CN111684329A - 层叠体、层叠体的制造方法及图像显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明的课题在于提供一种吸光各向异性膜与阻挡层的密合性优异的层叠体及层叠体制造方法以及使用了该层叠体的图像显示装置。本发明的层叠体具有阻挡层A和吸光各向异性膜B，其中，阻挡层A以相邻的方式设置在吸光各向异性膜B上，阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1与吸光各向异性膜B中所含有的含量最多的化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数计算且由下述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系，吸光各向异性膜B含有与化合物A1相同的成分。distance＝{4×(δD(B1)‑δD (A1))2+(δP(B1)‑δP(A1))2+(δH(B1)‑δH(A1))2}0.5......(I)。
Description
技术领域
本发明涉及一种层叠体、层叠体的制造方法及图像显示装置。
背景技术
以往，当需要包括激光或自然光的照射光的衰减功能、偏振光功能、散射功能、遮光功能等时，利用了根据按各自的功能而不同的原理而工作的装置。因此，在按各自的功能而不同的制造工序中还制造了与上述功能对应的产品。
例如，液晶显示器(liquid crystal display：LCD)中，为了控制显示中的旋光性或双折射性而使用了线偏振片或圆偏振片。并且，在有机发光二极管(Organic LightEmitting Diode：OLED)中，为了防止外光的反射还使用了圆偏振片。
在这些偏振片(偏振元件)中，广泛使用了碘来作为二色性物质，但还对替代碘而使用有机色素来作为二色性物质的偏振元件进行了研究。
例如，专利文献1中记载有一种偏振膜，其由含有规定的偶氮系色素和聚合性液晶化合物的组合物形成([权利要求1])。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2016-006502号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明人等对专利文献1中所记载的偏振膜进行了研究的结果，明确了根据包含偏振膜的层叠体的层结构而耐高温性及耐湿热性变差。
而且，本发明人等从改善耐久性的观点考虑而对设置与偏振膜相邻的阻挡层的方式进行了研究的结果，明确了当二色性物质的取向度高时等，阻挡层与偏振膜的密合性差。
因此，本发明的课题在于提供一种吸光各向异性膜与阻挡层的密合性优异的层叠体及层叠体制造方法以及使用了该层叠体的图像显示装置。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了实现上述课题而进行了深入研究的结果，发现如下并完成了本发明，即通过吸光各向异性膜及阻挡层的各层中所含有的含量最大的化合物彼此的关系满足根据汉森溶解度参数计算的distance的值在规定的范围，吸光各向异性膜与阻挡层的密合性变良好。
即，发现能够通过以下构成而实现上述课题。
[1]一种层叠体，其具有阻挡层A和吸光各向异性膜B，其中，
阻挡层A以相邻的方式设置在吸光各向异性膜B上，
阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1与吸光各向异性膜B中所含有的含量最多的化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数计算且由后述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系，
吸光各向异性膜B含有与化合物A1相同的成分。
[2]根据[1]所述的层叠体，其中，
在吸光各向异性膜B的与阻挡层A相反的一侧具有透明支撑体，
在透明支撑体与吸光各向异性膜B之间具有取向膜。
[3]根据[2]所述的层叠体，其中，
取向膜含有与化合物A1相同的成分。
[4]根据[1]至[3]中任一项所述的层叠体，其中，
吸光各向异性膜B的经可见度校正的取向度为0.90以上。
[5]根据[1]至[4]中任一项所述的层叠体，其中，
化合物B1为由后述式(I)表示的化合物或其聚合物。
[6]根据[1]至[5]中任一项所述的层叠体，其中，
吸光各向异性膜B为使用含有化合物B1和二色性物质的组合物而形成的膜。
[7]根据[1]至[6]中任一项所述的层叠体，其在阻挡层A的与吸光各向异性膜B侧相反的一侧还具有粘接层。
[8]根据[7]所述的层叠体，其在粘接层的与阻挡层A侧相反的一侧还具有λ/4板。
[9]一种层叠体的制造方法，制作具有阻挡层A和吸光各向异性膜B的层叠体，制造方法包括：
吸光各向异性膜形成工序，使用含有化合物B1的组合物而形成含有50质量％以上的化合物B1的吸光各向异性膜B；及
阻挡层形成工序，在吸光各向异性膜B上使用含有化合物A1的组合物而形成含有50质量％以上的化合物A1的阻挡层A，
化合物A1与化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数计算且由后述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系。
[10]一种图像显示装置，其具有[1]至[8]中任一项所述的层叠体和设置在层叠体的与阻挡层A的吸光各向异性膜B侧相反的一侧的显示元件。
发明效果
根据本发明，能够提供一种吸光各向异性膜与阻挡层的密合性优异的层叠体及层叠体制造方法以及使用了该层叠体的图像显示装置。
附图说明
图1为表示本发明的层叠体的一例的示意性剖视图。
图2为表示本发明的层叠体的一例的示意性剖视图。
图3为表示比较例的层叠体的一例的示意性剖视图。
图4为表示比较例的层叠体的一例的示意性剖视图。
具体实施方式
以下，对本发明进行详细说明。
以下所记载的构成要件的说明有时根据本发明的代表性实施方式进行，但本发明并不限定于这种实施方式。
另外，本说明书中使用“～”表示的数值范围是指将记载在“～”的前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
并且，本说明书中，(甲基)丙烯酸为表示“丙烯酸”及“甲基丙烯酸”的标注，(甲基)丙烯酸酯为表示“丙烯酸酯”及“甲基丙烯酸酯”的标注。
[层叠体]
本发明的层叠体为具有阻挡层A和吸光各向异性膜B的层叠体。
并且，本发明的层叠体中，阻挡层A以相邻的方式设置在吸光各向异性膜B上。
并且，本发明的层叠体所具有的阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1与吸光各向异性膜B中所含有的含量最多的化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数(以下，还称为“HSP值”。)计算且由下述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系。
并且，本发明的层叠体所具有的吸光各向异性膜B含有与化合物A1相同的成分。
[数式1]
distance＝{4×(δD(B1)-δD(A1))2+(δP(B1)-δP(A1))2+(δH(B1)-δH(A1))2}0.5......(I)
上述式(I)其中δD为汉森溶解度参数的分散项，δP为汉森溶解度参数的极性项，δH表示汉森溶解度参数的氢键项。
其中，当上述化合物A1为聚合物时，上述式(I)中的δD(A1)、δP(A1)及δH(A1)为形成构成聚合物的重复单元中含量最多的重复单元的单体的汉森溶解度参数，
并且，当上述化合物A1为聚合物时，与吸光各向异性膜B中所含有的化合物A1相同的成分是指与聚合物相同的成分或与形成构成聚合物的重复单元中含量最多的重复单元的单体相同的成分。
在此，关于HSP值的详细内容，在Hansen，Charles(2007).Hansen SolubilityParameters：A user’s handbook，Second Edition.Boca Raton，Fla：CRC Press.ISBN9780849372483中有说明。
并且，HSP值通过向以下软件输入化合物的结构式而计算。作为软件，使用HSPiP(Hansen Solubility Parameters in Practice：汉森溶解度参数的实际应用)ver4.1.07。
本发明中，如上所述，通过阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1与吸光各向异性膜B中所含有的含量最多的化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数计算且由上述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系，阻挡层A与吸光各向异性膜B的密合性变良好。
其理由的详细内容尚未明确，但本发明人等推测基于以下理由。
首先，本发明人等对阻挡层与吸光各向异性膜的密合性差的原因进行了调查的结果，发现当吸光各向异性膜中的二色性物质的取向度高时，明显产生密合性差的问题。
因此，认为在本发明中密合性变良好的理由是因为通过满足由上述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系，与阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1相同的成分浸入吸光各向异性膜B中，其结果吸光各向异性膜B的脆性降低(韧性提高)。
本发明中，因阻挡层A与吸光各向异性膜B的密合性变更良好的理由，优选阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1与吸光各向异性膜B中所含有的含量最多的化合物B1的关系满足由上述式(I)表示的distance的值成为0.5以上且小于3.5的范围的关系，更优选满足成为1.0以上且3.0以下的范围的关系。
图1及图2中示出表示本发明的层叠体的一例的示意性剖视图。
其中，图1所示的层叠体10为依次具有透明支撑体12、取向膜14、吸光各向异性膜16及透明树脂层18的层结构的层叠体。
并且，图2所示的层叠体20为依次具有透明支撑体12、取向膜14、吸光各向异性膜16、透明树脂层18及粘接层19的层结构的层叠体。
另外，图1及图2所示的例中示出了本发明的层叠体具有透明支撑体及取向膜的方式，但本发明的层叠体并不限定于该方式，本发明的层叠体还可以具有透明支撑体及取向膜。
另一方面，图3及图4为表示比较例的层叠体的一例的示意性剖视图。
其中，图3所示的层叠体30为依次具有透明支撑体12、取向膜14及吸光各向异性膜16的层结构的层叠体。
并且，图4所示的层叠体40为依次具有透明支撑体12、取向膜14、吸光各向异性膜16及粘接层19的层结构的层叠体。
〔阻挡层A〕
本发明的层叠体所具有的阻挡层A为以相邻的方式设置在后述吸光各向异性膜B上的层。
<化合物A1>
只要为与后述吸光各向异性膜B中所含有的含量最多的化合物B1的关系满足由上述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系的化合物，则阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1并无特别限定，但优选为聚合性化合物或使聚合性化合物聚合而得的聚合物。
作为聚合性化合物，可举出在1分子中包含1个聚合性基团的单官能聚合性化合物及在1分子中包含2个以上的相同或不同的聚合性基团的多官能聚合性化合物。
并且，作为聚合性基团，可举出自由基聚合性基团及阳离子聚合性基团。
作为自由基聚合性基团，可举出乙烯性不饱和键基等。
作为阳离子聚合性基团，可举出环氧基及氧杂环丁烷基等，优选环氧基。
作为乙烯性不饱和键基，可举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等，优选丙烯酰基及甲基丙烯酰基。
作为聚合性化合物，具体而言，例如可举出由下述式表示的化合物，其中优选由下述CEL2021P表示的3’，4’-环氧环己基甲基-3，4-环氧环己烷羧酸酯。
[化学式1]
本发明中，阻挡层A中的化合物A1的含量优选为50～100质量％，更优选为50～99质量％。
其中，化合物A1的含量能够根据碎板离子的峰强度比计算，碎板离子的峰强度比在将本发明的层叠体相对于层叠体的表面以1°角度倾斜切割，并用飞行时间二次离子质谱分析仪(Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：TOF-SIMS)对所生成的截面上的阻挡层A的一部分进行摩擦测定时特意检测出。具体而言，能够通过以下所示的测定条件的TOF-SIMS而确认。
另外，能够通过蚀刻使阻挡层A暴露之后，以相同的方法测定并计算。
<TOF-SIMS的测定条件>
本发明中的基于TOF-SIMS的测定如下进行测定。
·装置：TOF-SIMS 4(ION-TOF公司制)
·一次离子：Bi3+(25kV、0.2pA)
·带电校正：同时使用20eV低速电子枪
·测定范围：200×200μm
·光栅：256×256pixels(像素)
·累计次数：16次
·极性：posi(正)、nega(负)
<形成方法>
作为阻挡层A的形成方法，例如可举出使用含有上述化合物A1的组合物(以下，还称为“阻挡层形成用组合物”。)涂布于后述吸光各向异性膜B上并干燥之后，通过聚合而固定化的方法等。
在此，涂布方法并无特别限定，例如可举出浸涂法、气刀涂布法、帘涂法、辊涂法、模涂法、线棒涂布法、凹版涂布法等。
在此，聚合条件并无特别限定，在基于光照射的聚合中，优选使用紫外线。照射量优选为10mJ/cm2～50J/cm2，更优选为20mJ/cm2～5J/cm2，进一步优选为30mJ/cm2～3J/cm2，尤其优选为50～1000mJ/cm2。并且，为了促进聚合反应而可以在加热条件下实施。
<聚合引发剂>
阻挡层形成用组合物可以含有聚合引发剂。
作为聚合引发剂并无特别限制，但优选具有感光性的化合物、即光自由基聚合引发剂或光阳离子聚合引发剂(光酸产生剂)。
作为光自由基聚合引发剂，能够使用各种化合物而并无特别限制。关于光聚合引发剂的例子，可举出d-羰基化合物(美国专利第2367661号、美国专利第2367670号的各说明书)、偶姻醚(美国专利第2448828号说明书)、α-烃取代的芳香族偶姻化合物(美国专利第2722512号说明书)、多核醌化合物(美国专利第3046127号及美国专利第2951758号的各说明书)、三芳基咪唑二聚体与对氨基苯基酮的组合(美国专利第3549367号说明书)、吖啶及吩嗪化合物(日本特开昭60-105667号公报及美国专利第4239850号说明书)、噁二唑化合物(美国专利第4212970号说明书)及酰基氧化膦化合物(日本特公昭63-040799号公报、日本特公平5-029234号公报、日本特开平10-095788号公报及日本特开平10-029997号公报)等。
作为这种光自由基聚合引发剂，能够使用市售品，可举出BASF公司制Irgacure184、Irgacure 907、Irgacure 369、Irgacure 651、Irgacure 819及Irgacure OXE-01等。
作为光阳离子聚合引发剂(阳离子光聚合引发剂)，只要为能够通过光照射而产生阳离子来作为活性种的化合物即可，能够无任何限制地使用公知的阳离子光聚合引发剂。
作为具体例，可举出公知的锍盐、铵盐、碘盐(例如二芳基碘盐)、三芳基锍盐、重氮盐、亚胺盐等。
更具体而言，例如能够举出日本特开平8-143806号公报的[0050]～[0053]段中所示的由式(25)～(28)表示的阳离子光聚合引发剂、日本特开平8-283320号公报的[0020]段中作为阳离子聚合催化剂而例示的化合物等，并将这些编入本说明书中。
并且，阳离子光聚合引发剂能够通过公知的方法合成，也可以作为市售品而获得。作为市售品，例如能够举出Nippon Soda Co.，Ltd.制CI-1370、CI-2064、CI-2397、CI-2624、CI-2639、CI-2734、CI-2758、CI-2823、CI-2855及CI-5102等；RHODIA公司制PHOTOINITIATOR2047等；Union Carbide Corporation制UVI-6974、UVI-6990等；San-AproLtd.制CPI-10P等。
作为阳离子光聚合引发剂，从光聚合引发剂针对光的灵敏度、化合物的稳定性等方面考虑，优选重氮盐、碘盐、锍盐、亚胺盐。并且，从耐候性的方面考虑，最优选碘盐。
作为碘盐系阳离子光聚合引发剂，具体而言，例如可举出二苯基碘三氟甲烷磺酸盐、二苯基碘嵌二萘磺酸盐、二苯基碘十二烷基苯磺酸盐、二苯基碘九氟正丁烷磺酸盐、双(4-第三丁基苯基)碘三氟甲烷磺酸盐、双(4-第三丁基苯基)碘十二烷基苯磺酸盐、双(4-第三丁基苯基)碘萘磺酸盐、双(4-第三丁基苯基)碘六氟锑酸盐、双(4-第三丁基苯基)碘九氟正丁烷磺酸盐、二苯基碘六氟锑酸盐。
作为碘盐系阳离子光聚合引发剂的具体市售品，例如能够举出Tokyo ChemicalIndustry Co.，Ltd.制B2380、Midori Kagaku Co.，Ltd.制BBI-102、Wako Pure Chemical，Ltd.制WPI-113、Wako Pure Chemical，Ltd.制WPI-124、Wako Pure Chemical，Ltd.制WPI-169、Wako Pure Chemical，Ltd.制WPI-170、TOYO Gosei Co.，Ltd.制DTBPI-PFBS。
并且，作为阳离子光聚合引发剂能够使用的碘盐化合物的具体例，还能够举出下述化合物PAG-1、PAG-2。
[化学式2]
阳离子光聚合引发剂(碘盐化合物)PAG-1
阳离子光聚合引发剂(碘盐化合物)PAG-2
当阻挡层形成用组合物含有聚合引发剂时，聚合引发剂的含量相对于阻挡层形成用组合物中的上述化合物A1(尤其上述聚合性化合物)的100质量份，优选为0.1～10质量份，优选为1～6质量份。
<溶剂>
从操作性等观点考虑，阻挡层形成用组合物优选含有溶剂。
作为溶剂，例如可举出酮类(例如，丙酮、2-丁酮、甲基异丁酮、环戊酮、环己酮等)、醚类(例如，二噁烷、四氢呋喃等)、脂肪族烃类(例如，己烷等)、脂环式烃类(例如，环己烷等)、芳香族烃类(例如，苯、甲苯、二甲苯、三甲基苯等)、卤化碳类(例如，二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、二氯苯、氯甲苯等)、酯类(例如，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、醇类(例如，乙醇、异丙醇、丙醇、环己醇等)、溶纤剂类(例如，甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、1，2-二甲氧基乙烷等)、溶纤剂乙酸酯类、亚砜类(例如，二甲基亚砜等)、酰胺类(例如，二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)及杂环化合物(例如，吡啶等)等有机溶剂以及水。这些溶剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
这些溶剂中，优选使用有机溶剂，更优选使用卤化烃类或酮类。
当阻挡层形成用组合物含有溶剂时，溶剂的含量相对于阻挡层形成用组合物的总质量，优选为0～99量％，更优选为30～95质量％，进一步优选为50～80质量％。
本发明中，阻挡层A的厚度并无特别限定，优选为0.1～10μm，更优选为0.5～5μm。
〔吸光各向异性膜B〕
本发明的层叠体所具有的吸光各向异性膜B为含有与和吸光各向异性膜B相邻的阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1的关系满足由上述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系的化合物B1来作为最大含量成分的吸光各向异性膜。另外，化合物B1为与化合物A1不同的化合物。
并且，本发明的层叠体所具有的吸光各向异性膜B含有与上述阻挡层A中含有的最大含量的化合物A1相同的成分。另外，是否含有与化合物A1相同的成分，能够通过上述测定条件的TOF-SIMS测定层叠体的截面上的吸光各向异性膜B的一部分来确定。
本发明中，从阻挡层A与吸光各向异性膜B的密合性的改善效果更明显的理由考虑，吸光各向异性膜B的经可见度校正的取向度优选为0.90以上，更优选为0.92以上，进一步优选为0.94以上。
在此，“经可见度校正的取向度”是指，依次设置光源、线性起偏器、透明支撑体、设置在支撑体上的吸光各向异性膜B，测定从透明支撑体侧入射的380～780nm的波长区域的透射率，通过下述式计算各波长的取向度，并乘以可见度校正系数而得的值的平均值。
取向度：S＝(A(吸收)-A(透射))/[2×A(透射)+A(吸收)]
A(吸收)：以成为正交尼科耳的方式配置了入射偏振与吸光各向异性膜B时的吸光度
A(透射)：以成为平行尼科耳的方式配置了入射偏振与吸光各向异性膜B时的吸光度
A(吸收)＝-log10(T(吸收)/100)
A(透射)＝-log10(T(透射)/100)
T(吸收)：以成为正交尼科耳的方式配置了入射偏振与吸光各向异性膜B时的透射率(将入射偏振设为100％)
T(透射)：以成为平行尼科耳的方式配置了入射偏振与吸光各向异性膜B时的透射率(将入射偏振设为100％)
<化合物B1>
本发明中，从提高吸光各向异性膜B的取向度的观点考虑，优选吸光各向异性膜B中含有的最大含量的化合物B1为由下述式(1)表示的化合物或其聚合物。
Q1-D1-G1-D2-G2-D3-Q2......(1)
上述式(1)中，Q1及Q2分别独立地表示氢原子或1价有机基，Q1及Q2中的至少一个表示聚合性基团。
并且，上述式(1)中，D1、D2及D3分别独立地表示单键或-(C＝O)O-、-O(C＝O)-、经取代或未经取代的碳原子数1～20的亚烷基、经取代或未经取代的碳原子数6～40的亚芳基、经取代或未经取代的碳原子数4～30的杂亚芳基、经取代或未经取代的碳原子数6～40的环亚烷基或构成这些基团的-CH2-的1个以上经-O-、-S-、-NR-或-PR-取代的2价连接基，R表示氢原子或碳原子数1～20的烷基。
并且，上述式(1)中，G1及G2分别独立地表示经取代或未经取代的碳原子数6～40的亚芳基、经取代或未经取代的碳原子数4～30的杂亚芳基或经取代或未经取代的碳原子数6～40的环亚烷基。
上述式(1)中，作为Q1及Q2所表示的1价有机基，例如能够举出烷基、芳基、杂芳基等。
烷基可以是直链状、支链状或环状，优选为直链状。烷基的碳原子数优选为1～30，更优选为1～20，进一步优选为1～10。
并且，芳基可以是单环也可以是多环，但优选为单环。芳基的碳原子数优选为6～25，更优选为6～10。
并且，杂芳基可以是单环也可以是多环。构成杂芳基的杂原子的数优选为1～3。构成杂芳基的杂原子优选为氮原子、硫原子、氧原子。杂芳基的碳原子数优选为6～18，更优选为6～12。
并且，烷基、芳基及杂芳基可以未经取代，也可以具有取代基。
作为取代基，例如可举出烷基、烷氧基、卤素原子等。
作为烷基，例如优选为碳原子数1～18的直链状、支链鎖状或环状烷基，更优选为碳原子数1～8的烷基(例如，甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、环己基等)，进一步优选为碳原子数1～4的烷基，尤其优选为甲基或乙基。
作为烷氧基，例如优选为碳原子数1～18的烷氧基，更优选为碳原子数1～8的烷氧基(例如，甲氧基、乙氧基、正丁氧基、甲氧基乙氧基等)，进一步优选为碳原子数1～4的烷氧基，尤其优选为甲氧基或乙氧基。
作为卤素原子，例如可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等，其中优选为氟原子、氯原子。
上述式(1)中，Q1及Q2中的至少一个所示的聚合性基团并无特别限定，但优选为能够进行自由基聚合或阳离子聚合的聚合性基团。
作为自由基聚合性基团，能够使用通常已知的自由基聚合性基团，作为优选的聚合性基团，能够举出丙烯酰基或甲基丙烯酰基。该情况下，已知丙烯酰基的聚合速度通常较快，从提高产率的观点考虑优选丙烯酰基，但甲基丙烯酰基也能够同样地用作聚合性基团。
作为阳离子聚合性基团，能够使用通常已知的阳离子聚合性基团，具体而言，能够举出脂环式醚基、环状缩醛基、环状内酯基、环状硫醚基、螺原酸酯及乙烯基氧基等。其中，优选脂环式醚基或乙烯基氧基，尤其优选环氧基、氧杂环丁烷基或乙烯基氧基。
作为尤其优选的聚合性基团的例，可举出下述基团。
[化学式3]
上述式(1)中，作为D1、D2及D3所示的经取代或未经取代的碳原子数1～20的亚烷基，例如可举出碳原子数1～12的直链状或支链状亚烷基，具体而言，可举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基、亚己基、甲基亚己基、亚庚基等。
另外，作为取代的取代基，可举出与作为上述式(1)中的Q1及Q2所示的1价有机基而例示的烷基等可以具有的取代基相同的基团。
上述式(1)中，作为D1、D2及D3所示的经取代或未经取代的碳原子数6～40的亚芳基，例如可举出碳原子数6～12的亚芳基，具体而言，可举出亚苯基、亚异丙苯基、均三甲苯基、甲代亚苯基、亚二甲苯基等。其中，优选亚苯基。
另外，作为取代的取代基，可举出与作为上述式(1)中的Q1及Q2所示的1价有机基而例示的烷基等可以具有的取代基相同的基团。
上述式(1)中，作为D1、D2及D3所示的经取代或未经取代的碳原子数4～30的杂亚芳基，例如可举出5元杂环、6元杂环，具体而言，作为5元杂环，可举出呋喃环、硫醇环、唑环，咪唑环，吡唑环、噁唑环、异噁唑环、噻唑环、异噻唑环等，作为6元杂环，可举出三嗪环、吡嗪环、吡啶环等。
另外，作为取代的取代基，可举出与作为上述式(1)中的Q1及Q2所表示的1价有机基而例示的烷基等可以具有的取代基相同的基团。
上述式(1)中，作为D1、D2及D3所示的经取代或未经取代的碳原子数6～40的环亚烷基，例如可举出环烷环，具体而言可举出环己烷环、环庚烷环、环辛烷环、环十二烷环、环二十烷环等。
另外，作为取代的取代基，可举出与作为上述式(1)中的Q1及Q2所示的1价有机基而例示的烷基等可以具有的取代基相同的基团。
上述式(1)中，作为G1及G2所示的经取代或未经取代的碳原子数6～40的亚芳基、经取代或未经取代的碳原子数4～30的杂亚芳基及经取代或未经取代的碳原子数6～40的环亚烷基，分别可举出作为上述式(1)中的D1、D2及D3所示的亚芳基、杂亚芳基及环亚烷基而例示的基团。
作为由上述式(1)表示的化合物的聚合物，例如可优选地举出具有由下述式(1-1)表示的重复单元(以下，还称为“重复单元(1-1)”。)的高分子液晶性化合物。
[化学式4]
上述式(1-1)中，R1表示氢原子或甲基，L1及L2分别独立地表示单键或2价连接基，M1表示由后述式(1-1m)表示的介晶基团，T1表示末端基。
对上述式(1-1)中的L1及L2所表示的2价连接基进行说明。
作为2价连接基，例如可举出碳原子数1～30的亚烷基，构成亚烷基的-CH2-的1个以上可以经-O-、-(CH2)n-、-(CF2)n-、-Si(CH2)n-、-(Si(CH3)2O)n-、-N(Z)-、-C(Z)＝C(Z’)-、-C(Z)＝N-、-N＝C(Z)-、-C(Z)2-C(Z’)2-、-C(O)-、-OC(O)-、-C(O)O-、-O-C(O)O-、-N(Z)C(O)-、-C(O)N(Z)-、-C(Z)＝C(Z’)-C(O)O-、-O-C(O)-C(Z)＝C(Z’)-、-C(Z)＝N-、-N＝C(Z)-、-C(Z)＝C(Z’)-C(O)N(Z”)-、-N(Z”)-C(O)-C(Z)＝C(Z’)-、-C(Z)＝C(Z’)-C(O)-S-、-S-C(O)-C(Z)＝C(Z’)-、-C(Z)＝N-N＝C(Z’)-、-C≡C-、-N＝N-、-S-、-S(O)-、-S(O)(O)-、-(O)S(O)O-、-O(O)S(O)O-、-SC(O)-或-C(O)S-取代。另外，n表示1～3的整数，Z、Z’及Z”分别独立地表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、环烷基、芳基、氰基或卤素原子。
并且，作为碳原子数1～30的亚烷基，具体而言，例如可举出亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基、亚己基、亚庚基、亚辛基、亚癸基、亚十一烷基、亚十二烷基、亚十三烷基、亚十四烷基、亚十五烷基、亚十六烷基、亚十七烷基、亚十八烷基等。
并且，亚烷基的碳原子数优选为1～12。
本发明中，上述式(1-1)中的L1优选为构成上述亚烷基的-CH2-的1个以上经-O-取代的氧基亚烷基结构。
作为氧基亚烷基结构，例如可举出由*-(CH2-CH2O)n1-*表示的氧基亚乙基结构、由*-(CH2-CH2-CH2O)n2-*或*-(CH(CH3)-CH2O)n2-*表示的氧基亚丙基结构、由*-(CH2-CH2-CH2-CH2O)n3-*表示的氧基亚丁基结构。另外，n1、n2及n3分别独立地表示1～20的整数，*表示上述式(1)中的与氧原子或M1的键合位置。
另一方面，上述式(1-1)中的L2优选为单键。
接着，对由上述式(1-1)中的T1所表示的末端基进行说明。
作为末端基，具体而言，例如可举出氢原子、卤素原子、氰基、硝基、羟基、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的烷硫基、碳原子数1～10的氧基羰基、碳原子数1～10的酰氧基、碳原子数1～10的酰氨基、碳原子数1～10的烷氧基羰基氨基、碳原子数1～10的磺酰氨基、碳原子数1～10的氨磺酰基、碳原子数1～10的氨基甲酰基、碳原子数1～10的亚磺酰基及碳原子数1～10的脲基等。这些末端基还可以经这些基团或日本特开2010-244038号公报中所记载的聚合性基团取代。
接着，对上述式(1-1)中的M1、即由下述式(1-1m)表示的介晶基团进行说明。
[化学式5]
上述式(1-1m)中，A1表示选自包括可以具有取代基的芳香族烃基、杂环基及脂环式基团的组中的2价基团，L3表示单键或2价连接基，m表示1～10的整数，*表示与L1或L2的键合位置。当m为2～10的整数时，多个A1可以分别相同或不同，多个L3可以分别相同或不同。
由A1表示的2价基团优选为4～6元环。
由A1表示的2价基团可以是单环，也可以是稠环。
并且，作为A1可以具有的取代基，例如可举出烷基、氟化烷基及烷氧基等。
作为A1所表示的2价芳香族烃基，可举出亚苯基、亚萘基、芴-二基、蒽-二基及并四苯-二基等，从介晶骨架的设计的多样性或原材料的获取性等观点考虑，优选为亚苯基或亚萘基，更优选为亚苯基。
作为A1所表示的2价杂环基，可以是芳香族或非芳香族中的任一种，但从取向度进一步提高的观点考虑，优选为2价芳香族杂环基。
作为除了构成2价芳香族杂环基的碳以外的原子，可举出氮原子、硫原子及氧原子。当芳香族杂环基具有多个除了碳以外的构成环的原子时，这些可以相同也可以不同。
作为2价芳香族杂环基的具体例，例如可举出亚吡啶基(吡啶-二基)、哒嗪-二基、咪唑-二基、亚噻吩(噻吩-二基)、亚喹啉基(喹啉-二基)、亚异喹啉基(异喹啉-二基)、噁唑-二基、噻唑-二基、噁二唑-二基、苯并噻唑-二基、苯并噻二唑-二基、邻苯二甲酰亚胺-二基、噻吩并噻唑-二基、噻唑并噻唑-二基、噻吩并噻吩-二基及噻吩并噁唑-二基等。
作为A1所表示的2价脂环式基的具体例，可举出亚环戊基及亚环己基等。
另一方面，作为L3所表示的2价连接基团，可举出-O-、-(CH2)g-、-(CF2)g-、-Si(CH3)2-、-(Si(CH3)2O)g-、-(OSi(CH3)2)g-、-N(Z)-、-C(Z)＝C(Z’)-、-C(Z)＝N-、-N＝C(Z)-、-C(Z)2-C(Z’)2-、-C(O)-、-OC(O)-、-C(O)O-、-O-C(O)O-、-N(Z)C(O)-、-C(O)N(Z)-、-C(Z)＝C(Z’)-C(O)O-、-O-C(O)-C(Z)＝C(Z’)-、-C(Z)＝N-、-N＝C(Z)-、-C(Z)＝C(Z’)-C(O)N(Z”)-、-N(Z”)-C(O)-C(Z)＝C(Z’)-、-C(Z)＝C(Z’)-C(O)-S-、-S-C(O)-C(Z)＝C(Z’)-、-C(Z)＝N-N＝C(Z’)-、-C≡C-、-N＝N-、-S-、-S(O)-、-S(O)(O)-、-(O)S(O)O-、-O(O)S(O)O-、-SC(O)-及-C(O)S-等，也可以是将这些基团组合两个以上而成的基团。另外，g表示1～10的整数，Z、Z’及Z”独立地表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、环烷基、芳基、氰基或卤素原子。
作为M1的具体例，例如可举出以下结构。另外，下述具体例中，“Ac”表示乙酰基。
[化学式6]
[化学式7]
作为具有重复单元(1-1)的高分子液晶性化合物，具体而言，例如可举出由下述结构式表示的高分子化合物。另外，下述结构式中，R表示氢原子或甲基。
[化学式8]
[化学式9]
[化学式10]
[化学式11]
[化学式12]
上述高分子液晶性化合物具有重复单元(1-1)时的重复单元(1-1)的含量相对于上述高分子液晶性化合物所具有的总重复单元100质量％，优选为20～100质量％，更优选为30～99.9质量％，进一步优选为40～99.0质量％。
本发明中，高分子液晶性化合物中所包含的各重复单元的含量根据为了得到各重复单元而使用的各单体的加入量(质量)来计算。
重复单元(1-1)可以在高分子液晶性化合物中单独包含一种，也可以包含两种以上。若高分子液晶性化合物包含两种以上的重复单元(1-1)，则存在高分子液晶性化合物相对于溶剂的溶解性提高且液晶相转变温度的调整变得容易等优点。当包含两种以上的重复单元(1-1)时，优选其合计量在上述范围内。
当包含两种以上的重复单元(1-1)时，可以同时使用T1中不包含聚合性基团的重复单元(1a)和T1中包含聚合性基团的重复单元(1b)。由此，吸光各向异性膜B的固化性进一步提高。
该情况下，高分子液晶性化合物中的T1中包含聚合性基团的重复单元(1b)相对于T1中不包含聚合性基团的重复单元(1a)的比例(T1中包含聚合性基团的重复单元(1b)/T1中不包含聚合性基团的重复单元(1a))以质量比计优选为0.005～4，更优选为0.01～2.4。若质量比为4以下，则存在吸光各向异性膜B的取向度进一步提高的优点。若质量比为0.05以上，则吸光各向异性膜B的固化性进一步提高。
并且，从调整高分子液晶性化合物针对溶剂的溶解性及液晶相变温度的观点考虑，上述高分子液晶性化合物可以具有除了重复单元(1-1)以外的其他重复单元(以下，简称为“重复单元(1-2)”。)。
在此，作为重复单元(1-2)，可举出除了不具有介晶基团以外与上述重复单元(1-1)相同的重复单元。
当上述高分子液晶性化合物具有重复单元(1-2)时，上述高分子液晶性化合物成为重复单元(1-1)与重复单元(1-2)的共聚物，但也可以是嵌段聚合物、交替聚合物、无规聚合物及接枝聚合物等任意聚合物。
上述高分子液晶性化合物具有重复单元(1-2)时的重复单元(1-2)的含量相对于上述高分子液晶性化合物所具有的总重复单元100质量％，优选为0.5～40质量％，更优选为1～30质量％。
重复单元(1-2)可以在高分子液晶性化合物中单独包含一种，也可以包含两种以上。当包含两种以上的重复单元(1-2)时，优选其合计量在上述范围内。
上述高分子液晶性化合物的重均分子量(Mw)优选为2000～300000，更优选为2000～100000。若高分子液晶性化合物的Mw在上述范围内，则高分子液晶性化合物的处理变得容易。
其中，本发明中的重均分子量及数平均分子量为通过凝胶渗透色谱(GPC)法而测定的值。
·溶剂(洗脱液)：N-甲基吡咯烷酮
·装置名：TOSOH HLC-8220GPC
·管柱：连接3根TOSOH TSKgel Super HZM-H(4.6mm×15cm)而使用
·管柱温度：25℃
·试样浓度：0.1质量％
·流速：0.35ml/min
·校准曲线：使用基于TOSOH CORPORATION制TSK标准聚苯乙烯Mw＝2800000～1050(Mw/Mn＝1.03～1.06)为止的7个样品的校准曲线
上述高分子液晶性化合物的液晶性可以显示向列性及近晶性中的任一个，但优选至少显示向列性。
显示向列相的温度范围优选为室温(23℃)～400℃，从处理或制造适性的观点考虑，优选为50℃～300℃。
本发明中，吸光各向异性膜B中的化合物B1的含量优选为50～100质量％，更优选为60～99质量％。
在此，化合物B1的含量能够根据碎板离子的峰强度比计算，碎板离子的峰强度比在将本发明的层叠体相对于层叠体的表面以1°角度倾斜切割，用TOF-SIMS对所生成的截面上的光吸收各向异性膜B的一部分进行摩擦测定时被特意检测。具体而言，能够通过以与通过TOF-SIMS测定化合物A1的含量时的条件相同的测定条件的TOF-SIMS而确认。
另外，能够通过蚀刻使吸光各向异性膜B暴露之后通过相同的方法来测定并计算。
本发明中，吸光各向异性膜B优选为使用含有上述化合物B1(尤其，上述高分子液晶性化合物)和上述二色性物质的组合物(以下，简称为“液晶组合物”。)而形成的膜。
<二色性物质>
上述二色性物质并无特别限定，可举出可见光吸收物质(二色性色素)、发光物质(荧光物质、磷光物质)、紫外线吸收物质、红外线吸收物质、非线性光学物质、碳纳米管、无机物质(例如量子杆)等，且能够使用以往公知的二色性物质(二色性色素)。
具体而言，例如可举出日本特开2013-228706号公报的[0067]～[0071]段、日本特开2013-227532号公报的[0008]～[0026]段、日本特开2013-209367号公报的[0008]～[0015]段、日本特开2013-014883号公报的[0045]～[0058]段、日本特开2013-109090号公报的[0012]～[0029]段、日本特开2013-101328号公报的[0009]～[0017]段、日本特开2013-037353号公报的[0051]～[0065]段、日本特开2012-063387号公报的[0049]～[0073]段、日本特开平11-305036号公报的[0016]～[0018]段、日本特开2001-133630号公报的[0009]～[0011]段、日本特开2011-215337号公报的[0030]～[0169]段、日本特开2010-106242号公报的[0021]～[0075]段、日本特开2010-215846号公报的[0011]～[0025]段、日本特开2011-048311号公报的[0017]～[0069]段、日本特开2011-213610号公报的[0013]～[0133]段、日本特开2011-237513号公报的[0074]～[0246]段、日本专利申请2016-006502号公报的[0005]～[0051]段、国际公开2016/060173号公报的[0005]～[0041]段、国际公开2016/136561号公报的[0008]～[0062]段、国际公开2017/154835号的[0014]～[0033]段、国际公开2017/154695号的[0014]～[0033]段、国际公开2017/195833号的[0013]～[0037]段等中所记载的二色性物质。
本发明中，上述二色性物质优选为由下述式(2)表示的二色性物质(以下，还简称为“特定二色性色素化合物”。)。
[化学式13]
在此，式(2)中，A2、A3及A4分别表示可以具有取代基的2价芳香族基。
并且，式(2)中，L4及L5分别独立地表示取代基。
并且，式(2)中，n表示1～4的整数，当n为2～4的整数时，多个A3可以彼此相同或不同。另外，n优选为1或2。
对上述式(2)中A2、A3及A4所表示的“可以具有取代基的2价芳香族基”进行说明。
作为上述取代基，例如可举出日本特开2011-237513号公报的[0237]～[0240]段中所记载的取代基组G，其中，优选举出卤素原子、烷基、烷氧基、烷氧基羰基(例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基等)、芳氧基羰基(例如，苯氧基羰基、4-甲基苯氧基羰基、4-甲氧基苯基羰基等)等，更优选举出烷基，进一步优选举出碳原子数1～5的烷基。
另一方面，作为2价芳香族基，例如可举出2价芳香族烃基及2价芳香族杂环基。
作为上述2价芳香族烃基，例如可举出碳原子数6～12的亚芳基，具体而言，可举出亚苯基、亚异丙苯基、均三甲苯基、甲代亚苯基、亚二甲苯基等。其中，优选亚苯基。
并且，作为上述2价芳香族杂环基，优选源自单环或2环性杂环的基团。作为除了构成芳香族杂环基的碳以外的原子，可举出氮原子、硫原子及氧原子。当芳香族杂环基具有多个除了碳以外的构成环的原子时，这些可以相同也可以不同。作为芳香族杂环基，具体而言，可举出亚吡啶基(吡啶-二基)、亚喹啉基(喹啉-二基)、异亚喹啉基(异喹啉-二基)、苯并噻二唑-二基、邻苯二甲酰亚胺-二基、噻吩并噻唑-二基(以下，简称为“噻吩并噻唑基”。)等。
上述2价芳香族基中，优选2价芳香族烃基。
在此，A2、A3及A4中的任一个优选为可以具有取代基的2价噻吩并噻唑基。另外，2价噻吩并噻唑基的取代基的具体例与上述“可以具有取代基的2价芳香族基”中的取代基相同，优选的方式也相同。
并且，A2、A3及A4中，更优选A3为2价噻吩并噻唑基。在该情况下，A2及A4表示可以具有取代基的2价芳香族基。
当A3为2价噻吩并噻唑基时，A2及A4中的至少一个优选为可以具有取代基的2价芳香族烃基，优选为A2及A4这两者均为可以具有取代基的2价芳香族烃基。
对上述式(2)中L4及L5所表示的“取代基”进行说明。
作为上述取代基，优选为了提高溶解性或向列型液晶性而导入的基团、为了调节作为色素的色调而导入的具有供电子性或吸电子性的基团或为了固定取向而导入的具有交联性基团(聚合性基团)的基团。
例如，作为取代基，包含烷基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～12，尤其优选为碳原子数1～8的烷基，例如可举出甲基、乙基、异丙基、叔丁基、正辛基、正癸基、正十六烷基、环丙基、环戊基、环己基等)、烯基(优选为碳原子数2～20，更优选为碳原子数2～12，尤其优选为碳原子数2～8的烯基，例如可举出乙烯基、芳基、2-丁烯基、3-戊烯基等)、炔基(优选为碳原子数2～20，更优选为碳原子数2～12，尤其优选为碳原子数2～8的炔基，例如可举出炔丙基、3-戊炔基等)、芳基(优选为碳原子数6～30，更优选为碳原子数6～20，尤其优选为碳原子数6～12的芳基，例如可举出苯基、2，6-二乙基苯基、3，5-二三氟甲基苯基、苯乙烯基、萘基、联苯基等)、经取代或未经取代的氨基(优选为碳原子数0～20，更优选为碳原子数0～10，尤其优选为碳原子数0～6的氨基，例如可举出未经取代的氨基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、苯胺基等)、烷氧基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～15的烷氧基，例如可举出甲氧基、乙氧基、丁氧基等)、氧羰基(优选为碳原子数2～20，更优选为碳原子数2～15，尤其优选为碳原子数2～10的氧羰基，例如可举出甲氧基羰基、乙氧基羰基、苯氧基羰基等)、酰氧基(优选为碳原子数2～20，更优选为碳原子数2～10，尤其优选为碳原子数2～6的酰氧基，例如可举出乙酰氧基、苯甲酰氧基、丙烯酰基及甲基丙烯酰基等)、酰氨基(优选为碳原子数2～20，更优选为碳原子数2～10，尤其优选为碳原子数2～6的酰氨基，例如可举出乙酰氨基、苯甲酰氨基等)、烷氧基羰基氨基(优选为碳原子数2～20，更优选为碳原子数2～10，尤其优选为碳原子数2～6的烷氧基羰基氨基，例如可举出甲氧基羰基氨基等)、芳氧基羰基氨基(优选为碳原子数7～20，更优选为碳原子数7～16，尤其优选为碳原子数7～12的芳氧基羰基氨基，例如可举出苯氧基羰基氨基等)、磺酰氨基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～10，尤其优选为碳原子数1～6的磺酰氨基，例如可举出甲烷磺酰氨基、苯磺酰氨基等)、氨磺酰基(优选为碳原子数0～20，更优选为碳原子数0～10，尤其优选为碳原子数0～6的氨磺酰基，例如可举出氨磺酰基、甲基氨磺酰基、二甲基氨磺酰基、苯基氨磺酰基等)、氨甲酰基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～10，尤其优选为碳原子数1～6的氨甲酰基，例如可举出未经取代的氨甲酰基、甲基氨甲酰基、二乙基氨甲酰基、苯基氨甲酰基等)、烷硫基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～10，尤其优选为碳原子数1～6的烷硫基，例如可举出甲硫基、乙硫基等)、芳硫基(优选为碳原子数6～20，更优选为碳原子数6～16，尤其优选为碳原子数6～12的芳硫基，例如可举出苯硫基等)、磺酰基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～10，尤其优选为碳原子数1～6的磺酰基，例如可举出甲磺酰基、甲苯磺酰基等)、亚磺酰基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～10，尤其优选为碳原子数1～6的亚磺酰基，例如可举出甲烷亚磺酰基、苯亚磺酰基等)、脲基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～10，尤其优选为碳原子数1～6的脲基，例如可举出未经取代的脲基、甲基脲基、苯基脲基等)、磷酸酰胺基(优选为碳原子数1～20，更优选为碳原子数1～10，尤其优选为碳原子数1～6的磷酸酰胺基，例如可举出二乙基磷酸酰胺基、苯基磷酸酰胺基等)、羟基、巯基、卤素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、氰基、硝基、异羟肟酸基、亚磺基、肼基、亚氨基、偶氮基、杂环基(优选为碳原子数1～30，更优选为碳原子数1～12的杂环基，例如为具有氮原子、氧原子、硫原子等杂原子的杂环基，例如可举出环氧基、氧杂环丁烷基、咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、哌啶基、吗啉基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基等)、甲硅烷基(优选为碳原子数3～40，更优选为碳原子数3～30，尤其优选为碳原子数3～24的甲硅烷基，例如可举出三甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基等)。
这些取代基可以进一步经这些取代基取代。并且，当具有2个以上的取代基时，可以相同也可以不同。并且，在可能的情况下可以彼此键合而形成环。
作为L4及L5所表示的取代基，优选为可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的烯基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的氧基羰基、可以具有取代基的酰氧基、可以具有取代基的酰氨基、可以具有取代基的氨基、可以具有取代基的烷氧基羰基氨基、可以具有取代基的磺酰氨基、可以具有取代基的氨磺酰基、可以具有取代基的氨基甲酰基、可以具有取代基的烷硫基、可以具有取代基的磺酰基、可以具有取代基的脲基、硝基、羟基、氰基、亚氨基、偶氮基、卤素原子及杂环基，更优选为可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的烯基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的氧基羰基、可以具有取代基的酰氧基、可以具有取代基的氨基、硝基、亚氨基及偶氮基。
L4及L5中的至少一个优选包含交联性基团(聚合性基团)，更优选L4及L5这两者包含交联性基团。
作为交联性基团，具体而言，可举出日本特开2010-244038号公报的[0040]～[0050]段中所记载的聚合性基团，从反应性及合成适性的观点考虑，优选丙烯酰基、甲基丙烯酰基、环氧基、氧杂环丁烷基及苯乙烯基，优选为丙烯酰基及甲基丙烯酰基。
作为L4及L5的优选的方式，可举出经上述交联性基团取代的烷基、经上述交联性基团取代的二烷氨基及经上述交联性基团取代的烷氧基。
本发明中，由于吸光各向异性膜中所含有的特定二色性色素化合物的取向度进一步提高的理由，优选特定二色性色素化合物具有由下述式(3)表示的结构。
[化学式14]
在此，式(3)中，A5表示可以具有取代基的2价芳香族基。
并且，式(3)中，L6及L7分别独立地表示取代基。
并且，式(3)中，E表示氮原子、氧原子及硫原子中的任意原子。
并且，式(3)中，R2表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的烷基及可以具有取代基的烷氧基中的任意基团或原子。
并且，式(3)中，R3表示氢原子或可以具有取代基的烷基。
并且，式(3)中，R4表示氢原子或取代基。
并且，式(3)中，p表示0或1。其中，当E为氮原子时，p为1，当E为氧原子或硫原子时，p为0。
上述式(3)中，A5所表示的“可以具有取代基的2价芳香族基”的具体例及优选方式与上述式(2)中的A1～A3所表示的“可以具有取代基的2价芳香族基”相同。
作为A5的尤其优选的方式，为亚苯基。
上述式(3)中，L6及L7所表示的“取代基”的具体例及优选方式与上述式(2)中的L4及L5所表示的“取代基”相同。
作为L6及L7的更优选的方式，L6及L7中的至少一个包含交联性基团，作为进一步优选的方式，L6及L7这两者包含交联性基团。由此，吸光各向异性膜中所含有的特定二色性色素化合物的取向度进一步提高，且层叠体的耐高温性及耐湿热性便更良好。
并且，作为L6及L7的交联性基团的更优选方式，为丙烯酰基或甲基丙烯酰基。
上述式(3)中，E表示氮原子、氧原子及硫原子中的任意原子，从合成适性的观点考虑，优选为氮原子。
并且，从容易使特定二色性色素化合物在短波长侧具有吸收(例如，在500～530nm附近具有极大吸收波长)的观点考虑，上述式(1)中的E优选为氧原子。
另一方面，从容易使特定二色性色素化合物在长波长侧具有吸收(例如，在600nm附近具有极大吸收波长)的观点考虑，上述式(3)中的E优选为氮原子。
上述式(3)中，R2表示氢原子、卤素原子、可以具有取代基的烷基及可以具有取代基的烷氧基中的任意基团或原子，优选为氢原子或可以具有取代基的烷基。
接着，对R2所表示的“可以具有取代基的烷基”及“可以具有取代基的烷氧基”进行说明。
作为取代基，例如可举出卤素原子等。
作为烷基，可举出碳原子数1～8的直链状、支链鎖状或环状烷基。其中，优选为碳原子数1～6的直链状烷基，更优选为碳原子数1～3的直链状烷基，进一步优选为甲基或乙基。
作为烷氧基，可举出碳原子数1～8的烷氧基。其中，优选为碳原子数1～6的烷氧基，更优选为碳原子数1～3的烷氧基，进一步优选为甲氧基或乙氧基。
上述式(3)中，R3表示氢原子或可以具有取代基的烷基，优选为可以具有取代基的烷基。
R3所表示的“可以具有取代基的烷基”的具体例及优选方式与上述式(3)的R2中的“可以具有取代基的烷基”相同，因此省略其说明。
另外，E为氮原子时，R3成为在式(2)中存在的基团(即，是指p＝1的情况)。另一方面，当E为氧原子或硫原子时，R3成为在式(3)中不存在的基团(即，是指p＝0的情况)。
上述式(3)中，R4表示氢原子或取代基。
R4所表示的“取代基”的具体例及优选方式与上述“可以具有取代基的2价芳香族基”中的取代基相同，由于优选方式相同而省略其说明。
上述式(3)中，p表示0或1。其中，当E为氮原子时，p为1，当E为氧原子或硫原子时，p为0。
作为由上述式(2)表示的特定二色性色素化合物，具体而言，例如可举出日本特开2010-152351号公报的[0051]～[0081]段中所记载的化合物，并将该内容编入本说明书中。
这些中，作为具有由上述式(3)表示的结构的特定二色性色素化合物，除了日本特开2010-152351号公报的[0074]～[0081]段中所记载的化合物(D-1)～(D-53)以外，还优选举出以下所示的化合物(D-54)～(D-58)。
[化学式15]
液晶组合物中所含有的二色性物质的含量相对于固体成分的总质量优选为1～40质量％，更优选为3～25质量％。
<表面改进剂>
液晶组合物优选含有表面改进剂。通过包含表面改进剂，涂布表面的平滑性提高，取向度进一步提高或者抑制凹陷及不均，从而可提高面内的均匀性。
作为表面改进剂，优选使液晶性化合物在涂布表面侧呈水平，并能够使用日本特开2011-237513号公报的[0253]～[0293]段中所记载的化合物(水平取向剂)。
当液晶组合物含有表面改进剂时，表面改进剂的含量相对于液晶组合物中的上述化合物B1(尤其，上述高分子液晶性化合物)与上述二色性物质的合计100质量份，优选为0.001～5质量份，优选为0.01～3质量份。
<聚合引发剂>
液晶组合物可以含有聚合引发剂。
作为聚合引发剂，可举出与在上述阻挡层形成用组合物中进行了说明的聚合引发剂相同的聚合引发剂。
<溶剂>
从操作性的观点考虑，液晶组合物优选含有溶剂。
作为溶剂，可举出与在上述阻挡层形成用组合物中进行了说明的溶剂相同的溶剂。
<形成方法>
使用了上述液晶组合物的吸光各向异性膜B的形成方法并无特别限定，可举出依次包括如下工序的方法，即将上述液晶组合物涂布到后述透明支撑体上而形成涂布膜的工序(以下，还称为“涂布膜形成工序”。)和使涂布膜中所含有的液晶性成分取向的工序(以下，还称为“取向工序”。)。
另外，液晶性成分不仅为上述液晶性化合物，当上述二色性物质具有液晶性时，为还含有具有液晶性的二色性物质的成分。
(涂布膜形成工序)
涂布膜形成工序为将液晶组合物涂布于透明支撑体上而形成涂布膜的工序。
通过使用含有上述溶剂的液晶组合物，或者通过加热等将液晶组合物形成为熔融液等液态物来使用，容易在透明支撑体上涂布液晶组合物。
作为液晶组合物的涂布方法，具体而言，例如可举出辊涂法、凹版印刷法、旋涂法、线棒涂布法、挤出涂布法、直接凹版涂布法、反向凹版涂布法、模涂法、喷涂法及喷墨法等公知的方法。
另外，本方式中，例示了在透明支撑体上涂布有液晶组合物的例子，但并不限定于此，例如可以在设置在透明支撑体上的取向膜上涂布液晶组合物。在后面对取向膜的详细内容进行叙述。
(取向工序)
取向工序为使涂布膜中所含有的液晶性成分取向的工序。由此，可得到吸光各向异性膜。
取向工序中可以具有干燥处理。通过干燥处理能够从涂布膜去除溶剂等成分。干燥处理可以通过将涂布膜在室温下放置规定时间的方法(例如，自然干燥)进行，也可以通过进行加热和/或送风的方法进行。
在此，液晶组合物中所含有的液晶性成分有时通过上述涂布膜形成工序或干燥处理而取向。例如，作为包含溶剂的涂布液而制备液晶组合物的方式中，通过对涂布膜进行干燥，并从涂布膜去除溶剂，可得到具有吸光各向异性的涂布膜(即，吸光各向异性膜)。
当干燥处理在涂布膜中所含有的液晶性成分向液晶相的转变温度以上的温度下进行时，可以不实施后面叙述的加热处理。
从制造适性等方面考虑，涂布膜中所含有的液晶性成分向液晶相的转变温度优选为10～250℃，更优选为25～190℃。上述转变温度为10℃以上时，无需进行用于将温度降低至呈液晶相的温度范围的冷却处理等，因此优选。并且，上述转变温度为250℃以下时，在成为比暂时呈液晶相的温度范围更高温的各向同性液体状态的情况下也无需为高温，且能够减少热能的浪费以及基板的变形及变质等，因此优选。
取向工序中优选为具有加热处理。由此，能够使涂布膜中所含有的液晶性成分取向，因此能够将加热处理后的涂布膜优选为地用作吸光各向异性膜。
关于加热处理，从制造适性等方面考虑，优选为10～250℃，更优选为25～190℃。并且，加热时间优选为1～300秒，更优选为1～60秒。
取向工序中可以具有在加热处理后实施的冷却处理。冷却处理为将加热后的涂布膜冷却至室温(20～25℃)左右的处理。由此，能够固定涂布膜中所含有的液晶性成分的取向。作为冷却方法，并无特别限定，能够通过公知的方法来实施。
通过以上工序能够得到吸光各向异性膜。
另外，本方式中，作为使涂布膜中所含有的液晶性成分取向的方法，可举出干燥处理及加热处理等，但并不限定于此，能够通过公知的取向处理来实施。
(其他工序)
吸光各向异性膜B的形成方法中，可以在上述取向工序后具有使吸光各向异性膜固化的工序(以下，还称为“固化工序”。)。
关于固化工序，例如当吸光各向异性膜B具有交联性基团(聚合性基团)时，可通过加热及/或光照射(曝光)来实施。其中，固化工序优选为通过光照射来实施。
固化中使用的光源能够使用红外光、可见光或紫外线等各种光源，但优选为紫外线。并且，固化时可以一边加热一边照射紫外线，也可以经由仅使特定波长透射的过滤器照射紫外线。
当加热的同时进行曝光时，曝光时的加热温度取决于吸光各向异性膜中所含有的液晶性成分向液晶相的转变温度，但优选为25～140℃。
并且，曝光可以在氮环境下进行。当通过自由基聚合进行吸光各向异性膜B的固化时，可减少基于氧的聚合阻碍，因此优选为在氮环境下进行曝光。
本发明中，吸光各向异性膜B的厚度并无特别限定，优选为0.1～5.0μm，更优选为0.3～1.5μm。
〔透明支撑体〕
本发明的层叠体可以在上述吸光各向异性膜B的与上述阻挡层A相反的一侧具有透明支撑体。
在此，本发明中所述的“透明”是指可见光的透射率为60％以上，优选为80％以上，尤其优选为90％以上。
作为形成透明支撑体的材料，例如可举出聚碳酸酯系聚合物；聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯、丙烯腈·苯乙烯共聚物(AS树脂)等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、乙烯·丙烯共聚物等聚烯烃系聚合物；氯乙烯系聚合物；尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；酰亚胺系聚合物；砜系聚合物；聚醚砜系聚合物；聚醚醚酮系聚合物；聚苯硫醚系聚合物；偏二氯乙烯系聚合物；乙烯醇系聚合物；乙烯醇缩丁醛系聚合物；芳酯系聚合物；聚甲醛系聚合物；环氧系聚合物等。
并且，作为形成透明支撑体的材料，能够优选地使用热塑性降冰板烯系树脂。作为这种热塑性降冰板烯系树脂，可举出Zeon Corporation制ZEONEX、ZEONOR、JSRCorporation制ARTON等。
并且，作为形成透明支撑体的材料，还能够优选地使用以三乙酰纤维素(TAC)为代表的纤维素系聚合物。
本发明中，透明支撑体的厚度并无特别限定，优选为100μm以下，更优选为80μm以下，进一步优选为10～80μm。
〔取向膜〕
本发明的层叠体可以在上述透明支撑体与上述吸光各向异性膜B之间具有取向膜。
作为形成取向膜的方法，例如可举出针对有机化合物(优选为聚合物)的膜表面的摩擦处理、无机化合物的斜向蒸镀、具有微槽的层的形成及利用Lang muir-Blodgett法(LB膜)得到的有机化合物(例如ω-二十三酸、二(十八烷基)甲基氯化铵、硬脂酸甲酯等)的累积等方法。而且，还已知通过电场的赋予、磁场的赋予或光照射来产生取向功能的取向膜。
其中，本发明中，从控制取向膜的预倾角的容易性的方面考虑，优选为通过摩擦处理形成的取向膜，从取向均匀性的方面考虑，还优选为通过光照射形成的光取向膜。
<摩擦处理取向膜>
作为通过摩擦处理形成的取向膜中使用的聚合物材料，在很多文献中均有记载，且能够得到多种市售品。本发明中，优选为使用聚乙烯醇或聚酰亚胺及其衍生物。关于取向膜，能够参考国际公开WO01/88574A1号公报的43页24行～49页8行的记载。取向膜的厚度优选为0.01～10μm，进一步优选为0.01～1μm。
<光取向膜>
作为通过光照射形成的取向膜中所使用的光取向化合物，在很多文献等中均有记载。本发明中，例如作为优选为的例子可举出日本特开2006-285197号公报、日本特开2007-76839号公报、日本特开2007-138138号公报、日本特开2007-94071号公报、日本特开2007-121721号公报、日本特开2007-140465号公报、日本特开2007-156439号公报、日本特开2007-133184号公报、日本特开2009-109831号公报、日本专利第3883848号、日本专利第4151746号中所记载的偶氮化合物、日本特开2002-229039号公报中所记载的芳香族酯化合物、日本特开2002-265541号公报、日本特开2002-317013号公报中所记载的具有光取向性单元的马来酰亚胺和/或烯基取代的纳迪克酰亚胺(nadimide)化合物、日本专利第4205195号、日本专利第4205198号中所记载的光交联性硅烷衍生物、日本特表2003-520878号公报、日本特表2004-529220号公报或者日本专利第4162850号中所记载的光交联性聚酰亚胺、聚酰胺或酯。更优选为偶氮化合物、光交联性聚酰亚胺、聚酰胺或酯。
这些中，作为光取向化合物，优选使用具有通过光的作用而产生二聚化及异构化中的至少一个的光反应性基团的感光性化合物。
并且，光反应性基团优选具有选自包括肉桂酸衍生物、香豆素衍生物、查尔酮衍生物、马来酰亚胺衍生物、偶氮苯化合物、聚酰亚胺化合物、芪化合物及螺吡喃化合物的组中的至少一种衍生物或化合物的骨架。
通过对由上述材料形成的光取向膜实施线偏振光或非偏振光照射而制造光取向膜。
本说明书中，“线偏振光照射”“非偏振光照射”是指用于使光取向材料发生光反应的操作。所使用的光的波长根据所使用的光取向材料而不同，只要是该光反应中所需要的波长，则并无特别限定。光照射中所使用的光的峰值波长优选为200nm～700nm，更优选为光的峰波长为400nm以下的紫外光。
关于光照射中所使用的光源，能够举出通常使用的光源，例如钨灯、卤素灯、氙灯、氙闪光灯、汞灯、汞氙灯、碳弧灯等灯、各种激光器[例如半导体激光器、氦氖激光器、氩离子激光器、氦镉激光器及YAG(钇·铝·石榴石)激光器]、发光二极管以及阴极射线管等。
作为得到线偏振光的方法，能够采用使用偏振板(例如，碘偏振板、2色性色素偏振板、线栅偏振板)的方法、使用利用了棱镜系元件(例如Glan-Thompson棱镜)或Brewster角的反射型起偏器的方法或使用从具有偏振光的激光源射出的光的方法。并且，可以使用过滤器或波长转换元件等来仅选择性地照射所需要的波长的光。
当所照射的光为线偏振光时，可采用从上表面或背面与取向膜表面垂直或倾斜地对取向膜照射光的方法。光的入射角度根据光取向材料而不同，优选为0～90°(垂直)，优选为40～90°。
当为非偏振光时，从斜向对取向膜照射非偏振光。其入射角度优选为10～80°，更优选为20～60°，进一步优选为30～50°。
照射时间优选为1分～60分，更优选为1分～10分。
当需要进行图案化时，能够采用将使用了光掩模的光照射实施图案制作中所需要的次数的方法或基于利用激光扫描写入图案的方法。
本发明中，当具有取向膜时，阻挡层A与吸光各向异性膜B的密合性变更良好，从该理由考虑，优选取向膜具有与上述阻挡层A中所含有的最大含量的化合物A1相同的成分。另外，是否含有与化合物A1相同的成分能够通过上述测定条件的TOF-SIMS测定取向膜在层叠体的截面上的部分而确认。
〔粘接层〕
本发明的层叠体中，从在上述阻挡层A的与上述吸光各向异性膜B侧相反的一侧贴合其他功能层(例如，后述λ/4板等)的观点考虑，可以在上述阻挡层A的与上述吸光各向异性膜B侧相反的一侧具有粘接层。
另外，本说明书中，“粘接层”为包含“粘合层”的概念。在此，“粘合”为“粘接”的一种，是指贴合到被粘物之后经过了一定时间后贴合的(粘合力)的变化小，并能够根据需要而剥离。并且，“粘接”为包含上述“粘合”的概念，简单地指贴合的对象物彼此被贴合成一体的状态。
粘接层优选含有粘合剂。
作为粘合剂，例如可举出橡胶系粘合剂、(甲基)丙烯酸系粘合剂、硅酮系粘合剂、聚氨酯系粘合剂、烷基乙烯基醚系粘合剂、聚乙烯醇系粘合剂、聚乙烯吡咯烷酮系粘合剂、聚丙烯酰胺系粘合剂、纤维素系粘合剂等。
这些中，从透明性、耐候性、耐热性等观点考虑，优选为丙烯酸系粘合剂(压敏粘合剂)。
粘接层例如能够通过如下方法等而形成，即将粘合剂的溶液(粘接剂组合物)涂布到剥离板上，并进行干燥之后转印到阻挡层A的表面的方法；将粘合剂的溶液直接涂布到阻挡层A的表面，并进行干燥的方法。
粘合剂的溶液(粘接剂组合物)例如作为将粘合剂溶解或分散于甲苯或乙酸乙酯等溶剂而成的10～40质量％左右的溶液而制备。
涂布法能够采用逆向涂布、凹版涂布等辊涂法、旋涂法、丝网涂布法、喷注式涂布法、浸渍法、喷涂法等。
并且，作为剥离板的构成材料，例如可举出聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二酯等合成树脂薄膜；橡胶板；纸；布；无纺布；丝网；泡沫板；金属箔等适当的薄叶材料等。
本发明中，任意粘接层的厚度并无特别限定，但优选为3μm～50μm，更优选为4μm～40μm，进一步优选为5μm～30μm。
〔λ/4板〕
本发明的层叠体可以在上述粘接层的与上述阻挡层A侧相反的一侧具有λ/4板。
其中，“λ/4板”是指具有λ/4功能的板，具体而言，为具有将某特定波长的线偏振光转换为圆偏振光(或将圆偏振光转换为线偏振光)的功能的板。
作为λ/4板的具体例，例如可举出美国专利申请公开2015/0277006号等。
例如，作为λ/4板为单层结构的方式，具体而言，可举出延伸聚合物薄膜、或在支撑体上设置有具有λ/4功能的光学各向异性层的相位差膜等，并且作为λ/4板为多层结构的方式，具体而言，可举出层叠λ/4板与λ/2板而成的宽频带λ/4板。
〔用途〕
本发明的层叠体能够用作偏振元件(偏振板)，具体而言，例如能够用作线偏振板或圆偏振板。
当本发明的层叠体不具有上述λ/4板等光学各向异性层时，层叠体能够用作线偏振板。另一方面，当本发明的层叠体具有上述λ/4板时，层叠体能够用作圆偏振板。
[层叠体的制造方法]
本发明的层叠体的制造方法为制作上述本发明的层叠体的层叠体的制造方法，并具有使用含有上述化合物B1的组合物而形成含有50质量％以上的化合物B1的吸光各向异性膜B的吸光各向异性膜形成工序和在所形成的吸光各向异性膜B上使用含有上述化合物A1的组合物而形成含有50质量％以上的化合物A1的阻挡层A的阻挡层形成工序。
并且，化合物A1与化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数计算，且由上述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系。
〔吸光各向异性膜形成工序〕
吸光各向异性膜形成工序为使用含有上述化合物B1的组合物而形成含有50质量％以上的化合物B1的吸光各向异性膜B。
在此，含有化合物B1的组合物与在本发明的层叠体所具有的吸光各向异性膜中进行了说明的液晶组合物相同而可以含有化合物B1(尤其，上述高分子液晶性化合物)，并且含有二色性物质、表面活性剂、聚合引发剂、溶剂及其他成分。
并且，作为使用了含有化合物B1的组合物的吸光各向异性膜B的形成方法，可举出与在本发明的层叠体所具有的吸光各向异性膜B中进行了说明的形成方法相同的方法、即具有上述涂布膜形成工序及取向工序的形成方法。
〔阻挡层形成工序〕
阻挡层形成工序为在上述吸光各向异性膜B上使用含有上述化合物A1的组合物而形成含有50质量％以上的化合物A1的阻挡层A的工序。
在此，含有化合物A1的组合物可以含有化合物A1(尤其，上述聚合性化合物)，并且含有聚合引发剂、溶剂及其他成分。
并且，作为使用了含有化合物A1的组合物的阻挡层A的形成方法，可举出与在本发明的层叠体所具有的阻挡层A中进行了说明的形成方法相同的方法、即涂布组合物，并进行干燥之后通过聚合而固定化的方法等。
[图像显示装置]
本发明的图像显示装置具有上述本发明的层叠体和设置在上述层叠体中的阻挡层A的与吸光各向异性膜B侧相反的一侧的显示元件。
本发明的图像显示装置中所使用的显示元件并无特别限定，例如可举出液晶单元、有机电致发光(以下，简称为“EL”)显示面板及等离子显示面板等。
这些中，优选为液晶单元或有机EL显示面板，更优选为液晶单元。即，作为本发明的图像显示装置，优选为作为显示元件而使用了液晶单元的液晶显示装置、作为显示元件而使用了有机EL显示面板的有机EL显示装置，更优选为液晶显示元件。
〔液晶显示装置〕
作为本发明的图像显示装置的一例的液晶显示装置，为具有上述本发明的层叠体(其中，不包含λ/4板)和液晶单元的液晶显示装置。
另外，本发明中，设置于液晶单元的两侧的层叠体中，优选为作为正面侧的偏振元件使用本发明的层叠体，更优选为作为正面侧及背面侧的偏振元件使用本发明的层叠体。
以下，对构成液晶显示装置的液晶单元进行详细说明。
<液晶单元>
液晶显示装置中所利用的液晶单元优选为VA(Vertical Alignment：垂直取向)模式、OCB(Optically Compensated Bend：光学补偿弯曲)模式、IPS(In-Plane-Switching：面内切换)模式或TN(Twisted Nematic：扭曲向列)，但并不限定于这些。
通过TN模式的液晶单元，在未施加电压时棒状液晶性分子实质上水平取向，而且以60～120°扭曲取向。TN模式的液晶单元作为彩色TFT(Thin Film Tran sistor：薄膜晶体管)液晶显示装置而被最广泛利用，且在许多文献中有记载。
通过VA模式的液晶单元，在未施加电压时棒状液晶性分子实质上垂直取向。关于VA模式的液晶单元，除了(1)使棒状液晶性分子在未施加电压时实质上垂直取向，且在实施电压时实质上水平取向的狭义的VA模式的液晶单元(日本特开平2-176625号公报中所记载)以外，还包括(2)为了扩大视角，将VA模式多域化的(MVA模式(Multi-domain VerticalAlignment：多域垂直对齐)的)液晶单元(SID97，Digest of tech.Papers(论文集)28(1997)845中所记载)、(3)使棒状液晶性分子在未施加电压时实质上垂直取向，且在施加电压时扭曲多域取向的模式(n-ASM(Axially symmetric aligned microcell：轴对称排列微单元)模式)的液晶单元(日本液晶讨论会的论文集58～59(1998)中所记载)及(4)SURVIVAL模式的液晶单元(LCD(liquid crystal displa y：液晶显示器)international98中发表)。并且，可以为PVA(Patterned Verti cal Alignment：图案化垂直取向)型、光取向(OpticalAlignment)型及PSA(Polymer-Sustained Alignment：聚合物稳定取向)型中的任一种。关于这些模式的详细内容，在日本特开2006-215326号公报及日本特表2008-538819号公报中有详细记载。
IPS模式的液晶单元中，棒状液晶性分子相对于基板实质上平行取向，且通过对基板面施加平行的电场而液晶分子平面响应。IPS模式在未施加电场的时成为黑色显示，且上下一对偏振板的吸收轴正交。在日本特开平10-054982号公报、日本特开平11-202323号公报、日本特开平9-292522号公报、日本特开平11-133408号公报、日本特开平11-305217号公报、日本特开平10-307291号公报等中公开了使用光学补偿板减少倾斜方向上的黑色显示时的漏光，并改进视角的方法。
〔有机EL显示装置〕
作为本发明的图像显示装置的一例的有机EL显示装置，例如优选为举出从观看侧依次具有上述本发明的层叠体(但包括粘合层及λ/4板)和有机EL显示面板的方式。
该情况下，层叠体中，从观看侧依次配置有透明支撑体、根据需要设置的取向膜、吸光各向异性膜、透明树脂层、粘合层及λ/4板。
并且，有机EL显示面板为使用在电极之间(阴极及阳极之间)夹着有机发光层(有机电致发光层)而成的有机EL元件而构成的显示面板。有机EL显示面板的构成并无特别限制，可采用公知的构成。
实施例
以下根据实施例对本发明进行进一步详细的说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理步骤等只要不脱离本发明的宗旨则能够适当进行变更。因此，本发明的范围不应由以下所示的实施例而限定性解释。
[实施例1]
〔透明支撑体1的制作〕
在厚度40μm的TAC基材(TG40、Fujifilm Corporation制)上用#17线棒连续涂布了下述组成的粘连层涂布液1。
然后，在100℃的温风下干燥2分钟而得到了在TAC基材上形成有厚度1.2μm的聚乙烯醇(PVA)粘连层的透明支撑体1。
另外，以固体成分浓度成为6.5wt％的方式将改性聚乙烯醇添加到粘连层涂布液1中。
改性聚乙烯醇
[化学式16]
〔取向膜C的形成〕
向下述结构的光取向材料C-1的1质量份添加2-丁氧基乙醇41.6质量份、二丙二醇单甲醚41.6质量份及纯水15.8质量份，并用0.45μm膜过滤器对所得到的溶液进行加压并过滤而制备了光取向膜用涂布液1。
接着，将所得到的光取向膜用涂布液1涂布到透明支撑体1上，并在60℃下干燥了1分钟。然后，对所得到的涂布膜使用偏振光紫外线曝光装置而照射直线偏振光紫外线(照度4.5mW、照射量300mJ/cm2)而制作了取向膜C。
光取向材料C-1
[化学式17]
〔吸光各向异性膜B的形成〕
在所得到的取向膜C上使用#4线棒连续涂布下述组成的吸光各向异性膜形成用组合物1而形成了涂布膜1。
接着，将涂布膜1在140℃下加热90秒钟，并将涂布膜1冷却至室温(23℃)。
接着，在80℃下加热60秒钟，并再次冷却至室温。
然后，使用高压汞灯在照度30mW/cm2的照射条件下照射10秒钟而在取向膜C上制作了吸光各向异性膜B。
高分子液晶性化合物L-1
[化学式18]
色素dye-1
[化学式19]
色素dye-2
[化学式20]
表面改进剂F-1
[化学式21]
〔阻挡层A的形成〕
在吸光各向异性膜B上使用#2线棒连续涂布下述阻挡层形成用组合物1，并在40℃下进行了90秒钟的干燥。
然后，使用高压汞灯在照度30mW/cm2的照射条件照射10秒钟而使树脂组合物固化，从而制作了在吸光各向异性膜B上形成有阻挡层A的层叠体。
使用薄片切割机对阻挡层A的截面进行切割，并用扫描型电子显微镜(ScanningElectron Microscope：SEM)观察而测定了膜厚，其结果膜厚为约0.7μm。
CEL2021P
光阳离子聚合引发剂(CPI-100P)
[化学式22]
表面改进剂F-2
[化学式23]
[实施例2]
替代吸光各向异性膜形成用组合物1而使用下述组成的吸光各向异性膜形成用组合物2，替代#4线棒而使用了#11的线棒，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
[实施例3]
替代阻挡层形成用组合物1而使用了下述组成的阻挡层形成用组合物2，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
[实施例4]
替代吸光各向异性膜形成用组合物1而使用了下述组成的吸光各向异性膜形成用组合物3，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
色素dye-3
[化学式24]
色素dye-4
[化学式25]
[实施例5]
替代吸光各向异性膜形成用组合物1而使用了实施例4中所使用的吸光各向异性膜形成用组合物3，除此以外，以与实施例3相同的办法制作了层叠体。
[实施例6]
替代阻挡层形成用组合物1而使用了下述组成的阻挡层形成用组合物3，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
光阳离子聚合引发剂PAG-1
[化学式26]
[实施例7]
替代阻挡层形成用组合物1而使用了下述组成的阻挡层形成用组合物4，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
[实施例8]
替代阻挡层形成用组合物1而使用了下述组成的阻挡层形成用组合物5，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
[实施例9]
替代阻挡层形成用组合物1而使用了下述组成的阻挡层形成用组合物6，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
[实施例10～14]
替代CEL2021P(Daicel Corporation制)而使用了下述表1中所记载且由下述式表示的化合物，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
[化学式27]
[比较例1～4]
替代CEL2021P(Daicel Corporation制)而使用了下述表1中所记载且由下述式表示的化合物，除此以外，以与实施例1相同的办法制作了层叠体。
[化学式28]
关于所制作的层叠体，通过上述方法测定化合物A1及化合物B1的含量，并且计算出化合物A1及化合物B1的汉森溶解度参数以及由上述式(I)表示的distance的值。将这些结果示于表1。
另外，关于实施例1～实施例14中所制作的层叠体，确认到吸光各向异性膜B及取向膜C中也含有化合物A1。
〔取向度〕
关于所制作的层叠体，使用JASCO Corporation制自动偏振光薄膜测定装置VAP-7070，并通过上述方法计算出取向度。将结果示于下述表1。
〔密合性〕
关于所制作的层叠体，使用切割刃在具有阻挡层A的一侧的表面以棋盘状划开纵向11根、横向11根切口而刻成合计100个正方形方格，在其表面贴合了Nitto DenkoCorporation制聚酯粘合胶带(No.31B)。经过30分钟之后，沿垂直方向快速剥取胶带，计算被剥离的方格的数量，并以以下基准进行了评价。将结果示于下述表1。
A：100个方格中完全未发现剥离。
B：100个方格中发现了1～10个方格的剥离(在允许范围内)。
C：100个方格中发现了10个方格以上的剥离。
从表1所示的结果可知，阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1与吸光各向异性膜B中所含有的含量最多的化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数计算，且由上述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系时，吸光各向异性膜与阻挡层的密合性变良好(实施例1～实施例14)。
[实施例15]
〔光取向膜用组合物的制备〕
<聚合物C-1的合成>
向具备搅拌机、温度计、滴加漏斗及回流冷凝器的反应容器装入2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷100.0质量份、甲基异丁酮500质量份及三乙胺10.0质量份，并在室温下对混合物进行了搅拌。接着，通过滴加漏斗经30分钟将去离子水100质量份滴加到所得到的混合物之后，在回流下对混合物进行混合的同时在80℃下反应了6小时。反应结束之后，取出有机相，并用0.2质量％硝酸铵水溶液将有机相清洗至清洗后的水呈中性。然后，在减压下从所得到的有机相蒸馏去除溶剂及水，从而作为粘性透明液体得到了具有环氧基的聚有机硅氧烷。
关于该具有环氧基的聚有机硅氧烷，进行1H-NMR(Nuclear Magnetic Resonance：核磁共振)分析的结果，确认到在化学位移(δ)＝3.2ppm附近得到如理论强度那样的基于环氧乙烷基的峰，且在反应中未发生环氧基的副反应。该具有环氧基的聚有机硅氧烷的重均分子量Mw为2,200、环氧当量为186g/摩尔。
接着，向100mL的三口烧瓶装入在上述中的得到的具有环氧基的聚有机硅氧烷10.1质量份、含丙烯基羧酸(TOAGOSEI CO.，LTD.、商品名“ARONIX M-5300”、丙烯酸ω-羧基聚己内酯(聚合度n≈2))0.5质量份、乙酸丁酯20质量份、日本特开2015-026050号公报的合成例1的方法中所得到的肉桂酸衍生物1.5质量份及四丁基溴化铵0.3质量份，在90℃下将所得到的混合物搅拌了12小时。搅拌之后，用与所得到的混合物等量(质量)的乙酸丁酯稀释混合物，进一步将所稀释的混合物清洗了3次。将所得到的混合物进行浓缩，并重复两次用乙酸丁酯稀释的操作，最终得到了包含具有光取向性基的聚有机硅氧烷(下述聚合物C-1)的溶液。该聚合物C-1的重均分子量Mw为9,000。并且，1H-NMR分析的结果，聚合物C-1中的具有肉桂酸酯基的成分为23.7质量％。
聚合物C-1
[化学式29]
<光取向膜形成用组合物2的制备>
混合以下成分而制备了光取向膜形成用组合物2。
低分子化合物B-1
[化学式30]
添加剂P-1
[化学式31]
〔光学各向异性层用涂布液的制备〕
制备了下述组成的光学各向异性层用涂布液。
另外，与下述液晶性化合物L-3及L-4的丙烯酰氧基相邻的基团表示亚丙基(甲基经亚乙基取代的基团)，下述液晶性化合物L-3及L-4表示甲基的位置不同的位置异构体的混合物。
[化学式32]
〔纤维素酰化物薄膜1的制作〕
<芯层纤维素酰化物浓液的制作>
将下述的组成物投入到搅拌罐进行搅拌而溶解各成分，从而制备了用作芯层纤维素酰化物浓液的乙酸纤维素溶液。
化合物F
[化学式33]
<外层纤维素酰化物浓液的制作>
向上述芯层纤维素酰化物浓液90质量份添加10质量份的下述消光剂溶液，从而制备了用作外层纤维素酰化物浓液的乙酸纤维素溶液。
<纤维素酰化物薄膜1的制作>
用平均孔径34μm的滤纸及平均孔径10μm的烧结金属过滤器对上述芯层纤维素酰化物浓液和上述外层纤维素酰化物浓液进行过滤之后，使上述芯层纤维素酰化物浓液和其两侧的外层纤维素酰化物浓液这3层同时从流延口流延到20℃的滚筒上(带式流延机)。
接着，在溶剂含有率大致20质量％的状态下进行剥取，并用拉幅机夹子固定薄膜的宽度方向上的两端，且沿横向以延伸倍率1.1倍延伸的同时进行了干燥。
然后，通过在热处理装置的辊间进行搬送进一步进行干燥，从而制作了厚度40μm的光学薄膜，并将其作为实施例20的光学薄膜。所得到的纤维素酰化物薄膜1的面内延迟为0nm。
〔λ/4相位差薄膜1的制作〕
用棒涂机在所制作的纤维素酰化物薄膜1的板侧表面涂布了预先制备的光取向膜用组合物2。
涂布后，在120℃的加热板上干燥1分钟而去除溶剂，从而形成了厚度0.3μm的光异构化组合物层。
对所得到的光异构化组合物层照射偏振光紫外线(10mJ/cm2、使用超高压汞灯)而形成了光取向膜。
接着，用棒涂机在光取向膜上涂布预先制备的光学各向异性层用涂布液而形成了组合物层。
用加热板暂时将所形成的组合物层加热至110℃之后，冷却至60℃而使取向稳定。
然后，保持60℃，并在氮环境下(氧浓度100ppm)通过紫外线照射(500mJ/cm2、使用超高压汞灯)使取向固定而形成厚度2.3μm的光学各向异性层，从而制作了λ/4相位差膜1。所得到的光学层叠体的面内延迟为140nm。
〔正C板膜2的制作〕
作为伪支撑体，使用了市售的三乙酰纤维素薄膜“Z-TAC”(Fujifilm Corporation制)(将其作为纤维素酰化物薄膜2)。使纤维素酰化物薄膜2通过温度60℃的介电加热辊，并将薄膜表面温度升温至40℃之后，用棒涂器以涂布量14ml/m2在薄膜的一面涂布下述所示的组成的碱溶液，并加热至110℃，在Noritake Co.，Ltd.制蒸汽式远红外线加热器下搬送了10秒钟。
接着，同样地使用棒涂器将纯水涂布了3ml/m2。
接着，将基于喷泉涂布机的水洗和基于气刀的脱水重复3次之后，在70℃的干燥区域搬送10秒钟并干燥，从而制作了进行了碱皂化处理的纤维素酰化物薄膜2。
使用上述进行了碱皂化处理的纤维素酰化物薄膜2，并使用#8的线棒连续涂布了下述的组成的取向膜形成用涂布液。在60℃的暖风下干燥60秒钟，进一步在100℃暖风下干燥120秒钟而形成了取向膜。
在上述中所制作的具有取向膜的纤维素酰化物薄膜2上涂布下述涂布液N，并在60℃下老化60秒钟之后，在空气下使用70mW/cm2的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.，Ltd.制)照射1000mJ/cm2的紫外线，并使其取向状态固定，由此使聚合性棒状液晶化合物垂直取向而制作了正C板膜2。波长550nm下Rth为-60nm。
[化学式34]
〔圆偏振片的制作〕
在λ/4相位差薄膜1的纤维素酰化物薄膜1侧经由粘合剂贴合在实施例1中制作的层叠体的阻挡层侧而制作了圆偏振片。
并且，同样地，在λ/4相位差薄膜1的光学各向异性层侧经由粘合剂转印在上述中制作的正C板膜2的光学各向异性膜侧，并去除纤维素酰化物薄膜2之后在λ/4相位差薄膜1的纤维素酰化物薄膜1侧经由粘合剂贴合在实施例1中制作的层叠体的阻挡层侧而制作了另一圆偏振片。
对搭载有机EL面板(有机EL显示元件)的Samsung Electronics Co.，Ltd.制GALAXY S5进行分解，从有机EL显示装置剥离附圆偏振片触摸面板，进而从触摸面板剥离圆偏振片而分别单独剥离了有机EL显示元件、触摸面板及圆偏振片。接着，将单独剥离的触摸面板与有机EL显示元件再次贴合，进而以在上述中制作的圆偏振片的λ/4相位差薄膜1侧或正C板膜2侧成为面板侧的方式贴合到触摸面板上而制作了有机EL显示装置。
关于所制作的有机EL显示装置，进行了与作为λ/4板而使用PURE-ACE WR(TeijinLimited制)的情况相同的评价，其结果确认到在作为λ/4板而使用了λ/4相位差薄膜1和正C板膜2的层叠体的情况下也发挥相同的效果。
符号说明
10、20、30、40-层叠体，12-透明支撑体，14-取向膜，16-吸光各向异性膜，18-阻挡层，19-粘接层。
Claims (10)
1.一种层叠体，其具有阻挡层A和吸光各向异性膜B，其中，
所述阻挡层A以相邻的方式设置在所述吸光各向异性膜B上，
所述阻挡层A中所含有的含量最多的化合物A1与所述吸光各向异性膜B中所含有的含量最多的化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数计算且由下述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系，
所述吸光各向异性膜B含有与所述化合物A1相同的成分，
distance＝{4×(δD(B1)-δD(A1))2+(δP(B1)-δP(A1))2+(δH(B1)-δH(A1))2}0.5……(I)
所述式(I)中，δD为汉森溶解度参数的分散项，δP为汉森溶解度参数的极性项，δH表示汉森溶解度参数的氢键项，
其中，当所述化合物A1为聚合物时，所述式(I)中的δD(A1)、δP(A1)及δH(A1)为形成构成所述聚合物的重复单元中含量最多的重复单元的单体的汉森溶解度参数，
并且，当所述化合物A1为聚合物时，与所述吸光各向异性膜B中所含有的所述化合物A1相同的成分是指与所述聚合物相同的成分或与形成构成所述聚合物的重复单元中含量最多的重复单元的单体相同的成分。
2.根据权利要求1所述的层叠体，其中，
在所述吸光各向异性膜B的与所述阻挡层A相反的一侧具有透明支撑体，
在所述透明支撑体与所述吸光各向异性膜B之间具有取向膜。
3.根据权利要求2所述的层叠体，其中，
所述取向膜含有与所述化合物A1相同的成分。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的层叠体，其中，
所述吸光各向异性膜B的经可见度校正的取向度为0.90以上。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的层叠体，其中，
所述化合物B1为由下述式(1)表示的化合物或其聚合物，
Q1-D1-G1-D2-G2-D3-Q2……(1)
所述式(1)中，Q1及Q2分别独立地表示氢原子或1价有机基，Q1及Q2中的至少一个表示聚合性基团，
并且，D1、D2及D3分别独立地表示单键或-(C＝O)O-、-O(C＝O)-、经取代或未经取代的碳原子数1～20的亚烷基、经取代或未经取代的碳原子数6～40的亚芳基、经取代或未经取代的碳原子数4～30的杂亚芳基、经取代或未经取代的碳原子数6～40的环亚烷基或构成这些基团的-CH2-的1个以上被取代为-O-、-S-、-NR-或-PR-而成的2价连接基，R表示氢原子或碳原子数1～20的烷基，
并且，G1及G2分别独立地表示经取代或未经取代的碳原子数6～40的亚芳基、经取代或未经取代的碳原子数4～30的杂亚芳基或经取代或未经取代的碳原子数6～40的环亚烷基。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的层叠体，其中，
所述吸光各向异性膜B为使用含有所述化合物B1和二色性物质的组合物而形成的膜。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的层叠体，其中，在所述阻挡层A的与所述吸光各向异性膜B侧相反的一侧还具有粘接层。
8.根据权利要求7所述的层叠体，其中，在所述粘接层的与所述阻挡层A侧相反的一侧还具有λ/4板。
9.一种层叠体的制造方法，其制作具有阻挡层A和吸光各向异性膜B的层叠体，所述制造方法包括：
吸光各向异性膜形成工序，使用含有化合物B1的组合物而形成含有50质量％以上的所述化合物B1的吸光各向异性膜B；及
阻挡层形成工序，在所述吸光各向异性膜B上使用含有化合物A1的组合物而形成含有50质量％以上的所述化合物A1的阻挡层A，
所述化合物A1与所述化合物B1的关系满足根据汉森溶解度参数计算且由下述式(I)表示的distance的值成为0.0～5.0的范围的关系，
distance＝{4×(δD(B1)-δD(A1))2+(δP(B1)-δP(A1))2+(δH(B1)-δH(A1))2}0.5……(I)
所述式(I)中，δD为汉森溶解度参数的分散项，δP为汉森溶解度参数的极性项，δH表示汉森溶解度参数的氢键项，
其中，当所述化合物A1为聚合物时，所述式(I)中的δD(A1)、δP(A1)及δH(A1)为形成构成所述聚合物的重复单元中含量最多的重复单元的单体的汉森溶解度参数。
10.一种图像显示装置，其具有权利要求1至8中任一项所述的层叠体和设置在所述层叠体的与阻挡层A的吸光各向异性膜B侧相反的一侧的显示元件。
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