CN106622917A - 一种基材表面处理方法、壳体和终端 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基材表面处理方法、壳体和终端，在对基材表面进行处理时，先对基材的目标处理面进行抛光处理，形成抛光面；在抛光面上覆盖预先制备的附着力促进剂，形成附着层；在附着层上覆盖预先制备的色漆，形成底色层；在底色层上覆盖保护层；在保护层上覆盖面漆层。本发明中，得到的成品具有良好的质感，且本发明对基材进行处理的步骤简单，易于实现，且相对于现有技术而言，本发明形成基材上的层结构时，对温度的要求相对于现有技术较低，对生产设备要求低，生产成本低，生产效率高。
Description
技术领域
本发明涉及终端技术领域，具体涉及一种基材表面处理方法、壳体和终端。
背景技术
随着人们对电子产品表面外观要求的日益提升，陶瓷类外壳越来越受关注，并引入使用，目前表面陶瓷效果的壳料基本上分为两种形式：
一、陶瓷基材加工品：通过陶瓷干压片烧结、形状加工、CNC、抛光等工序，获得相关所需的产品。
二、金属表面喷涂陶瓷漆：在金属素材表面直接进行喷涂陶瓷漆，获得表面陶瓷效果的产品。
目前两种陶瓷外观效果的工艺存在以下相关难点：
对于陶瓷基材加工方案而言：
1.工序繁琐，各工序加工周期长，耗费加工材料；
2.成本高、良品率低(陶瓷壳料加工直通率在30％左右)；
对于金属素材表面喷涂陶瓷漆方案而言：
1.陶瓷漆成本高；
2.生产设备要求高、作业环境苛刻(烘烤温度200度)。
发明内容
本发明实施例要解决的主要技术问题是，提供一种基材表面处理方法、壳体和终端，解决现有技术中制备表面陶瓷效果的壳料存在的工艺复杂，耗时间、成本高、良品率低或生产设备要求高的问题。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种基材表面处理方法，包括：
对基材的目标处理面进行抛光处理，形成抛光面；
在抛光面上覆盖预先制备的附着力促进剂，形成附着层；
在附着层上覆盖预先制备的色漆，形成底色层；
在底色层上覆盖保护层；
在保护层上覆盖面漆层。
进一步的，在底色层上覆盖保护层包括：
在底色层上形成UV底漆层；
在UV底漆层上进行光学镀膜，形成镀膜层；
在镀膜层上形成UV中漆层。
进一步的，收发器芯片包括：在保护层上覆盖面漆层包括：在UV中漆层形成UV面漆层。
进一步的，在抛光面上覆盖预先制备的附着力促进剂，形成附着层包括：在抛光面上喷涂预先制备的附着力促进剂，并采用65度的温度持续烘烤5分钟，形成厚度为2微米至3微米的附着层。
进一步的，在附着层上覆盖预先制备的色漆，形成底色层包括：在附着层上喷涂预先制备的色漆，并采用75度的温度持续烘烤30分钟，形成厚度为12微米至15微米的底色层。
进一步地，在底色层上形成UV底漆层包括：在底色层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为18微米至22微米的UV底漆层，UV能量为每平方厘米600毫焦耳。
进一步地，在镀膜层上形成UV中漆层包括：在镀膜层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为6微米至8微米的UV中漆层，UV能量为每平方厘米400毫焦耳。
进一步地，在UV中漆层形成UV面漆层包括：在UV中漆层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为25微米至28微米的UV面漆层，UV能量为每平方厘米900毫焦耳。
进一步地，色漆的颜色为仿陶瓷色，保护层和面漆层为透明色。
为解决上述技术问题，本发明实施例还提供一种壳体，包括基材、覆盖在基材的抛光面上的附着层、覆盖在附着层上的底色层、覆盖在底色层上的保护层，以及覆盖在保护层上的面漆层。
进一步的，保护层包括：在底色层上形成的UV底漆层、在UV底漆层上形成的镀膜层，以及在镀膜层上形成的UV中漆层；面漆层包括：在UV中漆层上形成的UV面漆层。
进一步的，附着层的厚度为2微米至3微米；底色层的厚度为12微米至15微米；UV底漆层的厚度为18微米至22微米；UV中漆层的厚度为6微米至8微米的；和/或UV面漆层的厚度为25微米至28微米。
进一步的，基材为金属材质。
进一步地，底色层为仿陶瓷色，保护层和面漆层为透明色。
为解决上述技术问题，本发明实施例还提供一种终端，包括如上的壳体。
本发明公开了一种基材表面处理方法、壳体和终端，在对基材表面进行处理时，先对基材的目标处理面进行抛光处理，形成抛光面；在抛光面上覆盖预先制备的附着力促进剂，形成附着层；在附着层上覆盖预先制备的色漆，形成底色层；在底色层上覆盖保护层；在保护层上覆盖面漆层。本发明中，对基材进行处理的步骤简单，易于实现，且相对于现有技术而言，本发明形成基材上层结构时，对温度的要求相对于现有技术较低，对生产设备要求更低，生产成本更低，生产效率更高。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种基材表面处理方法的流程图；
图2为本发明实施例二提供的一种壳体的层结构示意图。
具体实施方式
下面通过具体实施方式结合附图对本发明作进一步详细说明。
实施例一：
参见图1，本实施例示出一种基材表面处理方法，对基材表面进行喷涂与镀膜工艺结合，达到陶瓷外观与冰凉手感效果，本实施例的方法改善了传统的陶瓷加工工艺和喷涂陶瓷漆存在的缺点。
本实施例的基材表面处理方法包括：
S101、对基材的目标处理面进行抛光处理，形成抛光面；
S102、在抛光面上覆盖预先制备的附着力促进剂，形成附着层；
S103、在附着层上覆盖预先制备的色漆，形成底色层；
S104、在底色层上覆盖保护层；
S105、在保护层上覆盖面漆层。
在本实施例中，基材的材料可以是塑料、金属、玻璃等等。其中，考虑到处理得到后的材料需要具有陶瓷的冰凉手感，优选地，基材的材料可以是金属。当本实施例的方法处理得到的基材用于制作终端的外壳时，考虑到基材的制作成本和重量的要求，基材材料优选为铝合金。在S101中，对基材的目标处理面进行抛光处理包括：对铝合金基材表面进行抛光处理。本实施例中，对基材表面抛光不要求达到镜片效果(当然，达到镜片效果更好)，平整度为1um即可。
S102中，在基材表面形成的附着层具有增加后续工序涂层的附着力的效果，具体可以增加底色层、保护层和面漆层的附着力。其中，对于不同材料的基材而言，预先制备的附着力促进剂可能不同，当基材材料为金属时，附着力促进剂包括但不限于五金表面处理剂。其中附着层的厚度以及制备附着层的方法对附着层的附着力促进效果都具有影响。在本实施例中，在抛光面上覆盖预先制备的附着力促进剂，形成附着层包括：在抛光面上喷涂预先制备的附着力促进剂，并采用65度的温度持续烘烤5分钟，形成厚度为2微米至3微米的附着层。其中，可以理解的是，附着层厚度为2微米至3微米是本实施例的一个优选范围，附着层厚度并不局限于2微米至3微米，当对基材有其他需求时，也可以采用上述的方法，形成其他厚度的附着层，可以预见，附着层厚度增加或降低，烘烤温度和时间也相应的改变。
在S103中在附着层形上覆盖预先制备的色漆形成底色层，该底色层的色漆颜色没有限定，可以是任一种颜色。当制成的基材成品需要具有陶瓷质感时，即需要制成仿陶瓷成品时，优选地，该色漆是仿陶瓷色，例如白色、珍珠白等等颜色。其中，S103中在附着层上覆盖预先制备的色漆，形成底色层包括：在附着层上喷涂预先制备的色漆，并采用75度的温度持续烘烤30分钟，形成厚度为12微米至15微米的底色层。同样的，本实施例中，底色层厚度根据实际需要，也可以是其他厚度，例如大于15微米的厚度等等。进一步地，为了确保基材成品的表面光滑，在喷涂色漆形成底色层时，需要保持底色层表面平整、细腻。
为了使得基材成品的质感与陶瓷的质感更加接近，以及对底色层形成保护，避免底色层在使用过程掉漆，在本实施例中在底色层上还依次覆盖有保护层和面漆层。
在底色层上覆盖保护层的过程包括：
第一步、在底色层上形成UV底漆层；
第二步、在UV底漆层上进行光学镀膜，形成镀膜层；
第三步、在镀膜层上形成UV中漆层。
其中，在第一步中，形成UV底漆层的方法包括：在底色层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为18微米至22微米的UV底漆层，UV能量为每平方厘米600毫焦耳。可以预见，为了不对底色层的色漆颜色产生干扰，优选地，UV底漆层选用的漆料是透明色漆料。
在第二步中，光学镀膜的作用是增加基材的质感，通透感，使得基材表面的具有陶瓷表面的瓷釉感。所以可以预见，光学镀膜所成的膜也是透明色膜。
在第三步中，在镀膜层上形成UV中漆层的过程包括：在镀膜层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为6微米至8微米的UV中漆层，UV能量为每平方厘米400毫焦耳。
进一步地，为了确保基材成品的表面光滑，要求在上述三步中的UV底漆层、镀膜层、UV中漆层的表面平整、光滑、细腻。并且进一步地，这三层膜形成的保护层的颜色为透明色。
可以预见，当对保护层的厚度有其他需求时，上述UV底漆层、镀膜层、UV中漆层的厚度可以根据实际的需要进行相应的调整。
进一步地，在保护层上覆盖面漆层的过程包括：在UV中漆层形成UV面漆层。优选地，在UV中漆层形成UV面漆层的过程包括：在UV中漆层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为25微米至28微米的UV面漆层，UV能量为每平方厘米900毫焦耳。其中，为了不对底色层中底漆的颜色产生干扰，UV面漆层的为透明色为佳。
在本实施例中，通过上述的方法制备的基材，达到了陶瓷外观的视觉效果，且当基材为金属材料时，也具有冰凉的手感。相对于现有技术中对陶瓷本身加工、或者喷涂陶瓷漆的工艺，本实施例的方法具有以下优点：
1.良率对比：采用本实施例的方法，良率70％相比陶瓷加工工艺的40％，提升了30％的良率，实现了75％的良率提升幅度；
2.生产工艺周期：采用本实施例方法的生产周期约为陶瓷加工工艺生产周期的20％，有效提高了生产效率；
3.新工艺操作简单，本实施例中，施工温度为80度，而陶瓷烤漆施工温度为150度以上，且陶瓷漆成本比本实施例的工艺用的油漆成本高出60％以上，所以本实施例的方法有效节约了成本。
采用本实施例的基材表面处理方法，不仅能达到陶瓷外观视觉效果，还具有陶瓷般冰凉的手感。同时，本实施例的方法对温度的要求相对于现有技术较低，对生产设备要求更低，更易于实现，生产成本更低，基材的处理过程更加简单，生产效率更高。
实施例二：
参见图2，本实施例示出一种壳体的层结构，该壳体由实施例一所示的基材表面处理方法制成，本实施例的壳体包括基材21、覆盖在基材的抛光面上的附着层22、覆盖在附着层上的底色层23、覆盖在底色层上的保护层24，以及覆盖在保护层上的面漆层25。上述的层结构使得基材可以更好地模仿陶瓷外观效果。
其中，基材21的材料可以是塑料、金属、玻璃等等。其中，考虑到处理得到后的材料需要具有陶瓷的冰凉手感，优选地，基材21的材料可以是金属。当本实施例的方法处理得到的基材21用于制作终端的外壳时，考虑到基材21的制作成本和重量的要求，基材21材料优选为铝合金。考虑到壳体表面的光滑需求，本实施例中，基材21的表面经过了抛光处理，对基材21表面抛光不要求达到镜片效果，平整度为1um即可。
本实施例中，在基材21表面形成的附着层22具有增加后续工序涂层的附着力的效果，具体可以增加底色层23、保护层24和面漆层25的附着力。其中，对于不同材料的基材21而言，使用的附着力促进剂可能不同，当基材21材料为金属时，选择附着层22的附着力促进剂为五金表面处理剂。附着层22的厚度为2微米至3微米。其中，可以理解的是，附着层22厚度为2微米至3微米是本实施例的一个优选范围，当对基材21有其他需求时，也可以形成其他厚度的附着层22。
在附着层22上的底色层23，该底色层23的色漆颜色没有限定，可以是任一种颜色。当壳体需要具有陶瓷质感时，优选地，该色漆是仿陶瓷色，例如白色、珍珠白等等颜色。其中，优选地，底色层23厚度为12微米至15微米。进一步地，为了确保基材21成品的表面光滑，在喷涂色漆形成底色层23时，需要保持底色层23表面平整、细腻。
为了使得基材21成品的质感与陶瓷的质感更加接近，以及对底色层23形成保护，避免底色层23在使用过程掉漆，在本实施例中在底色层23上还依次覆盖有保护层24和面漆层25。
保护层24包括：在底色层23上形成的UV底漆层、在UV底漆层上形成的镀膜层，以及在镀膜层上形成的UV中漆层；面漆层25包括：在UV中漆层上形成的UV面漆层25。
其中，UV底漆层厚度为18微米至22微米，UV中漆层厚度为6微米至8微米。进一步地，为了确保壳体的表面光滑，要求UV底漆层、镀膜层、UV中漆层的表面平整、光滑、细腻。并且进一步地，这三层膜形成的保护层24的颜色为透明色。
可以预见，当对保护层24的厚度有其他需求时，上述UV底漆层、镀膜层、UV中漆层的厚度可以根据实际的需要进行相应的调整。
进一步地，本实施例的面漆层25的厚度为25微米至28微米。其中，为了不对底色层23中底漆的颜色产生干扰，UV面漆层25的为透明色为佳。
进一步地，本实施例还提供一种终端，终端上应用有本实施例中的上述壳体。
采用本实施例的壳体，不但具有陶瓷相似外观，还具有陶瓷的手感，同时本实施例的壳体还具有易生产，生产成本低、生产工艺简单，生产设备要求不高，生产效率高的优点。
以上内容是结合具体的实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。
Claims (13)
1.一种基材表面处理方法，其特征在于，包括：
对基材的目标处理面进行抛光处理，形成抛光面；
在所述抛光面上覆盖预先制备的附着力促进剂，形成附着层；
在所述附着层上覆盖预先制备的色漆，形成底色层；
在所述底色层上覆盖保护层；
在所述保护层上覆盖面漆层。
2.如权利要求1所述的基材表面处理方法，其特征在于，在所述底色层上覆盖保护层包括：
在所述底色层上形成UV底漆层；
在所述UV底漆层上进行光学镀膜，形成镀膜层；
在所述镀膜层上形成UV中漆层。
3.如权利要求2所述的基材表面处理方法，其特征在于，在所述保护层上覆盖面漆层包括：在所述UV中漆层形成UV面漆层。
4.如权利要求1所述的基材表面处理方法，其特征在于，在所述抛光面上覆盖预先制备的附着力促进剂，形成附着层包括：在所述抛光面上喷涂预先制备的附着力促进剂，并采用65度的温度持续烘烤5分钟，形成厚度为2微米至3微米的附着层。
5.如权利要求1所述的基材表面处理方法，其特征在于，在所述附着层上覆盖预先制备的色漆，形成底色层包括：在所述附着层上喷涂预先制备的色漆，并采用75度的温度持续烘烤30分钟，形成厚度为12微米至15微米的底色层。
6.如权利要求2所述的基材表面处理方法，其特征在于，在所述底色层上形成UV底漆层包括：在所述底色层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为18微米至22微米的UV底漆层，UV能量为每平方厘米600毫焦耳。
7.如权利要求2所述的基材表面处理方法，其特征在于，在所述镀膜层上形成UV中漆层包括：在所述镀膜层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为6微米至8微米的UV中漆层，UV能量为每平方厘米400毫焦耳。
8.如权利要求3所述的基材表面处理方法，其特征在于，在所述UV中漆层形成UV面漆层包括：在所述UV中漆层上电镀UV漆，并采用55度的温度持续烘烤5分钟形成厚度为25微米至28微米的UV面漆层，UV能量为每平方厘米900毫焦耳。
9.一种壳体，其特征在于，包括基材、覆盖在所述基材的抛光面上的附着层、覆盖在所述附着层上的底色层、覆盖在所述底色层上的保护层，以及覆盖在所述保护层上的面漆层。
10.如权利要求9所述的壳体，其特征在于，所述保护层包括：在所述底色层上形成的UV底漆层、在所述UV底漆层上形成的镀膜层，以及在所述镀膜层上形成的UV中漆层；所述面漆层包括：在所述UV中漆层上形成的UV面漆层。
11.如权利要求10所述的壳体，其特征在于，所述附着层的厚度为2微米至3微米；所述底色层的厚度为12微米至15微米；所述UV底漆层的厚度为18微米至22微米；所述UV中漆层的厚度为6微米至8微米的；和/或所述UV面漆层的厚度为25微米至28微米。
12.如权利要求9至11任一项所述的壳体，其特征在于，所述基材为金属材质。
13.一种终端，其特征在于，包括如权利要求9至12任一项所述的壳体。
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