CN109894337A - 一种膜层结构制作方法及膜层结构、外壳及移动终端 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种膜层结构制作方法及膜层结构、外壳及移动终端，包括：在基底结构的第一表面喷涂高流平紫外光固化底漆，形成色漆底层；采用不导电电镀NCVM工艺在色漆底层的第二表面形成绝缘金属层，第二表面为色漆底层的远离基底结构的表面；采用挂喷方式在绝缘金属层的第三表面喷涂纳米色浆形成色漆层，其中，第三表面为绝缘金属层的远离基底结构的表面。本发明实施例的方案，通过采用高流平紫外光固化底漆形成色漆底层，以及采用NCVM工艺在色漆底层表面形成绝缘金属层，进而，结合挂喷形成的色漆层可以呈现陶瓷釉面的质感，本发明避免了陶瓷制作工艺的繁复工序，以更为简化的制作工艺实现陶瓷多彩质感。从而，降低工艺复杂度，提升产品良率。

Description

一种膜层结构制作方法及膜层结构、外壳及移动终端

技术领域

本发明涉及终端产品表面处理技术领域，尤其涉及一种膜层结构制作方法及膜层结构、外壳及移动终端。

背景技术

目前，大多数3C类产品(就是计算机(Computer)、通信(Communication)和消费类电子产品(Consumer Electronics)三者结合，亦称“信息家电”)的表面，尤其是外壳主要由铝合金制作而成。

近年来，为了满足消费者的审美需求，以及追求轻松灵动的外壳美感，将外壳表面外观聚焦在陶瓷体现出的多彩质感上，但是，考虑到陶瓷产品的制备工艺复杂，需要经历成型、烧结、抛光、上釉等多个高技术含量的工序，产能低且成本高；而且陶瓷材质的易碎性也限制了其在电子产品外壳表面的使用。

综上，如何在降低工艺制备复杂度的情况下使产品表面实现陶瓷多彩质感是亟需解决的技术问题。

发明内容

本申请实施例的目的是提供一种膜层结构制作方法及膜层结构、外壳及移动终端，通过高流平紫外光固化底漆以及NCVM工艺，工艺制备复杂度较低的情况下使产品表面实现陶瓷多彩质感。

第一方面，提供了一种膜层结构制作方法，包括：

在基底结构的第一表面喷涂高流平紫外光固化底漆，形成色漆底层；

采用不导电电镀NCVM工艺在所述色漆底层的第二表面形成绝缘金属层，所述第二表面为所述色漆底层的远离所述基底结构的表面；

采用挂喷方式在所述绝缘金属层的第三表面喷涂纳米色浆形成色漆层，其中，所述第三表面为所述绝缘金属层的远离所述基底结构的表面。

第二方面，提供了一种膜层结构，所述膜层结构按照第一方面所述的方法制作而成。

第三方面，提供了一种外壳，包括：

位于基底结构的第一表面的色漆底层，其中，形成所述色漆底层的紫外光固化底漆具有高流平特性；

位于所述色漆底层的第二表面的绝缘金属层，所述第二表面为所述色漆底层的远离所述基底结构的表面；

位于所述绝缘金属层的第三表面的色漆层，所述第三表面为所述绝缘金属层的远离所述基底结构的表面。

第四方面，提供了一种移动终端，包括第三方面所述的外壳。

在本发明实施例中，通过采用高流平紫外光固化底漆形成色漆底层，以及采用NCVM工艺在色漆底层的第二表面形成绝缘金属层，进而，结合挂喷形成的色漆层可以呈现陶瓷釉面的质感，本发明避免了陶瓷制作工艺的繁复工序，以更为简化的制作工艺实现陶瓷多彩质感。从而，降低工艺复杂度，提升产品良率。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1是本发明的一个实施例提供的膜层结构制作方法的步骤示意图。

图2a-图2d是本发明的一个实施例提供的膜层结构制作方法的工艺流程图。

图2e是本发明的一个实施例提供的基底结构示意图。

图3是本发明的一个实施例提供的形成色漆底层的步骤示意图。

图4是本发明再一个实施例提供的膜层结构制作方法的步骤示意图。

图5是本发明再一个实施例提供的膜层结构制作方法的步骤示意图。

图6是本发明一个实施例提供的形成基底结构的步骤示意图。

图7是本发明一个实施例提供的外壳外观的陶瓷釉面效果图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

为了获得陶瓷的多彩质感以及提升产能降低成本，本发明提出了一种新的膜层结构制作工艺。

参照图1所示，为本发明的一个实施例提供的膜层结构制作方法的步骤示意图。该结构制作方法可包括以下步骤：

S110，在基底结构的第一表面喷涂高流平紫外光固化底漆，形成色漆底层。

在该步骤中，参照图2a所示，在基底结构21的第一表面喷涂高流平紫外光固化底漆，形成色漆底层22；由此，通过高流平紫外光固化底漆，可以保证镀膜的平整度以及均匀性。

一种优选的实现方案，参照图3所示，形成色漆底层的S110可以包括以下子步骤：

S111，在所述基底结构的第一表面喷涂掺杂有浓度范围为1.5％-2.5％的纳米色浆的高流平紫外光固化底漆。

该子步骤并不对高流平紫外光固化底漆的喷涂方式进行限定，其中，为了更好的体现陶瓷釉面质感，优选在高流平紫外光固化底漆中掺杂浓度为2％的纳米色浆，该掺杂浓度可以避免产生色斑纹，便于通过后续形成的镀层体现出色漆底层的颜色。

S112，固化形成厚度为20-25μm的色漆底层。

可选地，在本发明实施例中，在所述固化形成厚度为20-25μm的所述色漆底层时，设置固化时长为：15-20分钟；固化温度范围为：70-80℃；固化能量范围为：300-400mj/cm²。其中，在实际的固化操作时，优选以固化温度为75℃对喷涂有高流平紫外光固化底漆的基材进行烘烤。

S120，采用不导电电镀NCVM工艺在所述色漆底层的第二表面形成绝缘金属层，所述第二表面为所述色漆底层的远离所述基底结构的表面。

在该步骤中，参照图2b所示，采用NCVM工艺在所述色漆底层22的第二表面形成绝缘金属层23；其中，NCVM工艺是一种不导电电镀工艺，采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜，利用各相不连续的特性，得到外观有金属质感且不影响无线通讯传输的效果；采用NCVM工艺形成的镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、厚度均匀性、致密度高等优点。

一种可实现的方案，在采用不导电电镀NCVM工艺在所述色漆底层的第二表面形成绝缘金属层时，可包括：

在真空条件下，可通过加热方式将靶材电镀在所述色漆底层的第二表面形成所述绝缘金属层，电镀时设置：所述靶材相距所述色漆底层的第二表面之间的靶长范围为：0.8-1.0cm。

具体实现时，可以通过直接加热或间接加热的方式将靶材溶解，然后，使得靶材蒸发或是升华，转换为具有足够能量的原子或分子，撞击在基底结构的表面，沉积为一定厚度的绝缘金属层；其中，所需靶材的材质可以包括铟和/或锡等金属材质。

考虑到靶长太短反射效果太弱，太长则透不出色漆底层的颜色，因此，本发明在进行NCVM工艺时设置：靶材相距色漆底层的第二表面之间的靶长范围为：0.8-1.0cm。该靶长范围可以保证形成的绝缘金属层既可以起到反射作用，同时还可以透出色漆底层的颜色。

S130，采用挂喷方式在所述绝缘金属层的第三表面喷涂纳米色浆形成色漆层，所述第三表面为所述绝缘金属层的远离所述基底结构的表面。

在该步骤中，参照图2c所示，采用挂喷的喷涂方式在所述绝缘金属层23之上喷涂纳米色浆形成色漆层24。以蓝色纳米色浆和紫色纳米色浆为例，为了获取最优的渐变效果，喷涂纳米色浆时采用挂喷的方式，调整喷涂线体喷枪的高度及角度，可以保证基底结构下端特定区域喷涂蓝色，上端特定区域喷涂紫色，中间位置两个颜色叠加，自然过渡。同时，还可以通过控制膜厚的差异来体现渐变效果。

应理解，在本发明实施例中，后续可能还会喷涂紫外光固化面漆，而且采用平喷的方式，不同于本步骤中的挂喷方式，因此，在本步骤喷涂纳米色浆形成色漆层后需拆装夹治具，换言之，将挂喷方式更换为平喷方式；而更换、拆装夹治具的过程中，不可避免的会产生颗粒污染，为了提升生产良率，可在该步骤的油漆体系(即纳米色浆)内加入抗静电助剂，降低颗粒尘点等不良影响，降低产品成本，保证产品良率。

该步骤中所使用的纳米色浆实际上是聚氨酯纳米色浆混合液，俗称中漆，该混合液的相容性好，颜色纯净透亮。通过挂喷形成的色漆层的膜厚范围为：20-30um，形成色漆层时所设置的烘烤温度范围为：45-55℃，固化能量范围为：600-800mj/cm²。

在本发明实施例中，色漆层若暴露在外面，很容易产生刮痕，影响表面的陶瓷釉面质感，为此，参照图4所示，在执行S130之后，还可以包括：

S140，在所述色漆层上采用平喷方式喷涂紫外光固化面漆形成面漆层。

在该步骤中，具体参照参照图2d所示，采用平喷方式在所述色漆层24之上喷涂紫外光固化面漆形成面漆层25。其中，形成的面漆层25的厚度范围为：20-25μm，从而，可以对色漆层起到保护作用。

其中，平喷时所用紫外光固化面漆中也可以掺杂有抗静电助剂，降低颗粒尘点等不良影响，以进一步降低产品成本，保证产品良率。而且，采用平喷方式还可以保证形成的面漆层的丰满度及釉面质感。

应理解，在形成面漆层时设置烘烤温度范围为：50-60℃，固化能量范围为：800-1000mj/cm²。

可选地，参照图5所示，在执行S110之前，还可以包括：

S150，形成基底结构。

在本发明中，所述基底结构可以是不做任何处理的基材，该基材的材质可以是亚克力(也称有机玻璃)材质，或是PC塑料材质，本发明并不对基材的材质进行限制，只要是适用于3C类产品外壳基材的材质均可。

一种优选的方案，参照图6所示，形成基底结构的S150可以包括以下子步骤：

S151，依次通过初省、粗抛、半精抛、精抛工艺，对基材进行抛光处理。

其中，在进行粗抛工艺之前，需要经过铣、电火花、打磨等工艺后，之后，选择转速为：35000-40000rpm的旋转表面抛光机或超声波研磨机等抛光设备在基材的表面进行粗抛光；

半精抛时使用砂纸和煤油进行抛光，其中，煤油可以在使用砂纸对粗抛光的基材表面进行摩擦时起到润滑作用，保证抛光效果更为平滑；而为了便于半精抛工艺的顺利进行，可以依次使用砂纸的粗糙度由高到低的砂纸对基材表面进行抛光，具体可以依次使用号数为：#220、#320、#400、#600、#800、#1000、#1200、#1500的砂纸；

精抛时使用抛光设备配合钻石研磨膏进行抛光，以提升精抛的平滑度；

总之，依次通过上述粗抛、半精抛以及精抛工艺，对基材表面进行打磨，使得基材尽可能呈现镜面效果，使得基材表面更为光亮干净。

应理解，在本发明中，对基材进行抛光时，可以对基材的一表面进行抛光，也可以对基材的两个表面分别进行抛光，以便于在后续的工艺制程中，可选择任一表面进行处理。

S152，在抛光后的基材的第四表面喷涂处理剂，形成基底结构；所述基底结构中喷涂有处理剂的表面为第一表面。

在该子步骤中，抛光后的基材还不能直接喷涂高流平紫外光固化底漆，需要在基材的一表面喷涂处理剂，处理剂的膜层厚度范围为：2-3μm；该处理剂作为介质层，可以提前暴露素材的缺陷，例如熔接线、进胶口印痕等，这些都可以通过后续的涂层来进行遮盖，以保证产品表面无明显的外观缺陷。

应理解，在基材的一表面喷涂处理剂时，可以设置烘烤时间范围为：8-10min；烘烤温度范围为：60-70℃。

具体参照图2e所示，通过S150得到基底结构21，该基底结构21在图示中由下至上依次包括基材211以及喷涂在基材211表面的处理剂膜层212。

在以上技术方案中，通过采用高流平紫外光固化底漆形成色漆底层，以及采用NCVM工艺在色漆底层的第二表面形成绝缘金属层，进而，结合挂喷形成的色漆层可以呈现陶瓷釉面的质感，本发明避免了陶瓷制作工艺的繁复工序，以更为简化的制作工艺实现陶瓷多彩质感。从而，降低工艺复杂度，提升产品良率。

本发明还提供了一种膜层结构，所述膜层结构按照上述所涉及的任一方案制作而成。

本发明提供了一种外壳，具体参照图2c所示，该外壳主要包括：

位于基底结构21的第一表面的色漆底层22，其中，形成所述色漆底层22的紫外光固化底漆具有高流平特性；

位于所述色漆底层22的第二表面的绝缘金属层23，所述第二表面为所述色漆底层22的远离所述基底结构21的表面；

位于所述绝缘金属层23的第三表面的色漆层24，所述第三表面为所述绝缘金属层24的远离所述基底结构21的表面。

可选地，所述紫外光固化底漆中掺杂有浓度范围为1.5％-2.5％的纳米色浆；所述色漆底层的厚度为20-25μm。

可选地，在所述固化形成厚度为20-25μm的所述色漆底层时，设置固化时长为：15-20分钟；固化温度范围为：70-80℃；固化能量范围为：300-400mj/cm²。

可选地，所述绝缘金属层通过以下方式得到：

在真空条件下，通过加热方式将靶材电镀在所述色漆底层的第二表面形成所述绝缘金属层；

电镀时设置：所述靶材相距所述色漆底层的第二表面之间的靶长范围为：0.8-1.0cm。

可选地，所述外壳还包括：位于所述色漆层上的面漆层；

其中，所述纳米色浆和/或所述紫外光固化面漆中掺杂有抗静电助剂，降低颗粒尘点等不良影响，降低产品成本，保证产品良率。

可选地，所述外壳还包括：基底结构；

所述基底结构通过以下方式得到：

依次通过初省、粗抛、半精抛、精抛工艺，对基材进行抛光处理；

在抛光后的所述基材的第四表面喷涂处理剂，形成所述基底结构，所述基底结构中喷涂有处理剂的表面为第一表面；

其中，粗抛时设置抛光设备转速为：35000-40000rpm；

半精抛时依次使用砂纸号数为：#220、#320、#400、#600、#800、#1000、#1200、#1500的砂纸；

精抛时使用钻石研磨膏进行抛光。

此外，该外壳还可以包含其它现有结构，例如，接线口或是卡接槽等，在此不做赘述。

具体可参照图7所示的外壳外观效果图，其外观效果呈现出陶瓷釉面质感。由于形成色漆底层的紫外光固化底漆具有高流平特性，而且紫外光固化底漆中掺杂有浓度范围为1.5％-2.5％的纳米色浆，以及合适的膜层厚度设置，从而可透过色漆层呈现陶瓷釉面的质感。另外，该外壳的制作方法避免了陶瓷工艺的繁复工序，以更为简化的制作工艺实现陶瓷多彩质感。从而，降低工艺复杂度，提升产品良率。

本发明还提供一种移动终端，包括上述任意方案所述的外壳。此外，该移动终端可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪、智能穿戴设备等。对于该移动终端的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。

上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本发明的保护之内。

Claims (11)

1.一种膜层结构制作方法，其特征在于，包括：

在基底结构的第一表面喷涂高流平紫外光固化底漆，形成色漆底层；

采用不导电电镀NCVM工艺在所述色漆底层的第二表面形成绝缘金属层，所述第二表面为所述色漆底层的远离所述基底结构的表面；

采用挂喷方式在所述绝缘金属层的第三表面喷涂纳米色浆形成色漆层，所述第三表面为所述绝缘金属层的远离所述基底结构的表面。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在基底结构的第一表面喷涂高流平紫外光固化底漆，形成色漆底层的步骤具体包括：

在基底结构的第一表面喷涂掺杂有浓度范围为1.5％-2.5％的纳米色浆的高流平紫外光固化底漆；

固化形成厚度为20-25μm的所述色漆底层。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述固化形成厚度为20-25μm的所述色漆底层时，设置固化时长为：15-20分钟；固化温度范围为：70-80℃；固化能量范围为：300-400mj/cm²。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用不导电电镀NCVM工艺在所述色漆底层的第二表面形成绝缘金属层，具体包括：

在真空条件下，通过加热方式将靶材电镀在所述色漆底层的第二表面形成所述绝缘金属层；

电镀时设置：所述靶材相距所述色漆底层的第二表面之间的靶长范围为：0.8-1.0cm。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，在所述采用挂喷方式在所述绝缘金属层的第三表面喷涂纳米色浆形成色漆层之后，所述方法还包括：

在所述色漆层上采用平喷方式喷涂紫外光固化面漆形成面漆层；

其中，所述纳米色浆和/或所述紫外光固化面漆中掺杂有抗静电助剂。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在基底结构的第一表面喷涂高流平紫外光固化底漆，形成色漆底层之前，所述方法还包括：

形成基底结构；

所述形成基底结构的步骤具体包括：

依次通过初省、粗抛、半精抛、精抛工艺，对基材进行抛光处理；

在抛光后的所述基材的第四表面喷涂处理剂，形成所述基底结构，所述基底结构中喷涂有处理剂的表面为第一表面；

其中，粗抛时设置抛光设备转速为：35000-40000rpm；

半精抛时依次使用砂纸号数为：#220、#320、#400、#600、#800、#1000、#1200、#1500的砂纸；

精抛时使用钻石研磨膏进行抛光。

7.一种膜层结构，其特征在于，所述膜层结构按照权利要求1-6任一项所述的方法制作而成。

8.一种外壳，其特征在于，包括：

位于基底结构的第一表面的色漆底层，其中，形成所述色漆底层的紫外光固化底漆具有高流平特性；

位于所述色漆底层的第二表面的绝缘金属层，所述第二表面为所述色漆底层的远离所述基底结构的表面；

位于所述绝缘金属层的第三表面的色漆层，所述第三表面为所述绝缘金属层的远离所述基底结构的表面。

9.如权利要求8所述的外壳，其特征在于，所述紫外光固化底漆中掺杂有浓度范围为1.5％-2.5％的纳米色浆；

所述色漆底层的厚度为20-25μm。

10.如权利要求8或9所述的外壳，其特征在于，所述外壳还包括：

位于所述色漆层上的面漆层；

其中，所述纳米色浆和/或所述紫外光固化面漆中掺杂有抗静电助剂。

11.一种移动终端，其特征在于，包括权利要求8-10任一项所述的外壳。