CN2397198Y - 具有透明质感及抗污染能力的抛光瓷釉砖 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于陶瓷墙地砖制造技术领域,它要解决的技术问题是如何制造具有天然石材或微晶玻璃那种透明质感,并具有抗污染能力的抛光瓷釉砖。其主要技术特征是:通过压制上表面具卷沿构造的砖坯,在上表面卷沿内淋施0.3毫米以上的坯釉中间层后再摊铺1毫米厚以上的颗粒状釉料粒子,喷淋适量粘结剂,烘干至水分小于1%,送入窑炉烧制,然后进行磨边抛光,即成为具有透明质感及抗污染能力的抛光瓷釉砖。
Description
本实用新型涉及陶瓷墙地砖制造技术领域，具体涉及具有抛光瓷釉层、坯釉中间层及坯体层三层结构，且坯体层上表面周边具有卷沿构造的抛光瓷釉砖。
目前市场上流行的瓷质抛光砖，一般仅具有坯料层，而没有釉料层，其明显不足之处是由于没有适当厚度熔融玻化的釉料层，在外观上都没有天然石材那种透明或半透明的质感。另外由其烧结程度较低所决定，砖体中存在着大量微细孔会吸附污物而难以清洗，这是目前众多厂家不能克服的难题。
申请号为94113924的专利文献叙述了在模具内布施釉料和坯料，而后对其同时加压形成砖坯，经干燥及烧制成墙地砖制品。该专利不足之处是由于坯釉料同在一个模具内布施并压制成砖坯，生产过程极易产生坯釉料不同程度的相互掺杂，从而对产品外观质量及产品性能造成不利影响。另外由于坯釉料都必须是具有可塑性，以便压制成型，因而都应含有一定量挥发性组份的原料，再加上没有坯釉中间层，坯釉料层中的挥发性组份很容易滞留在釉料层中形成大量气泡或气孔，这样釉料层被抛光时，就会在产品表面呈现大量凹坑或棕孔，从而降低产品的外观质量，并容易受污染，若不进行抛光处理，则制品的釉面光泽及平整度很难与抛光瓷砖相媲美。另外该专利实施二次布料压砖工艺，必然降低压机的生产能力，从而影响全生产线的产量。
本实用新型的目的就是要有效地解决抛光瓷釉层中的气泡，坯釉料相互掺杂及压机二次布料压制砖坯效率降低的难题，从而生产出一种具有透明质感及抗污染能力的抛光瓷釉砖。这种抛光瓷釉砖不仅具有晶体或玉石般的透明质感，而且还具有可靠的抗污染能力及更加丰富多彩的花色品种。
本实用新型与市场上所售抛光瓷砖、天然石材及微晶玻璃板相比，具有如下特点：与目前市场上所售瓷质抛光砖相比，这种砖除具有同样或更多的色彩图案外，还具有透明或半透明，如晶似玉的质感及完全可靠的抗污染能力；与天然石材相比，这种砖没有天然石材产品的微裂缝及矿物晶体解理缝，因而强度高且抗污染；与微晶玻璃板相比，这种砖节省原材料，成本低且安装使用方便；与申请号为94113924专利所述产品相比，这种砖有效地解决了釉层中的气泡难题，使其经抛光处理后产品外观质量更完善，同时也避免了砖坯压制过程坯釉原料相互混杂的问题及二次布料压制砖坯所造成的压机工作效率降低问题。
以下将结合附图及实施例对本实用新型作进一步的说明：
图1及图2是压砖机压制出的上表面周边具卷沿构造的砖坯剖面图及俯视图。
图3是本实用新型抛光瓷釉砖的剖面结构图，其中(1)为抛光瓷釉层；(2)为坯釉中间层；(3)为坯体层。
图4是本实用新型抛光瓷釉砖的生产工艺流程图。
实施例中所述上表面周边具有卷沿的坯体，其卷沿高1.5毫米以上，沿宽1毫米以上。这种坯体构造既有利于釉料粒子布料并控制其布料量，又可使烧成制品的磨边工作量大幅度减少。
实施例中所述坯体层上表面卷沿内的坯釉中间层厚度在0.3毫米以上，其性能介于坯与釉之间，由普通坯釉原料配制而成。
实施例中所述在坯釉中间层之上形成抛光瓷釉层的釉料粒子厚度应大于1毫米，这些釉料粒子是指已加工成0.1-5毫米的熔块颗粒，它可以是透明、乳浊或微晶玻璃质的单色或多色颗粒按比例混合而成。
实施例中所述粘结剂可以是具有粘结作用的有机溶液，如由聚乙烯醇、陶瓷坯体增强剂、羧甲基纤维素等配制的溶液。为了制出更加丰富多彩的产品可在粘结剂溶液中加入适量单色或多色熔块釉粉。
实施例：参照图4，将由压砖机(1)压出上表面周边具卷沿构造的砖坯送入立式干燥器(2)中烘干至水份小于1％，在砖坯上表面卷沿内由淋釉器(3)淋施0.3毫米以上的坯釉中间层，理进入立干器(4)烘干至水份小于1％，由釉料布料器(5)在坯釉中间层上摊铺大于1毫米厚的釉料粒子，由淋釉器(6)再喷淋适量粘结剂以固定表面釉料粒子，送入窑炉(7)中经1200℃左右烧成，出窑后送入磨边机(8)磨边，经抛光机(9)抛光后，即成为具透明质感及抗污染能力的抛光瓷釉砖。
Claims (4)
1、一种抛光瓷釉砖，其特征是具有抛光瓷釉层、坯釉中间层及坯体层三层结构，且坯体层上表面周边具有卷沿构造。
2、如权利要求1所述的抛光瓷釉砖，其特征在于上表面周边具有卷沿的坯体，其卷沿高1.5毫米以上，沿宽1毫米以上。
3、如权利要求1所述的抛光瓷釉砖，其特征在于坯体层上表面卷沿内的坯釉中间层厚度在0.3毫米以上。
4、如权利要求1所述的抛光瓷釉砖，其特征在于在坯釉中间层之上形成抛光瓷釉层的釉料粒子厚度应大于1毫米。
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| CN (1) | CN2397198Y (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1311989C (zh) * | 2003-11-17 | 2007-04-25 | 刘群海 | 一种仿抛光天然大理石的生产方法 |
| CN100424045C (zh) * | 2005-04-15 | 2008-10-08 | 霍镰泉 | 微晶玻璃表面大花网格图案的釉浆渗透着色工艺 |
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1999
- 1999-02-13 CN CN99202778U patent/CN2397198Y/zh not_active Expired - Fee Related
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