CN1530212A - 具有独立流量控制的阀浇口式注射成型系统 - Google Patents

Abstract

一种注射成型系统，包括一个歧管和一个阀浇口式热流道喷嘴。该浇口机构包括一个被致动的阀销，当该阀销位于第一位置时，模型浇口孔打开，允许熔体流过。当该阀销位于第二位置时，模型浇口孔闭合，防止熔体流过。一个流量控制销设置在熔体流中，与位于喷嘴熔体通道内或歧管熔体通道内的阀销同轴。该流量控制销具有一个头部，该头部在流量控制表面处具有与熔体通道相互补的几何形状。该流量控制销被致动机构升起和降低，以便不依赖于阀销的移动而可以阻碍或释放熔体流的流动。

Description

具有独立流量控制的阀浇口式注射成型系统

技术领域

本发明主要涉及注射成型技术，尤其涉及每个注射周期内的注射塑料量的动态控制。

背景技术

塑料部件的注射成型是一种常用的制造工艺。像塑料瓶、牙刷和儿童玩具等具有商业价值的各种物品都是采用众所周知的注射成型技术制造的。注射成型工艺主要包括熔化塑料，然后使高温高压的熔体流经过一个或多个浇口进入型腔。熔体在型腔内冷却，之后打开型腔将完成的部件退出。

阀浇口式注射成型设备是众所周知的，如发明人为Gellert的美国专利US 4,380,426所展示和描述的，在此结合该专利全文作为参考。通常阀销具有圆柱形或锥形前端，并在缩回的开启位置和向前的闭合位置之间往复运动，其中在闭合位置时其前端位于浇口中。在一些应用中，阀销按照相反的方向起作用并在缩回的位置闭合浇口。

然而，阀浇口式机构通常被设计成按照两元的方式开启和闭合浇口，也就是，浇口或者是开启或者是闭合，不允许在部分开启情况下对熔体流过浇口的流速或量进行控制。在一些制造过程中，非常需要在喷射过程中具有控制熔体流的能力。例如在多浇口系统中，一个单独的型腔由多个浇口供料，一个共用歧管用于所有的浇口。然而，当从一个浇口中流入的熔体和从另一个浇口中流入的熔体接触时，会在接触面出现“缝合线(knit line)”。即使所有的浇口都按照共同方式供料，也需要单独控制熔体流过每个浇口的流速的能力，以使设计者出于结构或美学的目的而控制缝合线的出现位置。

另外，在同时成型多个部件时，也需要控制熔体流的流动。每个型腔通过各自的浇口供应熔体。然而，型腔却不是必然地总是具有相同的尺寸，就像在同时成型连锁件的元件时，例如移动电话的外壳部件，或封装系统的底座和盖子。共用的熔体流很重要，这使得不同的型腔内的塑料的性质尽可能一致；然而，由于不同的型腔具有不同的尺寸，总有一个型腔比其它的型腔花费更长的时间充满。然而，如果更大的型腔被更快地充满的话，所有的成型件可以准备好同时从各自的型腔中退出。

在本领域中有许多种不同的方法来实现对熔体流的这种类型的控制。浇口可以针对每个新产品而被单独地重新加工，但这样既增加成本又浪费时间。发明人为Kazmer等的美国专利US5,556,582描述了一个系统，其中多个可调节的阀销中的每一个位于一个歧管内的相应浇口中，每个浇口流体连接到一个共用的型腔，在此结合该申请作为参考。在该申请中，每个阀销可以按照进入模型的注入点或其附近的压力数据通过计算机进行动态调整。每个阀销具有锥形头部，而且每个熔体通道具有与其互补的几何形状，这样熔体流可以被降低速度直至完全停止。

在发明人为Moss等的美国专利申请No.2002/0121713中描述了另一种系统，在此结合该申请作为参考。在该申请中，一个阀销位于歧管内部，锥形的阀销头部设置在热流道喷嘴的入口点处。熔体通道在入口点处具有与锥形阀销头部相互补的几何形状，这样当阀销头部推入入口时，熔体流速度降低直到完全停止。

在发明人为Kazmer等的PCT申请WO 01/21377中描述了另一种系统，在此结合该申请作为参考。在该申请中，歧管应用了“喷射罐(shooting pot)”技术。熔体流的一部分从歧管熔体通道被输送到一个单独的区室或“井体(well)”中。设置在该井体中的是一个被致动的柱塞，其能够被移动位置用来密封该井体的开口。一个喷嘴位于该井体的下游。通过模型浇口孔的熔体流动，由一个被致动的阀销控制。当熔体流进入歧管熔体通道时，阀销位于模型浇口孔内，防止其流进型腔。柱塞处于缩回的位置，使得来自熔体流中的许多熔体可以被输送到井体中并容纳于其中。为了开始喷射，一个位于井体的上游的浇口机构封闭熔体通道，进而防止了新的熔体流入井体中。阀销离开模型浇口孔，且柱塞以第一速度向前移动，将熔体压入型腔中。一个压力传感器系统测试系统内部压力，并将该压力读数与一个目标压力曲线比较。如果需要更大的压力，则增加柱塞的速度。同样，如果需要小一些的压力，则降低柱塞的速度。当柱塞到达最低的位置时，型腔充满熔体且模型浇口孔闭合。通过上述对柱塞速度的控制，可以控制熔体流的速率。这种对熔体流的控制需要完全地闭合熔体通道的一部分，以操控在熔体通道另一部分的熔体流。

然而，所有的这些系统都没有提供这样一种控制熔体流的能力，即使得可以由传统的开启关闭功能来分开地控制熔体流的速率和量，而不导致熔体流的辅助中断。一种达到了对熔体流进行出色控制的简便机构，可以提高系统效率、节省制造时间和成本。

发明内容

本发明涉及一种注射成型设备，其包括一个具有多个熔体通道的注射成型歧管，所述多个熔体通道与多个热流道喷嘴相连通。每个热流道喷嘴具有熔体通道，并且通过模型浇口与型腔或型腔的一部分相连通。一个可移动的阀销与每个喷嘴配合使用，用于允许或防止熔化材料从喷嘴熔体通道流进型腔。该阀销还具有调节进入每个型腔的熔化材料量的功能。当阀销处于开启状态时，一个另外的流量控制销被用于独立地调节注射到每个型腔中的熔化材料的量。流量控制销位于喷嘴熔体通道或歧管熔体通道中。例如热电偶和压力传感器的注射成型处理传感器沿歧管熔体通道、喷嘴熔体通道而设置，和/或设置在型腔内部，以向一个连接到阀销和流量控制销上的致动机构上的成型控制器提供温度、粘度和/或压力信息。在注射成型过程之前或之中，基于处理传感器采集的处理数据，对流量控制销的位置进行调整。

在本发明的一个实施例中，每个型腔只与一个热流道喷嘴流体连接，其中每个型腔具有大致相同的尺寸和形状。在另一个实施例中，每个型腔流体连接在一个热流道喷嘴上，其中每个型腔具有不同的尺寸和形状。在另一个实施例中，几个喷嘴通过分开的模型浇口流体连接在同一个型腔上。在上述的每个实施例中，需要独立地控制流过每个喷嘴和通过每个模型浇口所供给的熔体的量，以制造出在重量和/或缝合线方面更好的成型件。

因此，这里所公开的注射成型系统可以达到对熔体流的多水平控制。在一个实施例中，由歧管向一个阀浇口式喷嘴供给熔体。该浇口机构包括一个被致动的阀销，当阀销位于第一位置时，模型浇口孔打开，以允许熔体流过。当阀销位于第二位置时，该模型浇口孔闭合，以防止熔体流过。另外，一个流量控制销设置在喷嘴熔体通道内与阀销同轴的位置。该流量控制销具有一个头部，其几何形状与熔体通道的几何形状互补。该流量控制销被致动机构升起和降低，以阻碍或释放熔体流的流动。流量控制销的移动可以预先编程控制，或者利用设置在喷嘴或其附近的压力传感器和温度传感器进行动态触发。阀销和流量控制销独立地被致动。

在另一个按照本发明的实施例中，一个阀浇口式喷嘴由歧管供给熔体。该模型浇口孔包括一个被致动的阀销，其中当阀销位于第一位置时，模型浇口孔开启，以允许熔体流过。当阀销位于第二位置时，该模型浇口孔闭合，以防止熔体流过。一个流量控制销位于歧管熔体通道内，且偏离喷嘴熔体通道。该流量控制销具有一个几何形状与歧管熔体通道的几何形状互补的头部。该流量控制销被致动机构升起和降低，以阻碍或释放熔体流的流动。流量控制销的移动可以预先编程控制，或者利用设置在喷嘴或其附近的压力传感器和温度传感器进行动态触发。阀销和流量控制销独立地被致动。

附图说明

在此结合并构成说明书一部分的附图与下面的描述一起示例说明本发明，并进一步用来解释本发明的原理，以使得相关技术人员可以实现和应用本发明。

图1为按照本发明的第一实施例的注射成型系统的截面示意图，其中熔体的流动受到阻碍，模型浇口孔打开；

图2为图1中喷嘴的放大视图；

图3为按照本发明的第一实施例的注射成型系统的截面示意图，其中熔体的流动没有受到阻碍，模型浇口孔关闭；

图4为图3中喷嘴的放大视图；

图5为按照本发明的第二实施例的注射成型系统的截面示意图，其中熔体的流动受到阻碍，模型浇口孔打开；

图6为按照本发明的第二实施例的注射成型系统的截面示意图，其中熔体的流动没有受到阻碍，模型浇口孔关闭；

图7为按照本发明的第三实施例的注射成型系统的截面示意图，其中熔体的流动受到阻碍，模型浇口孔打开；

图8为按照本发明的第三实施例的注射成型系统的截面示意图，其中熔体的流动没有受到阻碍，模型浇口孔关闭；

图9为按照本发明的第四实施例的注射成型系统的截面示意图，其中熔体的流动受到阻碍，模型浇口孔打开；

图10为按照本发明的第四实施例的注射成型系统的截面示意图，其中熔体的流动没有受到阻碍，模型浇口孔关闭；

图11A图示了在第一应用中的按照本发明的第一实施例的注射成型系统的喷嘴的放大视图，其中的喷嘴为第一结构；

图11B图示了在第一应用中的按照本发明的第一实施例的注射成型系统的喷嘴的放大视图，其中的喷嘴为第二结构；

图12A图示了在第二应用中的按照本发明的第一实施例的注射成型系统的喷嘴的放大视图，其中的喷嘴为第一结构；

图12B图示了在第二应用中的按照本发明的第一实施例的注射成型系统的喷嘴的放大视图，其中的喷嘴为第二结构。

具体实施方式

下面将参照附图描述本发明的具体实施例，类似的附图标记表示相同或功能上相似的部件。

下面参照图1描述本发明的第一实施例。注射成型系统100包括歧管102和多个喷嘴，如喷嘴104。喷嘴104是一个阀浇口式热流道喷嘴，具有加热器127和热电偶128。

歧管熔体通道106设置于歧管102内，将熔体输送到多个喷嘴通道，例如喷嘴熔体通道107，而且该喷嘴熔体通道107进一步将熔体通过浇口108输送到型腔109中。在本实施例中，具有几个型腔，例如型腔109，每个型腔都具有相同或几乎相同的尺寸和形状，并且和几个喷嘴(未示)例如喷嘴104相连。每个型腔具有一个单独的模型浇口108。本发明通过“平衡”经过歧管102的熔体流动，将多个具有相同尺寸的型腔在同一个周期或时间段内充满，具体细节将在下文中解释。

因为浇口108是一个阀浇口，则阀销110的前部分被设置在喷嘴熔体通道107内。阀销110穿过歧管熔体通道106的一部分伸展到一个阀销致动机构112，该机构纵向设置在歧管102上方。浇口108允许熔体流到型腔109中。在第一位置，通过操作阀销致动机构112，阀销110从浇口108缩回，以允许熔体穿过浇口108流到型腔109中。在第二位置，如图3、4所示，通过阀销致动机构112的操作，阀销110位于浇口108内，防止熔体流进型腔109。

阀销致动机构112包括一个活塞113，其可以被本领域任何公知的致动驱动机构所驱动，包括气动机构、液动机构、凸轮和杠杆装置，但并不限于这些机构。一个气动驱动系统，通过将外部空气源与带有由定时电路控制的多个阀的活塞驱动机构相连接而进行操作；该活塞驱动机构以反复的定时顺序施加和释放压力，同时向成型系统中的熔体施加压力。液动驱动系统与气动驱动系统的操作方式相同，只是采用液压流体替换了空气。

在另一个实施例中，可以使用一个胶囊式活塞(bladderpiston)，如本申请的共同未决申请，即2002年3月14日申请的、与本申请具有相同受让人的美国申请No.60/363,891中展示和描述的，在此结合该申请全文作为参考。该胶囊式活塞为可扩展及延长的袋囊，在充满压力流体时其长度变短，该压力流体如空气、水或油。胶囊的一端被固定在一个阀销上，使得在胶囊受到压力时其长度缩短，阀销从模型浇口孔离开，从而允许熔体流入型腔。类似地，降低胶囊的压力以增加胶囊的长度，使得阀销位于模型浇口孔中，从而使熔体停止流入型腔。

可以采用多种不同的控制方式控制阀销致动机构112。最好是将一个或更多的压力传感器125连接在伺服阀123上。伺服阀123连接到驱动机构(未示出)上。当压力传感器125所测量的系统内部压力达到第一水平时，伺服阀123切换使得从驱动机构进入的流体或空气可以流进阀销致动机构112，从而使得活塞113在浇口108内移动阀销110。当压力传感器125所测量的系统内部压力达到第二水平，伺服阀123进行切换使得从驱动机构进入的流体或空气被关闭，从而使得活塞113将阀销110从浇口108中缩回。

可选择地，阀销致动机构112可以被伺服阀123之外的机构控制。例如，在一个实施例中，阀销致动机构112可以被一个按照预定周期进行工作的计算机控制。计算机按照周期向连接到驱动机构的电路发出信号，然后该电路触发驱动机构，使活塞113被上下驱动。因此，与伺服阀123基于压力读数移动来控制阀销110有所不同，计算机控制设备基于每个周期的定时进行工作。

一个流量控制销114位于喷嘴熔体通道107内。与阀销110一样，流量控制销114穿过歧管熔体通道106的一部分而延伸到流量控制销致动机构117。流量控制销致动机构117位于歧管102和阀销致动机构112之间，但是，流量控制销致动机构117和阀销致动机构112的相对位置是可以轻松调换的。在一个实施例中，流量控制销114是一个同轴环绕阀销110的套筒，如图1所示，但是阀销110和流量控制销114也可以在一个较大直径的喷嘴熔体通道107内仅相互平行运动。

不依赖于阀销110，流量控制销114能够控制通过喷嘴104的熔体量。为了达到这一目的，流量控制销114包括一个流量控制表面116和一个在喷嘴104内位于流量控制销114末端的头部。在图1所示的实施例中，流量控制表面116具有比流量控制销114的轴杆直径大的直径，而且流量控制表面116的梢端具有锥形的几何形状。喷嘴流量通道107在流量控制表面120处具有与上述几何形状互补的几何形状。

在如图1和图2所示的第一位置，流量控制表面116被设置在流量控制表面120处或其附近。由于流量控制表面116和喷嘴熔体通道107在流量控制表面120处具有相互补的几何形状，流量控制表面116阻碍了熔体流过喷嘴熔体通道107，减小了熔体的过流体积，从而减小了流向浇口108的材料量。在图3和图4所示的第二位置，流量控制表面116位于远离流量控制表面120的位置，使得熔体不受阻碍地流过喷嘴熔体通道107。流量控制表面116也可以位于中间位置，在该中间位置，熔体在流过喷嘴熔体通道107过程中受到部分阻碍。

流量控制阀致动机构117与阀销致动机构112类似，是一个可以被任何现有技术中的致动驱动机构驱动的活塞118或者胶囊式活塞，这些驱动机构如气动机构、液动机构、凸轮和杠杆装置。流量控制致动机构117相对于阀销致动机构112按照上文中所描述的方式进行控制。可以多种方式控制流量控制致动机构117。最好是将一个或更多的压力传感器124连接在伺服阀122上。伺服阀122连接到驱动机构(未示出)上。当压力传感器124所测量的系统内部压力达到第一水平时，伺服阀122切换使得从驱动机构进入的流体或空气可以流到流量控制致动机构117，从而使活塞118将流量控制销114朝向流量控制表面120移动。当压力传感器124所测量的压力达到第二水平时，伺服阀122切换使得从驱动机构进入的流体或空气被关闭，从而使活塞118将流量控制销114缩回，以远离流量控制表面120。

可选择地，流量控制致动机构117可以被伺服阀122之外的机构控制。例如在一个实施例中，流量控制致动机构117可以被一个按照预定周期工作的计算机所控制。该计算机按周期向连接到驱动机构的电路发出信号，然后该电路触发驱动机构，使活塞118被上下驱动。因此，与基于压力读数由伺服阀122移动来控制流量控制销114有所不同，计算机控制设备基于每个周期的定时进行工作。

除了利用压力信息控制流量控制销114之外，在本发明的另一个实施例中，也可以利用温度信息来控制流量控制销114，用来调整流量控制销114的位置。另外，除了热电偶128，注射成型系统100还可以包括另外的温度传感器(未示出)，以辅助对熔体流动的控制。

图1和图2中所示的喷嘴熔体通道107的几何形状，在流量控制表面116区域具有稍大的直径，也就是喷嘴熔体通道扩张，并在流量控制表面120的低端逐渐恢复到原来的直径。这一几何形状允许直径比流量控制销114其它部分要大的流量控制表面116在喷嘴熔体通道107内自由地移动。然而，许多不同的几何形状可以在本发明中应用。例如，喷嘴熔体通道107可以具有比流量控制表面116大的第一直径，而在流量控制表面120处逐渐变为第二直径。

参照图5-6，图示了本发明的第二实施例。注射成型系统500包括歧管502和喷嘴504。喷嘴504是一个阀浇口式热流道喷嘴。

在歧管502内设置歧管熔体通道506，用于将熔体输送到喷嘴熔体通道507，该喷嘴熔体通道507进一步将熔体通过浇口508输送到型腔509中。

阀销510的轴杆穿过歧管熔体通道506的一部分而延伸到一个阀销致动机构(未示出)，该机构纵向设置在歧管502上方。浇口508控制流到型腔509中的熔体流动。在第一位置，通过操作阀销致动机构，阀销510从浇口508离开，以允许熔体穿过浇口508流到型腔509中。在第二位置，如图6所示，通过操作阀销致动机构，阀销510位于浇口508内部，以防止熔体流进型腔509。

阀销510的致动以及阀销致动机构的功能、变化和控制，可以是上文第一实施例中所描述系统中的任何一种。

一个流量控制销514位于歧管熔体通道506内。流量控制销514的轴杆穿过歧管熔体通道506的一部分而延伸至流量控制销致动机构517。流量控制销致动机构517位于歧管502和阀销致动机构(未示出)之间，但是它们之间的相对位置可以很容易进行调换。

不依赖于阀销510的功能，流量控制销514能够控制通过喷嘴504的熔体流动。为了达到这一目的，流量控制销514包括一个流量控制表面516和一个在歧管502内位于流量控制销514末端的头部。流量控制表面516具有比流量控制销514的轴杆直径大的直径，而且流量控制表面516的梢端具有锥形的几何形状。歧管熔体通道506在流量控制表面520处具有与上述几何形状互补的几何形状。

在图5所示的第一位置，流量控制表面516被设置在流量控制表面520处或其附近。由于流量控制表面516和歧管熔体通道506在流量控制表面520处具有互补的几何形状，流量控制表面516阻碍了熔体流过歧管熔体通道506。在图6所示的第二位置，流量控制表面516位于远离流量控制表面520的位置，使得熔体不受阻碍地流过歧管熔体通道506。流量控制表面516也可以位于中间位置，在该中间位置，熔体在流过歧管熔体通道506的过程中受到部分阻碍。

如图5所示，歧管熔体通道506从流量控制表面520开始具有一个角度。这一偏移结构，允许为系统添加一个可选第二歧管熔体通道506A，使得第二喷嘴(504)可以与喷嘴504同时受到流量控制。然而，本发明并不限于这种结构，喷嘴熔体通道507可以被设置为与歧管熔体通道506具有相同的轴线。采用这种结构时，流量控制销514可以具有与第一实施例相同的套筒状结构。

如上文所述，参照第一实施例，流量控制销致动机构517是一个被本领域已知的致动驱动机构所驱动的活塞518或胶囊式活塞，这些驱动机构例如气动机构、液动机构、凸轮和杠杆装置。流量控制致动机构517按照上文中第一实施例中所述的方法进行控制。

图7和图8图示了本发明的另一个实施例，描述了在注射成型系统700中阀销710和独立致动的流量控制销714的另一种可能结构。在本实施例中，阀销710相对于被致动的流量控制销714侧向偏移α角。图7图示了位于第一位置的阀销710，它从浇口708离开并允许熔体穿过浇口708流进型腔709。图8图示了位于浇口708中的阀销710，防止了熔体流进型腔709中。注射成型系统700的功能与上文所述的第一和第二实施例类似。

图9和图10图示了本发明的另一个实施例，描述了在注射成型系统900中的阀销910和独立致动的流量控制销914的另一种可能结构。阀销910和独立致动的流量控制销914以与图1相同的结构安置，只是省去了用于控制阀销910的伺服阀(922)。图9图示了位于第一位置的阀销910，其通过阀销致动机构912的操作离开浇口908，允许熔体通过浇口908流进型腔909。图10图示由阀销致动机构912操作而位于浇口908中的阀销910，防止熔体流进型腔909中。

注射成型系统900的功能与上文所述的第一实施例和第二实施例类似，区别在于阀销致动机构912采用与伺服阀不同的控制方法。如上文所述，阀销致动机构912可以被一个按照预定周期工作的计算机所控制。计算机按周期向连接到驱动机构的电路发出信号，然后该电路触发驱动机构，使活塞913被上下驱动。可选择地，阀销致动机构912可以被手动触发驱动机构的操作员控制。

图11A和11B图示了本发明的一种应用，其中采用多个喷嘴1104a和1104b向一个较大的型腔1109供料。阀销1110a和1110b及独立致动的流量控制销1114a和1114b按照与图1中所示相同的结构放置，而且功能也与上文中所描述的第一实施例和第二实施例类似。在本发明的这个实施例中，以这样的方式控制阀销1110a和1110b及流量控制销1114a和1114b的位置，使得来自喷嘴1104a和1104b的熔体在型腔1109中接触时产生可接受的缝合线。图11A图示了阀销1110a离开浇口1108a，允许熔体经过浇口1108a流进型腔1109；同时阀销1110b位于浇口1108b中，防止熔体流进型腔1109。在图11B中，阀销1110a位于浇口1108a中，防止熔体流进型腔1109；同时阀销1110b离开浇口1108b，允许熔体经过浇口1108b流进型腔1109。本领域普通技术人员可以理解，每个阀销和流量控制销都是单独致动的，以实现对熔体流动的可控调节，进而使型腔内达到最佳的成型条件，从而制造出改良的成型件。

图12A和图12B图示了本发明的另一种应用，其中第一喷嘴1204a向第一型腔1209a供料，第二喷嘴1204b同时向另一个与第一型腔1209a不同尺寸的第二型腔1209b供料。阀销1210a和1210b及独立致动的流量控制销1214a和1214b以与图1相同的结构安置，而且功能也与上文中所述的第一和第二实施例类似。由于阀销1210a和1210b与流量控制销1214a和1214b对流量的控制，多个具有不同尺寸的型腔可以在相同的周期或时间段内被充满。每个阀销和流量控制销能够独立致动，以提供从歧管102穿过各个喷嘴并到达各个型腔的熔体流动平衡。

图12A图示了从浇口1208a离开的阀销1210a，以允许熔体流过浇口1208a进入第一型腔1209a；同时阀销1210b位于浇口1208b中，以防止熔体流进第二型腔1209b。在图12B中，阀销1210a位于浇口1208a中，以防止熔体流进第一型腔1209a，同时阀销1210b离开浇口1208b，以允许熔体流过浇口1208b进入第二型腔1209b。

在图11A、11B、12A和12B中，示出了一个阀销位于浇口中而另一个阀销离开浇口，而可以理解的是，按照成型条件的不同，两个阀销可以同时地插入或离开浇口，而且每个阀销可以被致动，以在不同的中间位置控制从喷嘴通道到型腔的熔体流动。

上文中列举了本发明的许多不同实施例，但是可以理解的是，这些实施例只是用于举例，而不是限制。本领域技术人员可以在形式和细节上作出许多显而易见的变化，而不偏离本发明的精神和范围。因此，本发明的保护范围不应该限于上面所描述的实施例，而是由下面的权利要求及其等同物来确定。

Claims (24)

1.一种注射成型系统，包括：

一个歧管，其具有多个用于输送熔体流的歧管熔体通道；

多个喷嘴，其中每个喷嘴具有一个流体连接到各个歧管熔体通道的喷嘴熔体通道及一个被致动的阀销，该被致动的阀销具有一个位于所述喷嘴熔体通道靠近模型浇口的一部分内的末端，并且能够可滑动地进行位置变化，用来控制通过模型浇口流入型腔中的熔体流的流动；以及

一个被致动的流量控制销，它具有一个设置在所述被致动的阀销的末端的上游的流量控制表面，其中该被致动的阀销能够可滑动地进行位置变化，用来控制流向模型浇口的熔体流的流速，其中所述阀销和所述流量控制销独立地被致动。

2.如权利要求1所述的注射成型系统，其特征在于：所述被致动的流量控制销设置在喷嘴熔体通道内。

3.如权利要求1所述的注射成型系统，其特征在于：所述被致动的流量控制销设置在歧管熔体通道内。

4.如权利要求1所述的注射成型系统，其特征在于：所述每个喷嘴与一个分开的型腔相流体连通。

5.如权利要求4所述的注射成型系统，其特征在于：所述每个型腔具有大致相同的尺寸。

6.如权利要求4所述的注射成型系统，其特征在于：至少一个型腔具有不同的尺寸。

7.如权利要求1所述的注射成型系统，其特征在于：至少两个喷嘴与单个型腔相流体连通。

8.如权利要求1所述的注射成型系统，其特征在于：所述被致动的阀销和所述被致动的流量控制销，基于从至少一个压力传感器上接收到的注射压力信息而被致动。

9.如权利要求8所述的注射成型系统，其特征在于：所述至少一个压力传感器与所述喷嘴熔体通道相连通。

10.如权利要求8所述的注射成型系统，其特征在于：所述至少一个压力传感器与所述型腔相连通。

11.如权利要求1所述的注射成型系统，其特征在于：所述流量控制销具有一个轴杆部分和一个末端，其中所述末端具有比所述轴杆部分的直径要大的外部直径，并且包括所述流量控制表面。

12.如权利要求1所述的注射成型系统，其特征在于：至少一个所述被致动的阀销和所述被致动的流量控制销，基于从至少一个温度传感器上接收到的温度信息而被致动。

13.一种注射成型设备，包括：

一个具有歧管熔体通道的歧管；

一个具有喷嘴熔体通道的喷嘴；

一个型腔，该型腔具有模型浇口，用来接收来自所述喷嘴熔体通道的熔化材料；

一个第一被致动的阀销，用于控制所述熔化材料的流动，所述第一被致动的阀销具有一个构造成用来阻碍所述熔化材料流动的流量控制表面；以及

一个第二被致动的阀销，用于进一步控制通过所述模型浇口从所述喷嘴熔体通道进入所述型腔的所述熔化材料的流动。

14.如权利要求13所述的注射成型设备，其特征在于：所述第一被致动的阀销和所述第二被致动的阀销可以独立移动，而且每个被致动的阀销具有至少部分地位于所述喷嘴熔体通道内的下游端。

15.如权利要求13所述的注射成型设备，其特征在于：所述第一被致动的阀销具有可在所述歧管熔体通道内移动的下游端，所述第二被致动的阀销具有可在所述喷嘴熔体通道内移动的下游端。

16.如权利要求13所述的注射成型设备，其特征在于：所述第一被致动的阀销和所述第二被致动的阀销，基于从至少一个压力传感器接收的注射压力信号而被致动。

17.如权利要求16所述的注射成型设备，其特征在于：所述至少一个压力传感器与所述喷嘴熔体通道相连通。

18.如权利要求16所述的注射成型设备，其特征在于：所述至少一个压力传感器位于所述型腔内。

19.如权利要求13所述的注射成型设备，其特征在于：所述第二被致动的阀销沿所述喷嘴熔体通道被致动。

20.如权利要求14所述的注射成型设备，其特征在于：所述第一被致动的阀销和所述第二被致动的阀销可以沿一个共同的轴线移动。

21.如权利要求13所述的注射成型设备，其特征在于：所述第一被致动的阀销具有一个轴杆部分和一个末端，其中所述末端具有比所述轴杆部分的直径要大的外部直径，并且包括所述流量控制表面。

22.如权利要求13所述的注射成型设备，其特征在于：当所述第一被致动的阀销的所述流量控制表面位于所述喷嘴熔体通道的一部分内时，其阻碍所述熔化材料的流动，其中所述喷嘴熔体通道的所述一部分具有与所述流量控制表面相互补的形状。

23.如权利要求15所述的注射成型设备，其特征在于：所述流量控制表面位于所述第一被致动的阀销的下游端，以使得当所述流量控制表面位于所述歧管熔体通道的一部分内时，其阻碍所述熔化材料的流动，其中所述歧管熔体通道的所述一部分具有与所述流量控制表面相互补的形状。

24.如权利要求14所述的注射成型设备，其特征在于：所述第二被致动的阀销相对于所述第一被致动的阀销侧向被致动。

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