CN110989221B - 显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置。显示基板包括位于扇出区域的公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述断点修复单元分别与所述信号线和第一公共电极线连接，所述断点修复单元用于在所述信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通。本发明通过在扇出区域设置断点修复单元和双线结构的公共电极线，实现了扇出区域数据线断线不良的修复，避免了产品报废，提升了产品良品率。

Description

显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置。

背景技术

液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，近年来得到迅速发展，越来越多地被应用于高性能显示领域中。

目前，液晶显示装置的主体结构包括相对设置的阵列(Thin Film Transistor，TFT)基板和彩膜(Color Filter，CF)基板，以及设置在两基板之间的液晶(LiquidCrystal，LC)层。阵列基板包括显示区域、扇出(Fan-out)区域和电路区域，扇出区域设置在显示区域与电路区域之间。显示区域设置有栅线和数据线，多条栅线和多条数据线垂直交叉形成矩阵排布的多个像素，每个像素内设置有薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)，电路区域设置有驱动电路等，扇出区域设置有数据引线等。

在阵列基板制备过程中，不可避免的会出现数据线断线不良。目前，对于显示区域出现的数据线断线不良，现有技术通常是通过像素内的相应电极进行维修，但对于扇出区域出现的数据线断线不良，现有技术尚无有效的维修方案。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置，以解决现有技术无法维修扇出区域数据线断线的问题。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板，包括位于扇出区域的公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述断点修复单元分别与所述信号线和第一公共电极线连接，所述断点修复单元用于在所述信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通。

可选地，所述第一公共电极线、第二公共电极线和多个连接条设置在基底上；所述信号线包括通过第一连接电极连接的数据引线和数据线，所述数据引线设置在所述基底上，与所述断点修复单元连接；第一绝缘层覆盖所述数据引线，所述数据线设置在所述第一绝缘层上，与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域；第二绝缘层覆盖所述数据线，所述第一连接电极设置在所述第二绝缘层上，通过过孔与所述数据引线和数据线连接。

可选地，所述断点修复单元包括设置在基底上的修复电极层，覆盖所述修复电极层的第一绝缘层，设置在所述第一绝缘层上的搭接电极层；所述修复电极层包括设置在基底上的第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，所述第一修复电极与信号线连接，所述第二修复电极与第一公共电极线连接，所述第三修复电极设置在所述第一修复电极和第二修复电极之间，所述第三修复电极用于在所述信号线出现断点时，通过所述搭接电极层与所述第一修复电极和第二修复电极连接，使断点两侧的信号线连通。

可选地，所述搭接电极层包括设置在所述第一绝缘层上的第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极；所述第一搭接电极与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，第二搭接电极与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第一搭接电极与第二搭接电极之间设置有半导体层；所述第三搭接电极与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，第四搭接电极与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第三搭接电极与第四搭接电极之间设置有半导体层。

可选地，所述第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极均是由矩形部和条形部构成的L形状，所述第一搭接电极的矩形部和第二搭接电极的条形部与所述第一修复电极有重叠区域，所述第三搭接电极的矩形部和第四搭接电极的条形部与所述第二修复电极有重叠区域，所述第一搭接电极的条形部、第二搭接电极的矩形部、第三搭接电极的条形部和第四搭接电极的矩形部与所述第三修复电极有重叠区域。

可选地，所述断点修复单元还包括覆盖所述搭接电极层的第二绝缘层和设置在所述第二绝缘层上的第二连接电极、第三连接电极和第四连接电极，所述第二连接电极通过过孔与所述第三修复电极、第二搭接电极和第四搭接电极连接，所述第三连接电极通过过孔与所述第一修复电极和第一搭接电极连接，所述第四连接电极通过过孔与所述第二修复电极和第三搭接电极连接。

可选地，所述第一公共电极线的线宽和第二公共电极线的线宽均大于或等于8μm，所述第一公共电极线与第二公共电极线之间的间距、所述信号线与一侧连接条之间的间距、所述信号线与另一侧连接条之间的间距均大于或等于5μm。

本发明实施例提供了一种显示装置，包括前述的显示基板。

为了解决上述技术问题，本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法，包括：

在扇出区域形成公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；其中，所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述断点修复单元分别与所述信号线和公共电极线连接，所述断点修复单元用于在所述信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通。

可选地，在扇出区域形成公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元，包括：

在基底上形成数据引线、公共电极线和断点修复单元的修复电极层；所述修复电极层包括第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，所述第一修复电极与数据引线连接，所述第二修复电极与第一公共电极线连接，所述第三修复电极设置在第一修复电极与第二修复电极之间；

形成与所述数据引线连接的数据线和断点修复单元的搭接电极层，所述数据线与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域。

可选地，形成与所述数据引线连接的数据线和断点修复单元的搭接电极层，包括：

形成覆盖所述数据引线、公共电极线和修复电极层的第一绝缘层；

在所述第一绝缘层上形成半导体层；

形成数据线和断点修复单元的搭接电极层；所述搭接电极层包括第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极；所述第一搭接电极分别与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，第二搭接电极分别与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述半导体层设置在所述第一搭接电极与第二搭接电极之间；所述第三搭接电极分别与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，第四搭接电极分别与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述半导体层设置在所述第三搭接电极与第四搭接电极之间；

形成覆盖所述数据线和搭接电极层的第二绝缘层；

在所述第二绝缘层上形成连接电极层；所述连接电极层包括第一连接电极、第二连接电极、第三连接电极和第四连接电极，所述第一连接电极通过过孔连接所述数据引线和数据线，所述第二连接电极通过过孔连接所述第三修复电极、第二搭接电极和第四搭接电极，所述第三连接电极通过过孔连接所述第一修复电极和第一搭接电极，所述第四连接电极通过过孔连接所述第二修复电极和与第三搭接电极。

为了解决上述技术问题，本发明实施例还提供了一种显示基板的修复方法，显示基板包括包括位于扇出区域的公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述信号线与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域，所述断点修复单元分别与所述信号线和公共电极线连接，所述修复方法包括：

对所述第一重叠区域进行焊接，使位于断点一侧的信号线和第一公共电极线连接；对所述第一重叠区域以外的第一公共电极线和连接条进行切割，使所述第一重叠区域与第二重叠区域隔离；

对所述断点修复单元进行焊接，使位于断点另一侧的信号线和第一公共电极线连接。

可选地，所述断点修复单元包括设置在基底上的修复电极层，覆盖所述修复电极层的第一绝缘层，设置在所述第一绝缘层上的搭接电极层；所述修复电极层包括设置在基底上的第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，所述第一修复电极与信号线连接，所述第二修复电极与第一公共电极线连接，所述第三修复电极设置在所述第一修复电极和第二修复电极之间；对所述断点修复单元进行焊接，包括：

对所述搭接电极层与第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接。

可选地，所述搭接电极层包括设置在所述第一绝缘层上的第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极，所述第一搭接电极和第二搭接电极分别与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第一修复电极与第一搭接电极连接，所述第三搭接电极和第四搭接电极分别与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第二修复电极与第三搭接电极连接，所述第三修复电极与第二搭接电极和第四搭接电极连接；对所述搭接电极层与第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极的重叠区域进行焊接，包括：

对所述第一搭接电极与第三修复电极的重叠区域、第四搭接电极与第二修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接；或者，

对所述第二搭接电极与第一修复电极的重叠区域、第三搭接电极与第三修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接；或者，

对所述第二搭接电极与第一修复电极的重叠区域、第四搭接电极与第二修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接。

本发明实施例提供了一种显示基板及其制备方法和修复方法、显示装置，通过在扇出区域设置断点修复单元和双线结构的公共电极线，断点修复单元用于在信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通，实现了扇出区域数据线断线不良的修复，避免了产品报废，提升了产品良品率。同时，断点修复单元还具有消除信号线静电的作用。

当然，实施本发明的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。本发明的其它特征和优点将在随后的说明书实施例中阐述，并且，部分地从说明书实施例中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明实施例的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

图1为本发明实施例显示基板的结构示意图；

图2为图1中A-A向的剖视图；

图3为图1中B-B向的剖视图；

图4为本发明实施例形成数据引线、公共电极线等图案后的示意图；

图5为图4中A-A向的剖视图；

图6为图4中B-B向的剖视图；

图7为本发明实施例形成数据线等图案后的示意图；

图8为图7中A-A向的剖视图；

图9为图7中B-B向的剖视图；

图10为本发明实施例形成第二绝缘层等图案后的示意图；

图11为图10中A-A向的剖视图；

图12为图10中B-B向的剖视图；

图13为本发明实施例修复数据线断线不良一种实施方式的示意图；

图14为本发明实施例修复数据线断线不良另一实施方式的示意图；

图15为本发明实施例公共电极线的结构示意图。

附图标记说明:

10—基底； 11—第一绝缘层； 12—第二绝缘层；

20—数据引线； 21—第一修复电极； 22—第二修复电极；

23—第三修复电极； 30—公共电极线； 31—第一公共电极线；

32—第二公共电极线； 33—连接条； 41—第一重叠区域；

42—第二重叠区域； 43—第三重叠区域； 44—第四重叠区域；

45—第五重叠区域； 46—第六重叠区域； 50—数据线；

51—第一搭接电极； 52—第二搭接电极； 53—第三搭接电极；

54—第四搭接电极； 55—半导体层； 61—第一连接电极；

62—第二连接电极； 63—第三连接电极； 64—第四连接电极。

具体实施方式

下面，参照附图对实施方式进行说明。注意，实施方式可以以多个不同形式来实施。所属技术领域的普通技术人员可以很容易地理解一个事实，就是方式和内容可以在不脱离本发明的宗旨及其范围的条件下被变换为各种各样的形式。因此，本发明不应该被解释为仅限定在下面的实施方式所记载的内容中。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了各构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本发明的一个方式并不一定限定于该尺寸，附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本发明的一个方式不局限于附图所示的形状或数值等。

本说明书中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，而不是为了在数量方面上进行限定的。

在本说明书中，为了方便起见，使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系，仅是为了便于描述本说明书和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此，不局限于在说明书中说明的词句，根据情况可以适当地更换。

在本说明书中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间件间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本说明书中，晶体管是指至少包括栅电极、漏电极以及源电极这三个端子的元件。晶体管在漏电极(漏电极端子、漏区域或漏电极)与源电极(源电极端子、源区域或源电极)之间具有沟道区域，并且电流能够流过漏电极、沟道区域以及源电极。注意，在本说明书中，沟道区域是指电流主要流过的区域。

在本说明书中，在使用极性相反的晶体管的情况或电路工作中的电流方向变化的情况等下，“源电极”及“漏电极”的功能有时互相调换。因此，在本说明书中，“源电极”和“漏电极”可以互相调换。

在本说明书中，“电连接”包括构成要素通过具有某种电作用的元件连接在一起的情况。“具有某种电作用的元件”只要可以进行连接的构成要素间的电信号的授受，就对其没有特别的限制。“具有某种电作用的元件”的例子不仅包括电极和布线，而且还包括晶体管等开关元件、电阻器、电感器、电容器、其它具有各种功能的元件等。

在本说明书中，“平行”是指两条直线形成的角度为-10°以上且10°以下的状态，因此，也包括该角度为-5°以上且5°以下的状态。另外，“垂直”是指两条直线形成的角度为80°以上且100°以下的状态，因此，也包括85°以上且95°以下的角度的状态。

在本说明书中，“膜”和“层”可以相互调换。例如，有时可以将“导电层”换成为“导电膜”。与此同样，有时可以将“绝缘膜”换成为“绝缘层”。

目前，液晶显示装置制造过程中，当成盒后检测出数据线断线(Data Open)不良时，如果断线发生在显示区域，通常是通过像素内的相应电极进行维修后出厂。如果检测出断线发生在扇出区域，由于没有有效的维修方法，产品只能报废，降低了产品良品率，提高了生产成本。

为了解决现有技术无法维修扇出区域数据线断线的问题，本发明实施例提供了一种显示基板。本发明实施例的设计思路是，在显示基板的扇出区域设置双线结构的公共电极线和双层结构的断点修复单元，当出现数据线断线不良时，利用其中一条公共电极线和断点修复单元，将断点两侧的数据线连接起来，实现扇出区域数据线断线不良的修复。

本发明实施例显示基板包括位于扇出区域的公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述断点修复单元分别与所述信号线和第一公共电极线连接，所述断点修复单元用于在所述信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通。同时，断点修复单元还用于消除所述信号线的静电。

其中，所述第一公共电极线、第二公共电极线和多个连接条设置在基底上，所述断点修复单元的第二端与所述第一公共电极线连接。所述信号线包括通过第一连接电极连接的数据引线和数据线，所述数据引线设置在所述基底上，与所述断点修复单元的第一端连接；第一绝缘层覆盖所述数据引线，所述数据线设置在所述第一绝缘层上，与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域；第二绝缘层覆盖所述数据线，所述第一连接电极设置在所述第二绝缘层上，通过过孔与所述数据引线和数据线连接。

其中，所述断点修复单元包括设置在基底上的修复电极层，覆盖所述修复电极层的第一绝缘层，设置在所述第一绝缘层上的搭接电极层；所述修复电极层包括设置在基底上的第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，作为所述断点修复单元的第一端的第一修复电极与所述数据引线连接，作为所述断点修复单元的第二端的第二修复电极与所述第一公共电极线连接，所述第三修复电极间隔设置在所述第一修复电极和第二修复电极之间，所述第三修复电极用于在所述信号线出现断点时，通过所述搭接电极层与所述第一修复电极和第二修复电极连接，即第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极连接在一起，使断点两侧的信号线连通。

其中，所述断点修复单元还包括覆盖所述搭接电极层的第二绝缘层以及设置在所述第二绝缘层上的连接电极层，所述搭接电极层用于通过所述连接电极层与所述修复电极层连接；所述搭接电极层包括设置在所述第一绝缘层上间隔设置的第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极，所述第一搭接电极与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第二搭接电极与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第三搭接电极与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第四搭接电极与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域；所述连接电极层包括设置在所述第二绝缘层上的第一连接电极、第二连接电极、第三连接电极和第四连接电极，所述第一连接电极通过过孔与所述数据引线和数据线连接，所述第二连接电极通过过孔与所述第三修复电极、第二搭接电极和第四搭接电极连接，所述第三连接电极通过过孔与所述第一修复电极和第一搭接电极连接，所述第四连接电极通过过孔与所述第二修复电极和第三搭接电极连接。

其中，所述数据引线、公共电极线、修复电极层同层设置，且通过同一次构图工艺形成。所述数据线和搭接电极层同层设置，且通过同一次构图工艺形成。所述第一连接电极、第二连接电极、第三连接电极和第四连接电极，同层设置，且通过同一次构图工艺形成。

图1、图2和图3为本发明实施例显示基板的结构示意图，其中图1为平面图，图2为图1中A-A向的剖视图，图3为图1中B-B向的剖视图。如图1、图2和图3所示，本发明实施例显示基板包括：

基底10；

设置在基底10上的数据引线20、公共电极线30和断点修复单元的修复电极层；其中，公共电极线30包括平行设置的第一公共电极线31、第二公共电极线32和多个连接条33，多个连接条33设置在第一公共电极线31和第二公共电极线32之间，且分别与第一公共电极线31和第二公共电极线32连接，每个连接条33设置在相邻的数据线50之间；断点修复单元的修复电极层包括第一修复电极21、第二修复电极22和第三修复电极23，第一修复电极21与数据引线20连接，第二修复电极22与第一公共电极线31连接，第三修复电极23设置在第一修复电极21与第二修复电极22之间；

覆盖数据引线20、公共电极线30和修复电极层的第一绝缘层11；

设置在第一绝缘层11上的数据线50和断点修复单元的搭接电极层；其中，数据线50与公共电极线30绝缘交叉，形成第一重叠区域41和第二重叠区域42；搭接电极层包括间隔设置的第一搭接电极51、第二搭接电极52、第三搭接电极53和第四搭接电极54，第一搭接电极51分别与第一修复电极21和第三修复电极23有重叠区域，第二搭接电极52也分别与第一修复电极21和第三修复电极23有重叠区域，第一搭接电极51与第二搭接电极52之间设置有半导体层55，第三搭接电极53分别与第二修复电极22和第三修复电极23有重叠区域，第四搭接电极54也分别与第二修复电极22和第三修复电极23有重叠区域，第三搭接电极53与第四搭接电极54之间设置有半导体层55；

覆盖数据线50和搭接电极层的第二绝缘层12，第二绝缘层12上设置有多个过孔；

设置在第二绝缘层12上的连接电极层；连接电极层包括第一连接电极61、第二连接电极62、第三连接电极63和第四连接电极64，第一连接电极61通过过孔将数据引线20与数据线50连接起来，第二连接电极62通过过孔将第三修复电极23、第二搭接电极52与第四搭接电极54连接起来，第三连接电极63通过过孔将第一修复电极21与第一搭接电极51连接起来，第四连接电极64通过过孔将第二修复电极22与第三搭接电极53连接起来。

综上，本发明实施例显示基板包括三个导电层，第一导电层、第二导电层和第三导电层，第一导电层与第二导电层之间间隔有第一绝缘层，第二导电层与第三导电层之间间隔有第二绝缘层。第一导电层包括水平设置的公共电极线30、垂直设置的数据引线20、第一修复电极21、第二修复电极22和第三修复电极23，上述图案同层设置且通过同一次构图工艺形成。公共电极线30包括平行设置的第一公共电极线31和第二公共电极线32，且第一公共电极线31和第二公共电极线32之间通过多个间隔设置的连接条33连接。第一修复电极21与数据引线20连接，第二修复电极22与第一公共电极线31连接，第三修复电极23设置在第一修复电极21和第二修复电极22之间。第二导电层包括垂直设置数据线50、第一搭接电极51、第二搭接电极52、第三搭接电极53和第四搭接电极54，上述图案同层设置且通过同一次构图工艺形成。数据线50与公共电极线30垂直交叉，数据线50与第一公共电极线31形成第一重叠区域41，数据线50与第二公共电极线32形成第二重叠区域42。第一搭接电极51和第二搭接电极52分别跨设在第一修复电极21和第三修复电极23的上方，第三搭接电极53和第四搭接电极54分别跨设在第二修复电极22和第三修复电极23的上方。第三导电层包括第一连接电极61、第二连接电极62、第三连接电极63和第四连接电极64，上述图案同层设置且通过同一次构图工艺形成。第一连接电极61通过过孔连接数据引线20和数据线50，第二连接电极62通过过孔连接第三修复电极23、第二搭接电极52和第四搭接电极54，第三连接电极63通过过孔连接第一搭接电极51和第一修复电极21，第四连接电极64通过过孔连接第三搭接电极53和第二修复电极22。

本发明实施例提供了一种显示基板，通过在扇出区域设置断点修复单元和双线结构的公共电极线，断点修复单元用于在信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通，实现了扇出区域数据线断线不良的修复，避免了产品报废，提升了产品良品率。同时，断点修复单元还具有消除信号线静电的作用。

下面通过显示基板的制备过程进一步说明本实施例的技术方案。本实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理，是相关技术中成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺，涂覆可采用已知的涂覆工艺，刻蚀可采用已知的方法，在此不做具体的限定。在本实施例的描述中，需要理解的是，“薄膜”是指将某一种材料在基底上利用沉积或涂覆工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“薄膜”无需构图工艺或光刻工艺，则该“薄膜”还可以称为“层”。若在整个制作过程当中该“薄膜”还需构图工艺或光刻工艺，则在构图工艺前称为“薄膜”，构图工艺后称为“层”。经过构图工艺或光刻工艺后的“层”中包含至少一个“图案”。

(1)在基底上形成数据引线、公共电极线和修复电极层图案。形成数据引线、公共电极线和修复电极层图案包括：在基底上沉积第一金属薄膜，通过构图工艺对第一金属薄膜进行构图，在基底10上形成数据引线20、公共电极线30和断点修复单元的修复电极层图案，如图4、图5和图6所示，图5为图4中A-A向的剖视图，图6为图4中B-B向的剖视图。其中，垂直设置的数据引线20位于扇出区域的上部区域，与电路区域邻近，且沿着显示区域到电路区域方向，相邻数据引线20之间的间距逐渐缩小。水平设置的公共电极线30位于扇出区域的下部区域，与显示区域邻近，公共电极线30包括平行设置的第一公共电极线31、第二公共电极线32和多个连接条33，多个连接条33设置在第一公共电极线31和第二公共电极线32之间，且每个连接条33设置在相邻的数据引线20之间，每个连接条33分别与第一公共电极线31和第二公共电极线32连接。本发明实施例公共电极线30的结构，也可以理解为在公共电极线上开设多个沿长度方向延伸的狭缝(Slit)或开口，后续形成的数据线跨设在狭缝或开口上，使数据线与公共电极线形成二重重叠。修复电极层包括第一修复电极21、第二修复电极22和第三修复电极23，第一修复电极21与数据引线20连接，并朝公共电极线30方向延伸，第二修复电极22与第一公共电极线31连接，并朝向数据引线20方向延伸，第三修复电极23设置在第一修复电极21与第二修复电极22之间，第三修复电极23为矩形状。其中，第一金属薄膜可以采用金属材料，如银Ag、铜Cu、铝Al、钼Mo等，或上述金属的合金材料，可以是单层金属，也可以是多层金属。

(2)形成数据线和搭接电极层图案。形成数据线和搭接电极层图案包括：在形成有前述图案的基底上，依次沉积第一绝缘薄膜和半导体薄膜，通过构图工艺对半导体薄膜进行构图，形成覆盖数据引线20、公共电极线30和修复电极层图案的第一绝缘层11图案，以及设置在第一绝缘层11上的多个半导体层55图案。随后沉积第二金属薄膜，通过构图工艺对第二金属薄膜进行构图，形成数据线50和断点修复单元的搭接电极层图案，搭接电极层图案包括间隔设置的第一搭接电极51、第二搭接电极52、第三搭接电极53和第四搭接电极54，半导体层55位于第一搭接电极51与第二搭接电极52之间，以及位于第三搭接电极53与第四搭接电极54之间，如图7、图8和图9所示，图8为图7中A-A向的剖视图，图9为图7中B-B向的剖视图。

其中，数据线50为垂直方向设置，上端部与数据引线20邻近，下端部从扇出区域向显示区域延伸，数据线50与公共电极线30绝缘交叉，形成两个重叠区域：数据线50与第一公共电极线31交叉形成的第一重叠区域41和数据线50与第二公共电极线32交叉形成的第二重叠区域42。第一搭接电极51跨设在第一修复电极21和第三修复电极23的上方，与第一修复电极21和第三修复电极23有重叠区域；第二搭接电极52也跨设在第一修复电极21和第三修复电极23的上方，与第一修复电极21和第三修复电极23有重叠区域；第三搭接电极53跨设在第二修复电极22和第三修复电极23的上方，与第二修复电极22和第三修复电极23有重叠区域；第四搭接电极54也跨设在第二修复电极22和第三修复电极23的上方，与第二修复电极22和第三修复电极23有重叠区域。

本发明实施例中，第一搭接电极51、第二搭接电极52、第三搭接电极53和第四搭接电极54均是由矩形部和条形部构成的L形状。其中，第一搭接电极51的矩形部设置在第一修复电极21邻近数据引线20一侧的上方，第一搭接电极51的条形部设置在第三修复电极23邻近数据引线20一侧的上方。第二搭接电极52的矩形部设置在第三修复电极23远离数据引线20一侧的上方，第二搭接电极52的条形部设置在第一修复电极21远离数据引线20一侧的上方。一个半导体层55位于第一搭接电极51的矩形部与第二搭接电极52的条形部之间，另一个半导体层55位于第一搭接电极51的条形部与第二搭接电极52的矩形部之间。第三搭接电极53的矩形部设置在第二修复电极22邻近数据线50一侧的上方，第三搭接电极53的条形部设置在第三修复电极23邻近数据线50一侧的上方。第四搭接电极54的矩形部设置在第三修复电极23远离数据线50一侧的上方，第四搭接电极54的条形部设置在第二修复电极22远离数据线50一侧的上方。一个半导体层55位于第三搭接电极53的矩形部与第四搭接电极54的条形部之间，另一个半导体层55位于第三搭接电极53的条形部与第四搭接电极54的矩形部之间。即第一搭接电极51的矩形部和第二搭接电极52的条形部与第一修复电极21有重叠区域，第三搭接电极53的矩形部和第四搭接电极54的条形部与第二修复电极22有重叠区域，第一搭接电极51的条形部、第二搭接电极52的矩形部、第三搭接电极53的条形部和第四搭接电极54的矩形部与第三修复电极53有重叠区域。通过上述设置，即形成了第一搭接电极51和第二搭接电极52以镜像对称的方式相对设置，第三搭接电极53和第四搭接电极54以镜像对称的方式相对设置。所述镜像对称是指两者既相对垂直轴对称，也相对水平轴对称，所述相对设置是指两者L形状的内折角相对。

本次构图工艺中，第一搭接电极51的矩形部还设置有暴露出第一绝缘层11的第一通孔T1，第一通孔T1在基底10上的正投影位于第一修复电极21在基底10上的正投影范围内，第三搭接电极53的矩形部还设置有暴露出第一绝缘层11的第二通孔T2，第二通孔T2在基底10上的正投影位于第二修复电极22在基底10上的正投影范围内。

(3)形成设置有过孔的第二绝缘层12图案。形成设置有过孔的第二绝缘层12图案包括：在形成有前述图案的基底上，沉积第二绝缘薄膜，通过构图工艺对第二绝缘薄膜进行构图，形成设置有多个过孔的第二绝缘层12图案，如图10、图11和图12所示，图11为图10中A-A向的剖视图，图12为图10中B-B向的剖视图。其中，多个过孔包括：

位于数据引线20邻近数据线50一端的第一过孔K1，第一过孔K1中的第一绝缘层11和第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出数据引线20的表面；位于数据线50邻近数据引线20一端的第二过孔K2，第二过孔K2中的第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出数据线50的表面。

位于第二搭接电极52和第四搭接电极54之间的第三过孔K3，第三过孔K3中的第一绝缘层11和第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出第三修复电极23的表面；位于第二搭接电极52邻近第三搭接电极53一端的第四过孔K4，第四过孔K4中的第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出第二搭接电极52的表面；位于第四搭接电极54邻近第二搭接电极52一端的第五过孔K5，第五过孔K5中的第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出第四搭接电极54的表面。

位于第一通孔所在位置的第六过孔K6，第六过孔K6中的第一绝缘层11和第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出第一修复电极21的表面；位于第一搭接电极51所在位置且与第六过孔K6邻近的第七过孔K7，第七过孔K7中的第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出第一搭接电极51的表面。

位于第二通孔所在位置的第八过孔K8，第八过孔K8中的第一绝缘层11和第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出第二修复电极22的表面；位于第三搭接电极53所在位置且与第八过孔K8邻近的第九过孔K9，第九过孔K9中的第二绝缘层12被刻蚀掉，暴露出第三搭接电极53的表面。

(4)形成连接电极层图案。形成连接电极层图案包括：在形成有前述图案的基底上，沉积透明导电薄膜，通过构图工艺对透明导电薄膜进行构图，形成连接电极层图案，连接电极层包括第一连接电极61、第二连接电极62、第三连接电极63和第四连接电极64，如图1、图2和图3所示。其中，

第一连接电极61设置在数据引线20和数据线50相互邻近的端部区域，第一连接电极61通过第一过孔K1与数据引线20连接，通过第二过孔K2与数据线50连接。第二连接电极62设置在第二搭接电极52和第四搭接电极54相互邻近的端部区域，第二连接电极62通过第三过孔K3与第三修复电极23连接，通过第四过孔K4与第二搭接电极52连接，通过第五过孔K5与第四搭接电极54连接。第三连接电极63设置在第一搭接电极51所在位置，通过第六过孔K6与第一修复电极21连接，通过第七过孔K7与第一搭接电极51连接。第四连接电极64设置在第三搭接电极53所在位置，通过第八过孔K8与第二修复电极22连接，通过第九过孔K9与第三搭接电极53连接。

这样，数据引线20和数据线50通过第一连接电极61实现电连接，电路区域中数据驱动电路发送的数据信号通过数据引线20传送给数据线50，由数据线50向显示区域发送。第三修复电极23、第二搭接电极52和第四搭接电极54通过第二连接电极62实现电连接。第一修复电极21和第一搭接电极51通过第三连接电极63实现电连接。第二修复电极22和第三搭接电极53通过第四连接电极64实现电连接。

本发明实施例中，基底可以采用玻璃基底、石英基底、塑料基底或者柔性基底。第一金属薄膜和第二金属薄膜可以采用金属材料，如银Ag、铜Cu、铝Al、钼Mo等，或上述金属的合金材料，可以是单层金属，也可以是多层金属。第一绝缘薄膜和第二绝缘薄膜可以采用硅氧化物SiOx、硅氮化物SiNx、氮氧化硅SiON等，也可以采用氧化铝AlOx、氧化铪HfOx、氧化钽TaOx等，可以是单层、多层或复合层。通常，第一绝缘层11称之为栅绝缘(GI)层，第二绝缘层12称之为钝化(PVX)层。透明导电薄膜可以采用氧化铟锡ITO或氧化铟锌IZO等。

由于显示基板扇出区域的数据引线之间的间距逐渐缩小，因此制备过程中数据引线容易产生静电积累。若不能有效消除静电，会对显示基板造成严重的破坏。本发明实施例所提出的断点修复单元，可以有效消除扇出区域数据引线的静电。具体地，当数据引线20产生电荷时，电荷会移动到与数据引线20电连接的第一修复电极21上，由于第一搭接电极51与第一修复电极21电连接，因而电荷也会在第一搭接电极51上积累，有效提高了积累静电的分散程度。由于第一搭接电极51、半导体层55和第二搭接电极52的结构类似于过压保护的半导体放电管，因而当第一搭接电极51上的电荷聚集到一定程度时，通过击穿第一搭接电极51与第二搭接电极52之间的半导体层55可以实现静电释放，有效消除数据引线的静电。同时，对于数据引线上可能出现的浪涌电流或脉冲电流，断点修复单元也可以通过击穿半导体层55导通放电，实现对数据引线的保护。当第一搭接电极51和第二搭接电极52完成静电释放后，第三搭接电极53和第四搭接电极54则起到消除的静电的作用。

图13为本发明实施例修复数据线断线不良一种实施方式的示意图。如图13所示，第三修复电极23、数据引线20和公共电极线30同层设置，并通过同一次构图工艺形成。第一搭接电极51、第二搭接电极52、第三搭接电极53、第四搭接电极54和数据线50同层设置，并通过同一次构图工艺形成。数据线50与公共电极线30之间间隔有第一绝缘层11，具有第一重叠区域41和第二重叠区域42，第一搭接电极51与第三修复电极23之间间隔有第一绝缘层11，具有第三重叠区域43，同时第四搭接电极54与第二修复电极22之间间隔有第一绝缘层11，具有第四重叠区域44。第三修复电极23用于在修复数据线断线不良时，使第一修复电极21和第二修复电极22通过第三修复电极23连通，双线结构的公共电极线30用于在修复数据线断线不良时，使数据线50与第一公共电极线31连通，进而使断点D一侧的数据引线20(或数据线50)与断点D另一侧的数据线50连接。

具体地，当扇出区域的某条数据引线20(或数据线50)出现数据线断点D需要修复时，首先，对数据线50与第一公共电极线31交叉形成的第一重叠区域41进行激光焊接，激光焊接使得第一重叠区域41的第一绝缘层11融化，在第一重叠区域41形成第一焊点H1，将数据线50与第一公共电极线31连接起来。

随后，对第一焊点H1两侧的第一公共电极线31进行激光切割，分别形成切断第一公共电极线31的第一切断点Q1和第二切断点Q2，同时对位于第一切断点Q1和第二切断点Q2之间的连接条33进行激光切割，形成切断第一公共电极线31与第二公共电极线32之间连接的第三切断点Q3。这样，两条公共电极线30中，第一公共电极线31被第一切断点Q1和第二切断点Q2切断，但第二公共电极线32仍为正常连接，第一切断点Q1远离第一焊点H1一侧的第一公共电极线31仍通过其它的连接条33与第二公共电极线32连接，第二切断点Q2远离第一焊点H1一侧的第一公共电极线31仍通过其它的连接条33与第二公共电极线32连接，因而切断第一公共电极线31不会影响公共电极线的正常工作。实际上，第一切断点Q1、第二切断点Q2和第三切断点Q3是使第一焊点H1与第二公共电极线32相互隔离。

随后，对第三重叠区域43和第四重叠区域44进行激光焊接，激光焊接使得第三重叠区域43和第四重叠区域44的第一绝缘层11融化，在第三重叠区域43形成第二焊点H2，将第一搭接电极51与第三修复电极23连通，在第四重叠区域44形成第三焊点H3，将第四搭接电极54与第二修复电极22连通。

这样，第一焊点H1实现了数据线50与第一公共电极线31的连接，但包括第一焊点H1的第一公共电极线31被第一切断点Q1、第二切断点Q2和第三切断点Q3隔离。由于第一搭接电极51通过第三连接电极63与第一修复电极21连接，而第一修复电极21与数据引线20连接，因此第二焊点H2实现了第三修复电极23与断点D一侧的数据引线20(或数据线50)的连接。由于第四搭接电极54通过第二连接电极62与第三修复电极23连接，而第二修复电极22与隔离起来的公共电极线30连接，隔离起来的第一公共电极线31与数据线50连接，因此第三焊点H3实现了第三修复电极23与断点D另一侧的数据线50的连接。也就是说，第一焊点H1、第二焊点H2、第三焊点H3和隔离起来的第一公共电极线31使断点D一侧的数据引线20(或数据线50)与断点D另一侧的数据线50连接起来，实现了数据线断线不良的修复，断点D一侧的数据信号通过断点修复单元和第一公共电极线31能够传输到断点D的另一侧，保证了显示区域能够接收到数据信号。同时，数据线断线不良的修复后，不会影响第二公共电极线的正常工作，可以确保公共电极线上公共电压的均一性。进一步地，数据线断线不良的修复后，只影响出现断线不良的数据线的断点修复单元，其它数据线的断点修复单元不受影响。其中，前述修复中焊接、切割的次序仅仅是一种示例。实际实施时，也可以采用其它次序，本实施例在此不做具体限定。

通过上述说明可以看出，本发明实施例在扇出区域设置双线结构的公共电极线和双层结构的断点修复单元，双线结构的公共电极线与数据线形成两个重叠区域，断点修复单元的第一端与数据引线连接，第二端与第一公共电极线连接，当数据引线或数据线出现断点时，可以通过断点修复单元和第一公共电极线将断点一侧的数据引线(或数据线)与断点另一侧的数据线连接起来，实现了扇出区域数据线断线不良的修复。具体地，对于双线结构的公共电极线与数据线形成的两个重叠区域，可以通过激光焊接第一重叠区域使数据线和第一公共电极线连接起来，并通过激光切割将焊接的第一公共电极线与第二公共电极线隔离。对于双层结构的断点修复单元，可以通过激光焊接使断点修复单元的第一端和第二端连通。由于断点修复单元的第一端与断点一侧的数据引线连接，断点修复单元的第二端与焊接的第二公共电极线连接，而焊接的第二公共电极线与数据线连接，因而断点修复单元的第二端与断点另一侧的数据线连接，实现了扇出区域数据线断线不良的修复。本发明实施例有效解决了现有技术无法维修扇出区域数据线断线的问题，不仅实现了扇出区域数据线断线不良的有效修复，避免了产品报废，极大地提升了产品良品率，而且不会对公共电极线提供的公共电压造成影响，修复成功率高，能够应用于实际生产，具有很大的应用价值，具有良好的应用前景。同时，本发明实施例提供的断点修复单元可以起到防静电作用，有效提高了显示基板的工作可靠性。进一步地，本发明实施例显示基板的制备流程与现有工艺流程相同，不需要改变现有工艺流程和工艺设备，也不需增加新的工艺以及引入新的材料，工艺兼容性好，工艺可实现性高。

其中，图13所示的第二焊点H2和第三焊点H3仅仅是一种示例性说明。图14为本发明实施例修复数据线断线不良另一实施方式的示意图。由于第二搭接电极52与第一修复电极21具有第五重叠区域45，第三搭接电极53与第三修复电极23具有第六重叠区域46，因此通过对第五重叠区域45和第六重叠区域46进行激光焊接，在第五重叠区域45形成第五焊点H5，在第六重叠区域46形成第六焊点H6，同样可以使第一修复电极21和第二修复电极22通过第三修复电极23连通，如图14所示。实际实施时，也可以通过第三焊点H3和第五焊点H5实现第一修复电极21、第三修复电极23和第二修复电极22的连接。

图15为本发明实施例公共电极线的结构示意图。如图15所示，由于第一公共电极线31的线宽a和第二公共电极线32的线宽b涉及到激光焊接，为了保证焊接的可靠性，设置第一公共电极线31的线宽a大于或等于8μm，第二公共电极线32的线宽b大于或等于8μm，第一公共电极线31的线宽a和第二公共电极线32的线宽b均大于或等于数据线50的线宽。优选地，线宽a为8μm～16μm，线宽b为8μm～16μm。此外，由于第一公共电极线31与第二公共电极线32之间的间距c、数据线50与一侧连接条33之间的间距d、数据线50与另一侧连接条33之间的间距e涉及到激光切割，为了保证切割的可靠性，设置第一公共电极线31与第二公共电极线32之间的间距c大于或等于5μm，数据线50与一侧连接条33之间的间距d大于或等于5μm，数据线50与另一侧连接条33之间的间距e大于或等于5μm，第一公共电极线31与第二公共电极线32之间的间距c、数据线50与一侧连接条33之间的间距d、数据线50与另一侧连接条33之间的间距e均大于或等于激光切割宽度。优选地，间距c为5μm～10μm，间距d为5μm～10μm，间距e为5μm～10μm。虽然本发明实施例以两条公共电极线为例进行了说明，但基于本发明实施例的技术思路可以看出，公共电极线也可以是多条。

基于前述实施例的发明构思，本实施例提供了一种显示基板的制备方法。显示基板的制备方法包括：

在扇出区域形成公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；其中，所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述断点修复单元分别与所述信号线和公共电极线连接，所述断点修复单元用于在所述信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通。

其中，在扇出区域形成公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元，包括：

在基底上形成数据引线、公共电极线和断点修复单元的修复电极层；所述修复电极层包括第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，所述第一修复电极与数据引线连接，所述第二修复电极与第一公共电极线连接，所述第三修复电极设置在第一修复电极与第二修复电极之间；

形成与所述数据引线连接的数据线和断点修复单元的搭接电极层，所述数据线与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域。

其中，形成与所述数据引线连接的数据线和断点修复单元的搭接电极层，包括：

形成覆盖所述数据引线、公共电极线和修复电极层的第一绝缘层；

在所述第一绝缘层上形成数据线和断点修复单元的搭接电极层；所述搭接电极层包括第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极，所述第一搭接电极和第二搭接电极分别与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第三搭接电极和第四搭接电极分别与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域；

形成覆盖所述数据线和搭接电极层的第二绝缘层；

在所述第二绝缘层上形成连接电极层；所述连接电极层包括第一连接电极、第二连接电极、第三连接电极和第四连接电极，所述第一连接电极通过过孔连接所述数据引线和数据线，所述第二连接电极通过过孔连接所述第三修复电极、第二搭接电极和第四搭接电极，所述第三连接电极通过过孔连接所述第一修复电极和第一搭接电极，所述第四连接电极通过过孔连接所述第二修复电极和与第三搭接电极。

有关显示基板的具体制备过程，已在前述实施例中详细说明，这里不再赘述。

本发明实施例提供了一种显示基板的制备方法，通过在扇出区域设置断点修复单元和双线结构的公共电极线，断点修复单元用于在信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通，实现了扇出区域数据线断线不良的修复，避免了产品报废，提升了产品良品率。同时，断点修复单元还具有消除信号线静电的作用。进一步地，本发明实施例显示基板的制备流程与现有工艺流程相同，不需要改变现有工艺流程和工艺设备，也不需增加新的工艺以及引入新的材料，工艺兼容性好，工艺可实现性高。

基于前述实施例的发明构思，本发明实施例还提供了一种显示基板的修复方法。本发明实施例显示基板的修复方法中，显示基板包括位于扇出区域的公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述信号线与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域，所述断点修复单元分别与所述信号线和公共电极线连接；在修复数据线断线不良时，所述修复方法包括：

对所述第一重叠区域进行焊接，使位于断点一侧的信号线和第一公共电极线连接；对所述第一重叠区域以外的第一公共电极线和连接条进行切割，使所述第一重叠区域与第二重叠区域隔离；

对所述断点修复单元进行焊接，使位于断点另一侧的信号线和第一公共电极线连接。

其中，所述断点修复单元包括设置在基底上的修复电极层，覆盖所述修复电极层的第一绝缘层，设置在所述第一绝缘层上的搭接电极层；所述修复电极层包括设置在基底上的第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，所述第一修复电极与信号线连接，所述第二修复电极与第一公共电极线连接，所述第三修复电极设置在所述第一修复电极和第二修复电极之间；对所述断点修复单元进行焊接，包括：

对所述搭接电极层与第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接。

其中，所述搭接电极层包括设置在所述第一绝缘层上的第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极，所述第一搭接电极和第二搭接电极分别与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第一修复电极与第一搭接电极连接，所述第三搭接电极和第四搭接电极分别与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第二修复电极与第三搭接电极连接，所述第三修复电极与第二搭接电极和第四搭接电极连接；对所述搭接电极层与第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极的重叠区域进行焊接，包括：

对所述第一搭接电极与第三修复电极的重叠区域、第四搭接电极与第二修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接；或者，

对所述第二搭接电极与第一修复电极的重叠区域、第三搭接电极与第三修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接；或者，

对所述第二搭接电极与第一修复电极的重叠区域、第四搭接电极与第二修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接。

有关显示基板的具体修复过程，已在前述实施例中详细说明，这里不再赘述。

本发明实施例提供了一种显示基板的修复方法，通过在扇出区域设置断点修复单元和双线结构的公共电极线，断点修复单元用于在信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通，实现了扇出区域数据线断线不良的修复，避免了产品报废，提升了产品良品率，能够应用于实际生产，具有良好的应用前景。

基于前述实施例的发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，显示装置包括采用前述实施例的显示基板。显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (14)

1.一种显示基板，其特征在于，包括位于扇出区域的公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述断点修复单元分别与所述信号线和第一公共电极线连接，所述断点修复单元用于在所述信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通，所述断点修复单元还用于消除所述信号线的静电；所述断点修复单元包括设置在基底上的修复电极层、覆盖所述修复电极层的第一绝缘层以及设置在所述第一绝缘层上的搭接电极层；所述搭接电极层包括设置在所述第一绝缘层上的第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极，所述第一搭接电极与所述第二搭接电极之间设置有半导体层，所述第三搭接电极与第四搭接电极之间设置有半导体层。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一公共电极线、第二公共电极线和多个连接条设置在基底上；所述信号线包括通过第一连接电极连接的数据引线和数据线，所述数据引线设置在所述基底上，与所述断点修复单元连接；第一绝缘层覆盖所述数据引线，所述数据线设置在所述第一绝缘层上，与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域；第二绝缘层覆盖所述数据线，所述第一连接电极设置在所述第二绝缘层上，通过过孔与所述数据引线和数据线连接。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述修复电极层包括设置在基底上的第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，所述第一修复电极与信号线连接，所述第二修复电极与第一公共电极线连接，所述第三修复电极设置在所述第一修复电极和第二修复电极之间，所述第三修复电极用于在所述信号线出现断点时，通过所述搭接电极层与所述第一修复电极和第二修复电极连接，使断点两侧的信号线连通。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一搭接电极与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，第二搭接电极与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第三搭接电极与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，第四搭接电极与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极均是由矩形部和条形部构成的L形状，所述第一搭接电极的矩形部和第二搭接电极的条形部与所述第一修复电极有重叠区域，所述第三搭接电极的矩形部和第四搭接电极的条形部与所述第二修复电极有重叠区域，所述第一搭接电极的条形部、第二搭接电极的矩形部、第三搭接电极的条形部和第四搭接电极的矩形部与所述第三修复电极有重叠区域。

6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述断点修复单元还包括覆盖所述搭接电极层的第二绝缘层和设置在所述第二绝缘层上的第二连接电极、第三连接电极和第四连接电极，所述第二连接电极通过过孔与所述第三修复电极、第二搭接电极和第四搭接电极连接，所述第三连接电极通过过孔与所述第一修复电极和第一搭接电极连接，所述第四连接电极通过过孔与所述第二修复电极和第三搭接电极连接。

7.根据权利要求1～6任一所述的显示基板，其特征在于，所述第一公共电极线的线宽和第二公共电极线的线宽均大于或等于8μm，所述第一公共电极线与第二公共电极线之间的间距、所述信号线与一侧连接条之间的间距、所述信号线与另一侧连接条之间的间距均大于或等于5μm。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～7任一所述的显示基板。

9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在扇出区域形成公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；其中，所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述断点修复单元分别与所述信号线和公共电极线连接，所述断点修复单元用于在所述信号线出现断点时使断点两侧的信号线连通，所述断点修复单元还用于消除所述信号线的静电；所述断点修复单元包括设置在基底上的修复电极层、覆盖所述修复电极层的第一绝缘层以及设置在所述第一绝缘层上的搭接电极层；所述搭接电极层包括设置在所述第一绝缘层上的第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极，所述第一搭接电极与所述第二搭接电极之间设置有半导体层，所述第三搭接电极与第四搭接电极之间设置有半导体层。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，在扇出区域形成公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元，包括：

在基底上形成数据引线、公共电极线和断点修复单元的修复电极层；所述修复电极层包括第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，所述第一修复电极与数据引线连接，所述第二修复电极与第一公共电极线连接，所述第三修复电极设置在第一修复电极与第二修复电极之间；

形成与所述数据引线连接的数据线和断点修复单元的搭接电极层，所述数据线与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域。

11.根据权利要求10所述的制备方法，其特征在于，形成与所述数据引线连接的数据线和断点修复单元的搭接电极层，包括：

形成覆盖所述数据引线、公共电极线和修复电极层的第一绝缘层；

在所述第一绝缘层上形成半导体层；

形成数据线和断点修复单元的搭接电极层；所述第一搭接电极分别与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，第二搭接电极分别与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第三搭接电极分别与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，第四搭接电极分别与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域；

形成覆盖所述数据线和搭接电极层的第二绝缘层；

在所述第二绝缘层上形成连接电极层；所述连接电极层包括第一连接电极、第二连接电极、第三连接电极和第四连接电极，所述第一连接电极通过过孔连接所述数据引线和数据线，所述第二连接电极通过过孔连接所述第三修复电极、第二搭接电极和第四搭接电极，所述第三连接电极通过过孔连接所述第一修复电极和第一搭接电极，所述第四连接电极通过过孔连接所述第二修复电极和与第三搭接电极。

12.一种显示基板的修复方法，其特征在于，显示基板包括位于扇出区域的公共电极线、与所述公共电极线绝缘交叉的多个信号线以及断点修复单元；所述公共电极线包括平行设置的第一公共电极线、第二公共电极线和连接所述第一公共电极线和第二公共电极线的多个连接条，所述连接条设置在相邻的信号线之间，所述信号线与所述第一公共电极线和第二公共电极线分别形成第一重叠区域和第二重叠区域，所述断点修复单元分别与所述信号线和公共电极线连接，所述断点修复单元用于消除所述信号线的静电；所述断点修复单元包括设置在基底上的修复电极层、覆盖所述修复电极层的第一绝缘层以及设置在所述第一绝缘层上的搭接电极层；所述搭接电极层包括设置在所述第一绝缘层上的第一搭接电极、第二搭接电极、第三搭接电极和第四搭接电极，所述第一搭接电极与所述第二搭接电极之间设置有半导体层，所述第三搭接电极与第四搭接电极之间设置有半导体层，所述修复方法包括：

对所述第一重叠区域进行焊接，使位于断点一侧的信号线和第一公共电极线连接；对所述第一重叠区域以外的第一公共电极线和连接条进行切割，使所述第一重叠区域与第二重叠区域隔离；

对所述断点修复单元进行焊接，使位于断点另一侧的信号线和第一公共电极线连接。

13.根据权利要求12所述的修复方法，其特征在于，所述修复电极层包括设置在基底上的第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极，所述第一修复电极与信号线连接，所述第二修复电极与第一公共电极线连接，所述第三修复电极设置在所述第一修复电极和第二修复电极之间；对所述断点修复单元进行焊接，包括：

对所述搭接电极层与第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接。

14.根据权利要求13所述的修复方法，其特征在于，所述第一搭接电极和第二搭接电极分别与所述第一修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第一修复电极与第一搭接电极连接，所述第三搭接电极和第四搭接电极分别与所述第二修复电极和第三修复电极有重叠区域，所述第二修复电极与第三搭接电极连接，所述第三修复电极与第二搭接电极和第四搭接电极连接；对所述搭接电极层与第一修复电极、第二修复电极和第三修复电极的重叠区域进行焊接，包括：

对所述第一搭接电极与第三修复电极的重叠区域、第四搭接电极与第二修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接；或者，

对所述第二搭接电极与第一修复电极的重叠区域、第三搭接电极与第三修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接；或者，

对所述第二搭接电极与第一修复电极的重叠区域、第四搭接电极与第二修复电极的重叠区域进行焊接，使所述第三修复电极分别与所述第一修复电极和第二修复电极连接。

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