CN1753139A - 等离子体显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

根据一个实施例的一种示例性等离子体显示面板，其包括第一基板和第二基板、障肋、寻址电极、荧光体层、显示电极和第一介电层。第一基板和第二基板彼此面对地设置。障肋设置在第一基板和第二基板之间并形成放电室。寻址电极沿着一个方向形成在第一基板上并与放电室对应。荧光体层形成在各放电室中。显示电极形成在与第二基板上的寻址电极交叉的方向上。第一介电层覆盖寻址电极。在寻址电极的长度方向上直到第一基板的至少一个边缘形成第一介电层。

Description

等离子体显示面板及其制造方法

                         技术领域

本发明涉及一种使用一块素玻璃来制作多个基板的技术，更具体地讲，涉及一种在由一块素玻璃制作的多个基板的每个上均匀地涂布介电层的技术。

                         背景技术

等离子体显示面板(PDP)是利用气体放电现象来显示图像的装置。PDP在亮度、对比度、残像、视角等若干显示特征方面具有优于其它显示装置类型的优点。PDP通过将前板和后板结合在一起而形成。前板通过在前基板上形成显示电极和介电层而制作。后板通过在后基板上形成寻址电极、介电层、障肋和荧光层而制作，这些障肋隔开放电室。

一对显示电极形成在前基板上并与每个放电室对应。显示电极被介电层覆盖，该介电层保护显示电极并感生带电粒子。同样地，寻址电极形成在后基板上并与每个放电室对应。寻址电极被介电层覆盖，从而保护寻址电极。

分别在前基板和后基板上形成显示电极和寻址电极之后，这种覆盖显示电极和寻址电极的介电层经过印刷法、干膜法或涂覆法等各种方法形成。印刷法使用印刷装置形成介电层。干膜法通过把干膜电阻器(DFR)分层，然后烘烤该干膜电阻器而形成介电层。涂覆法使用涂覆装置将介电材料直接喷射到电极上而形成介电层。

涂覆法使用涂覆装置在注入的早期阶段过程中通过喷射介电材料浆料而形成介电层，因为在此期间由于浆料的粘度以及浆料和涂覆装置的喷嘴的内表面之间的摩擦，喷射的介电材料浆料的量较小，所以，介电层的厚度较薄。另一方面，在注入停止的区域，因为在该区域喷射的介电材料浆料的量较大，所以介电层的厚度较厚。因此，在基板上难以形成具有厚度均匀的介电层。此外，当使用一块素玻璃(mother glass)制作多个基板时这个问题变得更加严重。

在介电层形成在将被分成多个基板的一块素玻璃上的情况下，对于多个基板，这些介电层是通过间歇地喷射介电材料浆料而形成的。即，因为在邻近的基板之间的区域停止喷射介电材料浆料，所以在整个基板之上难以形成具有厚度均匀的介电层。

                         发明内容

本发明的实施例提供一种制造等离子体显示面板的方法以及用这种方法制造的等离子体显示面板，该等离子体显示面板的特点为由一块素玻璃形成具有厚度均匀的至少一个基板。

根据本发明的一个实施例的示例性等离子体显示面板，包括第一基板和第二基板、障肋、寻址电极、荧光体层、显示电极和第一介电层。第一基板和第二基板彼此面对地设置。障肋设置在第一基板和第二基板之间并形成放电室。寻址电极沿着一个方向形成在第一基板上并与放电室对应。荧光体层形成在每个放电室中。显示电极沿着第二方向形成在第二基板上并与寻址电极交叉。第一介电层覆盖寻址电极。第一介电层在寻址电极的长度方向上形成，连续地直到第一基板的至少一个边缘。

第一基板可包括显示区和在显示区周围的非显示区。可从位于第一基板一个边缘附近的非显示区开始连续地直到第一基板的相对边缘形成第一介电层。

形成的第一介电层在非显示区上位于第一基板一个边缘附近的第一部分第一介电层内具有第一厚度，在其它部分第一介电层内具有第二厚度，第二厚度不同于第一厚度。

第二厚度可大于第一厚度，第二厚度可在整个其它部分上是均匀的。

在另一实施例中，等离子体显示面板还包括覆盖显示电极的第二介电层。第二介电层可在寻址电极的长度方向上形成，连续地直到第二基板的至少一个边缘。

第二基板可包括显示区和在显示区周围的非显示区。第二介电层可从位于第二基板一个边缘附近的非显示区开始形成，连续地直到第二基板的相对边缘。

形成的第二介电层可在非显示区上位于这一个边缘附近的第一部分第二介电层内具有第一厚度，在其它部分第二介电层内具有第二厚度，第二厚度不同于第一厚度。

第二厚度可大于第一厚度，第二厚度可在第二介电层的整个其它部分上是均匀的。

用于根据本发明的一个实施例的等离子体显示面板的示例性制造方法，其包括在第一基板上通过形成寻址电极和覆盖寻址电极的第一介电层制作第一板，在第二基板上通过形成显示电极和覆盖显示电极的第二介电层制作第二板，将第一板和第二板结合在一起，排空第一板和第二板之间的空间，并将放电气体注入到第一板和第二板之间的放电空间。在制作第一板中，在寻址电极的长度方向上直到第一基板的至少一个边缘形成第一介电层。

用于根据本发明的又一实施例的等离子体显示面板的制造方法，其包括由第一素玻璃制作分别设有寻址电极和覆盖寻址电极的第一介电层的多个第一板，从第二素玻璃制作分别设有显示电极和覆盖显示电极的第二介电层的多个第二板，将第一板和第二板结合在一起，排空第一板和第二板之间的空间，将放电气体注入到第一板和第二板之间的放电空间。

制作第一板，包括在第一素玻璃上形成的寻址电极上形成第一介电层，和在与寻址电极的长度交叉的方向上将第一素玻璃切割成各第一板。

介电材料浆料可连续地涂布在寻址电极的长度方向上。

每个第一板可包括显示区和在显示区周围的非显示区。在第一介电层的形成中，第一介电层可从位于第一板一个边缘附近的非显示区开始喷射，连续地直到第一板的相对边缘的附近。

形成的第一介电层在非显示区上位于第一板一个边缘附近的第一部分第一介电层内具有第一厚度，在其它部分第一介电层内具有第二厚度，第二厚度不同于第一厚度。

第二厚度可大于第一厚度，第二厚度可在整个其它部分上是均匀的。

每个第二板可包括显示区和在显示区周围的非显示区。在第二板的制作中，第二介电层可从位于第二板一个边缘附近的非显示区开始喷射，连续地直到第二板的相对边缘的附近。

形成的第二介电层在非显示区上位于第二板一个边缘附近的第一部分第二介电层内具有第一厚度，在其它部分第二介电层内具有第二厚度，第二厚度不同于第一厚度。

                         附图说明

以下将参照附图对本发明的实施例进行详细地描述，其中在各视图中相同的标号表示相同的元件。

图1是根据本发明实施例的等离子体显示面板的局部分解透视图。

图2是显示根据本发明实施例的等离子体显示面板制造工艺的框图。

图3A显示制作根据本发明实施例的等离子体显示面板的后板的工艺。

图3B显示制作根据本发明实施例的等离子体显示面板的后板的工艺。

图4A显示制作根据本发明实施例的等离子体显示面板的前板的工艺。

图4B显示制作根据本发明实施例的等离子体显示面板的前板的工艺。

                      具体实施方式

图1是根据本发明实施例的等离子体显示面板的局部分解透视图。

参照图1，根据一个实施例的等离子体显示面板(PDP)通过将第一板(以下，称为后板)100和第二板(以下，称为前板)200结合在一起以彼此面对而形成，第一板100包括第一基板(以下，称为后基板)1，第二板200包括第二基板(以下，称为前基板)3。在后基板1和前基板3形成的障肋5限定多个放电室7，在放电室7中产生等离子体放电。荧光体层9形成在形成放电室7的障肋5的内表面上。放电室7填充放电气体(例如，Ne-Xe混合气体)。该PDP通过在放电室7内使放电气体放电形成等离子体。该PDP利用在放电期间产生的真空紫外线(VUV)通过激发红、绿、蓝色荧光体层9生成图像。

为了在放电室7内产生如上所述的等离子体放电，后板100包括寻址电极11，寻址电极11形成在后基板1上并与放电室7对应，前板200包括和显示电极13和15，显示电极13和15形成在前基板3上并与放电室7对应。

寻址电极11在后基板1上沿着一个方向(即，图中y轴方向)延伸形成。寻址电极11横过图中x轴平行地设置，每个寻址电极11设置在障肋5的缝隙之下并与放电室7对应。显示电极13和15布置在第二方向(即，图中x轴方向)并与寻址电极11交叉。显示电极13和15平行地布置并横过y轴设置，与放电室7对应的缝隙交叉。一对显示电极13和15设置成横过每个放电室7。

寻址电极11被第一介电层17覆盖用来累积壁电荷和保护寻址电极11。显示电极13和15均被第二介电层19和保护层21覆盖。

障肋5形成在第一介电层17上。荧光体层9形成在障肋5的内表面上和第一介电层17在放电室7之内的一部分表面上。

第一介电层17和第二介电层19可通过各种方法形成。在一个实施例中，为在放电室7内获得均匀的壁电荷累积和均匀的放电电压，形成的第一介电层17和第二介电层19具有均匀的厚度。

这些实施例提供一种能均匀地形成介电层的制造方法。将参照图2至图4B对这种方法进行更为详细地说明。图2是显示根据本发明实施例的等离子体显示面板制造工艺的框图，图3A和图3B显示制作根据本发明的一个实施例的等离子体显示面板的后板的工艺，图4A和图4B显示制作根据本发明实施例的等离子体显示面板的前板的工艺。

参照这些图，在根据这些示例性实施例的PDP制造方法中，后板100和前板200在单独的工艺中形成，然后将后板100和前板200结合在一起。随后，在两个板100和200之间形成的空气从放电室7中排出，并且将放电气体注入到放电室7中。然后，密封放电室7，从而完成PDP的制造。在根据这里讨论的本发明实施例的制造方法中，除了用于制造后板100和前板200的工艺之外，相关的制造工艺可按照本领域公知的方法来完成，为清晰起见，将省略对这些相关的工艺进行更详细的说明。

制造后板100的工艺可按照以下步骤来实现。首先，插入后基板1，接着在后基板1上形成寻址电极11，在寻址电极11上形成第一介电层17以覆盖寻址电极11，在第一介电层17上按顺序形成障肋5和荧光体层9。

制造前板200的工艺可按照以下步骤来实现。插入前基板3，在前基板3上形成显示电极13和15，在显示电极13和15上按顺序形成第二介电层19和保护层21。

在这些示例性实施例中，一个后板可由一块素玻璃制作。也有可能多个后板由一块素玻璃制作。

如果由一块素玻璃制作多个后板，那么取决于要制成的后板的数量形成寻址电极11、第一介电层17、障肋5和荧光体层9的工艺可单独进行。制造后板的工艺还包括将一块素玻璃切割成多个后板。即，参照图3A，沿着切割线L切割素玻璃40，这样获得了多个后板，例如，第一后板101和第二后板102(在图3B中示出的)。

类似地，一个前板可由一块素玻璃制作，也有可能多个前板由一块素玻璃制作。

如果由一块素玻璃制作多个前板，那么取决于要创建的前板的数量形成显示电极13和15、第二介电层19和保护层21的工艺可单独进行。制造前板的工艺还包括将一块素玻璃切割成多个前板。即，参照图4A，沿着切割线L切割素玻璃40，这样获得了多个前板，例如，第一前板201和第二前板202(在图4B中示出的)。

形成寻址电极11、障肋5和荧光体层9的工艺可按照本领域公知的方法来实现，形成显示电极13和15以及保护层21的工艺可按照本领域公知的方法来实现，为清晰起见将省略对这些工艺进行更详细的说明。

图3A和图3B示出示例性实施例，在该实施例中由一块素玻璃40制作两个后板，即第一后板101和第二后板102，图4A和图4B示出示例性实施例，在该实施例中由一块素玻璃40制作两个前板，即第一前板201和第二前板202。但是，本领域的技术人员容易理解，本发明也可应用于由一块素玻璃制作不止两个板的方法。

在根据该示例性实施例的制造方法中，第一介电层17在寻址电极11的长度方向上越过寻址电极11形成，且覆盖寻址电极和后基板的表面直到后基板1在与寻址电极11相同的方向上沿着后基板的长度设置的相对边缘中的至少一个。

为形成介电层17，在图3A和图3B中箭头的方向a(即图中的y轴方向)上使用涂覆装置(未示出)连续地涂布介电材料浆料。如上所述，素玻璃40的大小可对应于一个或更多后基板。

在涂覆期间，第一介电层17的厚度可随介电材料浆料的粘度、介电材料浆料和涂覆装置的喷嘴的内表面之间的摩擦、喷射时间及相似现象而变化。

每个后基板可包括显示区1b(或2b)和在显示区周围的非显示区1a和1c(或2a和2c)。形成的第一介电层17可在位于第一基板一个边缘附近的部分非显示区1a上具有第一厚度t1。形成的第一介电层17可在其它部分第一基板上具有第二厚度t2，第二厚度t2不同于第一厚度t1。参照图3A和图3B，从位于后板101一个边缘即素玻璃40的一个边缘附近的非显示区1a，经过第一后板101的显示区1b、非显示区1c和外部区1d，并经过第二后板102的外部区2d、非显示区2a和显示区2b，到相邻后板102的显示区2b连续地涂布介电材料浆料。

特别地，形成的第一介电层17在部分非显示区1a上具有第一厚度t1，在该基板的其它部分上，即，在显示区1b、非显示区1c、外部区1d、外部区2d、非显示区2a和显示区2b上的部分具有第二厚度t2。在这一工艺过程中，第二厚度t2可大于第一厚度t1。此外，第二厚度t2可在整个其它部分基板上是均匀的。

直到在第二后板102的边缘附近设置的非显示区2c上的部分连续地涂布介电材料浆料。这里，形成的第一介电层17在部分非显示区2c上具有第三厚度t3。第三厚度t3可大于第二厚度t2。

参照图3B，使用一块素玻璃40形成第一后板101和第二后板102这两块板，在这种情况下，制造后板100的步骤包括在具有第二厚度t2的第一介电层17的区域内切割素玻璃40的步骤。

形成的第一介电层17在涂布介电材料的早期阶段具有第一厚度t1，接着当连续地涂布介电材料时具有第二厚度t2，在涂布介电材料的最后阶段具有第三厚度t3。

由一块素玻璃制作一个后基板或由一块素玻璃制作不止两个后基板，在这种情况下，第一介电层17还可形成以三个厚度t1、t2和t3。

在根据示例性实施例的制造方法中，在由一块素玻璃制作两个后板的情况下，每个形成的后板的第一介电层17从后板一个边缘附近的部分开始形成，连续地直到该后板的相对边缘。因此，在没有形成第一介电层17的部分后基板内，暴露寻址电极以形成接线端。

在制造前板200的工艺中，以与制造后板100的工艺类似的方式，第二介电层19形成在显示电极13和15上。

参照图4A和图4B，将详细说明在前基板3上形成第二介电层19的工艺。

使用涂覆装置(未示出)沿着图4A和图4B中的方向b(即，在图中寻址电极延伸的方向或y轴方向)来实现形成第二介电层19的工艺。

在形成第二介电层19的工艺中，将介电材料连续地涂布在素玻璃40上，从前板200一个边缘附近的部分开始一直连续到前板200相对边缘。

素玻璃40的大小可与一个前基板对应，或与两个前基板即第一和第二前基板对应，如图4A和图4B所示。

第二介电层19的厚度可随介电材料浆料的粘度、介电材料浆料和涂覆装置的喷嘴的内表面之间的摩擦、喷射时间及类似现象而变化。

每个前基板可包括显示区3b(或4b)和在显示区周围的非显示区3a和3c(或4a和4c)。形成的第二介电层19可在非显示区3a内位于第二基板一个边缘附近的部分基板上具有第四厚度t4。形成的其它部分第二介电层19可具有第五厚度t5，第五厚度t5不同于第四厚度t4。参照图4A和图4B，从位于前板201的一个边缘即素玻璃40的一个边缘附近的非显示区3a开始，经过第一前板201的显示区3b、非显示区3c和外部区3d，并经过第二前板202的外部区4d、非显示区4a、显示区4b和非显示区4c，连续地直到相邻前板202的非显示区4c连续地涂布介电材料浆料。

形成的第二介电层19在非显示区3a内开始在部分基板内具有第四厚度t4，，在其它部分该基板内，即，显示区3b、非显示区3c、外部区3d、外部区4d、非显示区4a、显示区4b和非显示区4c连续地具有第五厚度t5。第五厚度t5可大于第四厚度t4。此外，第五厚度t5可在整个其它部分该基板上是均匀的。

介电材料浆料连续地涂布直到在非显示区4c内设置在第二前板202的边缘附近的部分基板。形成的第二介电层19在非显示区4c内部分基板上具有第六厚度t6。第六厚度t6可大于第五厚度t5。

参照图4B，在用一块素玻璃40形成第一前板201和第二前板202这两块板的情况下，制造前板200的步骤包括在具有第五厚度t5的第二介电层19的区域内切割素玻璃40。

形成的第二介电层19在涂布介电材料的早期阶段开始具有第四厚度t4，接着连续地具有第五厚度t5，在涂布介电材料的最后阶段具有第六厚度t6。

由一块素玻璃制作一个前基板或由更多素玻璃制作不止两个前基板，在这种情况下，形成的第二介电层19还可具有三个厚度t4、t5和t6。

因为根据本发明，沿着所有的板连续地涂布介电材料形成介电层，所以即使如果由一块素玻璃形成多个前板或后板，那么也可形成具有厚度均匀的介电层。

尽管已经结合某些示例性实施例描述了本发明，但本领域的技术人员应该理解，本发明不限于公开的实施例，相反地，本发明旨在覆盖权利要求书及其等同物的精神和范围中包括的各种修改。

Claims (21)

1、一种等离子体显示面板，包括：

第一基板和第二基板，彼此面对地设置；

障肋，设置在所述第一基板和所述第二基板之间并形成放电室；

寻址电极，在第一方向上形成在所述第一基板上并与放电室对应；

荧光体层，形成在每个放电室中；

显示电极，在第二方向上形成在第二基板上并与所述寻址电极交叉；

第一介电层，覆盖所述寻址电极，

其中，所述第一介电层在所述寻址电极的第一方向上连续地形成，直到所述第一基板的至少一个边缘。

2、如权利要求1所述的等离子体显示面板，其中：

所述第一基板包括显示区和在所述显示区周围的非显示区；

所述第一介电层形成在第一基板上并覆盖位于所述第一基板的一个边缘附近直到所述第一基板的相对边缘的非显示区。

3、如权利要求2所述的等离子体显示面板，其中，形成的所述第一介电层在非显示区上位于所述第一基板的所述一个边缘附近的部分所述第一介电层内具有第一厚度，在其它部分所述第一介电层内具有第二厚度，所述第二厚度不同于所述第一厚度。

4、如权利要求3所述的等离子体显示面板，其中，所述第二厚度大于所述第一厚度。

5、如权利要求3所述的等离子体显示面板，其中，所述第二厚度在所述其它部分上是均匀的。

6、如权利要求1所述的等离子体显示面板，还包括覆盖所述显示电极的第二介电层，其中，所述第二介电层在所述寻址电极的第一方向上连续地形成，直到所述第二基板的至少一个边缘。

7、如权利要求6所述的等离子体显示面板，其中：

所述第二基板包括显示区和在所述显示区周围的非显示区；

从位于所述第二基板一个边缘附近的非显示区开始直到所述第二基板的相对边缘形成所述第二介电层。

8、如权利要求7所述的等离子体显示面板，其中，形成的所述第二介电层在所述非显示区上位于所述一个边缘附近的第一部分第二介电层内具有第一厚度，在其它部分所述第二介电层内具有第二厚度，所述第二厚度不同于所述第一厚度。

9、如权利要求8所述的等离子体显示面板，其中，所述第二厚度大于所述第一厚度。

10、如权利要求8所述的等离子体显示面板，其中，所述第二厚度在所述其它部分上是均匀的。

11、一种等离子体显示面板的制造方法包括：

通过在第一基板上形成寻址电极和覆盖所述寻址电极的第一介电层来制作第一板；

通过在第二基板上形成显示电极和覆盖所述显示电极的第二介电层来制作第二板；

将所述第一板和所述第二板结合在一起；

排空所述第一板和所述第二板之间的空间；

将放电气体注入到所述第一板和所述第二板之间的放电空间，

其中，在制作所述第一板中

所述第一介电层在所述寻址电极的长度方向上连续地形成，直到所述第一基板的至少一个边缘。

12、一种等离子体显示面板的制造方法，包括：

由第一素玻璃制作多个第一板，所述多个第一板分别设有寻址电极和覆盖所述寻址电极的第一介电层；

由第二素玻璃制作多个第二板，所述多个第二板分别设有显示电极和覆盖所述显示电极的第二介电层；

将所述第一板和所述第二板结合在一起；

排空所述第一板和所述第二板之间的空间；

将放电气体注入到所述第一板和所述第二板之间的放电空间，

其中，制作所述第一板包括

在所述寻址电极上形成所述第一介电层，所述寻址电极在所述第一素玻璃上形成，

在与所述寻址电极的长度交叉的方向上将所述第一素玻璃切割成各第一板。

13、如权利要求12所述的制造方法，其中，在形成所述第一介电层中，在所述寻址电极的长度方向上连续地涂布介电材料浆料。

14、如权利要求11所述的制造方法，其中：

所述第一板的每个包括显示区和在所述显示区周围的非显示区；

在形成所述第一介电层中，从位于所述第一板一个边缘附近的非显示区直到所述第一板的相对边缘喷射所述第一介电层。

15、如权利要求14所述的制造方法，其中，在形成所述第一介电层中，形成的所述第一介电层在所述非显示区上位于所述第一板一个边缘附近的部分第一介电层内具有第一厚度，在其它部分所述第一介电层内具有第二厚度，所述第二厚度不同于所述第一厚度。

16、如权利要求15所述的制造方法，其中，所述第二厚度大于所述第一厚度。

17、如权利要求15所述的制造方法，其中，所述第二厚度在所述其它部分上是均匀的。

18、如权利要求11所述的制造方法，其中：

所述第二板的每个包括显示区和在所述显示区周围的非显示区；

在制作所述第二板中，从位于所述第二板一个边缘附近的非显示区开始直到所述第二板的相对边缘喷射所述第二介电层。

19、如权利要求18所述的制造方法，其中，在所述非显示区上位于所述第二板一个边缘附近的第一部分所述第二介电层内形成的所述第二介电层具有第一厚度，在其它部分所述第二介电层内具有第二厚度，所述第二厚度不同于所述第一厚度。

20、如权利要求19所述的制造方法，其中，所述第二厚度大于所述第一厚度。

21、如权利要求19所述的制造方法，其中，所述第二厚度在所述其它部分上是均匀的。

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