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CN204702805U - 一种弧形石英支架 - Google Patents

一种弧形石英支架 Download PDF

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CN204702805U
CN204702805U CN201520368809.XU CN201520368809U CN204702805U CN 204702805 U CN204702805 U CN 204702805U CN 201520368809 U CN201520368809 U CN 201520368809U CN 204702805 U CN204702805 U CN 204702805U
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CN
China
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arc
quartz
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Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CN201520368809.XU
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English (en)
Inventor
蒋健伟
廖威
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Changzhou Sixth Element Semiconductor Co ltd
Wuxi Graphene Film Co ltd
Original Assignee
WUXI GEFEI ELECTRONIC FILM TECHNOLOGY CO LTD
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Abstract

本实用新型提供了一种弧形石英支架，包括弧形底座以及位于弧形底座两端的弧形挡板，在弧形挡板上端开设有半开通的凹槽，在弧形挡板上设置有通孔。弧形底座和挡板均为石英材质。半开通的凹槽用来放置石英棒或金属棒，凹槽的大小和个数根据所使用的石英棒或金属棒的尺寸进行调整。本实用新型的弧形底座和弧形的挡板可以更好地与腔体进行结合，保证最大的空间利用率；弧形部分的挂装尺寸得到了增加；半开通凹槽对放置进去的石英棒能起到良好的固定作用，防止石英棒的来回移动；弧形挡板上的通孔能够保证气流的均匀性。

Description

一种弧形石英支架
技术领域
本实用新型涉及石英制品领域，特别涉及一种能用于气相反应的石英支架组件。
背景技术
由于CVD 化学气相沉积法制备石墨烯简单易行，所得石墨烯质量很高，可实现大面积生长，而且较易于转移到各种基体上使用，目前已逐渐成为制备高质量石墨烯薄膜的主要方法。然而用CVD法制备石墨烯需要在高温真空腔体中进行，由于炉管内恒温区的长度与管径的尺寸有限，限制了单次生长石墨烯薄膜的尺寸和面积，难以实现工业化量产。若石墨烯薄膜的尺寸过小，会影响后续的器件应用；若单次生长的数量少，则直接导致生产成本的增加。合适的单个支架设计尤为重要。其次，在化学气相沉积工艺中，当在高温或高压的条件下，会发生明显的热对流，气流的稳定性和分布的均匀性直接影响薄膜生长的均匀性。
发明内容                              
针对现有技术中单次生长石墨烯薄膜的尺寸小和数量少，以及气流分布不均匀的问题，本方法提供了一种弧形石英支架。
弧形石英支架，包括弧形底座以及位于弧形底座两端的弧形挡板，在弧形挡板上端开设有半开通的凹槽，在弧形挡板上设置有通孔。
进一步地，上述弧形底座和挡板均为石英材质。
进一步地，弧形底座的弧度和宽度根据CVD生长腔体的形状和大小进行调整；弧形底座的长度根据CVD生长腔体的保温区长度进行调整；弧形挡板的高度根据CVD生长腔体的直径进行调整。
进一步地，上述半开通的凹槽用来放置石英棒或金属棒，凹槽的大小和个数根据所使用的石英棒或金属棒的尺寸进行调整。
本实用新型的有益效果是:弧形底座和弧形的挡板可以更好地与腔体进行结合，保证最大的空间利用率；弧形部分的挂装尺寸得到了增加；半开通凹槽对放置进去的石英棒能起到良好的固定作用，防止石英棒的来回移动；弧形挡板上的通孔能够保证气流的均匀性。
附图说明
附图1是本实用新型的主视图。
附图2是本实用新型的侧视图。
附图3是本实用新型的俯视图。
图中标号：1、石英支架；2、圆形CVD腔体；11、弧形底座；12、弧形挡板；121、挡板上端凹槽；122、挡板通孔；H、石英支架总高度；L、石英支架总长。
具体实施方式
下面结合附图，说明本实用新型的具体实施方式。
弧形石英支架包括弧形底座11、位于底座两端的弧形挡板12、位于弧形挡板12上端的凹槽121以及在挡板12上设置的通孔122，弧形底座11和挡板12均为石英材质，所述凹槽121是未贯穿石英挡板的半开通槽，槽大小和形状根据所用支撑杆决定，支撑杆刚好能够放入槽内固定。弧形底座11的弧度和宽度根据CVD生长腔体的形状和大小进行调整；弧形底座的长度根据CVD生长腔体的保温区长度进行调整；弧形挡板的高度根据CVD生长腔体的直径进行调整。
本实施例中，石英支架总高度H为100mm；石英支架总长度L为650mm；弧形挡板12的两侧为平面而非弧面；凹槽121的数量为4个，均匀分布且中心面对称；挡板通孔122为方形，数量为1，尺寸为35mm×40mm。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种弧形石英支架，其特征在于：包括弧形底座以及位于弧形底座两端的弧形挡板，在弧形挡板上端开设有半开通的凹槽，在弧形挡板上设置有通孔。
2.如权利要求1所述的弧形石英支架，其特征在于：所述的弧形底座和挡板均为石英材质。
3.如权利要求1所述的弧形石英支架，其特征在于：弧形底座的弧度和宽度根据CVD生长腔体的形状和大小进行调整；弧形底座的长度根据CVD生长腔体的保温区长度进行调整；弧形挡板的高度根据CVD生长腔体的直径进行调整。
4.如权利要求1所述的弧形石英支架，其特征在于：所述半开通的凹槽用来放置石英棒或金属棒，凹槽的大小和个数根据所使用的石英棒或金属棒的尺寸进行调整。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108103481A (zh) * 2018-01-25 2018-06-01 无锡盈芯半导体科技有限公司 衬底自动挟式石英舟

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Patentee after: WUXI GRAPHENE FILM Co.,Ltd.

Address before: No. 518-5 Zhonghui Road, Standard Factory Building of Chang'an Industrial Park, Huishan Economic Development Zone, Wuxi City, Jiangsu Province, 214000

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