CN107065329A - 显示基板以及制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了显示基板以及制备方法、显示装置,该显示基板包括:基板衬底;公共电极,所述公共电极位于基板衬底上,所述公共电极具有与所述信号线对应设置的镂空部,所述信号线包括栅线以及数据线的至少之一。由此,可以通过降低公共电极和基板上信号线的正对面积,降低基板的负载,从而降低液晶面板的功耗。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域,具体地,涉及显示基板以及制备方法、显示装置。
背景技术
扭曲向列型面板(Twisted Nematic,TN)是液晶显示面板的一种。由于低廉的生产成本,扭曲向列型面板成为了应用最广泛的入门级液晶面板,在目前的市场上仍被广泛使用。TN面板具有输出灰阶级数少、液晶分子偏转速度快、响应时间短、刷新率高等优点。TN面板采用扭曲向列型液晶分子,需要依靠在彩膜基板以及阵列基板之间,形成垂向电场,控制扭曲向列液晶分子的偏转。
然而,目前的显示基板以及制备方法、显示装置仍有待改进。
发明内容
本发明是基于发明人对以下事实的发现和认识而作出的:
目前,随着显示TN型显示面板普遍存在功耗大的问题。发明人经过深入研究以及大量实验发现,这主要是由于目前的TN型显示面板中,基板(如阵列基板)的负载过大而导致的。发明人经过深入研究发现,在TN型显示面板中,阵列基板的负载主要包括以下方面:阵列基板电极线(例如栅线)自身的电阻、栅线与数据线之间的电容和电极线(栅线以及数据线)与公共电极之间的电容。如果要降低基板上的功耗就必须减小其电极线电阻或者电容。而电极线电阻由形成电极线的膜层材料和厚度决定,难以改进或大幅降低;栅线与数据线之间的电容,由于栅线和数据线之间必然存在一定的正对面积,所以也难以降低。因此,如果可以减小电极线与公共电极之间的电容,也即是说,改变显示面板的结构,则显示面板功耗大的问题将有所改善。
本发明旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。
有鉴于此,在本发明的一个方面,本发明提出了一种显示基板,所述显示基板包括:基板衬底;公共电极,所述公共电极位于基板衬底上,所述公共电极具有与所述信号线对应设置的镂空部,所述信号线包括栅线以及数据线的至少之一。由此,可以通过降低公共电极和信号线的正对面积,降低基板的负载,从而降低液晶面板的功耗。
根据本发明的实施例,所述公共电极除所述镂空部以外的部分彼此连通。公共电极整体为互相连通的电极,镂空后公共电极层上不存在孤岛电极,从而可以简便地对公共电极施加控制电压。
根据本发明的实施例,所述信号线设置在所述显示基板朝向对向基板的一侧,或者所述对向基板朝向所述显示基板的一侧。由此,可以降低基板的负载,从而降低显示面板的功耗。
根据本发明的实施例,所述镂空部在垂直所述对向基板上的投影,与所述数据线的至少一部分重合。由此,可以降低公共电极与数据线之间的正对面积,从而降低数据线和公共电极之间的电容。
根据本发明的实施例,所述镂空部在垂直所述对向基板上的投影,与所述栅线的至少一部分重合。由此,可以降低公共电极与栅线之间的正对面积,从而降低栅线和公共电极之间的电容。
根据本发明的实施例,所述镂空部在垂直所述对向基板上的投影,与所述栅线一一对应。由此,可以进一步降低公共电极与栅线之间的正对面积,从而降低栅线和公共电极之间的电容。
根据本发明的实施例,所述显示基板为彩膜基板,所述信号线设置在所述对向基板朝向所述显示基板的一侧。由此,可以降低由该彩膜基板构成的显示面板的功耗。
根据本发明的实施例,所述显示基板为阵列基板,所述信号线设置在所述阵列基板朝向所述对向基板的一。由此,可以降低由该阵列基板构成的显示面板的功耗。
在本发明的另一个方面,本发明提出了一种显示装置。根据本发明的实施例,该显示装置包括前面所述的显示基板。由此,可以降低该显示装置的功耗。
在本发明的另一个方面,本发明提出了一种制备显示基板的方法。根据本发明的实施例,该方法包括:在基板衬底上形成公共电极,通过构图工艺,在所述公共电极上形成与所述信号线相对应的镂空部,所述信号线包括栅线以及数据线的至少之一。由此,可以获得功耗较低的显示基板。
根据本发明的实施例,在所述基板衬底上形成公共电极是通过以下步骤实现的:在所述基板衬底上形成公共电极层,所述公共电极层覆盖所述基板衬底的上表面;在所述公共电极层远离所述基板衬底的一侧涂覆负性光刻胶层,基于信号线光刻掩膜,对所述光刻胶层进行曝光以及显影处理,以便获得刻蚀掩膜;基于所述刻蚀掩膜,对所述公共电极层进行刻蚀处理,并剥离剩余的所述刻蚀掩膜。由此,可以获得能降低显示面板功耗的显示基板。
根据本发明的实施例,所述信号线光刻掩膜为用于形成数据线的掩膜。由此,可以简便地利用数据线掩膜来形成镂空的公共电极。
根据本发明的实施例,所述信号线光刻掩膜为用于形成栅线的掩膜。由此,可以简便地利用栅线掩膜来形成镂空的公共电极。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1显示了根据本发明一个实施例的显示基板的结构示意图;
图2显示了根据本发明一个实施例的显示面板的结构示意图;
图3显示了现有的对向基板的部分结构示意图;
图4显示了根据本发明一个实施例的对向基板的结构示意图;
图5显示了根据本发明一个实施例的公共电极的结构示意图;
图6显示了根据本发明另一个实施例的公共电极的结构示意图;
图7显示了根据本发明一个实施例的显示面板的结构示意图;
图8显示了根据本发明一个实施例的制备显示基板方法的流程示意图;以及
图9显示了根据本发明一个实施例的制备显示基板方法的部分流程示意图。
附图标记说明:
100:对向基板;110:对向基板衬底;120:信号线;121:栅线;122:数据线;123:像素电极;20:像素电极转接孔;30:有源层;200:显示基板;210:显示基板衬底;220:公共电极;10:镂空部;300:液晶层;40:液晶分子。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明而不是要求本发明必须以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的一个方面,本发明提出了一种显示基板。根据本发明的实施例,参考图1,该显示基板包括:基板衬底210以及公共电极220。其中,公共电极220具有与信号线120对应设置的镂空部10。信号线包括栅线以及数据线的至少之一。根据本发明的实施例,信号线120可以位于该显示基板朝向对向基板(图中未示出)的一侧,或位于对向基板朝向显示基板的一侧。通过降低公共电极和信号线的正对面积,降低基板的负载,从而可以降低液晶面板的功耗。
本领域技术人员能够理解的是,该显示基板可以用于形成液晶显示面板,因此,该显示基板具有一个与其对盒的对向基板,以便利用显示基板以及对向基板,形成液晶容纳空间。根据本发明的实施例,参考图2,由该显示基板构成的显示面板的结构可以包括:对向基板100、显示基板200以及液晶层300。其中,对向基板100包括对向基板衬底110以及信号线120,信号线120设置在对向基板衬底110上。显示基板200包括基板衬底210以及公共电极220,公共电极220设置在基板衬底210的一侧,且公共电极220为镂空电极,镂空电极的镂空部10和信号线120对应设置。显示基板200与对向基板100对盒设置。
下面根据本发明的具体实施例,对该显示基板的各个结构进行详细说明:
本领域技术人员能够理解的是,在显示基板200和对向基板100进行对盒之前,需要首先在对向基板100上滴入液晶分子40,形成液晶层300,以实现该液晶显示面板的使用功能。也即是说,液晶层300设置在显示基板200以及对向基板100之间。
如前所述,目前的显示面板的功耗难以降低,主要是由于设置有信号线的基板(如显示面板中对向基板或者显示基板)的负载较大造成的。参考图3,在基板(对向基板或显示基板)中,需要设置多个电极以及信号线(可以包括栅线121以及数据线122),以便实现基板的使用功能。其中,栅线121以及数据线122等均由金属形成,因此栅线121以及数据线122由于金属电极线自身的电阻而造成的负载,主要与栅线121以及数据线122的金属材料和厚度有关。这一部分的负载难以大幅降低。并且,栅线121用于控制多个薄膜晶体管(图中未完全示出)的开关,而数据线122则负责向薄膜晶体管中写入控制IC的驱动数据,因此,数据线122与栅线121之间,必然存在一定的正对面积。由此,栅线121以及数据线122之间的电容(Cgd)也难以避免。类似地,像素电极123需要通过像素电极过孔20与有源层30相连,因此造成像素电极过孔20和栅线121之间也存在着不可避免的正对面积,从而造成栅线121以及像素电极过孔20之间的电容(Cgs)也无法显著降低。由于TN型面板还需要在显示基板以及对向基板之间形成垂向电场,以便控制液晶分子40的偏转,因此,栅线121、数据线122等信号线,还会与位于基板(对向基板或显示基板)上的公共电极之间形成电容,从而进一步增加基板的负载。而公共电极220由于面积较大,因此公共电极220与信号线之间的正对面积也较大。与Cgs、Cgd等负载相比,公共电极220与信号线120之间的电容也较大。因此,如可以改善公共电极220和信号线120之间的电容,将可以大幅降低基板的负载。
发明人经过深入研究以及大量实验发现,虽然难以通过改进信号线120(栅线121、数据线122等)的材料、厚底以及设置位置来改善基板的负载,但可以通过对公共电极220的形状进行改进,在不影响显示基板200和对向基板100之间的垂向电场的前提下,降低公共电极与信号线120之间的正对面积,从而达到降低基板的负载的目的。根据本发明的实施例,可以依据信号线120的形状,对公共电极220进行镂空处理,从而降低公共电极220和信号线120之间的正对面积。具体地,参考图4,信号线120可以包括栅线121以及数据线122的至少之一。关于信号线的形状不受特别限制,本领域技术人员可以根据实际情况进行设计。例如,信号线可以为直线形,或者信号线为Z字形。根据本发明的具体实施例,参考图4,信号线为直线形。根据本发明的具体实施例,对向基板衬底110上可以设置有多个平行排列的栅线121以及多个平行排列的数据线122,栅线121以及数据线122之间可以互相垂直设置。根据本发明的实施例,可以针对上述栅线121以及数据线122的形状,对公共电极220进行镂空处理,除去公共电极220上与栅线121和/或数据线122相对应位置处的金属,从而达到降低公共电极220与信号线120之间的正对面积的目的。
如前所述,公共电极220用于在显示基板200以及对向基板100之间形成垂向电场,因此,在实际使用中,公共电极220上通常会施加固定的电压。根据本发明的实施例,参考图5以及图6,公共电极220除前面描述的镂空部10以外的部分,可以为彼此连通的。由此,公共电极220上,虽然具有多个镂空部10,然而公共电极220整体还是为互相连通的电极。也即是说,公共电极220上不存在孤岛电极。由此,便于通过较为简单的布线,对公共电极220施加固定的电压。根据本发明的实施例,镂空部10在对向基板100上的投影,可以与数据线122的至少一部分重合。也即是说,可以根据数据线122对公共电极220做镂空处理。或者,根据本发明的另一实施例,镂空部10在对向基板100上的投影,也可以与栅线121的至少一部分重合。由此,可以根据栅线121对公共电极220做镂空处理。根据本发明的一些优选实施例,参考图7,镂空部10在对向基板100上的投影,可以与栅线121一一对应。由此,一方面可以最大限度地降低栅线121和公共电极220之间的正对面积,从而降低对向基板的负载,另一方面,由于栅线121的形状较为规则,且面积较数据线122稍大,因此,当镂空部10在对向基板100上的投影与栅线121一一对应时,公共电极220与信号线之间的正对面积降低的较多,且刻蚀后的公共电极220的形状较为规则,有利于保持显示基板200和对向基板100之间的垂向电场的均匀性。
根据本发明的实施例,该显示基板可以为阵列基板,也可以为彩膜基板。根据本发明的实施例,信号线位于阵列基板上,镂空的公共电极可以位于阵列基板上,或者也可以位于彩膜基板上。在本发明的另一个方面,本发明提出了一种显示装置。根据本发明的实施例,该显示装置包括前面所述的显示基板。由此,该显示装置具有前面所述的显示基板的全部特征和优点,在此不再赘述。总的来说,该显示装置具有功耗较低的优点。
在本发明的另一个方面,本发明提出了一种制备显示基板的方法。根据本发明的实施例,利用该方法制备的显示基板,可以具有与前面描述的显示基板相同的特征以及优点。具体地,参考图8,该方法包括:
S100:在基板衬底或对向基板上形成信号线
根据本发明的实施例,在该步骤中,在基板衬底或对向基板上形成信号线。根据本发明的实施例,该步骤中形成的信号线的具体类型、设置方式等不受特别限制,本领域技术人员可以根据实际需求进行设计。例如,根据本发明的具体实施例,信号线可以包括栅线、数据线等。栅线、数据线等信号线,可以具有与前面描述的显示基板中的信号线相同的特征,在此不再赘述。本领域技术人员能够理解的是,信号线可以是通过在基板衬底或对向基板衬底上沉积金属层,并进行曝光、显影、刻蚀等方式而形成的。由此,可以获得根据本发明实施例的显示基板或对向基板。需要说明的是,在基板上,还可以具有诸如薄膜晶体管、像素电极等结构,以便实现该基板的使用功能。
S200:在显示基板衬底上形成公共电极
根据本发明的实施例,在该步骤中,在显示基板衬底上形成公共电极。根据本发明的实施例,在该步骤中形成的公共电极,可以具有与前面描述的显示基板中的公共电极相同的特征以及优点。具体地,可以首先在显示基板衬底上沉积整面ITO层,形成公共电极层。然后对信号线所对应处的公共电极层进行镂空处理,形成镂空部,以便获得公共电极。根据本发明的实施例,公共电极具有与前面形成的信号线相对应的镂空部。也即是说,公共电极上镂空部在对向基板上的投影,与信号线相对应。需要说明的是,在本发明中,“镂空部在对向基板上的投影与信号线相对应”应做广义理解。也即是说,镂空部在对向基板上的投影,与信号线的至少一部分重合。由此,可以有效降低公共电极与信号线之间的正对面积,有利于降低该显示基板的功耗。由此,可以获得根据本发明实施例的显示基板。需要说明的是,在显示基板上,还可以具有诸如黑矩阵、像素结构、滤光片等结构,以便实现显示基板的使用功能。
根据本发明的实施例,在该步骤中,可以通过控制刻蚀处理的位置,使得最终形成的公共电极除去镂空部以外的部分是彼此连通的。由此,公共电极上,虽然具有多个镂空部,然而公共电极整体还是为互相连通的电极。也即是说,公共电极上不存在孤岛电极。由此,便于通过较为简单的布线,对公共电极施加固定的电压。
根据本发明的实施例,参考图9,在显示基板衬底上形成公共电极可以是通过以下步骤实现的:
S10:在显示基板衬底上形成公共电极层
根据本发明的实施例,在该步骤中,在显示基板衬底上形成公共电极层。根据本发明的实施例,在显示基板衬底上沉积一层公共电极层,该公共电极层覆盖显示基板衬底的整个上表面。
S20:对公共电极层进行镂空处理
根据本发明的实施例,在该步骤中,对公共电极层进行镂空处理。具体的,在公共电极层远离基板衬底的一侧涂覆负性光刻胶层,基于信号线光刻掩膜,对光刻胶层进行曝光以及显影处理,以便获得刻蚀掩膜;基于刻蚀掩膜,对公共电极层进行刻蚀处理,并剥离剩余的刻蚀掩膜,从而形成根据本发明实施例的镂空公共电极。根据本发明的实施例,刻蚀掩膜可以是基于形成数据线的掩膜,对光刻胶层进行曝光、显影而形成的。由此,可以利用数据线掩膜来形成镂空的公共电极。或者,根据本发明的另一实施例,刻蚀掩膜也可以是基于形成栅线的掩膜,对光刻胶层进行曝光、显影处理而形成的。由此,可以利用栅线掩膜来形成镂空的公共电极。由于栅线的形状较为规则,且栅线的面积,较数据线的面积稍大,因此,当采用栅线掩膜对公共电极层进行刻蚀时,一方面可以节省公共电极刻蚀掩膜,降低生产成本,另一方面,采用栅线掩膜刻蚀获得的公共电极与信号线之间的正对面积降低的较多,且刻蚀后的公共电极的形状较为规则,有利于保持显示基板和对向基板之间的垂向电场的均匀性。
根据本发明的实施例,在形成显示基板以及对向基板后,还需要在在显示基板和对向基板之间形成液晶层,并进行对盒处理,以便形成显示面板。本领域技术人员能够理解的是,在显示基板以及对向基板之间填充用于形成液晶层的液晶分子并进行对盒处理,以便获得显示面板。由此,可以获得功耗较低的显示面板。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“另一个实施例”等的描述意指结合该实施例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (13)
1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括:
基板衬底;
公共电极,所述公共电极位于基板衬底上,所述公共电极具有与所述信号线对应设置的镂空部,
所述信号线包括栅线以及数据线的至少之一。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述公共电极除所述镂空部以外的部分彼此连通。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述信号线设置在所述显示基板朝向对向基板的一侧,或者所述对向基板朝向所述显示基板的一侧。
4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述镂空部在垂直所述对向基板方向上的投影,与所述数据线的至少一部分重合。
5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述镂空部在垂直所述对向基板方向上的投影,与所述栅线的至少一部分重合。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述镂空部在垂直所述对向基板上的投影,与所述栅线一一对应。
7.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板为彩膜基板,所述信号线设置在所述对向基板朝向所述显示基板的一侧。
8.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板为阵列基板,所述信号线设置在所述阵列基板朝向所述对向基板的一侧。
9.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1-8任一项所述的显示基板。
10.一种制备显示基板的方法,其特征在于,所述方法包括:
在基板衬底上形成公共电极,通过构图工艺,在所述公共电极上形成与所述信号线相对应的镂空部,
所述信号线包括栅线以及数据线的至少之一。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在所述基板衬底上形成公共电极是通过以下步骤实现的:
在所述基板衬底上形成公共电极层,所述公共电极层覆盖所述基板衬底的上表面;
在所述公共电极层远离所述基板衬底的一侧涂覆负性光刻胶层,基于信号线光刻掩膜,对所述光刻胶层进行曝光以及显影处理,以便获得刻蚀掩膜;
基于所述刻蚀掩膜,对所述公共电极层进行刻蚀处理,并剥离剩余的所述刻蚀掩膜。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述信号线光刻掩膜为用于形成数据线的掩膜。
13.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述信号线光刻掩膜为用于形成栅线的掩膜。
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