht aneinanderpassende Flächen Verfahren zur HerstellungAccording to the invention, this object is achieved in that one layer of the same solid material on non-mating surfaces method of manufacture

eines sperrschichtfreien elektronischena barrier-free electronic

FestkörperschaltelementsSolid-state switching element

und danach hergestelltes Elementand then manufactured element

Anmelder:Applicant:

Danfoss A/S, Nordborg (Dänemark)Danfoss A / S, Nordborg (Denmark)

Vertreter:Representative:

Dr.-Ing. U. Knoblauch, Patentanwalt,Dr.-Ing. U. Knoblauch, patent attorney,

6000 Frankfurt, Kühhornshofweg 106000 Frankfurt, Kühhornshofweg 10

Als Erfinder benannt:Named as inventor:

Mogens Dyre, Gildbro, Nordborg (Dänemark)Mogens Dyre, Gildbro, Nordborg (Denmark)

zweier Elektroden aufgedampft wird und die aufgedampften Schichten im wesentlichen punktförmig gegeneinandergedrückt werden.two electrodes is vapor-deposited and the vapor-deposited layers are essentially punctiform are pressed against each other.

Hierbei wird eine Aufteilung des sonst einteiligen Festkörperschaltelements in zwei gleichartige Schichten vollzogen, die mit einer relativ kleinen Fläche gegeneinandergedrückt werden. An dieser Fläche entstehen dann genügend große spezifische Drücke, die die beiden Schichten in diesen kleinen Bereich elektrisch als einstückig erscheinen lassen. Infolge der Flächenpressung und wegen des gleichen Materials treten auch keine Sperrschichteffekte auf. Die relativ kleine Kontaktfläche genügt aber auch zum Schalten relativ großer Ströme, weil es eine Eigenschaft der sperrschichtfreien Festkörperschaltelemente ist, daß sich der Strom jeweils auf einen schmalen Pfad konzentriert. Dieser Pfad läuft nun genau durch die Kontaktstelle, an der die beiden Schichten aneinandergedrückt werden. Da die Festkörperschichten aufgedampft werden, können beliebige Elektrodenformen derart miteinander kombiniert werden, daß ein punktförmiger Kontakt entsteht. Es ist zu vermuten, daß wegen der Vorspannung an der Kontaktstelle eine geringfügige Abplattung der Festkörperschicht auftritt.Here, the otherwise one-piece solid-state switching element is divided into two layers of the same type completed, which are pressed against each other with a relatively small area. On this surface then sufficiently large specific pressures arise that the two layers in this small area make it appear as one piece electrically. As a result of the surface pressure and because of the same material there are also no barrier effects. The relatively small contact area is also sufficient for switching relatively large currents, because it is a property of the solid-state switching elements without a barrier layer that the stream is concentrated on a narrow path. This path now runs exactly through the contact point, where the two layers are pressed together. Since the solid layers are evaporated are, any electrode shapes can be combined with one another in such a way that a point-like contact occurs. It can be assumed that because of the preload at the contact point a slight flattening of the solid layer occurs.

Besonders vorteilhaft ist es, wenn über die beiden aneinandergedrückten Schichten außerhalb der punktförmigen Kontaktstelle eine weitere Schicht aus dem Festkörpermaterial aufgedampft wird. Auf diese Weise wird der relativ kleine Strompfad verbreitert, dergestalt, daß auch außerordentlich große Ströme kontaktlos geschaltet werden können. Die sonst beiIt is particularly advantageous if the two layers pressed against one another outside of the point-shaped contact point another layer of the solid material is vapor-deposited. To this The relatively small current path is widened in such a way that even extremely large currents can be switched without contact. Otherwise at

809 518/549809 518/549

Halbleitern zu befürchtende unzulässige Erwärmung spielt hierbei eine verhältnismäßig geringe Rolle, weil der Durchflußwiderstand stromdichteabhängig ist, d. h. mit wachsendem Strom abnimmt.Inadmissible heating, which is to be feared for semiconductors, plays a relatively minor role here because the flow resistance depends on the current density, d. H. decreases with increasing current.

Ein handliches Bauteil, bei dem trotzdem der notwendige Kontaktdruck sichergestellt ist, kann erhalten werden, wenn die Elektroden durch eine Kunststoffeinbettung, z. B. aus Epoxyharz, unter Vorspannung gehalten sind. Beispielsweise können die beschichteten Elektrodenteile in einer Hülle untergebracht und in dieser Hülle durch einen Kunststoff festgehalten sein, sei es durch ein Verkleben am Hüllenrand, sei es durch eine vollständige Einbettung.A handy component that still has the necessary contact pressure can be obtained when the electrodes are embedded in plastic, e.g. B. made of epoxy resin, under tension are held. For example, the coated electrode parts can be accommodated in a sheath and be held in place in this cover by a plastic, be it by gluing on the edge of the cover, be it through a complete embedding.

Versuche haben gezeigt, daß man sehr günstige Ergebnisse mit Elektroden aus Kohle erhält. Auch ist ein Metall, vorzugsweise Tantal, hierfür geeignet, das mit dem Festkörpermaterial verträglich ist und die beim Aufdampfen auftretende Temperaturbeanspruchung aushält.Tests have shown that very favorable results are obtained with electrodes made of carbon. Even is a metal, preferably tantalum, suitable for this purpose, which is compatible with the solid material and withstands the temperature stress that occurs during vapor deposition.

Die Erfindung wird an Hand in der Zeichnung dargestellter Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es zeigtThe invention is explained in more detail with reference to the embodiments shown in the drawing. It shows

F i g. 1 eine Kontaktanordnung mit zwei bedampften Elektroden, die unter Druckspannung stehen, undF i g. 1 shows a contact arrangement with two vapor-deposited electrodes which are under compressive stress, and

F i g. 2 eine Kontaktanordnung mit zwei bedampften Elektroden, die unter Zugspannung stehen.F i g. 2 shows a contact arrangement with two vapor-deposited electrodes which are under tensile stress.

In F i g. 1 sind zwei gleiche stabförmige Elektroden 9 und 10, die beispielsweise aus Kohle bestehen können, vorgesehen. Sie tragen an ihren Stirnflächen Festkörperschichten 11 bzw. 12. Die beiden Elektroden 9 und 10 werden gegeneinandergedrückt; in diesem Zustand ist erne weitere Festkörperschicht 13 über die beiden anderen Schichten 11 und 12 gedampft worden. Die ganze Anordnung wird darm in eine Hülse 14 gesteckt und mit Epoxyharz 15 ausgegössen, das die Elektroden nicht nur in der Hülse 14 festhält, sondern auch die Druckvorspannung im wesentlichen aufrechterhält.In Fig. 1 are two identical rod-shaped electrodes 9 and 10, which can for example consist of coal, are provided. They wear on their foreheads Solid layers 11 and 12, respectively. The two electrodes 9 and 10 are pressed against one another; in In this state, another solid layer 13 is vaporized over the two other layers 11 and 12 been. The whole arrangement is then inserted into a sleeve 14 and filled with epoxy resin 15, that not only holds the electrodes in the sleeve 14, but also the pressure bias in the essential maintains.

Bei dem Ausführungsbeispiel der F i g. 2, welches in seiner äußeren Form dem Gleichrichter nach der britischen Patentschrift 579 218 entspricht, sind zwei Tantaldrähte 16 und 17 an ihrem vorderen Ende 18 und 19 hakenförmig gebogen. An diesem Ende ist jeweils eine Festkörperschicht 20 und 21 aufgedampft. Die beiden ineinandergehängten Haken 18, werden mit einer gewissen Vorspannung auseinandergezogen und in diesem Zustand durch einen Epoxyharztropfen 22 fixiert.In the embodiment of FIG. 2, which in its external form corresponds to the rectifier according to the Corresponding to British Patent 579,218, there are two tantalum wires 16 and 17 at their forward end 18 and 19 bent like a hook. A solid layer 20 and 21 is vapor-deposited at this end. The two interlocking hooks 18 are pulled apart with a certain pretension and fixed in this state by an epoxy resin drop 22.

Claims (6)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Verfahren zur Herstellung eines sperrschichtfreien elektronischen Festkörperschaltelements, das unter dem Einfluß eines elektrischen Feldes von einem hochohmigen in einen niederohmigen Zustand schaltet, dadurch gekennzeichnet, daß je erne Schicht des gleichen Festkörpermaterials auf nicht aneinanderpassende Flächen zweier Elektroden aufgedampft wird und die aufgedampften Schichten im wesentlichen punktförmig gegeneinandergedrückt werden.1. Process for producing a barrier layer-free solid-state electronic switching element which is operated under the influence of an electric field switches from a high-resistance to a low-resistance state, characterized in that that each erne layer of the same solid material on non-mating surfaces two electrodes is vapor-deposited and the vapor-deposited layers are essentially punctiform are pressed against each other. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß über die beiden aneinandergedrückten Schichten außerhalb der punktförmigen Kontaktstelle erne weitere Schicht aus dem Festkörpermaterial aufgedampft wird.2. The method according to claim 1, characterized in that over the two pressed together Layers outside the point-like contact point erne another layer made of the solid material is vaporized. 3. Nach dem Verfahren des Anspruchs 1 oder 2 hergestelltes elektronisches Festkörperschaltelement, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden durch eine Kunststoffeinbettung unter Vorspannung gehalten sind.3. Electronic solid-state switching element produced by the method of claim 1 or 2, characterized in that the electrodes are embedded in plastic Pretension are kept. 4. Festkörperschaltelement nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die aneinandergedrückten Elektrodenteile in einer Hülle untergebracht und in ihr mittels eines Kunststoffes festgehalten sind.4. Solid-state switching element according to claim 3, characterized in that the pressed together Electrode parts housed in a sheath and held in it by means of a plastic are. 5. Festkörperschaltelement nach Anspuch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden aus Kohle bestehen.5. Solid-state switching element according to claim 3 or 4, characterized in that the electrodes consist of coal. 6. Festkörperschaltelement nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden aus Tantal bestehen.6. Solid-state switching element according to claim 3 or 4, characterized in that the electrodes consist of tantalum. In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschriften Nr. 860 973, 970 899;
deutsche Auslegeschrift Nr. 1 079 212;
britische Patentschrift Nr. 579 218.
Considered publications:
German Patent Nos. 860 973, 970 899;
German Auslegeschrift No. 1 079 212;
British Patent No. 579 218.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings 809 518/549 3. 68 © Bundesdruckerei Berlin809 518/549 3. 68 © Bundesdruckerei Berlin
DED44895A 1964-07-04 1964-07-04 Method for producing a solid-state electronic switching element without a barrier layer and an element produced therefrom Pending DE1263197B (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DED44895A DE1263197B (en) 1964-07-04 1964-07-04 Method for producing a solid-state electronic switching element without a barrier layer and an element produced therefrom
CH837565A CH434484A (en) 1964-07-04 1965-06-12 Contact arrangement for solid-state switches
FR22569A FR1441010A (en) 1964-07-04 1965-06-28 Semiconductor contact device enhancements
NL6508335A NL6508335A (en) 1964-07-04 1965-06-29
GB27709/65A GB1101094A (en) 1964-07-04 1965-06-30 A contact arrangement for a junctionless non-rectifying solid state switching device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DED44895A DE1263197B (en) 1964-07-04 1964-07-04 Method for producing a solid-state electronic switching element without a barrier layer and an element produced therefrom

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1263197B true DE1263197B (en) 1968-03-14

Family

ID=7048628

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DED44895A Pending DE1263197B (en) 1964-07-04 1964-07-04 Method for producing a solid-state electronic switching element without a barrier layer and an element produced therefrom

Country Status (5)

Country Link
CH (1) CH434484A (en)
DE (1) DE1263197B (en)
FR (1) FR1441010A (en)
GB (1) GB1101094A (en)
NL (1) NL6508335A (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB579218A (en) * 1943-07-09 1946-07-26 Standard Telephones Cables Ltd Rectifiers and method of making same
DE860973C (en) * 1944-08-21 1952-12-29 Siemens Ag detector
DE970899C (en) * 1948-10-02 1958-11-13 Siemens Ag Two-layer dry rectifier
DE1079212B (en) * 1958-06-30 1960-04-07 Siemens Ag Semiconductor arrangement with partially negative voltage characteristics, in particular switching diode

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB579218A (en) * 1943-07-09 1946-07-26 Standard Telephones Cables Ltd Rectifiers and method of making same
DE860973C (en) * 1944-08-21 1952-12-29 Siemens Ag detector
DE970899C (en) * 1948-10-02 1958-11-13 Siemens Ag Two-layer dry rectifier
DE1079212B (en) * 1958-06-30 1960-04-07 Siemens Ag Semiconductor arrangement with partially negative voltage characteristics, in particular switching diode

Also Published As

Publication number Publication date
GB1101094A (en) 1968-01-31
FR1441010A (en) 1966-06-03
CH434484A (en) 1967-04-30
NL6508335A (en) 1966-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3011952C2 (en) Barrier-free, low-resistance contact on III-V semiconductor material
DE1917058B2 (en) SEMICONDUCTOR COMPONENT WITH SCHOTTKY BARRIER LAYER
DE1279201B (en) Semiconductor device
DE1258518B (en) Method for manufacturing a semiconductor element with a perforated insulating layer over a recessed zone
DE1263197B (en) Method for producing a solid-state electronic switching element without a barrier layer and an element produced therefrom
DE1589543B2 (en) SEMICONDUCTOR COMPONENT AND PROCESS FOR ITS SOFT SOLDER CONTACT
DE700560C (en)
DE1945402C3 (en) Regulating and shut-off valve with an actuator to limit the stroke, especially for heating systems
DE449404C (en) Electric switch for variable switching
DE1589465A1 (en) Schottky semiconductor device
DE1954443A1 (en) Semiconductor component with a Schottky transition
DE2932715A1 (en) Thick film potentiometer on ceramic substrate - has narrow conductive paths spaced along and perpendicular to curved resistive track
DE1215754B (en) Electronic switch
DE960213C (en) Shift knob with high load capacity
DE1813164A1 (en) Method for establishing line connections on electronic switching elements
DE1115147B (en) Expansion plug
DE623004C (en) Core microphone
DE917080C (en) Semiconductor device
AT94739B (en) Electrical starting or regulating resistor.
AT267655B (en) Electrical snap switch
DE413367C (en) Suspension isolator
DE1514264C3 (en) Controllable semiconductor rectifier
DE2348325A1 (en) Aluminium-titanium gold semiconductor contact - with molybdenum, platinum or palladium below gold for higher strength
DE1490597C (en) Method for producing a magnetic field-dependent semiconductor resistor with a grid of parallel electrical conductors on its surface
AT73230B (en) Contact device for closed heating devices such as irons and cooking appliances.