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CN105947123A - 一种甲板可潜至水下的双体半潜船 - Google Patents

一种甲板可潜至水下的双体半潜船 Download PDF

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CN105947123A
CN105947123A CN201610268926.8A CN201610268926A CN105947123A CN 105947123 A CN105947123 A CN 105947123A CN 201610268926 A CN201610268926 A CN 201610268926A CN 105947123 A CN105947123 A CN 105947123A
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China
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ballast tank
ballast
dive
submerged ship
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CN201610268926.8A
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梁永康
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CSSC Huangpu Wenchong Shipbuilding Co Ltd
Original Assignee
CSSC Huangpu Wenchong Shipbuilding Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种甲板可潜至水下的双体半潜船包括左片体、右片体，以及连接左片体和右片体的中间桥；所述左片体、右片体以及中间桥的顶部为主甲板，在主甲板下面设有压载舱；主甲板之上设置有浮箱；所述压载舱与浮箱均可装载压载水，通过调控所述压载舱与浮箱中的压载水量可相应控制主甲板潜至水下或浮出水面。本发明相对于单体半潜船提高了装载稳性，并优化了载重与排水量的比值从而提高了半潜船的利用率。

Description

一种甲板可潜至水下的双体半潜船
技术领域
本发明涉及船舶技术领域，具体是涉及一种甲板可潜至水下的双体半潜船。
背景技术
全球海上巨型钻井平台、油气生产设备、港口重型设备等巨型海工设备的重量相当巨大，少则几千吨，多则数万吨以上，主要通过大型半潜船来运输。由于部分巨型设备的基底处在水面以下，因此需要半潜船的装载甲板可潜至水下，使半潜船的装载甲板位于巨型设备基底的下方以便进行装载，装载完毕后再浮出水面。
现有技术中，世界上甲板可潜至水下的大型半潜船均为单体式船舶结构，这些大型半潜船所装载的又是不规则的的巨型设备，且这些巨型设备均是装载在敞露的甲板上，装载的巨型设备非常重导致半潜船的重心过高，横向稳性不足，为了保证安全运输，其载重往往与半潜船排水量相比偏小，导致半潜船的利用率较低。
发明内容
本发明的目的在于提出一种甲板可潜至水下的双体半潜船，以提高装载稳性，并优化载重与半潜船的排水量的比值以提高半潜船的利用率。
本发明提出的一种甲板可潜至水下的双体半潜船，包括左片体、右片体，以及连接左片体和右片体的中间桥；所述左片体、右片体以及中间桥的顶部为主甲板，在主甲板下面设有压载舱；主甲板之上设置有浮箱；所述压载舱与浮箱均可装载压载水，通过调控所述压载舱与浮箱中的压载水量可相应控制主甲板潜至水下或浮出水面。
在本发明的其中一优选方案中，主甲板下面整体隔成上、中、下三层压载舱；其中，所述左片体和右片体具有所述三层压载舱；所述中间桥具有所述上层压载舱。
在本发明的其中一优选方案中，所述上层压载舱的底部和中层压载舱的底部分别朝其压载水排水口倾斜设置。
在本发明的其中一优选方案中，所述中层压载舱的深度相对大于上层压载舱的深度和下层压载舱的深度。
在本发明的其中一优选方案中，所述上、中、下三层压载舱均设有左右两排压载舱。
在本发明的其中一优选方案中，所述中间桥在艏部和艉部相对于所述左片体和右片体呈内凹设置。
在本发明的其中一优选方案中，所述左片体和右片体的外板呈流线型。
在本发明的其中一优选方案中，主甲板上还具有上层建筑，所述浮箱设置有三个，三个浮箱与所述上层建筑分别位于左片体的艏部和艉部、右片体的艏部和艉部四个位置上。浮箱为可移动式，下潜作业工况时浮箱可通过焊接或螺栓连接固定在主甲板上，非下潜作业工况时可移走浮箱60。
本发明提出的一种甲板可潜至水下的双体半潜船，至少具备以下有益效果：
1、采用双体式设计，同时拥有左片体和右片体及中间桥，加大了主甲板横向面积，相对于单体半潜船大大提高了装载稳性。
2、采用了浮箱与压载舱相结合的设计，使双体半潜船的主甲板可随船体潜至水面以下，以便对水下设备进行装载。
3、由于稳性的提高，使双体半潜船的载重更切合其排水量，因而优化了载重与排水量的比值问题，提高了利用率。
附图说明
图1是实施例提出的一种甲板可潜至水下的双体半潜船的侧视结构示意图。
图2是实施例提出的一种甲板可潜至水下的双体半潜船的俯视结构示意图。
图3是实施例提出的一种甲板可潜至水下的双体半潜船的横截面结构示意图。
图中：10－左片体，20－右片体，30－中间桥，40－主甲板，51－上层压载舱，52－中层压载舱，53－下层压载舱，60－浮箱，70－上层建筑。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员理解，下面将结合附图以及实施例对本发明进行进一步描述。
请参阅图1至图3，实施例提出的一种甲板可潜至水下的双体半潜船，包括左片体10、右片体20，以及连接左片体10和右片体20的中间桥30。所述左片体10、右片体20以及中间桥30的顶部为主甲板40，在主甲板40下面设有压载舱。主甲板40之上设置有浮箱60。压载舱与浮箱60均可装载压载水，通过调控所述压载舱与浮箱60中的压载水量可相应控制主甲板40潜至水下或浮出水面。
压载舱理论上可设计为多个层级，但本实施例中优选设计为三层，即主甲板40下面整体隔成上层压载舱51、中层压载舱52以及下层压载舱53。其中，左片体10和右片体20同时具有该三层压载舱，中间桥30具有上层压载舱51。该设计的意义在于提高抗损能力及潜浮稳性：首先，上层压载舱51由于直接承压重物而易受损，下层底压载舱53则易与水下的岩石或暗礁等触碰同样容易受损，因此中层压载舱52将是调控双体半潜船下潜或上浮的最重要的一层，而上层压载舱51与下层底压载舱53则兼有保护中层压载舱52的作用；也即在上层压载舱51或下层底压载舱53出现破损的情况下，双体半潜船依然可以依靠中层压载舱52进行下潜或上浮的调控，从而提高了抗损能力。其次，设计成三层可以调控不同的下潜深度，并提高下潜及上浮的稳性。
由于中层压载舱52是调控双体半潜船下潜或上浮的最重要的一层，因此本实施例的优选方案中，中层压载舱的深度52相对大于上层压载舱51的深度，同时也大于下层压载舱53的深度。
为了提高整体的稳性，各层压载舱还可作进一步细化设计。例如，本实施例中上层压载舱51、中层压载舱52以及下层压载舱53均设有左右两排压载舱，可在增加压载舱、提高抗损能力的同时提高对称度及稳性。
为了便于排出残液，同时减少中层压载舱52以及下层压载舱53的自由液面范围以进一步提高稳性，本实施例中，上层压载舱51的底部(也即中层压载舱52的顶部)和中层压载舱52的底部(也即下层压载舱53的顶部)分别朝其压载水排水口倾斜设置(注：由于图3相对于实物而言仅是微缩图，故图3中看起来倾斜不太明显)。
请继续参阅图2，本实施例优选方案中，中间桥30在艏部和艉部相对于左片体10和右片体20呈内凹设置。其中，艏部内凹是为了减少其与水浪的撞击，艉部内凹则可方便装载海上平台，该设计与本实施例的双体半潜船的功能相适配。
为了减少行进阻力，本实施例中左片体10和右片体20的外板呈流线型。主甲板40上还可有上层建筑70，浮箱60具体可设置(但不限于)三个，三个浮箱60与上层建筑70分别位于左片体10的艏部和艉部、右片体20的艏部和艉部四个位置上，如图2所示。浮箱60为可移动式，下潜作业工况时浮箱60按图2中所示位置通过焊接或螺栓连接固定在主甲板40上，非下潜作业工况时可移走浮箱60。
此外，本实施例在左片体10、右片体20的艏部和艉部均分别可配置艏推进器和艉侧推器。双体半潜船的下潜或上浮可对应采用向相应的压载舱内灌水或排水的方式实现，为此一般可设计压载舱泵排压载系统、压载舱注排水系统、压载舱压缩空气排水系统、压载舱液位遥测系统等。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (8)

1.一种甲板可潜至水下的双体半潜船，其特征在于，包括左片体、右片体，以及连接左片体和右片体的中间桥；所述左片体、右片体以及中间桥的顶部为主甲板，在主甲板下面设有压载舱；主甲板之上设置有浮箱；所述压载舱与浮箱均可装载压载水，通过调控所述压载舱与浮箱中的压载水量可相应控制主甲板潜至水下或浮出水面。
2.根据权利要求1所述的甲板可潜至水下的双体半潜船，其特征在于，主甲板下面整体隔成上、中、下三层压载舱；其中，所述左片体和右片体具有所述三层压载舱；所述中间桥具有所述上层压载舱。
3.根据权利要求2所述的甲板可潜至水下的双体半潜船，其特征在于，所述上层压载舱的底部和中层压载舱的底部分别朝其压载水排水口倾斜设置。
4.根据权利要求2所述的甲板可潜至水下的双体半潜船，其特征在于，所述中层压载舱的深度相对大于上层压载舱的深度和下层压载舱的深度。
5.根据权利要求2所述的甲板可潜至水下的双体半潜船，其特征在于，所述上、中、下三层压载舱均设有左右两排压载舱。
6.根据权利要求1所述的甲板可潜至水下的双体半潜船，其特征在于，所述中间桥在艏部和艉部相对于所述左片体和右片体呈内凹设置。
7.根据权利要求1所述的甲板可潜至水下的双体半潜船，其特征在于，所述左片体和右片体的外板呈流线型。
8.根据权利要求1至7任一项所述的甲板可潜至水下的双体半潜船，其特征在于，主甲板上还具有上层建筑，所述浮箱设置有三个，三个浮箱与所述上层建筑分别位于左片体的艏部和艉部、右片体的艏部和艉部四个位置上。
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